JPS60187696A - 金合金めつき浴及び方法 - Google Patents
金合金めつき浴及び方法Info
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- JPS60187696A JPS60187696A JP1847085A JP1847085A JPS60187696A JP S60187696 A JPS60187696 A JP S60187696A JP 1847085 A JP1847085 A JP 1847085A JP 1847085 A JP1847085 A JP 1847085A JP S60187696 A JPS60187696 A JP S60187696A
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- plating bath
- bath
- plating
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/62—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は金合金めっき浴、さらに訂しくは硬質金合金の
高速めっき浴に関する。
高速めっき浴に関する。
金めつきに際して金ど一緒に共析する他の金属を析出さ
けると、純金の場合よりら１１１１！質のめつぎ膜が得
られることは公知である。この場合には合金化金属に対
する錯化剤が用いられ、例えば公知の金−コバルトめっ
き浴中には錯化剤どしてりエン酸塩が含まれているが、
これは緩衝剤としての役割し果す。
けると、純金の場合よりら１１１１！質のめつぎ膜が得
られることは公知である。この場合には合金化金属に対
する錯化剤が用いられ、例えば公知の金−コバルトめっ
き浴中には錯化剤どしてりエン酸塩が含まれているが、
これは緩衝剤としての役割し果す。
金−ニッケル合金めっき浴は、金−コバルト合金めっき
浴組成中のコバルｌ−成分を１１にニッケルで置換づれ
ば調製できるように期待されるかもしれないが、このに
うにするとめっき速度が阻害され、かつ浴中に好ましく
ない沈殿が生成づる。
浴組成中のコバルｌ−成分を１１にニッケルで置換づれ
ば調製できるように期待されるかもしれないが、このに
うにするとめっき速度が阻害され、かつ浴中に好ましく
ない沈殿が生成づる。
［発明の要約１
金−ニッケル合金めっき浴の場合にはクエン酸塩を添加
ηることが浴の欠陥の原因であるということが判明した
１゜ そこで本発明によれば、クエン酸塩を含まない金合金め
っき浴が提供され、該浴は浴可溶竹金、浴可溶性合金化
金属、蓚酸及びギ酸から成っている１゜ 以下に記載した蓚酸又はギ酸のような弱有機酸とそのア
ニオンとは同意詔として交換できる用語であることに注
意ずべきであり、そこに存在する種の性＊ Ｇ、Ｌ浴の
Ｄ Ｉ−１に依存するだけである。
ηることが浴の欠陥の原因であるということが判明した
１゜ そこで本発明によれば、クエン酸塩を含まない金合金め
っき浴が提供され、該浴は浴可溶竹金、浴可溶性合金化
金属、蓚酸及びギ酸から成っている１゜ 以下に記載した蓚酸又はギ酸のような弱有機酸とそのア
ニオンとは同意詔として交換できる用語であることに注
意ずべきであり、そこに存在する種の性＊ Ｇ、Ｌ浴の
Ｄ Ｉ−１に依存するだけである。
［発明の構成１
浴可溶竹金源は例えばシアン化金（Ｉ＞アルカリ金属又
はシアン化金（Ｉ＞アンモニウムのような金（Ｉ）塩が
好ましい。金′ｌＡ度は４〜５Ｃｌ／ρ、好ましくは４
〜２０ｇ／ρ、例えば８〜１２ｇ／Ｎである。
はシアン化金（Ｉ＞アンモニウムのような金（Ｉ）塩が
好ましい。金′ｌＡ度は４〜５Ｃｌ／ρ、好ましくは４
〜２０ｇ／ρ、例えば８〜１２ｇ／Ｎである。
特に好ましい合金化金属はニッケルである。この場合、
好ましい浴可溶性合金化金属源は硫酸ニッケルである。
好ましい浴可溶性合金化金属源は硫酸ニッケルである。
ニッケル濃度は０．５〜２０ｇ／β、好ましくは１〜５
ｇ／、ｉＩ、例えば２・〜３Ｓ？／りである。
ｇ／、ｉＩ、例えば２・〜３Ｓ？／りである。
蓚酸の浴中での主な機能は二つある。第１はニッケルイ
オンに対する錯化剤、第２は浴の緩衝剤どしてである。
オンに対する錯化剤、第２は浴の緩衝剤どしてである。
したがって蓚酸のＷＪ度はこれらの機能を充足するのに
十分な吊である。蓚酸濃度を選択する際には、蓚酸の溶
解性が低温になる稈、制限を受りるということを注意づ
べきである。本発明の好ましい浴組成は蓚酸濃度が２０
〜２００ｇ／ＩＪ、より好ましくは３０〜８０ｇ＃、例
えば４０〜６０ｇ／Ｊ）の範囲である。さらに詳しくは
蓚酸の最適な使用製電は４５〜５５ｇ／ρ、例えば５０
ｒ？／、０の範囲であることが判った。Ｃの水準の周辺
にお【プる多少の濃度変動はめつき速度に刻してそれＬ
ＥＴどの影響を与えない。
十分な吊である。蓚酸濃度を選択する際には、蓚酸の溶
解性が低温になる稈、制限を受りるということを注意づ
べきである。本発明の好ましい浴組成は蓚酸濃度が２０
〜２００ｇ／ＩＪ、より好ましくは３０〜８０ｇ＃、例
えば４０〜６０ｇ／Ｊ）の範囲である。さらに詳しくは
蓚酸の最適な使用製電は４５〜５５ｇ／ρ、例えば５０
ｒ？／、０の範囲であることが判った。Ｃの水準の周辺
にお【プる多少の濃度変動はめつき速度に刻してそれＬ
ＥＴどの影響を与えない。
ギ酸は高速めつきを達成させるための必須成分の一つで
あると考えられる。このものは焦げ防１Ｆ剤又は高電流
密度領域にお１ノる金属移動防１１剤として作用りるよ
ってある１、ギ酸１１ＸＩ ＩＪ（は２０−・１００ｍ
Ｑ／９ 、ＩＴよしくは３０〜８０ｍＱ／β、最適に【
よ３０−′−ｌｌＯｍＱ／ｆＪの範囲であるが、３５藏
／、Ｑのギ酸淵１哀が狛に好ましい。
あると考えられる。このものは焦げ防１Ｆ剤又は高電流
密度領域にお１ノる金属移動防１１剤として作用りるよ
ってある１、ギ酸１１ＸＩ ＩＪ（は２０−・１００ｍ
Ｑ／９ 、ＩＴよしくは３０〜８０ｍＱ／β、最適に【
よ３０−′−ｌｌＯｍＱ／ｆＪの範囲であるが、３５藏
／、Ｑのギ酸淵１哀が狛に好ましい。
１） Ｈ調整剤、例えば水酸化カリウム又（９１他の水
酸化アルカリ金属は、最終浴のｐｌ−１が３．９〜５．
１、特に４．１・〜・４．９になるＪ、うな；６にＪ３
いて浴中に含まれることが９丁ましい、。
酸化アルカリ金属は、最終浴のｐｌ−１が３．９〜５．
１、特に４．１・〜・４．９になるＪ、うな；６にＪ３
いて浴中に含まれることが９丁ましい、。
必須成分ではないが、め−）き光沢、延性、粒子緻密度
その他を変化及び／又は改良づるための他の添加剤を含
むことは差支えない。ただしこれらの添加成分は浴中の
他の成分と相溶性であって、浴組成及び浴の運転に対し
て悲影響がないものでなければならない。
その他を変化及び／又は改良づるための他の添加剤を含
むことは差支えない。ただしこれらの添加成分は浴中の
他の成分と相溶性であって、浴組成及び浴の運転に対し
て悲影響がないものでなければならない。
さらに、本発明によれば素地上に金合金、特に金−ニッ
ケルめっきを高速で施こりための方法が提供される。該
方法は本発明浴中に素地をカソードとして浸漬し、次い
でカソードとアノード間に通電することがら成っている
。
ケルめっきを高速で施こりための方法が提供される。該
方法は本発明浴中に素地をカソードとして浸漬し、次い
でカソードとアノード間に通電することがら成っている
。
浴温は２０’〜８０℃、好ましくは３０°〜７０℃、例
えば４０°〜６０℃である。
えば４０°〜６０℃である。
めっき後、適正にめっきされた素地を軟水又は１１１２
イオン水でずすいでＭ酸カルシウムの沈殿が生しないよ
うにする。
イオン水でずすいでＭ酸カルシウムの沈殿が生しないよ
うにする。
かくはｌυイ」ぎて本発明の方法を実験室的規模で実施
する際には、電流密度１３ＡＳＤにおいて３．８マイ−
９０２７分のめつさ速度になるようにめっきすれば光沢
の減少がな〈実施できるので好ましいことが判った。例
えばジェットプレーディングのような、しつと速度の大
きな処理装置を用いれば、２００ＡＳＤ以下までの高電
流密度にａ′３いて、さらに８速のめつき操業が達成で
きる。
する際には、電流密度１３ＡＳＤにおいて３．８マイ−
９０２７分のめつさ速度になるようにめっきすれば光沢
の減少がな〈実施できるので好ましいことが判った。例
えばジェットプレーディングのような、しつと速度の大
きな処理装置を用いれば、２００ＡＳＤ以下までの高電
流密度にａ′３いて、さらに８速のめつき操業が達成で
きる。
本発明の浴は特に高速めつき用に適している。
商業運転条件では、電流密度１０，２０．５０もしくは
１００ＡＳＤないし２００ Ａ Ｓ ＋）の範囲にＪ３
いて右利な高速めっぎができる。高速めっきの場合には
・般にはかくはｌυを行なった（、にうがよく、例えば
浴溶液中に渦流を生じさける方法によるとよい。
１００ＡＳＤないし２００ Ａ Ｓ ＋）の範囲にＪ３
いて右利な高速めっぎができる。高速めっきの場合には
・般にはかくはｌυを行なった（、にうがよく、例えば
浴溶液中に渦流を生じさける方法によるとよい。
［実施例］
次に実施例を述べるが、本発明の要旨を逸脱しない限り
、これらの実施例のみに限定されるものではない。
、これらの実施例のみに限定されるものではない。
実施例 １
次の組成の浴を調製した：
成 分 損
金、シアン化金”［） １０ｈ／、ｆｌカリウムとして
蓚酸・２水和物 ６３ｇ／β
ギ 酸 ４０ｄ、／、Ｑ
ニッケル（硫ｌ１１ｉ塩として） ２ｇ／ρ水酸化カリ
ウム ｐＩ−１４，１になる吊蒸留水 全量を１ｆにす
る量 」−記の浴を渦流式かくはん装置を備えた実験室規模の
めっき装置５中に仕込んだ３，２木のパイプを通しでめ
っき液を１１のビーカー中の５００−容積中にポンプ送
入し、パイプの穴を通してヒーノＪ−中にカソードどじ
て浸漬されている素地土に向けた。ビーカー中の第３番
目のパイプからめっき溶液をポンプによって抜き出した
。該カソードは２本の供給側パイプの間に配置し、７ノ
ードはこれらが溶液の流れを田舎しないにうに供給側パ
イプの周辺に配置１コさせた。
ウム ｐＩ−１４，１になる吊蒸留水 全量を１ｆにす
る量 」−記の浴を渦流式かくはん装置を備えた実験室規模の
めっき装置５中に仕込んだ３，２木のパイプを通しでめ
っき液を１１のビーカー中の５００−容積中にポンプ送
入し、パイプの穴を通してヒーノＪ−中にカソードどじ
て浸漬されている素地土に向けた。ビーカー中の第３番
目のパイプからめっき溶液をポンプによって抜き出した
。該カソードは２本の供給側パイプの間に配置し、７ノ
ードはこれらが溶液の流れを田舎しないにうに供給側パ
イプの周辺に配置１コさせた。
該溶液を流速５．０／分（室温の水にて測定）で強制循
環した。
環した。
約５マイクロン膜厚で、完全光沢粗金−ニックル合金め
っき膜が３．８マイクロン／分の析出速度で生成したが
、電流密度は１３△ＳＤ以下てあつ ｌこ 。
っき膜が３．８マイクロン／分の析出速度で生成したが
、電流密度は１３△ＳＤ以下てあつ ｌこ 。
実施例 ２
次の組成の浴を調製した；
成 分 吊
金、シアン化金（■） １０！？／、Ｑカリウムとして
蓚酸・２水和物 ５０ｇ／ρ
ギ 酸 ３！Ｍ／ｆＪ
ニツクル（硫酸塩として〉 ３ｇ／り
水酸化カリウム １）ｌ−１４，４になる爪蒸留水 全
部を１．Ｉｌにする量 実施例１に記載の条件下に、１３いて、°１ｕ流畜度１
２ＡＳＤ以下で完全光沢性金−ニッケル合金めっきが３
．７５マイクロン／分の析出速度で１ｑられた。
部を１．Ｉｌにする量 実施例１に記載の条件下に、１３いて、°１ｕ流畜度１
２ＡＳＤ以下で完全光沢性金−ニッケル合金めっきが３
．７５マイクロン／分の析出速度で１ｑられた。
実施例 ３
２０ｄ／、１１−１！煎及び２ＳＪ／ｆＪのニッケルを
用いた以外ＩＪ実施例２に記載と同様の浴を用いたが、
８ＡＳＤの電流密度に４３いて完全光沢性のめっきが２
．５：？イタ０２フ分の速度′Ｃ行られノ〔。
用いた以外ＩＪ実施例２に記載と同様の浴を用いたが、
８ＡＳＤの電流密度に４３いて完全光沢性のめっきが２
．５：？イタ０２フ分の速度′Ｃ行られノ〔。
２．８ｖイクＩＬＤｚ／分（９ＡＳＤ）及び３．ｌｖイ
クロン／分（ＩＯＡＳＤ）にｄ５いてし同様に得られた
膜は完全光沢性であった。ずべＣの場合、幹ｉ温は５０
℃であった。
クロン／分（ＩＯＡＳＤ）にｄ５いてし同様に得られた
膜は完全光沢性であった。ずべＣの場合、幹ｉ温は５０
℃であった。
実施例、４
ギ耐濶度が４０ｄ／ｌニッケル′ａ度が２．０Ｌ勺であ
った以外【よ実施例２に記載の浴を用いたが、電流密度
１０ＡＳＤにおいては完全光沢性の金−ニッケル合金め
っきが３．０マイクロン／分の速度で得られた。３．３
マイクロン／分（１１ＡＳ）））及び３．５５マイク１
コン（１２ＡＳＤ＞においてもまた完全光沢性のめっき
膜が１ｑられた。浴温はいずれも５０℃であった。
った以外【よ実施例２に記載の浴を用いたが、電流密度
１０ＡＳＤにおいては完全光沢性の金−ニッケル合金め
っきが３．０マイクロン／分の速度で得られた。３．３
マイクロン／分（１１ＡＳ）））及び３．５５マイク１
コン（１２ＡＳＤ＞においてもまた完全光沢性のめっき
膜が１ｑられた。浴温はいずれも５０℃であった。
Claims (20)
- （１） クエン酸を含まない金合金めっき用めっき浴で
あって、浴町溶性金諒、溢可溶性合金化金属源、蓚酸及
びギ酸から成るめっき浴。 - （２） 浴可溶性金源が金（Ｉ）塩から成ることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載のめっき浴。 - （３） 金（Ｉ＞塩がシアン化金（Ｉ＞アルカリ金属又
はシアン化金（ｉ）アン七ニウムのいずれかであること
を特徴とする特許請求の範囲第２ ］Ｊ’ｉに記載のめ
っき浴。 - （４） 金が４〜５０ｇ／ＩＪにて含有されることを特
徴とする特Ｉ［請求の範囲第１項に記載のめつき浴。 - （５） 金が４へ・２０ Ｌｊ−／ 、０にで含有され
ることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載のめつ
ぎ浴。 - （６） 浴可溶性源の形態をなす合金化金属がニッケル
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
めっき浴。 - （７） 浴可溶性ニッケル諒がＩｉｉ！Ｉ酸ニッケルで
あることを特徴とする特Ｖ［請求の範囲第６項に記載の
めっき浴。 - （８） ニッケルが０．５〜２０ｇ／ｆｌにて含有され
ることを特徴とする特許請求の９０囲第６項に記載のめ
っき浴。 - （９） ニッケルが１〜５．ｇ／ｊにて含有されること
を特徴とする特許請求の範囲第８項に記載のめっき浴。 - （１０） 蓚酸が２０〜１ｏｏｇ／ρにて含有されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のめっき浴
。 - （１１） 蓚酸が４０〜６０ｇ／ｆＪにて含有されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１０項に記載のめっき
浴。 - （１２） ギＷが２Ｃ５〜１００Ｉｄ、／ｌｌに−（含
有されることを特徴とづる１＼ｒ許請求の範囲第１項に
記載のめっき浴。 - （１３） ギ酸１ｆｉ ３０〜４０ ｒｒｄｌ ／ Ｒ
ニＴ 含有サレることを特徴とする特ｔ′Ｆ請求の範囲
第１２項に記載のめっき浴。 - （１４） さらにｐｌ−１調整剤を含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項にｌｉ［！載のめっき浴。 - （１５） ｐ Ｈ調整剤が水酸化カリウムであることを
Ｑ６１敗と覆る特許請求の範囲第１／Ｉ項に記載のめっ
き浴。 - （１６） 浴のｐｌ−１が３．９・〜５．１であること
を特徴とする特許請求の範１７Ｉｌ第１項に記載のめつ
ぎ浴、。 - （１７） 浴のｌ） Ｈが４．１〜４．９であることを
特徴とする特ｈ′１請求の範囲第１６項に記載のめつき
浴。 - （１８） 浴可溶竹金源、浴可溶性合金化金属源、蓚酸
及びギ酸から成るクエン酸を含まない金合金めっき用め
っき浴中に被めっき素地をカソードとして浸漬し、ノＪ
ソードとアノード間に通電して該カソード上に金めつき
膜を生成させる方法。 - （１９） 金の生成が電流密度２００ＡＳＤ以下にて行
なわれることを特徴とする特許請求の範囲第１８項に記
載の方法。 - （２０） 浴のρ）」が３．９〜５．１であり、がつ該
浴が４〜５０９／ｉｔの金含吊になるような化のシアン
化金アルカリ金属、０．５・〜２０ｙｚＪｌのニラグル
含量になるような損のｌｌｉ！ｌ酸ニッケル、２０〜１
００ｓ／、１１ （７）蓚酸、及び２０〜１００ ｍｌ
！／ρのギ酸を含有することを特徴とする特許請求の範
囲第１９項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8402617 | 1984-02-01 | ||
| GB08402617A GB2153386B (en) | 1984-02-01 | 1984-02-01 | Gold alloy plating bath |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60187696A true JPS60187696A (ja) | 1985-09-25 |
| JPS6229517B2 JPS6229517B2 (ja) | 1987-06-26 |
Family
ID=10555889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1847085A Granted JPS60187696A (ja) | 1984-02-01 | 1985-02-01 | 金合金めつき浴及び方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60187696A (ja) |
| BE (1) | BE901632A (ja) |
| CA (1) | CA1272160A (ja) |
| DE (1) | DE3502995A1 (ja) |
| FR (1) | FR2558853B1 (ja) |
| GB (1) | GB2153386B (ja) |
| NL (1) | NL189416C (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3509367C1 (de) * | 1985-03-15 | 1986-08-14 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Gold/Zinn-Legierungsueberzuegen |
| US4670107A (en) * | 1986-03-05 | 1987-06-02 | Vanguard Research Associates, Inc. | Electrolyte solution and process for high speed gold plating |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1479984A (fr) * | 1965-10-19 | 1967-05-05 | Procédé pour la production de dépôts électrolytiques d'or ou d'un alliage à base d'or | |
| GB1442325A (en) * | 1972-07-26 | 1976-07-14 | Oxy Metal Finishing Corp | Electroplating with gold and gold alloys |
| CA1162505A (en) * | 1980-10-31 | 1984-02-21 | Donald R. Rosegren | Process for high speed nickel and gold electroplate system |
-
1984
- 1984-02-01 GB GB08402617A patent/GB2153386B/en not_active Expired
-
1985
- 1985-01-28 CA CA000472996A patent/CA1272160A/en not_active Expired
- 1985-01-30 DE DE19853502995 patent/DE3502995A1/de active Granted
- 1985-02-01 JP JP1847085A patent/JPS60187696A/ja active Granted
- 1985-02-01 FR FR8501419A patent/FR2558853B1/fr not_active Expired
- 1985-02-01 BE BE0/214437A patent/BE901632A/fr not_active IP Right Cessation
- 1985-02-01 NL NL8500279A patent/NL189416C/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2558853A1 (fr) | 1985-08-02 |
| GB2153386A (en) | 1985-08-21 |
| NL189416B (nl) | 1992-11-02 |
| NL8500279A (nl) | 1985-09-02 |
| BE901632A (fr) | 1985-05-29 |
| GB8402617D0 (en) | 1984-03-07 |
| CA1272160A (en) | 1990-07-31 |
| FR2558853B1 (fr) | 1986-11-28 |
| GB2153386B (en) | 1987-08-26 |
| NL189416C (nl) | 1993-04-01 |
| DE3502995A1 (de) | 1985-08-08 |
| DE3502995C2 (ja) | 1989-01-19 |
| JPS6229517B2 (ja) | 1987-06-26 |
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