JPS61176012A - 透明電極の製造方法 - Google Patents

透明電極の製造方法

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JPS61176012A
JPS61176012A JP60016996A JP1699685A JPS61176012A JP S61176012 A JPS61176012 A JP S61176012A JP 60016996 A JP60016996 A JP 60016996A JP 1699685 A JP1699685 A JP 1699685A JP S61176012 A JPS61176012 A JP S61176012A
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JP
Japan
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transparent conductive
transparent electrode
conductive film
film
substrate
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Pending
Application number
JP60016996A
Other languages
English (en)
Inventor
博 山口
実 長田
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Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は透明′Fi極の製造方法に閏するものである。
(従来の技術) 最近プラスチックフィルムやガラス板等の基板表面にI
n20x 、 Sn Ox 、 Ti Ox SZn 
Ox等を主とした金属酸化物を透明導′Wi膜として積
層したものが、タッチスイッチや太陽電池等各種の電極
に用いられるようになってきた。金属酸化物は化学量論
的には絶縁物であるが、適度の酸欠状態により導電性を
示ず性質を利用したのが、この透明導電膜である。
従来、所定のパターンの透明導電膜を基板表面に形成す
るには、基板に金属酸化物を真空蒸着法やイオンブレー
ティング法等により付着し8!i層し、その後、溶液エ
ツチングやプラズマエツチング、スバツタエツヂング等
により不要な部分を除去して行なっている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、溶液エツチング等により不要部分を除去
するには、金属酸化物層上に予じめレジストを塗布して
お(必要があり、透明S電膜がレジストや薬品により汚
染して損傷したり、あるいは除去された箇所が空間とな
るために残った透明導電膜が切断し易い欠点があった。
本発明の目的は、上記の欠点を改良し、透明導電膜が汚
染したり断線したりするのを防止しつる透明電極の製造
方法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、上記の目的を達成するために、基板の表面に
金属酸化物からなる透明導電膜を積層した透明電極の製
造方法において、基板に金属酸化物を積層する工程と、
該工程後に酸素を含む雰囲気中において前記金mu!化
物を所定のパターンに加熱処理して高抵抗膜に変化させ
る工程を施すことを特徴とする透明電極の製造方法を提
供するものである。
〈作用) 本発明によれば、透明導電膜の不要部分をレーず一光線
等の加熱処理により高抵抗膜に変えているために、透明
導電膜が薬品等により汚染することがなく、また、断線
することもない。
〈実施例) 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
先ず、第2図に示す通り、プラスナックフィルムやガラ
ス板等の透明性の基板1に、In2O3やSn 02 
、Ti 02 、Zn○等の金属酸化物アルいはこれ等
を主成分とする金属酸化物を真空蒸着法やイオンブレー
ティング法、スパッタリング法、スプレー法、CVD法
等により付着して、透明導電膜2を形成する。
次に、第1図に示す通り、透明導電膜2の不要部分に)
l−Neガスレーナー等のレーザー光線を照射して加熱
し、照射部分の酸化度を高くして高抵抗化し、絶縁部分
3を形成する。
すなわち、透明導電llI2の任意の部分に加熱処理を
施すことによって、加熱部分を絶縁化しているために、
他の透明導Ti膜2の部分が薬品等により汚染すること
なく、また、空間がなく断線も防止できる。
例えば、厚さ100μ乳のポリエステルフィルムからな
る基板に反応性RFクイオンブレーティング法よりJn
20X膜を形成する。成膜条件は、酸素ガス圧10−3
〜10−’Torr成膜速度成膜速度1大〜20 厚250〜350人とした。これにより得られた透明導
電膜の表面抵抗値は101Ω/′口程度、透過率が80
%以上であった。そして、この透明導電膜に出力20+
7LW/#IIIIのNe−)−1eレーザー光線を掃
引速度2 tm / seaで照射して絶縁部分を形成
した。これにより、抵抗値/MO以上の絶縁部分が得ら
れた。
(発明の効果) 以上の通り、本発明によれば、所定のパターンの透明導
電膜を形成するのにレーザー等の加熱手段を用いている
ために、透明導電膜の汚染や断線等を防止しつる透明電
極の製造方法が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例により製造された透明電極の正
面断面図、第2図は本発明の実施例により基板に透明導
′Fi膜を形成した状態の正面断面図を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板の表面に金属酸化物からなる透明導電膜を積
    層した透明電極の製造方法において、基板に金属酸化物
    を積層する工程と、該工程後に酸素を含む雰囲気中にお
    いて前記金属酸化物を所定のパターンに加熱処理して高
    抵抗膜に変化させる工程を施すことを特徴とする透明電
    極の製造方法。
  2. (2)加熱処理をレーザー光線を照射することにより行
    う特許請求の範囲第1項記載の透明電極の製造方法。
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