JPS6099111A - 重合体 - Google Patents

重合体

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JPS6099111A
JPS6099111A JP58205601A JP20560183A JPS6099111A JP S6099111 A JPS6099111 A JP S6099111A JP 58205601 A JP58205601 A JP 58205601A JP 20560183 A JP20560183 A JP 20560183A JP S6099111 A JPS6099111 A JP S6099111A
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宏政 河合
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Takashi Morinaga
森永 喬
Toshio Akima
敏夫 秋間
Mitsuharu Kato
光晴 加藤
Hiroshi Miyajima
宮嶋 弘
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は透明性、低吸湿性および耐熱性に優れた新規な
重合体に関する。
従来、透明樹脂としてはポリメチルメタクリレート樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、メチルメ
タクリレート−スチレン共重合体樹脂等が知られている
。これらは透明性、熱可塑成形性等を生かして、成形材
料あるいはシート材料として電気機器部品、自動車部品
、照明機器部品、雑貨などに使われており、最近では新
しい用途として各種光学レンズ、光ファイバー、光コネ
クタ−、光学ディスク、光回路などの光学素子材料とし
ても応用されつつある。これらの用途分野の拡大に伴い
、透明樹脂に要求される緒特性も多様化、高度化しつつ
あり2本来の透明性に加えて低吸湿性、耐熱性、成形転
写性、成形品の低複屈折性などが新た忙又はより高度に
められている。
しかしながら、これらの要求をすべて満足しうるような
新素材の開発は未だ未解決の課題である。
例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂は透明性。
低複屈折性等の光学的性質において優れた性能を有する
が、吸湿性に致命的欠点を有する。ポリスチレン樹脂は
優れた低吸湿性を有するが、複屈折性が非常に大きく、
耐熱性にも劣るという欠点がある。ポリカーボネート樹
脂は優れた耐熱性を有するが、ポリスチレン樹脂と同様
に複屈折性が非常九人きいという欠点がある。これらは
いずれも分子構造に起因する根本的な問題である。
本発明者らは、これらの問題を解決し、光学的性質、低
吸湿性、耐熱性をすべて満足しうるような新しい透明ポ
リマーを開発すべく鋭意研究を積み重ねた結果、立体的
にきわめてバルキーで、化学的に安定で、排除容積が大
きく疎水性の強い環状構造のアルキル基としてトリシク
ロ(5,2,1゜026〕デカ−8−イル基を側釦に有
するポリアクへ リル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステル構造の
重合体が、基本的にポリメチルメタクリレート樹脂と同
等の優れた光学的性質を有しつつ。
優れた耐熱性と低吸湿性を有し、更にこれと特定のN−
置換マレイミド構造とを組み合わせた分子構造をとる場
合には透明性を維持しつつ一層、耐熱性が向上した新規
な透明性重合体が得られることを見出し9本発明に至っ
た。
すなわち1本発明は。
一般式 (但し、 Rtは水素又はメチル基である)で示される
主鎖単位I 100〜#ヂモルチ。
一般式 (但し、 R2は水素又はメチル基であり、R3は炭素
数1〜8のアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基
である)で示される主鎖単位■o〜9ψモルチおモル 4 (但し、 R4は炭素数1〜6のアルキル基又はシクロ
アルキル基である)で示される主鎖単位mo〜30モル
チ かモルる重合体に関する。
本発明に係る重合体には、アクリル酸トリシクロ[5,
2,1,0Eデカ−8−イルまたはメタクリル酸トリシ
クロ[5,2,1,0Eデカ−8−イル(以下、これら
を「モノマーI」という)の単独重合体またはこれらの
共重合体、アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸
アルキルエステル、アクリル酸シクロアルキルエステル
、メタクリル酸シクロアルキルエステル、アクリル酸芳
香族エステルおよびメタクリル酸芳香族エステルからな
る群から選ばれた少なくとも一種の化合物(以下。
これを[モノマーI[Jという)と上記モノマーIとの
共重合体、N−アルキルマレイミドおよびN−シクロア
ルキルマレイミドからなる群から選ばれた少なくとも一
種の化合物(以下、これを「モノマー■」という)と上
記モノマーIとの共重合体並びに上記モノマーI、モノ
マー■およびモノマー■の共重合体がある。
モノマーIの単独重合体または共重合体は主鎖単位Iの
みを含む重合体、モノマーIとモノマー■の共重合体は
主鎖単位■および■を含む共重合体、モノマーIとモノ
マー■との共重合体は主鎖単位Iおよび■を含む共重合
体並びにモノマー■。
モノマー■およびモノマーmの共重合体は主鎖単位I、
■および■を含む共重合体である。
本発明に係る重合体は、主鎖単位Iを含むことを第1の
特徴としており、これ妃より、優れた耐熱性、低吸湿性
および透明性を有する。主鎖単位■の特徴は、側鎖に立
体的にバルキーで排除容積の大きなトリシクロ[5,2
,1,0”)デカ−8−イル基を有することである。こ
れにより、耐熱性および低吸湿性について優れた効果を
示すものと考えられる。また、この性質だけでなく、透
明性にも優れている。このような効果を奏するために。
本発明に係る重合体は、主鎖単位Iを3〜100モルチ
含モルのである。主鎖単位■が3モルチ未満忙なると耐
熱性および低吸湿性が十分ではない。
本発明に係る重合体には、主鎖単位■を含むことができ
る。主鎖単位■が含まれることにより。
機械強度を向上させることができ、このとき1重合体の
透明性を良好なままに保つことができる。
主鎖単位■は9本発明に係る重合体中に0〜97モルチ
モルれる。97モル係を越えると主鎖単位Iの割合が低
下し、主鎖単位Iによる効果(特に耐熱性、耐吸湿性)
が低下する。主鎖単位■中のR3がアルキル基のとき、
その炭素数は1〜8でるる。
本発明に係る重合体は、また、主鎖単位■を含むことが
できる。主鎖単位■を含ませることにより9重合体の耐
熱性は向上される。しかし、主鎖単位■の割合が増大す
ると重合体の透明性、耐吸湿性が低下するので1重合体
中にO〜30モルチモル合で含むようにされる。主鎖単
位■中のR4がアルキル基のとき、その炭素数は1〜6
である。
主鎖単位I、■および■は、これらの総計が100モル
モルなるようにされる。主鎖単位■。
■および■、それぞれ、ioo、〜10モルチ、0〜9
0モルチおよび0〜30モルチモル体が100モルモル
なるのが好ましい。主鎖単位■が少なくなると耐熱性お
よび低吸湿性が不充分になりやすい。また、同様の理由
九より、主鎖単位1.IIおよび■は、それぞれ、10
0〜20モルチ、0モル0モルチおよびθ〜30モルチ
モルましい。
本発明に係る重合体は9例えば次のようにして製造され
る。
すなわち、上記モノマー13〜100モル係。
上記モノマーIlO〜97%および上記モノマー■0〜
30モルチを全体が100モル係になるように配合して
重合させることにより得られる。
ここで、モノマー■は、上記したものが使用される。モ
ノマー■とじては、メタクリル酸メチル。
メタクリル酸エチル、メタクリル酸i−プロピル。
メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メ
タクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル
等のメタクリル酸アルキルエステル。
メタクリル酸シクロヘキシル等のメタクリル酸シクロア
ル弗ルエステル、tp:yリル酸7 工= ル。
メタクリル酸ベンジン等のメタクリル酸芳香族エステル
、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル。
アクリル酸n−ブチル、アクリル酸t−フ゛チル。
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル等
のアクリル酸アルキルエステル、アクリル酸シクロヘキ
シル等のアクリル酸シクロアルキルエステルおよびアク
リル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸芳
香族エステルがある。
モノマー■を使用する場合、低吸湿性の低下をできるだ
け防止するために、メタクリル酸フ゛チル。
メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタノlJA[フェ
ニル、メタクリル酸ベンジル、7り’)ル酸フチル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、ア
クリル酸シクロヘキシル。
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等の比較的大
きな炭素数の側鎖を有するモノマーを使用するのが好ま
しい。
また、モノマー■としては、N−メチルマレイミ)”、
N−エチルマレイミド、N−グロピルマレイミド、N−
ブチルマレイミド等のN−アルキルマレイミドおよびN
−シクロヘキシルマレイミド等のN−7クロアルキルマ
レイミドがある。
重合方法としては、ラジカル重合やイオン重合等の一般
公知の方法を適用できる。特に工業的にはラジカル重合
が好適である。例えば1重合触媒の存在下1重合温度θ
〜200’C,好ましくは50〜120℃で、塊状重合
、溶液重合、懸濁重合、乳化重合など一般に公知の重合
方法で重合して製造する方法が挙げられ毬。重合触媒と
しては。
過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジー1−ブチル
パーオキシへキサヒドロテレフタレート。
t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1
,1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサンなどの有機過酸化物。
アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクaヘキサン
−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイルなどのアゾ化
合物、エチルリチウム、ブチルリチウム、ナフタリンナ
トリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムブトキシ
ドなどの有機アルカリ化合物などのラジカル重合又はア
ニオン重合させうるものがある。重合触媒は、モノマー
の総量に対して0.01重量%〜10重量%の範囲で使
用する方法を好適な方法として挙げることができる。
なお、前記の重合反応において必要であればドデシルメ
ルカプタン、オクチルメルカプタン、チオグリコール、
α−メチルスチレンダイマーfx、トノ連鎖移動剤を使
用して重合体の分子量調節を行なってもよい。
溶液重合における溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロルエチレン等が使
用できる。
懸濁重合は、水性媒体中で行なわれ、懸濁剤および必要
に応じ懸濁助剤が添加される。懸濁剤としてハ、ポリビ
ニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリルアミ
ド等の水溶性高分子、燐酸カルシウム、ピロ燐酸マグネ
シウム等の難溶性無機物質等がろシ、水溶性高分子はモ
ノマーのal量に対して0.03〜1重量%及び難溶性
無機物質はモノマーの総量に対して0.05〜0.5重
量%使用するのが好ましい。懸濁助剤としては、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ソーダ等の陰イオン界面活性剤が
あり、懸濁剤として難溶性無機物質を使用する場合は、
併用する方が好ましい。懸濁助剤は。
モノマーの総量に対して0.001〜0.02重量%使
用するのが好ましい。
なお、モノマーIはジシクロペンタジェンにH20’c
 付加してジシクロペンテニル・アルコールとし、続い
て接触水素添加反応によりトリシクロ〔5,2、i、 
02,6 〕〕デカー8−オーを得、このアルコールと
アクリル酸またはメタクリル酸を縮合反応させるかアク
リル酸低級アルキルエステルまたはメタクリル酸低級ア
ルキルエステルとのエステル交換反応させることにより
得ることができる。
本発明の重合体は、その分子量について特に限定するも
のではないが、耐熱性9機械物性の観点から1重量平均
分子量(ポリスチレン換算)カ10.000〜1,00
0,000の範囲のものが好ましく、この範囲のものは
特に、成形材料として使用する場合に好ましい。
また9本発明に係る重合体は、特に優れた低吸湿性を維
持する観点からは1M合体の元素分析による分子中の炭
素原子の比率が60重量%以上でるることが好ましい。
本発明忙係る重合体は、一般の成形材料の他に。
光学ディスク、光ファイバー、光コネクタ−、光導波回
路などの光学素子用の成形材料に好適である。
本発明に係る重合体は、その使用にあたって。
劣化防止、熱的安定性、成形性、加工性等の観点から、
フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの
抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル
酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤
、高級脂肪酸金属塩なとの離型剤、その地滑剤、可塑剤
、帯電防止剤。
紫外線吸収剤、難燃剤1重金属不活性化剤などを添加し
て使用してもよい。
以下1本発明の実施例を示す。
合成例1 攪拌機、コンデンサーおよび水分離器を備えたioI!
セパラブルフラスコに、トリシクロ[: 5.2゜1.
0”:]]デカー8−オール白色結晶粉末)27009
、メタクリル酸1896g、トルエン27009、p−
)ルエンスルホン酸tasgおよびハイドロキノンモノ
メチルエーテル0.6’49ヲ加え溶解・混合し、攪拌
しつつ115℃で発生する水を系内から除去しつつ2時
間反応させた。反応終了液をとり出し、低沸成分を留去
した後、これにハイドロキノンモノメチルエーテルを1
5g加えて。
更に減圧蒸留を行なイ、 Q、7 mm)(g下、90
〜95℃留分を単離した。これを水酸化カリウム2チ水
溶液でアルカリ洗浄し、続いて水洗、脱水・沢過してメ
タクリル酸トリシクロC5,2,1,0” ] ]テカ
ー8−イを得た(収率80%、純度99.5係)。
合成例2 攪拌機、コンデンサーおよび水分離器を備えた10I!
セパラブルフラスコに、トリシクロ[:5.2゜ス6 1.0〕デカ−8−オール27009.アクリル酸15
889. トルエン2700g、I)−トルエンスルホ
ン酸135gおよびハイドロキノンモノメチルエーテル
0.649を加え溶解・混合し、攪拌しつつ115℃で
発生する水を系内から除去しつつ2時間反応させた。反
応終了液をとり出し低沸成分を留去した後、これにハイ
ドロキノンモノメチルエーテルを159加えて、更に減
圧蒸留を行ない、 Q、 7 mmm1(下、87〜9
2℃留分を単離した。これを水酸化カリウム2%水溶液
でアルカリ洗浄し、続いて水洗・脱水・濾過してアクリ
ル酸トリシクロCs、 2.1.0 &6 )デカ−8
−イルを得た(収率70チ、純度99.5%)。
実施例1 三方活栓を備えた5 00 cc三角フラスコに9合成
例1で得たメタクリル酸トリシクロ[5,2,1,0E
デカ−8−イル2oog、過酸化ラウロイル0.89お
よびn−ドデシルメルカプタン0.49を加え混合・溶
解し、フラスコ内を♀素ガスで置換した後、攪拌振とう
しつつ60℃恒温水槽中に浸し。
窒素気流下で30分間重合させ部分重合物を得た。
続いて、この部分重合物をガラスセル中に注入し。
60℃で2時間重合させてその後100℃で2時間重合
させ、透明なシート状の重合体を得た。この重合体の全
光線透過率、吸水率を測定した。
この重合体100gをテトラヒドロフラン2009に溶
解せしめた後、この溶解液をメタノール51中に攪拌下
、投入し9重合体を沈殿、析出させて沢別・乾燥し、白
色粉末状の重合体を得た。本重合体の元素分析値、主鎖
単位比率、ガラス転移点9公解開始点および重量平均分
子量、また赤外吸収スペクトル(IR,)、核磁気共鳴
スペクトル(NMR)および高速液体クロマトグラフィ
ー(HLC)分析による分子量分布を測定した。
実施例2〜6 一配合により、実施例1と同様の方法にて重合させ、透
明なシート状の重合体および白色粉末状の重合体を得た
実施例1〜6において、配合および粉末状重合体の収量
並びに赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトルおよ
び分子量分布(プロット)の図面番号を表1に9元素分
析値、主釦単位比率、ガラス転移点9分解開始点および
重量平均分子量を表3に、全光線透過率および吸水率を
表4に示す。
赤外吸収スペクトルはKBr法による。
分子量分布図は、HLC分析機(日立635A型。
日立製作新製)によりHLC測定し、この結果を積算プ
ロッター(クロマトグラフプロセッサーsoo。
A型、システム・インストラメンツ社製)を用い。
溶出時間0.5分毎に積算して請求めた結果をプロット
したものである。縦軸に重量分率、横軸に分子量Mの対
数値1ogMを目盛る。なお9分子量はポリスチレン換
算による。
図面について説明する。
(1)実施例1 第1図の赤外吸収スペクトルチャートにおいて。
1730cm 付近のピークはポリメタクリル酸エステ
ルのカルボニル基に係るものである。
第2図の核磁気共鳴スペクトルチャートにおいて、1〜
2. i ppm付近のピークは主鎖単位中のメチル基
、メチレン基およびトリシクロ〔5,2:1.0 ” 
〕デカ−8−イル基に係るものでらり、4.41)pm
付近の小ピークはメタクリル酸エステルのカルボニル基
に隣接するトリシクロ(5,2,1,0” ]]デカー
8−イル基の0−CH(のプロトンに係るものである。
(2)実施例4 第11図の核磁気共鳴スペクトルチャートにおイーc、
 :1.2 ppm付近のピークはカルボニル基に隣接
するエチル基中の一〇 〇 CH3のプロトンに係るも
のでめシ、4ppm付近の小ピークは一〇=CH2−の
プロトンに係るものである。
(3)実施例5 第14図の核磁気共鳴スペクトルチャーHCおいて、4
.7ppm付近に重なっである小ピークはカルボニル基
にW8接するシクロヘキシルX中の−0−CHのプロト
ンに係るものである。
\ (4)実施例6 第16図の赤外吸収スペクトルチャートにおいて170
5cm”” 、 1780cm−”付近のピークはイミ
ド基に係るものである。
第17図の核磁気共鳴スペクトルチャートにおいて、2
.9ppm付近の小ピークはイミド基に隣接するN−メ
チル基のプロトンに係るものである。
以下余白 実施例7 攪拌機およびコンデンサーを備えた51セパラブルフラ
スコに分散剤として塩基性リン酸カルシウム19wt%
懸濁液1009. ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム0.0059および硫酸ナトリウム1gを純水29
00gと共に加え、攪拌・混合して懸濁媒体とした。こ
れにメタクリル酸トリシクロC5,2,1,0Eデカ−
8−イル7509゜アクリル酸n−ブチル1509.N
−メチルマレイミドloog、過酸化ラウロイル4gお
よびn−ドデシルメル力ジブ2フ1 触媒,連鎖移動剤の混合溶解液を加え,攪拌回転数2 
0 0 ppmとし.窒素雰囲気下にて60℃で3時間
,続いて98℃で4時間重合させた。得られた重合体粒
子をP別し.酸洗,水洗し乾燥した。
この重合体粒子100gをテトラヒドロフラン200g
に溶解せしめた後,この溶解液をメタノール5I!中に
攪拌下,投入し9重合体を沈殿析出させてP別,乾燥し
,粉末状の重合体を得た。
実施例8〜19 表2に示すモノマー、解媒およびn−ドデシルメルカプ
タンの配合により、他は実施例7と同様の方法にて重合
、処理し、粉末状の重合体を得た。
実施例8〜19で得た重合体について9元素分析値、主
鎖単位比率、ガラス転移点9分解開始点および重量平均
分子量、赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトルお
よび高速液体クロマトグラフィー分析による分子量分布
を実施例1と同様にして測定した。
実施例7〜19の配合および粉末状重合体の収量並びに
赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトルおよび分子
量分布(プロット)の図面番号を表21C,元素分析値
、主鎖単位比率、ガラス転移点1公解開始点および重量
平均分子量を表3K。
全光線透過率および吸水率を表4に示す。
図面について説明する。
(5)実施例7 第20図の核磁気共鳴スペクトルチャートにおいて、4
.099m付近の小ピークはカルボニル基に隣接するn
−ブチル基中の一〇 −CH2−のプロトンに係るもの
である。
(6)実施例11 第32図の核磁気共鳴スペクトルチャートにお、いて、
1.4pI)m付近のピークはt−ブチル基に係るもの
でおる。
(力実施例14 第41図の核磁気共鳴スペクトルチャートにおいて、3
.6ppm付近のピークはカルボニル基に隣接するメチ
ル基に係るものである。
(8)実施例18 第52図の赤外線吸収スペクトルチャートにおいて、3
000cm 、1500cm 、1470cm 。
1445 cm=および1200cm−’付近の吸収は
ベンジル基忙係るものである。
以下余白 なお、主鎖単位比率とは1元素分祈値から算出した各主
鎖単位のモルチ値である。ガラス転移点は、示差走査熱
量計(DSC)を用いて、ガラス転移領域における吸熱
時のピーク温度で示した。分解開始点は、示差熱重量天
秤(TO−DTA)を用いて、加熱重量減少の開始温度
で示した。重量平均分子量は、第3図を用いて計算した
ものである。
表4特 性 なお、全光線透過率はASTM−D−1003に。
吸水率はASTM−D−570に準じて測定した。
ポリメチルメタクリレートは三菱レイヨン■商品名、ア
クリベットv■(を使用した。
試験例1 実施例9で得られた重合体粒子について、高化式フロー
テスターにより、押出:成形時の流動性を測定した。測
定は圧力20Kq/cm2にて温度を200℃、205
℃、210’C,215℃、220℃と変えて、1分間
当りの流出樹脂体積(CmVmin)を測定し片対数プ
ロットした。比較例としてポリメチルメタクリレート(
三菱レイヨン製アクリベ図より本重合体粒子は良好な流
動性を示し、押出。
射出成形等に好適であることがわかる。また、フローテ
スターにより押出されたストランドは、いずれも透明性
に優れており1着色1尭泡等の現象は全くみられなかっ
た。
本発明に係る重合体は、透明性、耐吸湿性及び耐熱性に
優れる新規な重合体でhる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1の重合体の赤外線吸収スペクトル、第
2図は実施例1の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第3
図は実施例1の重合体の分子量分布、第4図は実施例2
0重合体の赤外線吸収スペクトル、第5図は実施例2の
重合体の核磁気共鳴スペクトル、第6図は実施例20重
容体の分子量分布、第7図は実施例30重合体の赤外線
吸収スペクトル、第8図は実施例3の■(合1トσ)K
 tlt 6t(、j’<鳴スペクトル、第9図は実施
例30重合体の分子量分布、第10図は実施例4の重合
体の赤外線吸収スペクトル、第11図は実施例4の重合
体の核磁気共鳴スペクトル、第12図は実施例4の重合
体の分子量分布、第13図は実施例5の重合体の赤外線
吸収スペクトル、第14図は実施例50重合体の核磁気
共鳴スペクトル、第15図は実施例5の重合体の分子量
分布、第16図は実施例6の重合体の赤外線吸収スペク
トル、第17図は実施例6の重合体の核磁気共鳴スペク
トル、第18図は実施例6の重合体の分子量分布、第1
9図は実施例7の重合体の赤外線吸収スペクトル、第2
0図は実施例70重合体の核磁気共鳴スペクトル、第2
1図は実施例7の重合体の分子量分布、第22図は実施
例8の重合体の赤外線吸収スペクトル。 第23図は実施例8の重合体の核磁気共鳴スペクトル、
第24図は実施例8の重合体の分子量分布。 第25図は実施例9の重合体の赤外線吸収スペクトル、
第26図は実施例9の重合体の核磁気共鳴スペクトル、
第27図は実施例9の重合体の分子量分布、第28図は
実施例100重合体の赤外線吸収スペクトル、第29図
は実施例10の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第30
図は実施例10の重合体の分子量分布、第31図は実施
例11の重合体の赤外線吸収スペクトル、第32図は実
施例11の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第33図は
実施例11の分子量分布、第34図は実施例12の重合
体の赤外線吸収スペクトル、第35図は実施例12の重
合体の核磁気共鳴スペクトル。 第36図は実施例12の重合体の分子量分布、第37図
は実施例13の重合体の赤外線吸収スペクトル、第38
図は実施例13の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第3
9図は実施例13の重合体の分子量分布、第40図は実
施例14の重合体の赤外線吸収スペクトル、第41図は
実施例14の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第42図
は実施例14の重合体の分子量分布、第43図は実施例
150重合体の赤外線吸収スペクトル、第44図は実施
例150重合体の核磁気共鳴スペクトル。 第45図は実施例15の重合体の分子量分布、第46図
は実施例16の重合体の赤外線吸収スペクトル、第47
図は実施例16の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第4
8図は実施例16の重合体の分子量分布、第49図は実
施例17の重合体の赤外線吸収スペクトル、第50図は
実施例17の重合体の核磁気共鳴スペクトル、第51図
は実施例17の重合体の分子量分布、第52図は実施例
18の重合体の赤外線吸収スペクトル、第53図は実施
例190重合体の赤外線吸収スペクトルおよび第54図
は試験例1の結果(流動性)を示すグラフで必る。 符号の説明

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 (但し、R1は水素又はメチル基である)で示される主
    鎖単位I 100〜3モル慢。 一般式 (但し、R2は水素又はメチル基であり、R13は炭素
    数1〜8のアルキル基、シクロアルキル基又は芳香族基
    である)で示される主鎖単位■0〜97モルチおモル 4 (但し、R4は炭素数1〜6のアルキル基又はシクロア
    ルキル基でろる)で示される主鎖単位■0〜30モルチ かモルる重合体。 2、、N量平均分子量が10,000〜1,000,0
    00である特許請求の範囲第1項記載の重合体。 3、元素分析忙よる分子中の炭素原子の比率が60重量
    %以上でるる特許請求の範囲第1項または第2項記載の
    重合体。
JP58205601A 1983-10-24 1983-11-01 重合体 Expired - Lifetime JPH064689B2 (ja)

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DE8484307292T DE3484047D1 (de) 1983-10-24 1984-10-23 Optische elemente enthaltend polymere von (meth)acrylat-estern.
EP84307292A EP0141610B1 (en) 1983-10-24 1984-10-23 Optical elements comprising polymers of (meth)acrylate esters
US07/199,775 USRE34061E (en) 1983-10-24 1988-05-27 Polymers of tricyclo[5.2.1.02,6 ]deca-8-yl (meth)acrylate

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62151413A (ja) * 1985-12-26 1987-07-06 Nippon Kayaku Co Ltd 光デイスク用材料
JPS62209156A (ja) * 1986-03-10 1987-09-14 Hitachi Chem Co Ltd 光学素子用樹脂組成物
EP0239130A2 (en) * 1986-03-28 1987-09-30 Hitachi, Ltd. Optical disc
JPS62232414A (ja) * 1986-04-01 1987-10-12 Hitachi Chem Co Ltd 注型用光学樹脂材料
EP0241900A2 (en) * 1986-04-14 1987-10-21 Sumitomo Chemical Company, Limited Optical disk substrate
JPS63248812A (ja) * 1987-04-03 1988-10-17 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd 光学素子用共重合体の製造法
JPS63304045A (ja) * 1987-06-03 1988-12-12 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 耐熱分解性の改良されたメタクリル系樹脂組成物
WO1991013105A1 (en) * 1990-02-23 1991-09-05 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Methacrylic resin molding material for optical information recording medium
JP2021518584A (ja) * 2018-03-23 2021-08-02 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung ネガ作動型超厚膜フォトレジスト

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62151413A (ja) * 1985-12-26 1987-07-06 Nippon Kayaku Co Ltd 光デイスク用材料
JPS62209156A (ja) * 1986-03-10 1987-09-14 Hitachi Chem Co Ltd 光学素子用樹脂組成物
EP0239130A2 (en) * 1986-03-28 1987-09-30 Hitachi, Ltd. Optical disc
JPS62232414A (ja) * 1986-04-01 1987-10-12 Hitachi Chem Co Ltd 注型用光学樹脂材料
EP0241900A2 (en) * 1986-04-14 1987-10-21 Sumitomo Chemical Company, Limited Optical disk substrate
JPS63248812A (ja) * 1987-04-03 1988-10-17 Kyowa Gas Chem Ind Co Ltd 光学素子用共重合体の製造法
JPS63304045A (ja) * 1987-06-03 1988-12-12 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 耐熱分解性の改良されたメタクリル系樹脂組成物
WO1991013105A1 (en) * 1990-02-23 1991-09-05 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Methacrylic resin molding material for optical information recording medium
JP2021518584A (ja) * 2018-03-23 2021-08-02 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung ネガ作動型超厚膜フォトレジスト
US11698586B2 (en) 2018-03-23 2023-07-11 Merck Patent Gmbh Negative-working ultra thick film photoresist

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