JPS60205840A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 工　発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。

先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。

このような光記録媒体のうち、暗室による現像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その１例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うピット形成タイプのものがある。

このようなピット形成タイプの媒体、特にそのうち、装
置を小型化できる半導体レーザーを光源とするものにお
いては、これまで、Ｔｅを主体とする材料を記録層とす
るものが大半をしめている。

しかし、近年、Ｔｅ系材料が有害であること、そしてよ
り高感度化する必要があること、より製造コストを安価
にする必要があることから、Ｔｅ系にかえ、色素を主と
した有機材料系の記録層を用いる媒体についての提案や
報告が増加している。

例えば、Ｈｅ−Ｎｅレーザー用としては、スクワリリウ
ム色素〔特開昭５８−４８２２１号　Ｖ。

Ｂ、　Ｊｉｐｓｏｎ　ａｎｄ　Ｃ，Ｒ，Ｊｏｎｅｓ、Ｊ
、Ｖａｃ、Ｓｃｉ。

Ｔｅｃｈｎｏｌ、、　１８　（１）　＋０５　（１１１
１８１）　）や、金属フタロシアニン色素（特開昭５７
−８２０９４号、同５７−８２０８５号）などを用いる
ものがある。

また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザー用とし
て使用した例（特開昭５８−８８７８５号）もある。

これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄膜とした
ものであり、媒体製造上、Ｔｅ系と大差はない。

しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率は一般に
小さく、反射光量のピットによる変化（減少）によって
読み出し信号をうる（、現在性われている通常の方式で
は、大きなＳ／Ｎ比をうることができない。

また、記録層を担持した透明基体を、記録層が対向する
ようにして一体化した。いわゆるエアーサンドイッチ構
造の媒体とし、基体をとおして書き込みおよび読み出し
を行うと、書き込み感度を下げずに記録層の保護ができ
、かつ記録密度も大きくなる点で有利であるが、このよ
うな記録再生方式も１色素蒸着膜では不可能である。

これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率がある程度
の値′をもち（ポリメチルメタクリレートで１　、５）
　、また、表面反射率がある程度大きく（同　４％）、
記録層の基体をとおしての反射率が、例えばポリメチル
メタクリレートでは６０％程度以下になるため、低い反
射率しか示さない記録層では検出できないからである。

色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのＳ／Ｎ比を向
上させるためには１通常、基体と記録層との間に、Ａ見
等の蒸着反射膜を介在させている・ この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてＳ／Ｎ比を向
上させるためのものであり、ピット形成により反射膜が
露出して反射率が増大したり、あるいは場合によっては
、反射膜を除去して反射率を減少させるものであるが、
当然のことながら、基体をとおしての記録再生はできな
い。

同様に、特開昭５５−１８１８１１０号には、ＩＲ−１
３２色素（コダック社製）とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭５７−７４８４５号には、１．１
　′−ジエチルー２．２′−トリ力ルポシアニンイオダ
イドとニトロセルロースとからなる記録層、さらにはに
、Ｙ、Ｌａｗ、　ｅｔ　ａｌ、、　Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙ
ｓ。

Ｌｅｔｔ、　３９　（θ）　７１８　（１９８１）には
、　３，３′−ジエチル−１２−７セチルチアテトラカ
ルボシアニンとポリ酢酸ビニルとからなる記録層など、
色素と樹脂とからなる記録層を塗布法によって設層した
媒体が開示されている。

しかし、これらの場合にも、基体と記録層との間に反射
膜を必要としており、基体裏面側からの記録再生ができ
ない点で、色素蒸着膜の場合と同様の欠点をもつ。

このように、基体をとおしての記録再生が可能であり、
Ｔｅ系材料からなる記録層をもつ媒体との互換性を有す
る、有機材料系の記録層をもつ媒体を実現するには、有
機材料自身が大きな反射率を示す必要がある。

しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料の単層に
て高い反射率を示す例はきわめて少ない。

わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が高反射率
を示す旨が報告（Ｐ、Ｋｉマｉｔｓ、ｅｔａｌ、、Ａｐ
ｐｌ、Ｐｈｙｓ、Ｐａｒｔ　Ａ　２Ｂ　（２）１０１　
（１９８１）、特開昭５５−９７０３３号〕されている
が、おそらく昇華温度が高いためであろうと思われるが
、書き込み感度が低い。

また、チアゾール系やキノリン系等のシアニン色素やメ
ロシアニン色素が報告〔山本他、第２７回　応用物理学
会予稿集　１ｐ−Ｐ−９（１１１８０）　）されており
、これにもとづく提案が特開昭５８−１１２７ＥｌＯ号
になされているが、これら色素は、特に塗膜として設層
したときに、溶剤に対する溶解度が小さく、また結晶化
しやすく、さらには読み出し光に対してきわめて不安定
でただちに脱色してしまい、実用に供しえない。

このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、溶剤に対
する溶解度が高く、結晶化も少なく、かつ熱的に安定で
あって、塗膜の反射率が高いインドレニン系のシアニン
色素を単層膜として用いる旨を提案している（特願昭５
７−１３４３８７号、同　５７−１３４１７０号）。

また、インドレニン系、あるいはチアゾール系、キノリ
ン系、セレナゾール系等の他のシアニン色素においても
、長鎖アルキル基を分子中に導入して、溶解性の改善と
結晶化の防止がはかられることを提案している（特願昭
５７−１８２５８９号、同　５７−１７７７７８号等）
。

さらに、光安定性をまし、特に読み出し光による脱色（
再生劣化）を防止するために、シアニン色素に遷移金属
化合物クエンチャ−を添加する旨の提案を行っている（
特願昭５７−１６８８３２号、同５７−１８８０４８号
等）。

さらには、色素とクエンチャ−とのイオン結合体を形成
し、これにより再生劣化をより減少し、かつ安定性を高
める旨の提案も行っている（特願昭５９−１４８４８号
、同５９−１８８７８号、同５９−１９７１５号）。

さらに、このような色素または色素組成物を塗膜として
、特に書き込み光および読み出し光に対し透明な樹脂製
の基体上に、記録層として設層して、特に基体裏面側か
ら書き込みおよび読み出しを行うようなときには、塗布
設層の際の塗布溶媒により樹脂基体表面がおかされ、記
録層の反射率が低下し、読み出しのＳ／Ｎ比が十分高く
とれないという欠点がある。

また、長期保存に際し、色素その他の添加物が基板樹脂
中へ溶解拡散してしまい１反射率が低下してしまうよう
なおそれがある。

しかし、これらも、まだ書き込みの感度の点でより一層
の向上がのぞまれる。

ざらには、書き込みにより、基体が熱によってへこんで
しまなど損傷をうけ、これによってもＳ／Ｎ比が低下す
る。　また、消去後゛のノイズが増加する。

これに対し、本発明者らは、下地層として、Ｔｉ、Ｚｎ
、ＡＭ等のキレート化合物の加水分解塗膜を用いる旨を
提案し、ている（特願昭５７−２３２１９８号、同５７
−２３２１９９号等）。

これにより、上記不都合は改善されるものである。

しかし、下地層塗布液の調整条件、塗布条件が厳しく、
また塗布液は保存安定性に欠け、一定の下地層を得るこ
とは容易でない。

また塗布液は保存安定性に欠け、一定の下地層を得るこ
とは容易でない。

また、屈折率をもつため、反射率が低下する等の欠点が
ある。

また、表面に保護膜として無機化合物を設層した例は公
知であるが、いずれも膜厚は０．２ｐ以上の厚さが必要
とされている。　この場合一般に感度は低下することが
知られている。

色素組成物からなる光記録膜は光照射と同時にビットが
形成されてしまい、その後の照射光は最もエネルギーの
集中している中央部で吸収されなくなる。　従って、エ
ネルギーの利用効率が低く感度がある値以上に向上しな
い原因となっている。

ＩＩ　発明の目的 本発明の目的は、樹脂製の基体上に、色素または色素組
成物からなる記録層を有し、この記録層上に表面層を有
する光記録媒体において、表面層を改良して、光記録媒
体の書き込み感度を向上せんとするものである。

さらに、基体と記録層の間に下地層を設層して、それ自
体の屈折率を低下させ、Ｓ／Ｎ比を向上せんとするもの
である。

このような目的は下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は、樹脂製の基体上に、色素または色素
組成物からなる記録層を有する光記録媒体において、表
面層がケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜から
なることを特徴とする光記録媒体である。

また第２の発明は、樹脂製の基体上に下地層を有し、こ
の下地層上に色素または色素組成物からなる記録層を有
し、この記録層上に表面層を有する光記録媒体において
、下地層および表面層がケイ素系縮合物のコロイド粒子
分散液の塗膜からなることを特徴とする光記録媒体であ
る。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の光記録媒体の記録層中には色素が含有される。

用いる色素には特に制限はなく、シアニン系、フタロシ
アニン系、ナフタロシアニン系、テトラテヒドロコリン
ないしテトラデヒドロコロール系、アントラキノン系、
アゾ系、トリフェニルメタン系、ビリリウムないしチア
ピリリウム塩素系等の色素はいずれも使用可能である。

このような中で、本発明による効果が大きいのは、第１
にシアニン色素である。

シアニン色素の中では下記式（Ｉ）で示されるものが好
ましい。

式ＣＩ） Φ−Ｌ＝’Ｐ　（Ｘ−）ｍ 上記式ＣＩ）において、！およびΦは、芳香族環、例え
ばベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等が縮
合してもよいインドール環、チアゾール環、オキサソー
ル環、セレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン環等
をあられす。

これらΦおよび！は、同一でも異なっていてもよいが、
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。

なお、Φは、環中の窒素原子が十電荷をもち。

！は、環中の窒素原子が中性のものである。

これらのΦおよび！の骨格環としては、下記式〔Φ■〕
〜〔Φ双〕で示されるものであることが好ましい。

なお、下記においては、構造はΦの形で示される。

〔Φ■）　（Ｒａ　）　ｑ （Ｒａ　）　ｑ 〔Φ席〕

このような各種卵において、環中の窒素原子（イミダゾ
ール環では２個の窒素原子）に結合する基Ｒ１（Ｒｓ　
、Ｒ＋　′）は、置換または非置換のアルキル基または
アリール基である。

このような環中の、窒素原子に結合する基Ｒ，，Ｒ，′
の炭素原子数には、特に制限はない。　また、この基か
さらに置換基を有するものである場合、置換基としては
、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキ
ルアミＦ基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルアミノ基、アルキルカルバモイル
基、アルキルスルファモイル基、水酸基、カルボキシ基
、ハロゲン原子等いずれであってもよい。

なお、後述のｍがＯである場合、Φ中の窒素原子に結合
する基Ｒ１は、置換アルキルまたはアリール基であり、
かっ−電荷をもつ。

さらに、Φおよび！の環が、縮合ないし非縮合のインド
ール環（式〔ΦＩ〕〜〔Φ１ｖ〕）である場合、その３
位には、２つの置換基Ｒ２。

Ｒ３が結合することが好ましい、　この場合、３位に結
合する２つの置換基Ｒ２，Ｒ３としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。　そして、これ
らのうちでは、炭素原子数１または２、特にｌの非置換
アルキル基であることが好ましい。

一方、Φおよび！で表わされる環中の所定の位置には、
さらに他の置換基Ｒ４が結合していてもよい。　このよ
うな置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環
残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル
基、アリールカルボニル基、アルキルオキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオ
キシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルアミド
基、アリールアミド基、アルキルカルバモイル基、アリ
ールカルバモイル基、アルキルアミノ基、アリールアミ
ノ基、カルボン酸基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルスルホンアミド基、アリールス
ルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリール
スルファモイル基、シアン基、ニトロ基等、種々の置換
基で°あってよい。

そして、これらの置換基の数（ｐ、ｑ、ｒ。

ｓ、ｔ）は、通常、０または１〜４程度とされる。　な
お、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔが２以上であるとき、複数のＲ
４は互いに異なるものであってよい。

なお、これらのうちでは、式〔Φ工〕〜〔Φ■〕の縮合
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい。

これらは溶剤に対する溶解度、塗膜性、安定性にすぐれ
、きわめて高い反射率を示し、読み出しのＳ／Ｎ非がき
わめて高くなるの−である。

他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式（Ｌ
Ｉ）〜〔Ｌ■〕のいずれかであることが好ましい。

式（ＬＩ） ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ＝Ｃ）ｌ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ↓ 式〔Ｌ■）　ＣＨ−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ ここに、Ｙは、水素原子−または１価の基を表わす。　
この場合、１価の基としては、メチル基等の低級アルキ
ル基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、
モルホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカルボニル
ピペラジン基なとのジ置換アミノ基、アセトキシ基等の
アルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキ
ルチオ基、シアノ基、ニトロ基、Ｂｒ、ＣＩＬ等のハロ
ゲン原子などであることが好ましい。

なお、これら式（ＬＩ）〜〔Ｌ■〕の中では、トリカル
ボシアニン連結基、特に式％式％ さらに、Ｘ−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、 Ｉ−、Ｂｒ−、ＣＪＬＯ４−、ＢＦ４−＋ＣＨ３＜Ｅ）
　’３０３−　、Ｃ１０３０３−等を挙げることができ
る。

なお、ｍは０またはｌであるが、ｍがＯであるときには
、通常、ΦのＲ１が一電荷をもち、分子内塩となる。

次に、本発明のシアニン色素の具体例を挙げるが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない。

匹棗咎　免工覆　Ｕ工１上’　ｋ工１１Ｄｉ　（ΦＩ）
　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ２　（ΦＩ　）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３　（ΦＩ）　Ｃ２Ｈａ　ＯＨＣＨ３Ｄ４　（′。Ｉ
）　ｉＣ旧殆藷８に８．。　ＣＨ３Ｄ５　（Φ１１）　
ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ６　（ｃ）ｍ）　（）ＣＨｚｌＳ８ＨＩＮ、、ＣＨ３
Ｄ７　〔Φｍ）　ＣＨ２Ｃ，Ｈ２０ＨＣＨ３Ｄ８　（Φ
ｍ）　（ＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ９　（Φｍ）
　（ＣＨ２）２　０ＣＯＣＨ３ＣＨ３０１４（Φｍ　）
　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄｌｌ　（Φｍ）　ＣＨ３ＣＨ３ ０１４（Φ工〕　Ｃｌ８Ｈ３７ＣＨ３ ０１４（ΦＩ）　Ｃ４Ｈ９ＣＨ３ ０１４（Φ工〕　Ｃ３Ｈ１６０ＣＯＣＨ５ＣＨ３０１４
〔ΦＩ）　Ｃ７Ｈ１４ＣＨ，、ＯＨＣＨ３ＬＬ　↓−Ｙ
　又　−スー −（Ｌｌｌ）　Ｈ，Ｉ −（Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ −（Ｌｍ）　ＨＩ　Ｂｒ −（ＬＩＩ）　Ｈ− −（Ｌｌｌ）　ＨＣ又０４ −　（ＬＩＩ）　Ｈ−− −（ＬＩＩ）　ＨＣ又０４ −　（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈ５）２　１　０文０４−　（
Ｌｌｌ）　ＨＣ又０４ （Ｌｍ）　−Ｎ（、Ｃ６Ｈ３）２　１　０文０４−　（
Ｌｌｌ）　ＨＩ −（Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｃ又０４−　（
Ｌｌｌ）　Ｈ１ □□　旦ニーＪ’　ｊＥＬＬｗ上旦 Ｄｌｌｌｌ　（ΦＩＩ）　Ｃ８Ｈ１７ＣＨ３−Ｄ１７　
〔Φｍ）　Ｃ８Ｈ１７Ｃ）１３　−Ｄ１９　〔Φｍ）　
Ｃ７Ｈ１４ＣＯＯＣ２Ｈ５ＣＨ３−Ｄ２０　（Φｍ）　
ＣＨＣＨ３− ８ Ｄ２１　〔Φｍ〕　Ｃｌ８Ｈ３７ＣＨ３−Ｄ２２　〔Φ
ＩＩＩ）　Ｃ４Ｈ８ＣＨ３−Ｄ２３　〔ΦＩ）　ＣＨＣ
ＯＯＣＨ３ＣＨ３−７３４ Ｄ２４　〔ΦＩ　）　ＣＨＯＣＯＣＨ３ＣＨ３−８１Ｂ Ｄ２５　〔ΦＩ）　Ｃ８Ｈ，７Ｃ２Ｈ５−Ｄ２６　〔Φ
Ｉ）　ＣＨＣ２Ｈ５− ７１５ Ｄ２７　〔Φ１１　）　ＣＨＣ００ＣＨ３ＣＨ３−７３
４ Ｄ２８　〔ΦＩＩ）　ＣＨＣＨＯＣＯＣＨ３ＣＨ３−８
１８２ Ｌ　↓−ｊ：　叉　ニし 〔ＬＩＩ）　ＨＣ又０４ （Ｌ　１１　）　Ｈ− 〔Ｌ■〕　−Ｎ　Ｎ−ＣＯＯＣ２Ｈ５１（Ｌｌｌ）　Ｈ
ＢＦ４ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｃ又０４−　（Ｌ
ｌｌ）　Ｈ０文０４ −　〔ＬＩＩ）　Ｈ０文０４ −　（Ｌｌｌ）　ＨＩ −（Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ）＝　ｌ　Ｉ−（ＬＩ
Ｉ）、　ＨＩ −（ＬＩＩ）　ＨＩ −（Ｌ　ＩＩ　）　ＨＣＩ　Ｏ４ −〔Ｌ■〕−Ｎ　Ｎ−ＣＯＯＣ２Ｈ５１”Ｊさ　Ｌ」　
力、」上′　シニ」１ Ｄ３０　〔Φ１１）　ＣＨＣＯＯＣＨ３Ｃ２Ｈ５？　１
４ Ｄ３１　〔ΦＩＩＩ）　Ｃ７）１１４Ｃ１（、、ＯＨＣ
）（３Ｄ３２　〔Φ■〕　Ｃ７Ｈ１４ＣＨ２０ＣＯＣ２
Ｈ５ＣＨ３Ｄ３３　〔９ｍ）　ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ５Ｃ）
１３７　３４ Ｄ３４〔９ｍ）Ｃ１７Ｈ３５ＣＨ３ Ｄ３５〔９ｍ）Ｃ７Ｈ１５Ｃ２Ｈ５ Ｄ３６　〔ΦＩＶ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３７　〔ΦＩ’Ｖ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ３８　〔ΦＩＶ）　Ｃａ　Ｈ９ＣＨ３Ｄ３９　〔Φｒ
Ｖ）　（ＣＨ２）２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３Ｄ４０　〔ΦＶ
）　Ｃ２Ｈ５’ ０４１　（ΦＶ）　ＣＨ３’ Ｄ４２　〔Φ■）　Ｃ２Ｈ５− Ｄ４３　〔Φ■）　Ｃ２Ｈ５− Ｄ４４　〔Φ■）　Ｃ２Ｈ５＝ Ｄ４５　〔Φ■）　Ｃ２Ｈ５− ＬｔＬ　−’＝　ｌｘ −（Ｌｌｌ）　１（０文０４ −　（Ｌｌｌ）　ＨＣ交０４ −　（ＬＩＩ）　ＨＩ （Ｌｍ’）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈｓ）　２　１　Ｉ−（Ｌ
ＩＶ）　ＨＩ　Ｉ −（ＬＩＩ）　ＨＩ −’　（ＬＩＩ）　ＨＩ −（Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ （ＬＩＩ）　ＨＣｌＯ４ −（ＬＩＩ）　ＨＩ Ｌ−ＣＨ３（Ｌｌｌ）　、ＨＩ Ｌ−ＣＨ３（Ｌｌｌ）　Ｈ’　Ｉ −’　（ＬＩＩ）　ＨＢｒ ５−Ｃ１（Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｂｒ３−
０ＣＨ３（Ｌｌｌ）　ＨｃＨ３ｃ６ｎ、５ｏ３５−ＯＣ
Ｈ３（ＬＩＩ）　ＨＢｒ 色皇μ　乞’ＰＬＬ工１上′　シニ」１　ＬｔＤ４６　
〔Φ■）　Ｃ２）１５　−　−Ｄ４７　〔ΦＶｌ）　Ｃ
２ｍ（５−− Ｄ４８　〔ΦＶｌ）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ４９　〔Φ■）　Ｃ２Ｈ５−− Ｄ５０　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５１　（Φｖｌ　）　Ｃ２Ｈ５ Ｄ５２　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５３　〔Φ■）　（ＣＨ２）３０ＣＯＣＨ３−−Ｄ５
４　〔ΦＶｌ）　ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ−５−ＩＤ５５　〔
Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５６　〔Φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５７　〔φＩＸ）　Ｃ，、Ｈ５ Ｄ５８　〔φ■〕　Ｃ２Ｈ３ Ｄ５９　〔Φｘ）　Ｃ２Ｈ３ Ｄ６０　〔Φ尺〕　ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ Ｌ　Ｙ　ｉ　ｘ （ＬＩＶ）　ｌ　Ｂ　ｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＣＨ３Ｂｒ （ＬＶ）　ＨＩ　Ｂ　ｒ （ＬＶ）　ＨＩ　Ｂｒ （Ｌ■）　Ｉ　Ｂ　ｒ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ８Ｈ５）２　１　０Ｈ３Ｃ６Ｈ４Ｓ
Ｏ３ン１　（Ｌ　ＩＩ　）　０Ｈ３Ｃ６）１４ＳＯ３〔
ＬＩＩ）ＨＢｒ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ 〔Ｌ”〕　−Ｎ　ＣＯＯＣ２Ｈ５Ｌ　０文０４（Ｌｍ）
　０ＣＲ３１Ｉ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨＩ （ＬＩＩ）　ＨＢｒ 鮎１乞」　紅工肛　肛工肛肛 Ｄθ１　（Φ刈〕　Ｃ２Ｈ３ Ｃ８２（Φ創　（ＣＨ２）３０ＣＯＣＨ３Ｄ６３　〔Φ
頂〕　Ｃ２Ｈ３ Ｃ６４〔ΦＸ１ｌｌ）　ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２５ｏ３Ｈ−
−−Ｃ６５〔Φ刺〕　Ｃ２Ｈ３ Ｃ６８〔Φ店〕　Ｃ２Ｈ３ Ｃ６７〔Φ双〕　Ｃ２Ｈ５ −ＣＨ５ Ｃ６８〔ΦＶＩ）　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ６９　〔Φ■）　Ｃ１８Ｈ３７ Ｄ７０　（Φｙｌ）　Ｃ８Ｈ，□ −５−０文 Ｃ７１〔ΦＶｌ）　Ｃ３Ｈ１゜ −ｃｉ Ｃ７２〔Φｌ　Ｃ＋ａＨａ７ −０ＣＨ Ｃ７３（（りＶｌ）　０Ｂ　Ｈ１７（６−Ｏｃ）Ｈ５−
ＯＣＨ Ｃ７４〔Φｙ１）　Ｃ３Ｈ１□ −５−０文 ｐ７５　〔ΦＶｌ）　Ｃ３Ｈ１？ ＬＹ　文　」し く　Ｌ　ｔｌ　）　Ｈ１ （ＬＩｌ、］　Ｈ” （Ｌｌｎ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈ５）　２　１　Ｃ９−０４
（ＬＩＩＩ）　−Ｎ　（Ｃ８Ｈ５）２　１　Ｉ（ＬＩＩ
）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　Ｈ１ （Ｌｌｎ）　−Ｎ　（Ｃ８８５）２　１　Ｂｒ（Ｌｌｌ
）　ＨＣ又０４ （ＬＩＩＩ）　−Ｎ　（Ｃａ　Ｈ５）２　１　、Ｃ又０
４（Ｌｌｌ）　Ｉ（Ｈ ３（Ｌｌｌ）　ＨＩ ３　（ＬＩＶ）　−１１ （Ｌｎｌ）　−Ｎ　（Ｃｅ　Ｈ６）２　１　Ｂｒｑさ　
し」　紅工紅　紅工肛　紅 Ｃ７６〔Φ■）　Ｃ１８ＨＣ１３Ｈ３７５−Ｃ〔ΦＶｌ
）　Ｃ８Ｈ１７−− Ｄ７８　〔ΦＶｌ）　Ｃ１３Ｈ１７ Ｄ７８（ΦＶｌ）　Ｇ、８Ｈ３７−５−Ｃより８０〔Φ
■）　Ｃｌ８Ｈ３□　−５−Ｃ」Ｃ８１（Φｙ１　）　
ｃ　ｅ　Ｈ１□ Ｄ８２　〔Φ■〕　Ｃ３Ｈ１７ Ｄ８３　〔φＶｌ）　Ｃ３Ｈ１□ Ｄ８４　〔Φ■）　Ｃ３Ｈ１□ Ｄ８５　〔Φ■）　０１８Ｈ３□ Ｄ８６　〔Φ■〕　Ｃ１３Ｈ２□ Ｄ８７　〔Φ■）　Ｃ１３Ｈ２□ Ｄ８８　〔Φ■〕　Ｃ３Ｈ１７ ＤＢ９　（Φ■）　Ｃ３Ｈ１゜ Ｃ９０〔Φ■）　Ｃｌ８Ｈ３７ 、、１ｘ （Ｌｍ）　−Ｎ（Ｃ６１（５）２　Ｌ　Ｂｒ〔ＬＫＩ ＣＬ　１１　）　１（Ｉ （Ｌ　ＩＩ　）　Ｈａｎ３ｃ６Ｈ４ｓｏ３・　（Ｌ　Ｉ
Ｉ　）　Ｈ０文Ｃ６Ｈ４Ｓ０３（ＬＶ）　ＨＩ　Ｉ （ＬＶＩ）　ＨＩ　Ｂｒ ■ 〔Ｌ■〕　− （Ｌｍ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈ５）　２　１　Ｂ　ｒＣＬ　
ＩＩ　）　１（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４５ｏ３（Ｌｌｌ）　ＨＢ
ｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （Ｌｌｎ （Ｌｍ）　０ＣＨ３１Ｉ （Ｌ　ＩＩ　）　ＨｃＨ３ｃ８ｕ、ｓｏ３Ｊさ　＋、３
！シュｌ−′　しユカ−扛Ｄ９１　〔Φ■〕　Ｃ３Ｈ１
□　−− Ｄ８２　〔Φ■〕　Ｃｌ８Ｈ３□　−−Ｄ９３　〔Φ刈
〕　Ｃ３Ｈ１□ Ｄ８４　〔Φ刈〕　Ｃ３Ｈ１□ Ｄ８５　〔Φ刈〕　Ｃ８Ｈ１７ −５−Ｃｌ Ｄ８６　〔Φ刈）　Ｃ１３Ｈ２□ Ｄ８７　〔Φ刈）　Ｃ８Ｈ１７− Ｄ８８　〔Φ刈）　Ｃｌ８Ｈ３□　−−−Ｄ９Ｂ　〔Φ
所）’　ｃ　ｓ　Ｈ１□　−−一０１００　（Φ双〕　
Ｃ３Ｈ１□ Ｄ１０１　（ΦＶ　）　Ｃｓ　Ｈ１？ Ｄ１０２〔Φ■）　Ｃ３Ｈ１□ ０１０３　（Φ虐〕　Ｃ８Ｈ１７ ０１０４（Φｒ）　ＣＨ２Ｃ）（２０ＣＯＣＨ３ＣＨ３
−０１０５（ΦＩ）　ＣＨ２ＣＨ２０ＨＣＨ３−Ｄｌｏ
Ｂ　（Φｍ）　ＣＨ３ＣＨ３− Ｌ　」！　」二　上 （Ｌ　ＩＩ　）　ＨｃＨ３ｃ６Ｈ４ｓｏ３（Ｌｍ）　−
Ｎ（ＣＯ）ＩＦＩ）２　１　Ｃ）１３Ｃ６）１４ＳＱ３
（Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩＩ）　ＨＩ （ＬＩＩ）　ＨＩ ＣＬｍ）　−Ｎ　（Ｃ６Ｈ５）２　１　Ｂｒ（Ｌｌｌｌ
）　−Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２　１　ＢｒＣＬＩＩ）　ＨＢｒ ＣＬＩＩ）　ＨＢｒ （ＬＩＩ）　Ｈ’Ｂｒ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＩＥ）　ＨＢｒ （Ｌｌｌ）　Ｈ０文０４ （Ｌｌｌ）　ＨＢｒ （ＬＶＩ）　Ｂｒ　Ｉ　ＣｌＯ４ 色皇μ　免工覆　１エ」工′　シー」ユＤ１０７　（Φ
Ｉ）　ＣＨ３Ｃ：Ｈ３ Ｄ１０８　（Φｍ＋）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ１０９　（ΦＶＩ）　Ｃ２Ｈｓ　− ０１１０ＣΦＶＩ）　Ｃ６Ｈｔ７　− Ｄｌｌｌ　（Φ店）　Ｃ２Ｈ５− Ｄ１１２　（ΦＶｌ）　ＣＨ３ＣＨ３ Ｄ１１３　（ΦＶｌ）　ＣＨ３ＣＨ３ １Ｌ　」二　」し　ヨし くＬ■）　Ｈ−０文０４ （Ｌ■）　Ｈ−ＣｌＯ４ ６−ｃ交　（ＬＩＩＩ）　Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２１’　Ｃｌ
Ｏ４６−Ｃ見　（Ｌｌｌ）　Ｈ−Ｃ交０４ （ＬＶＩＩＩ）　Ｈ−Ｃ１ｏ４ −　（Ｌｍ）　Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２０　ＣｌＯ４−（ＬＩ
Ｄ）　Ｈ、−Ｃ文Ｏ４ さらに、本発明による効果が大きいのは、第２にフタロ
シアニン色素である。

用いるフタロシアニンには、特に制限はなく、中心原子
としては、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｏ。

Ｎ、Ｉｎ、Ｇａ、Ａ文、Ｉｎ０文、ＩｎＢｒ。

Ｉ　ｎＩ　、ＧａＣｕ、ＧａＢｒ、ＧａＩ　。

ＡＭＣＭ　、Ａ文Ｂｒ、Ｔｉ、ＴｉＯ，Ｓｔ。

Ｇｅ、Ｈ，Ｒ２、Ｐｂ、Ｖｏ、Ｍｎ、Ｓｎ等が可能であ
る。

マタ、フタロシアニンのベンゼン環には、直接または適
当な連結基を介して、−〇Ｈ，ハロゲン、−ＣＯＯＨ，
ＮＲ２、−ＣａＯ文、−ＣＯＯＲ′、−０ＣＯＲ’　（
ただし、Ｒ′は各種アルキルないしアリール等）、 −５ｏｚｃ文、−３Ｏ３Ｈ１−ＣＯＮＨ２、−ＣＮ、−
ＮＯ２、−３ＣＮ、−５Ｈ１−ＣＨ２０文等の種々の置
換基が結合したものであってよい。

次に、本発明の光吸収色素の具体例を挙げるが１本発明
はこれらのみに限定されるものではない。

このような色素は、大有機化学（朝食書店）含窒素複素
環化合物工４３２ページ等に記載された方法に準じて容
易に合成することができる。

すなわち、まず対応するΦ′−ＣＨ３（Φ′は前記Φに
対応する環を表わす。）を、過剰のＲ＋　Ｉ　（Ｒ＋は
アルギル基またはアリール基）とともに加熱して、Ｒ１
をΦ′中の窒素原子に導入してΦ−ＣＨ５Ｉ−を得る。

　次いで、これを、不飽和ジアルデヒド、不飽和ヒドロ
キシアルデヒド、ペンタジェンシアルまたはインホロン
なとと、ピペリジン、トリアルキルアミンなどアルカリ
触媒または無水酢酸等を用いて脱水縮合すればよい。

このような色素は、単独で記録層を形成することもでき
る。

あるいは樹脂とともに記録層を形成する。

用いる樹脂としては、自己酸化性のもの、あるいは熱可
塑性樹脂が好適である。

記録層に含有される自己酸化性の樹脂は、昇温したとき
、酸化的な分解を生じるものであるが、これらのうち、
特にニトロセルロースが好適である。

また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素の昇温に
より軟化するものであり、熱可塑性樹脂としては、公知
の種々のものを用いることができる。

これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。

１）ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテ
ン−１など。

１１）ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテ
ン−１共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。

この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。

１ｉｉ）塩化ビニル共重合体 例えは、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｉｖ）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。

Ｖ）ポリスチレン ｖｉ）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹
脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡ樹脂）、スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体（
ＳＢＲ）、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレ
ン−メチルメタアクリレート共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｖ】１）スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２
，５−ジクロルスチレン、α。

β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフ
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エス
テルとの共重合体。

マ１ｉｉ）　’）マロン−インデン樹脂クマロン−イン
デン−スチレンの共重合体。

■）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライト
。

Ｘ）アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。

式　Ｒ１０ ＣＨ−Ｃ− −０Ｒ２０ 「 上記式において、Ｒ１０は、水素原子またはアルキル基
を表わし、Ｒ２０は、置換または非置換のアルキル基を
表わす。　この場合、上記式において、Ｒ１０は、水素
原子または炭素原子数１〜４の低級アルキル基、特に水
素原子またはメチル基であることが好ましい。

また、Ｒ２０は、置換、非置換いずれのアルキル基であ
ってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１〜８である
こと゛が好ましく、また、Ｒ２［＋が置換アルキル基で
あるときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基
、ハロゲン原子またはアミノ基（特に、ジアルキルアミ
ノ基）であることが好ましい。

このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の１種または２種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。

ｘｉ）ポリアクリロニトリル ｘｉｉ）アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｘｉｉｉ）ダイアセトンアクリルアミドポリマーアクリ
ロニトリルにアセトンを作用させたダイア七トンアクリ
ルアミドポリマー。

ｘｉｉ）ポリ酢酸ビニル ｘｖ）酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。

共重合比は任意のものであってよい。

ｘｖｉ）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。

ｘｖｉｉ）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、＋イｏ７
６−６、ナイロン６−１ｏ、ナイロン６−１２．ナイロ
ン９．＋イロンｌｌ、ナイロン１２、ナイロン１３等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン６７ロー６７６−１
０、ナイロン６／６−６／１２、ナイロン６／６−６／
１１等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい。

ｘｖｉｉｉ）ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸
、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタ
ル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種二
塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類との
縮合物や、共縮合物が好適である。

そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸
との共縮合物は、特に好適である。

さらに、例えば、無水フタル酩とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
。

ｘｉｘ）ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコ−ルを、アセタール化して得られるポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。

ｘりポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。

特に、グリコール類とジイソシアナート類との縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂、と、りわけ、アルキレ
ングリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮合に
よって得られるポリウレタン樹脂が好適である。

ｘ＋＋ｉ）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。

ｘｘｉｉ）セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。

！菖１ｉｉ）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ジオキシジフェニルプロバンカーポネート等の各種ポリ
カーボネート。

ｘｘｉマ）アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのＮａ。

Ｌ　ｉ　、、Ｚ　ｎ　、　Ｍ　ｇ塩など。

ｘｘマ）ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。

ｘｘｖｉ）キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。

ｘｚｖｉｉ）石油樹脂 Ｃ５系、Ｃ９系、Ｃ５−ｃ９共重合系、ジシクロペンタ
ジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。

！！マ１ｉｉ）上記ｉ）〜！Ｘマｉｉ）の２種以上のブ
レンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体
。

なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子量等は種
々のものであってよい。

このような自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂樹脂と
、前記の色素とは、通常、重量比で１対０１〜１００の
広範な量比にて設層される。

このような記録層中には、さらに、クエンチャ−が含有
されることが好ましい。

これにより、再生劣化が減少し、耐光性が向上する。

クエンチャ−としては、種々のものを用いることができ
るが、特に、色素が励起して一重項酸素が生じたとき、
−重項酸素から電子移動ないしエネルギー移動をうけて
励起状態となり、自ら基底状態にもどるとともに、−重
項酸素を三重項状態に変換する一重項酸素クエンチャー
であることが好ましい。

一重項酸素クエンチャーとしても、種々のものを用いる
ことができるが、特に、酸性劣化が減少すること、そし
て色素との相溶性が良好であることなどから、遷移金属
キレート化合物であることが好ましい。　この場合、中
心金属としては、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｐｄ、Ｐ
ｔ等が好ましく、特に下記の化合物が好適である。

ｌ）　アセチルアセトナートキレート系Ｑｌ−Ｉ　Ｎ１
（ＩＩ）アセチルアセトナートＱｌ−２Ｃｕ（ＩＩ）ア
セチルアセトナートＱｌ−３Ｍｎ（ｍ）アセチルアセト
ナートＱｌ−４Ｃｏ（ＩＩ）アセチルアセトナート２）
　下記式で示されるビスジチオ−α−ジケトン系 ４ ここに、Ｒ−Ｒは、置換ないし非置 換のアルキル基またはアリール基を表わし、Ｍは、Ｎｉ
、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。

この場合、Ｍは一電荷をもち、４級アンモニウムイオン
等のカチオン（Ｃａｔ）と塩を形成してもよい。

なお、以下の記載において、ｐｈはフェニル基、φはｌ
、４−フェニレン基、φ’ｆｉｌ、２−フェニレン基、
ｂｅｎｚは環上にてとなりあう基が互いに結合して縮合
ベンゼン環を形成することを表わすものである。

ｃｌｌ　σ　σ　α　α ３）　下記式で示されるビスフェニルジチオール系 ここに、Ｒ５ないしＲ８は、水素またはメチル基、エチ
ル基などのアルキル基、Ｃ９，などのハロゲン原子、あ
るいはジメチルアミノ基、ジエチルアミン基などのアミ
ン基を表わし、Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ、ＰＬ等
ノＮ移金属原子を表わす。

また、上記構造のＭは一電荷をもって、４級アンモニウ
ムイオン等のカチオン（Ｃａｔ）と塩を形成してもよく
、さらにはＭの上下には、さらに他の配位子が結合して
もよい。

このようなものとしては、下記のものがある。

寸　嘘　ｃ＋３　寸　寸　寸　寸　寸　寸σ　σ　σ　
σ　ｃＩ　σ　σ　σ　σ　σσ　σ　σ　σ　σ　σ
　σ　σ　σ　σこの他、特開昭５０−４５０２７号や
特願昭５８−１６３０８０号に記載したものなど。

４）　下記式で示されるジチオカルバミン酸キレート系 Ｓ ／°・１．パ＼ （Ｒ９）　２　Ｎ−Ｃ’　Ｍ　Ｃ−Ｎ（Ｒ１０）　２＼
／＼／ Ｓ ここに、Ｒ９およびＲ１０はアルキル基を表わす。

また１ＭはＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷移金属
を表わす。

５）　下記式で示されるもの ここに、Ｍは、遷移金属原子を表わし、Ｑｌは、 を表わし、Ｃａｔは、カチオンを表わす。

性−灸−〇□ａｔ Ｑ５−Ｉ　Ｎ　ｉ　Ｑ’２　２０１６Ｈ３３Ｎ”　（Ｃ
Ｈ３）３Ｑ５−２　Ｎ　ｉ　Ｑｌ２　２Ｃ（Ｃ４）１．
）４Ｎ÷Ｑ　５−３　Ｃｏ　Ｑ　’２　２０（Ｃ４Ｈ９
，）４Ｎ”Ｑ５−４ＣｕＱ１２２ｃ（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋
Ｑ　５−５　Ｐ　ｄ　Ｑ　１２　２０（Ｃ２Ｈ９）４Ｎ
令この他、特願昭５８−１２５６５４号に記載したもの
。

６）　下記式で示されるもの ここに、 Ｍは遷移金原子を表わし、 ＩＩ ＲおよＵＲ１２は、そｈぞれｃＮ、ｃｏＲ１ｓ４ ｃ　ｏ　ＯＲ、ＣＯＮ　Ｒ”：Ｒ”またはＳ０２　Ｒ′
７を表わし、 Ｒ１３ないしＲ１７は、それぞれ水素原子または置換も
しくは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わし
、 Ｑ２は、５員または６員環を形成するのに必要な原子群
を表わし、 Ｃａｔは、カチオンを表わし、 ｎは１または２である。

χ　、　Ｚ ｅ’Ｊｃ、Ｉ　工 、−Ｓ　８　Ｚ ′ｚ、χ　２２０２ −　〜　曽　寸　り　ロ ＩＩ　Ｉ　ＩＩ　１ ω　Ｏロ　■　ω　ω σ　σ　σ　σ　σ　σ この他、特願昭５８−１２７０７４号に記載したもの。

７）　下記式で示される化合物 ここに、Ｍは遷移金属原子を表わし。

Ｃａｔは、カチオンを表わし、 ｎは１または２である。

Ｍ　Ｃａ　ｔ Ｑ　７−　Ｉ　Ｎ　＋　２　（（ｎ−Ｃ，）１８）３Ｎ
）Ｑ　７−２　Ｎ　ｉ　２　（ｒｌ−Ｃ＋ｅ）１３３（
ＣＨ３）３Ｎ　）この他、特願昭５８−１２７０７５号
に記載したもの。

８）　ビスフェニルチオール系 Ｑ８−ＩＮｉ−ビス（オクチルフェニル）サルファイド ９）　下記式で示されるチオカテコールキレート系 ここに、Ｍは、Ｎｉ　、Ｇｏ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷
移金属原子を表わす。

また、Ｍは一電荷をもち、カチオン（Ｃａｔ）と塩を形
成してもよく、ベンゼン環は置換基を有していてもよい
。

Ｍ　Ｃａ　ｔ Ｑ９−Ｉ　Ｎｆ　Ｎ”　（Ｃ４Ｈ９）　４１０）　下記
式で示される化合物 ここに、Ｒ１８は、１価の基を表わし、【は、０〜６で
あり、 Ｍは、遷移金属原子を表わし、 Ｃａｔは、カチ第５ンを表わす。

Ｍ　Ｒ”　ｌ　Ｃａｔ。

Ｑ　１０１　Ｎ　ｒ　ＨＯＮ（ｎ−Ｃ４Ｊ＞４Ｑ　１０
−２　Ｎｒ　ＣＨ３１Ｎ（ｎ−ＣａＨＢ）４特願昭５８
−１４３５３１号に記載したもの。

１１）　下記の両人で示される化合物 ここに、上記式において。

２０　２＋　２２ Ｒ、Ｒ、ＲおよびＲ２３は、それぞれの水素原子または
１価の基を表わし、 Ｒ、Ｒ、ＲおよびＲ２７は、水素原子ま２４　２５　２
ｅ たは１価の基を表わすが。

２４　２５　２５　２８　２Ｂ　２？ ＲとＲ、ＲとＲ、ＲとＲ は、互いに結合して６員環を形成してもよい。

また、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

Σ１　；　； 閃Ｉ　工　匡 国１　工　工 国Ｉ　工　匡 匡１　工　エ ムム ｌｏｌ この他、特願昭５８−１４５２９４号に記載したもの。

１２）　下記式で示される化合物 ここに、Ｍは、Ｐｔ、ＮｉまたはＰｄを表わし、ｘ、、
ｘ２　、ｘ３　、ｘ４は、ツレツレ０またはＳを表わす
。

Ｌ　ｘＬ　■　盈１　人工 Ｑ１２−Ｉ　Ｎｉ　ＯＯＯ０ Ｑ１２−２　Ｎｉ　Ｓ　Ｓ　Ｓ　Ｓ この他、特願昭５８−１４５２９５号に記載したもの。

１３）　下記式で示される化合物 ここに、Ｒ３１は、置換もしくは非置換のアルキル基ま
たはアリール基であり、 ３２　３３　３４ Ｒ、Ｒ、ＲおよびＲ３５は、水素原子 または１価の基を表わすか、Ｒ３２とＲ３３，３３３４
３４３５ Ｒ，！：Ｒ，ＲとＲは、互いに結合して６員環を形成し
てもよい。

また、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

３１　３２　３３　３４ ＲＲＲＲＲ”’　￥ ＱＬ３−１ｎＣＨＨＨＨＨＮｉ ９ Ｑ１３−２　Ｃ６Ｈ３ＨＨＣ２Ｈ５ＨＮ１Ｑ１３−３　
ｎｃ、Ｈ２Ｎ　Ｈｂｅｎｚ　Ｎｉこの他、特願昭５８−
１５１９２８号に記載したもの。

１４）　下記両式で示される化合物 ４１　４１　４３ Ｒ、Ｒ、ＲおよびＲ４４は、それぞれ 水素原子または１価の基を表わすが、 ４１　４２　４２　４３　４３　４４ ＲとＲ、ＲとＲ、ＲとＲは、 互いに結合して６員環を形成してもよい。

また、ＲおよびＲ４６は、水素原子または５ １価の基を表わす。

さらに、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

Ｑ１４−ＩＨＨＨＨＨ−Ｎ１ Ｑ１４−２　ＨＨＣＨＯＨＩ　ＨＨ−Ｎｉ７ この他、特願昭５８−１５１９２９号に記載したもの。

１５）　下記式で示される化合物 １ ゜。、ユ、Ｒ５１，Ｒ５２，Ｒ５３，Ｒ５４，Ｒ５５゜
Ｒ２Ｏ，Ｒ５７，およびＲ５８は、それぞれ、水素原子
または１価の基を表わすが、 ５１　５２　５２　５３　５３　５４ ＲとＲ、ＲとＲ、ＲとＲ、 Ｒ５５とＲ５６、Ｒ５８とＲ５７およびＲ５７とＲ５８
は互いに結合して６員環を形成してもよい。

又は、ハロゲンを表わす。

Ｍは、遷移金属原子を表わす。

（ （ （ （ （ （ ｌＣ１ この他、特願昭５８−１５３３９２号に記載したもの。

６）　下記式で示されるサリチルアルデヒドオ巳シム系 、８１ ０ ここに、ＲおよびＲ６１は、アルキル基を表わし、Ｍは
、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ。

Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。

Ｊ　１６−１　１−Ｃ３Ｒ７１−Ｃ３Ｒ７Ｎ　ｉと１６
−２　（ＣＩ）　ＣＨ（ＣＨ）　（ＨＮｉ２１＋３　２
１１３ ＞　１６−３　（ＣＨ）　ＣＨ（（Ｒ２）、、ＣＨ２Ｏ
。

２１１　３ 目６−４　（Ｃ：Ｈ，、）、、Ｃ）１３（ＣＨ２）、１
Ｃ：Ｈ３Ｃ。

と１６−５”　Ｃ８Ｒ５Ｃ８Ｒ５Ｎ１ Ｌ１６−８　Ｃ６Ｒ５Ｃ６Ｒ５Ｃ。

Ｑｌ　６−７　Ｃ６Ｒ５Ｃ８Ｒ５Ｃｕ Ｑｌ　６−８　ＮＨＣｓ　Ｈｓ　ＮＨＯ２Ｒ５Ｎ　１Ｑ
１６−９　０ＨＯＨＮｉ １？）　下記式で示されるチオビスフェルレートキレー
ト系 ５ ここに１Ｍは前記と同じであり、ＲおよびＲ６８は、ア
ルキル基を表わす。　また、Ｍは一電萄をもち、カチオ
ン（Ｃａｔ）と塩とを形成していてもよい。

Ｒ６５Ｒ８６Ｍ　Ｃａｔ Ｑ　ｌ　７−１　ｔ−Ｃ３Ｈ，７Ｎ　ｉ　Ｎ”Ｒ３（Ｃ
，）Ｒ９）Ｑｌ７−２　ｔ−Ｃ８１（、□　ｃ　ＯＮ”
　）Ｒ３（ｃ　ａ　Ｈｓ　）Ｑｌ７−３　ｔ−Ｃ８Ｈ１
７Ｎｉ　− １８）　下記式で示される亜ホスホン酸キレート系 、、Ｊ１２つ７２ （Ｒ）ｄ ここに、Ｍは前記と同じであり、Ｒ７１およびＲ７２は
、アルキル基、水酸基等の置換基を表わす。

ｕ　７１　Ｒ７２Ｍ Ｑ　１８−１　３−ｔ−ＣＨ、５−ｔ−Ｃ４）１８．８
−ＯＨＮｉ８ １８）　下記各式で示される化合物 ここに、ｕ　ｆｉｌ　、　ｕ　８２　、　ｕ　８’３お
よびＲ８４は、水素原子または１価の基を表わすが、 Ｒ８１とＲ８２，Ｒ８２とＲ８３，Ｒ８３とＲ８４は、
互いに結合して、６員環を形成してもよい。

ＲおよびＲ８８は、それぞれ、水素原子また５ は置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール基
を表わす。

Ｒ８６は、水素原子、水酸基または置換もしくは非置換
のアルキル基もしくはアリール基を表わす。

Ｒ８７は、置換または非置換のアルキル基またはアリー
ル基を表わす。

Ｚは、５負または６負の環を形成するのに必要な非金属
原子群を表わす。

要な非金属原子群を表わす。

Ｍは、遷移金属原子を表わす。

σ　σ　σ この他、特願昭５８−１５３３９３号に記載したもの・ ２０）　下記式で示される化合物 ここに、ＲおよびＲ８２は、それぞれ、水素１ 原子、置換または非置換のアルキル基、アリール基、ア
シル基、Ｎ−フルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカ
ルバモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ−ア
リールスルフアモイル基、アルコキシカルボニル基また
はアリーロキシカルボニル基を表わし。

Ｍは、遷移金属原子を表わす。

Ｑ２０−１　ｎＣ４Ｈｇ　ＣＨ３Ｎ　１Ｑ２０−２　Ｃ
Ｒ３（ｌ１３０−φ−ＮＨＣＯＮｉこの他、特願昭５８
−１５５３５９号に記載したもの。

この他、他のクエンチャ−としては、下記のうなものが
ある。

ｌ）ベンゾエート系 Ｑ２１−１　既存化学物質３−３０４０　（チヌビン−
１２０（チバカイギー社製）） ２）ヒンダードアミン系 Ｑ２２−１　既存化学物質５−３７３２（ＳＡＮＯＬＩ
Ｓ−７７０（三共製 薬社製）〕 これら各クエンチャ−は、色素１モルあたり０．０１−
１２モル、特に０．０５〜１．２モル程度含有される。

なお、クエンチャ−の極大吸収波長は、用いる色素の極
大吸収波長以上であることが好ましい。

これにより、再生および劣化はきわめて小さくなる。

この場合、両者の差は０か、３５０ｎｍ以下であること
が好ましい。

なお、装置を小型化するためには、書き込みおよび読み
出しの光源として、好ましくは７５０．７８０．８３０
ｎｍの半導体レーザーあるいは６３３ｎｍのＨｅ−ＮＥ
レーザー等木工用いることが好ましいので、−ｆｆｉ項
酸素クエンチャ−の吸収極大波長は６８０ｎｍ以上、特
に６８０〜１５００、より一層好ましくは、８００〜１
５００ｎｍにあることが好ましい。

さらに、読み出し光の波長における用いる色素（２種以
上用いるときにはその実効値）および−主項酸素クエン
チャーの吸収係数をそれぞれεＤおよびεＱとしたとき
、εＤ／εＱは３以上であることが好ましい。

なお、色素を２種以上併用して用いることには、色素の
吸収極大波長とεＤとは、濃度に応じた相加平均実効値
である。

このような値となることにより、読み出し光の照射時の
クエンチャ−の励起がきわめて小さくなり、−主項酸素
による再生劣化はきわめて小さくなる。

さらに、クエンチャ−は、色素とイオン結合体を形成し
てもよい。

クエンチャ−色素イオン結合体としては、特願昭５９−
１４８４８号に記載したものを川（てもよい。

ただ、より好適に用いることのできるのは、特願昭５９
−１８８７８号、同５９−１９７１５号に記載したシア
ニン色素カチオンとクエンチャ−アニオンとの結合体で
ある。

用いるシアニン色素カチオンとしては、上記したものの
カチオン体いずれであってもよい。

また、クエンチャ−アニオンは、上記３）、５）、６）
、７）、９）、１０）、１７）（７）うちのいずれのア
ニオン体であってもよい。

以下にその具体例をあげる。

なお、下記において、Ｄ＋は対応するＤのカチオン、ま
た、Ｑ−は対応するクエンチャ−のアニオンである。

Ｄ＋　ｑニー− ５ＤＩ　Ｏ”　Ｉ　Ｑ−３−８ ＳＤ２　Ｄ”　Ｉ　Ｑ−３−１５ ＳＤ３　Ｄ”　Ｉ　Ｑ−３−１５ ＳＤ４　Ｄ、”　１０　Ｑ−３−３ ＳＤ５　Ｄ”　１０　Ｑ−−３−１５ ＳＤＳＤ＋１？Ｑ−３−８ ＳＯ２Ｄ＋　２１　Ｑ−３−８ ３Ｄ８　Ｄ”　＋Ｉ　Ｑ−３−８ ＳＤ９Ｄ”８Ｑ−３−８ ＳＤＩＯＤ”　８　Ｑ−３−２ ５Ｄ　１１　Ｄ”　９　Ｑ−３−１５ ５０１２０”　＋０８　Ｑ−３−１５ ５０１３０”　１０　Ｑ−３−１５ Ｓ　０１４　Ｄ”　５　Ｑ−３−１５ ３Ｄ１５　Ｄ”　１０　Ｑ−３−７ Ｓ　Ｄ　Ｉ８　Ｄ　”　２２　Ｑ　３−１５５０１？　
Ｄ”　１０５　Ｑ−３−１８５Ｄ　１８　０”　７　Ｑ
−３−１？ ５ＤＩＩＩ　Ｄ”　２０　Ｑ−３−１１１５　Ｄ　２０
　Ｄ”　Ｉ　Ｑ−３−Ｉ ＳＤ２１　Ｄ＋　Ｉ　Ｑ−３−２ ＳＤ２２　Ｄ”　Ｉ　Ｑ−３−１ｉｌｌＳＤ２３　Ｄ”
　Ｉ　Ｑ−３−１７ ＳＤ２４　Ｄ”　１０　Ｑ−：３−７ ＳＤ２５　Ｄ”　１０８　Ｑ−３−８ ＳＤ２８　Ｄ”　１０［Ｉ　Ｑ−３−７ＳＤ２７　Ｄ”
　１０８　Ｑ−３−２ Ｓ　Ｄ２８　Ｄ”　１ＯｆＩ　Ｑ−３−１［ｌ５Ｄ２１
３　Ｄ”　−５Ｑ−３−８ ＳＤ３０　Ｄ”　５　Ｑ−３−２ Ｓ［）３１．　Ｄ”　５　Ｑ−３−７ ＳＤ３２　Ｄ”　５　Ｑ”’３−１［１ＳＤ３４　Ｄ”
　Ｉ　Ｑ−３−８ ＳＤ３５　Ｄ”　Ｉ　Ｑ−３−３ ＳＤ３８　Ｄ”　１０　Ｑ−３−Ｉ ＳＤ３？　Ｄ”　＋７　Ｑ−１７−１ ＳＤ３８Ｄ”１１Ｑ−１０−１ Ｓｎ２ＯＤ”　２Ｉ　Ｑ−７−２ ＳＤ４０　Ｄ”　９　Ｑ　’ｌ０−１ ＳＤ４１　Ｄ”　１０８　Ｑ−６−Ｉ ＳＤ４２　Ｄ”　５　Ｑ−３−３ ＳＤ４３　Ｄ”　４２　Ｑ、−３−８ ＳＤ４４Ｄ＋１０１１１Ｑ−３−８ ＳＤ４５　Ｄ＋　７０　Ｑ−３−８ ＳＤ４Ｂ　Ｄ”　＋１０　Ｑ−３−８ ＳＤ４７　Ｄ　＋　７０　、Ｑ−３−１５ＳＤ４８　Ｄ
＋　４２　Ｑ−３−１？ ５Ｄ４９　Ｄ”　４３　Ｑ−３−７ ＳＤ５０Ｄ＋９１Ｑ−３−８ ＳＤ５１　Ｄ”　ＩＩＩ　Ｑ−３−８ ＳＤ５２Ｄ”１１２Ｑ−３−２ ＳＤ５３　Ｄ”　１１３　Ｑ−３−８ ＳＤ５４　Ｄ”　７０　Ｑ−２−３ このような吸収特性をもつクエンチャ−は、用いる光源
および色素に応じ、適宜選択して使用される。

このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよい。

そして、記録層の厚さは、通常、Ｏ，Ｏ’３〜２ｇｍ程
度とされる。　あるいは色素とクエンチャ−のみで記録
層を形成するとくには、蒸着、スパッタリング等によっ
てもよい。

記録層の厚みは、０．０４〜０．１２ｇｍ、特に０．０
５〜０．０８ｇｍであることが好ましい。

０．０４１Ｌｍ、＠に０．０３μｍ以下では吸収量反射
量とも小さく書き込み感度、再生感度とも大きく取るこ
とができない。

０．１２Ｂｍ以上では、プリグループが埋没してしまい
、トラッキング信号を得ることが困難となる。　また、
ピー２１形成が容易でなき、書き込み感度が低下する。

なお、このような記録層には、この他、他の色素や、他
のポリマーないしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤
、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤、酸化防
止剤、そして架橋剤等が含有されていてもよい。

このような記録層を設層するには、基体上に、所定の溶
媒を用いて塗布、乾燥すればよい。

なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、プチルカルヒトールアセテート等のエステル
系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル
系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系。

ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル系、アルコール
系などを用いればよい。

このような記録層を設層する基体は樹脂製である。

樹脂の材質としては、種々のものが可能である。

ただ、このような樹脂中、特に上記したような各種塗布
用の溶媒、特にケトン系、エステル系、ハロゲン化アル
キル等におかされやすく、本発明の下地層による効果が
特に大きいのは。

アクリル樹脂またはポリカーボネート樹脂である。

そして、これらでは、書き込みおよび読み出し光に対し
、実質的に透明であるので、書き込みおよび読み出しを
基体裏面側から行うことができ、感度、Ｓ／Ｎ比等の点
で有利であり、またホコリ対策等の実装上の点でも有利
である。

さらに、成形性も良好であるので、トラッキング用の溝
の形成も容易である。

アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレート等、
炭素原子数１〜８の鎖状ないし環状のアルキル基をもつ
メタクリル酸エステルを主体とするコポリマーないしホ
モポリマーが好ましい。

また、ポリカーボネート樹脂としては、ビスフェノール
Ａタイプが好ましい。

そして、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹
脂は、射出成形によって形成されたものであるとき、本
発明の下地層の効果はより大きなものとなる。

なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネート樹脂
の数平均重合度は、８００〜６０００程度であることが
好ましい。

表面層はケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜か
らなる。

ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロゲン化ケイ素、
特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ酸、特に四低級
アルキル（メチル、エチル）ケイ酸の加水分解縮合物が
好適である。

そして、コロイド粒子径は、３０〜１００人、特に５０
〜８０λ程度とされる。

また、分散媒としては、アルコール、特に１個の脂肪族
アルコール、あるいは酢酸アルキル、あるいはこれらと
芳香族炭化水素との混合溶媒等が用いられる。

また、加水分解のためには、必要に応し鉱斂が添加され
る。

そして、必要に応じエチレングリコール等の安定剤や界
面活性剤等が添加される。

このようなコロイド粒子分散液の１例としては、特公昭
３１−６５３３号に記載さ９れた四塩化ケイ素（Ｓ　Ｉ
　Ｃｎ４）と１価の脂肪族アルコールとを酢酸アルキル
エステル中に溶解させたものがある。　そして、この塗
膜からなる下地層が形成され、この下地層上に記録層が
塗設される。

また、特公昭３６−４７４０号に記載された四アルキル
ケイ酸と１価の脂肪族アルコール、酢酸アルキルおよび
鉱酸よりなる溶液に、１〜２０ｖｔ％のエチレングリコ
ールを添加したものでもよい。

さらには、特公昭４５−３５４３５号に記載された四低
級アルキルケイ酸のアルコール溶液でもよい。

このような場合、使用する１価の脂肪族アルコールとし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、変性アル
コール、インプロピルアルコール、ブチルアルコールあ
るいはそれらの混合物、 酪酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル、酢酸ブチルあるいはこれらの混合物を用い、 鉱酸としては、塩酸、硫酸の水溶液等で、許通工業的に
用いられているものを用いればよい。

なお、これらの分散液の塗布は、帛法に従い、スピンナ
ーコート等の塗布によればよい。

そして、乾燥は、４０〜８０℃にて、２０分〜２時間程
度行えばよい。

このようにして形成される塗膜は、酸化ケイ素塗膜であ
る６ 以上の表面層の厚さは、０．００５〜０．０３ｐ−ｍで
ある。　特に好ましくは、０．０８〜０’、０１２ｇｍ
であることが好ましい。

表面層が、９．０３Ｂｍ未満であれば、光記録媒体とし
ての書き込み読み出しの感度向上の効果が得られない。

表面層が０．０３ｇｍを超えると、光記録媒＼ 体としての書き込み婢み出しの感度は、かえって、低下
してしまう。

色素組成物からなる光記録＋Ｓは光照射と同時にピット
が形成されてしまい、その後の照射光は最もエネルギー
の集中している中央部で吸収されなくなる。　従ってエ
ネルギーの利用効率が低く、感度がある値以上向上しな
い原因となっている。

本発明は表面および下地、特に表面に高融点の固い膜を
設けることにより、一定時間の照射光に対してビットを
形成しないようにし、十分な温度にまで上昇するのを待
って、−気にビット形成が起こるようにするものである
。

さらに本発明の表面層を有する記録層は、基体側に下地
層を設層することが好ましい。

下地層としては、公知の種々のものであってよいが、す
でに述べた表面層と全く同様にして作製されたものであ
ることが好ましい。

下地層の厚みは０．００５〜０．０５ルｍである。　特
に０．００８〜０．０３１Ｌｍであることが好ましい。

下地層が０．００５ｇｍ未満となると、基体への耐溶剤
性付与効果および耐熱性付与効果が不充分である。　０
．０５ｐｍを超えると、感度が低下する。

以上のような下地層を設置することによって、光記録媒
体としての感度がさらにあがり。

Ｓ／Ｎ比がさらに向上する。

下地層上には１通常直接記録層が設層されるものである
が、必要に応じ場合によっては、下地層と記録層との間
に、他の中間層を設層することもできる。

同様に表面層上に、さらに各種最上層保護層、ハーフミ
ラ一層などを設けることもできる。　ただし反射層は積
層しないことが望ましい。

本発明の媒体は、このような基体の一面上に下地層を介
して、上記の記録層を有するものであってもよく、その
両面に下地層を介して記録層を有するものであってもよ
い。

また基体の一面上に下地層を介して記録層を塗設したも
のを２つ用い、それらを記録層が向かいあうようにして
、所定の間隙をもって対向させ、それを密閉し、ホコリ
やキズがつかないようにすることもできる。

なお、記録層には反射層を積層しないことが好ましい。

■　発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状に照射する。

このとき、記録層中の色素の発熱により、自己酸化性の
樹脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹脂や色素が融解
し、ピットが形成される− この場合、書き込みは気体裏面側から行うことが好まし
い。

特に、トリないしテトラカルボシアニン色素を用いると
きには、７５０．７８０．８３０ｎｍ波長の記録半導体
レーザーダイオードなどを用いたとき、きわめて良好な
書き込みを行うことができる。

また、フタロシアニン色素を用いるときには、７３０〜
７６０ｎｍ、波長の記録半導体レーザーダイオードなど
を用いたときに、非常に良好な書き込みを行うことがで
きる。

このようにして形成されたピットは、やはり媒体の走行
ないし回転下、上記の波長の読み出し光の反射光ないし
透過光、特に反射光を検出することにより読み出される
。

この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側から照射し
て、その反射光を検知するようにすることが好ましい。

なお、記録層に熱可塑性樹脂を用いるときには、一旦記
録層に形成したピ・ントを光ないし熱で消去し、再書き
込みを行うこともできる。

また、記録ないし読み出し光としては、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザー等を用いることもできる。

■　発明の具体的効果 本発明は色素または色素組成物からなる記録層にケイ素
系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜からなる表面層を
有するので、光記録媒体としての、書き込みの感度が向
上する。

さらに必要に応じて基体側にケイ素系縮合物のコロイド
粒子分散液の塗膜からなる下地層をも有するので光記録
媒体としての、Ｓ／Ｎ比がさらに向上して書き込み読み
出しの感度が向上する。

そのうえ下地層を有することにより光記録媒体の耐溶剤
性、耐熱性、記録感度を向上させることができる。

■　発明の具体的実施例 以下１本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説
明する。

実施例 基体直径３０ｃａ＋のＰＭＭＡ　（ＭＦＩ　＝　２）射
出成形基板に、 四エチル塩酸　４．２部 エチルアルコール　４３部 酢酸エチル　４２都 濃塩酸　５．４部 エチレングリコール　５，４部 を混和し、５０〜８０人のコロイド分散液とし、ｎ−プ
ロパツールで希釈して塗布液とした。

これをスピンコードしたのち、６０℃、３０分間処理し
た。　膜厚はＯ，０１ｇｍである。

次いで、色素Ｄ−１０およびクエンチェーＱ３−８　（
５：　２）の色素１％溶液（ジクロロエタン、ジクロヘ
キサノン（６：５））ｖ）らなる記録層をスピンナーで
設層した。

さらに、この記録層上に上記コロイド分散液をｎ−へキ
サンで希釈した溶液をスピンナー塗布によって表面層を
設層した。　膜厚はＯｏＯｌｐ−ｍであった。

以上を試料１とする。

試料１と同様な条件で色素にＤ２を用いクエンチャ−Ｑ
３−８と５：２の組成の記録層を用いた。　表面層、下
地層は試料１と同様である。

以上を試料２とする。

試料１と、同様な条件で試料を作製した。

ただし１表面層の膜厚は０．０８７ｚｍ、記録層の膜厚
は０．０７ｐＬｍ、下地層の膜厚はｏ、。

２用ｍとした。　これを試料３とする。

つぎに比較例として試料ｌと同し記録層を用い、表面層
を設層しない、下地層のみ設層したものを比較例４とし
た。

また、記録層のみで、下地層も表面層もないものを比較
例５とした。

以１の試料および比較例について、８３０ｎｍでの基板
裏面側からの反射率を測定した。−１、また、８３０ｎ
ｍ半導体レーザを用い、集光部出力１０ｍＷで、基板裏
面側から書き込み、反射レベル比（消光比）２が得られ
る最小パルス幅（ｎｓ）の逆数を感度として測定した。

さらに、ヒューレンドパッカード社製のスペクトラムア
ナライザーにて、バンドＩｌｌ　３０　ＫＨ２でのＣ／
Ｎ比を測定した。

結果を表１に示す。

表１に示される結果から本発明の効果があきらかである
。

特許出願人　ティディケイ−株式会社 代　理　人　弁理士　石　井　陽　− 第１頁の続き ［相］発明者高橋　−大東 式 ％式％ 式 叡都中央区日本橋１丁目１３１１号　ティーディーケイ
株会社内 α都中央区日本橋１丁目１旙１号　ティーディーケイ株
会社内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　樹脂製の基体上に、色素または色素組成物から
   なる記録層を有する光記録媒体において、表面層がケイ
   素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜からなることを
   特徴とする光記録媒体。 （２）基体が書き込み光および読み出し光に対し、実質
   的に透明である特許請求の範囲第１項に記載の光記録媒
   体。 （３）　基体がアクリル樹脂またはポリカーボネート樹
   脂である特許請求の範囲第１項または第２項に記載の光
   記録媒体。 （４）　下地層の厚さが５０〜５００人である特許請求
   の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の光記録媒
   体。 （５）　表面層の厚さが５０〜３００人である特許請求
   の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の光記録媒
   体。 （６）　記録層の厚さが４００−１２００人である特許
   請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の光記
   録媒体。 （７）　記録層が色素組成物からなり、色素組成物が、
   色素と樹脂とを含む特許請求の範囲第１項ないし第６項
   のいずれかに記載の光記録媒体。 （８）　記録層が色素組成物からなり、色素組成物が１
   色素とクエンチャ−とを含む特許請求の範囲第１項ない
   し７項のいずれかに記載の光記録媒体。 （９）　ｅｌがシアニン色素またはフタロシア二？色素
   である特許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれかに
   記載の光記録媒体。 （ｌＯ）　クエンチャ−が色素とイオン結合体、と構成
   している特許請求の範囲第１項ないし第９項のいずれか
   に記載の光記録媒体。 （１１）　基体裏面側から書き込みおよび読み出しを行
   う特許請求の範囲第１項ないし第１Ｏ項のいずれかに記
   載の光記録媒体。 （１２）　記録層に反射層が積層されていない特許請求
   の範囲第１項ないし第１１項のいずれかに記載の光記録
   媒体。 （１３）　樹脂製の基体上に下地層を有し、この下地層
   上に色素または色素組成物からなる記録層を有し、この
   記録層上に表面層を有する光記録媒体において、下地層
   および表面層がケイ素系縮合物のコロイド粒子分散液の
   塗膜からなることを特徴とする光記録媒体。 （１４）　基体が、書き込み光および読み出し光に対し
   、実質的に透明である特許請求の範囲第１３項に記載の
   光記録媒体。 （１５）　基体がアクリル樹脂またはポリカーボネート
   樹脂である特許請求の範囲第１３項または第１４項に記
   載の光記録媒体。 （１６）　下地層の厚さが５０〜５００人である特許請
   求の範囲第１３項ないし第１５項のいずれかに記載の光
   記録媒体。 （１７）　表面層の厚さが５０〜３００人である特許請
   求の範囲第１３項ないし第１６項のいずれかに記載の光
   記録媒体。 （１８）　記録層の厚さが４００〜１２００人である特
   許請求の範囲第１３項ないし第１７項のいずれかに記載
   の光記録媒体。 （１８）　記録層が色素組成物からなり、色素組成物が
   、色素と樹脂とを含む特許請求の範囲第１３項ないし第
   １８項のいずれかに記載の光記録媒体。 （２０）　記録層が色素組成物からなり１色素組成物が
   、色素と、クエンチャ−とを含む特許請求の範囲第１３
   項ないし第１９項のいずれかに記載の光記録媒体。 （２１）　色素がシアニン色素またはフタロシアニン色
   素である、特許請求の範囲第１３項ないし第２２項のい
   ずれかに記載の光記録媒体。 （２２）　クエンチャ−が色素とイオン結合体を構成し
   ている特許請求の範囲第１１項ないし第２１項にいずれ
   かに記載の光記録媒体。 （２３）　基体裏面側から書き込みおよび読み出しを行
   う特許請求の範囲第１３項ないし第２２項のいずれかに
   記載の光記録媒体。 （２４）　記録層に反射層が積層されていない特許請求
   の範囲第１３項ないし第２３項に記載の光記録媒体。