JPS60169456A - フエノ−ル性化合物及びその製法 - Google Patents
フエノ−ル性化合物及びその製法Info
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- JPS60169456A JPS60169456A JP2431184A JP2431184A JPS60169456A JP S60169456 A JPS60169456 A JP S60169456A JP 2431184 A JP2431184 A JP 2431184A JP 2431184 A JP2431184 A JP 2431184A JP S60169456 A JPS60169456 A JP S60169456A
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- compound
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なフェノール性化合物に関する。
更に詳しくは式(1)
で示されるフェノール性化合物(ビス−〔5−アリル−
4−ヒドロキシフェニル〕スルポン)及び式〔2) MO3S02 (◇−OM (’2) C式(2)KオいてMは水素原子又はアルカリ金属を表
わす) で表わされる化合物と式(3) %式%(3) 0式〔3)においてXはハロゲン原子、R803基を表
わし、Rは置換又は無置換のフェニル基又は低級アルキ
ル基を表わす) で表わされる化合物を反応させ、次いで転位させる事を
特徴とする前記式(1)で表わされるフェノール性化合
物の製法に関する。
4−ヒドロキシフェニル〕スルポン)及び式〔2) MO3S02 (◇−OM (’2) C式(2)KオいてMは水素原子又はアルカリ金属を表
わす) で表わされる化合物と式(3) %式%(3) 0式〔3)においてXはハロゲン原子、R803基を表
わし、Rは置換又は無置換のフェニル基又は低級アルキ
ル基を表わす) で表わされる化合物を反応させ、次いで転位させる事を
特徴とする前記式(1)で表わされるフェノール性化合
物の製法に関する。
録、感圧記録における顕色剤として特に有用なものであ
るが、その他に以下に示す様な種々の用途又は原料とし
て用いられる。
るが、その他に以下に示す様な種々の用途又は原料とし
て用いられる。
(1) エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエ
ステルフェノール4m 脂、ポリエーテルスルポン、ポ
リウレタン、ポリアミド樹脂、イオン交換樹脂などの原
料 (2)難燃剤、可塑剤、硬化剤、安定剤、カップリング
剤などポリマー添加剤又はポリマー添加剤の原料 (3) ポリアミド繊維や木綿繊維のフィックス剤、皮
革なめし剤、染料分散剤、廃水処理剤等に用いられる合
成タンニン用原料 (4) 顔料、写真薬、静電トナーのバインダー、ワッ
クス、フェス、ラッカー、医農薬用原料(5)7レキン
インク、オフセット印刷インク調製用原料 (6) 酸性スズメッキ、ハンダメッキ、銀メツ千尋メ
ッキにおける添加剤、又は添加剤の原料本発明のフェノ
ール性化合物(ビス−〔5−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル〕スルホン)ハ式(2)の4,4′−スルホニル
ジフェノール又はそのアルカリ金属塩と式(6)のアリ
ル化合物を水、有機溶媒或いは水−有機溶媒中で、場合
により、酸結合剤の存在下1反応させてエーテル化合物
(4)とする第1工程 (第1工程) Mo〈◇−5o2〈伽OM + 2CH2:CHCH2
−X(2) (5) [ CH2=CHCH204−so2+ocH2cL:cm
2(4) (式中1M及びXは前記と同じ意味を表わす)と該エー
テル化合物(4)を溶媒中又は無溶媒で。
ステルフェノール4m 脂、ポリエーテルスルポン、ポ
リウレタン、ポリアミド樹脂、イオン交換樹脂などの原
料 (2)難燃剤、可塑剤、硬化剤、安定剤、カップリング
剤などポリマー添加剤又はポリマー添加剤の原料 (3) ポリアミド繊維や木綿繊維のフィックス剤、皮
革なめし剤、染料分散剤、廃水処理剤等に用いられる合
成タンニン用原料 (4) 顔料、写真薬、静電トナーのバインダー、ワッ
クス、フェス、ラッカー、医農薬用原料(5)7レキン
インク、オフセット印刷インク調製用原料 (6) 酸性スズメッキ、ハンダメッキ、銀メツ千尋メ
ッキにおける添加剤、又は添加剤の原料本発明のフェノ
ール性化合物(ビス−〔5−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル〕スルホン)ハ式(2)の4,4′−スルホニル
ジフェノール又はそのアルカリ金属塩と式(6)のアリ
ル化合物を水、有機溶媒或いは水−有機溶媒中で、場合
により、酸結合剤の存在下1反応させてエーテル化合物
(4)とする第1工程 (第1工程) Mo〈◇−5o2〈伽OM + 2CH2:CHCH2
−X(2) (5) [ CH2=CHCH204−so2+ocH2cL:cm
2(4) (式中1M及びXは前記と同じ意味を表わす)と該エー
テル化合物(4)を溶媒中又は無溶媒で。
加熱下転位せしめる第2工程
(第2工程)
CH2=−CHCH20()SO24−OCH2CH−
=CH2(4)[熱 CH2CもCH2 とによって合成される。
=CH2(4)[熱 CH2CもCH2 とによって合成される。
第1工程におけるアリル化合物の具体的な例としてはア
リルクロリド、アリルプロミド、ヨー化アリル、p−ト
ルエンスルホン酸アリルエステル。
リルクロリド、アリルプロミド、ヨー化アリル、p−ト
ルエンスルホン酸アリルエステル。
ベンゼンスルホン酸アリルニスデル、メタンスルホン酸
アリルエステル等があげられ、又反応溶媒としては水、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メ
チルセロソルブ等のアルコール類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N
−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリルアミド等
の極性非プロトン溶媒、アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン、シクロベンゼン、
トリクロルベンゼン等の芳香族系溶媒、クロロホルム、
シクロメタン、1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化
アルキル類又はそれらの混合物が用いられる。
アリルエステル等があげられ、又反応溶媒としては水、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メ
チルセロソルブ等のアルコール類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N
−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホリルアミド等
の極性非プロトン溶媒、アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン、シクロベンゼン、
トリクロルベンゼン等の芳香族系溶媒、クロロホルム、
シクロメタン、1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化
アルキル類又はそれらの混合物が用いられる。
なお水−有機溶媒の系で、有機溶媒として水に不溶又は
難溶性の溶媒を用いる時は1反応促進剤として相間移動
触媒を用いるのが望ましく、相聞移動触媒としてはベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブ
チルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウム
プロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、
N−ラウリルピリジニウムクロリド、N−ラウリル−4
−ピコリニウムクロリド、N−ベンジルミックスピコリ
ニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド等
が用いられる。
難溶性の溶媒を用いる時は1反応促進剤として相間移動
触媒を用いるのが望ましく、相聞移動触媒としてはベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブ
チルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウム
プロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、
N−ラウリルピリジニウムクロリド、N−ラウリル−4
−ピコリニウムクロリド、N−ベンジルミックスピコリ
ニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド等
が用いられる。
酸結合剤としては苛性ンーグ、苛性カリ、炭酸ソーダ、
炭酸カリ、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化亜鉛
、水酸化カルシウム等の無機塩基及び酢酸ソーダ、酢酸
カリ等の有機酸のアルカリ金属塩或はアルカリ土類金属
塩が用いられる。
炭酸カリ、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化亜鉛
、水酸化カルシウム等の無機塩基及び酢酸ソーダ、酢酸
カリ等の有機酸のアルカリ金属塩或はアルカリ土類金属
塩が用いられる。
4.4′−スルホニルジフェノールとアリール化合物の
モル比率は1:2〜1:8の範囲で反応させるが特に1
:2〜1:4が望ましい。
モル比率は1:2〜1:8の範囲で反応させるが特に1
:2〜1:4が望ましい。
反応温度は20〜150℃、反応時間は1〜20時間で
ある。見られた式(4)のエーテル化合物は一旦単離し
て或いは反応液のまま次の第2工程に供される。
ある。見られた式(4)のエーテル化合物は一旦単離し
て或いは反応液のまま次の第2工程に供される。
第2工程の転位反応は150℃以上の温度、特に170
〜250℃の範囲で行うのが望ましい。
〜250℃の範囲で行うのが望ましい。
転位反応は無溶媒或いは有機溶媒中でいずれの場合も加
熱により進行する。転位反応に用いられる有機溶媒とし
ては、ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼン、ブンイ
ドクメン等の芳香族溶媒、ジメチルアニリン、ジエチル
アニリン等のアニリン類、ジメチルスルホキシド、N−
メチルピロリドン等の極性非プロトン溶媒オクチルアル
コール等のアルコール類などが挙げられ、有機溶媒を用
いる場合は沸点160℃以上の溶媒の使用が望捷しい。
熱により進行する。転位反応に用いられる有機溶媒とし
ては、ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼン、ブンイ
ドクメン等の芳香族溶媒、ジメチルアニリン、ジエチル
アニリン等のアニリン類、ジメチルスルホキシド、N−
メチルピロリドン等の極性非プロトン溶媒オクチルアル
コール等のアルコール類などが挙げられ、有機溶媒を用
いる場合は沸点160℃以上の溶媒の使用が望捷しい。
又、エーテル化の終了した反応液をそのまま転位反応に
供する場合には、エーテル化に使用した溶媒が低沸点溶
媒の時は留去しつつ昇温し、無溶媒で或いは転位に使用
する溶媒に置き替えて転位反応を行う。エーテル化反応
において転位反応に用いられる前記のような溶媒を用い
た場合はそのまま昇温に転位せしめると良い。
供する場合には、エーテル化に使用した溶媒が低沸点溶
媒の時は留去しつつ昇温し、無溶媒で或いは転位に使用
する溶媒に置き替えて転位反応を行う。エーテル化反応
において転位反応に用いられる前記のような溶媒を用い
た場合はそのまま昇温に転位せしめると良い。
こうして合成された本発明のフェノール性化合物は、一
旦アルカリ水溶液に溶解後酸析して、或いは転位後浴媒
中で冷却して結晶を析出せしめて単離する。いずれの場
合も品質的には問題のない目的物かえられる。
旦アルカリ水溶液に溶解後酸析して、或いは転位後浴媒
中で冷却して結晶を析出せしめて単離する。いずれの場
合も品質的には問題のない目的物かえられる。
本発明のフェノール性化合物は発色剤と顕色剤とを組み
合わせてなる感熱又は感圧記録法におい 1て顕色剤と
して用いた場合極めてすぐれた堅牢度をもった発色記録
画像を与えることによって特徴づけられる。
合わせてなる感熱又は感圧記録法におい 1て顕色剤と
して用いた場合極めてすぐれた堅牢度をもった発色記録
画像を与えることによって特徴づけられる。
以下に実施例を示すが本発明はこれらに限定されるもの
ではない。(実施例中部は重量部を示す)実施例1 フラスコに水150部、トルエン+50mA!、苛性ソ
ーダ12部及び4I4′−スルホニルジフェノール25
部を加えて完溶せしめる。これにトリオクチルメチルア
ンモニウムクロリド(相間移動触媒)1部を次いでアリ
ルプロミド36.3部を加える。
ではない。(実施例中部は重量部を示す)実施例1 フラスコに水150部、トルエン+50mA!、苛性ソ
ーダ12部及び4I4′−スルホニルジフェノール25
部を加えて完溶せしめる。これにトリオクチルメチルア
ンモニウムクロリド(相間移動触媒)1部を次いでアリ
ルプロミド36.3部を加える。
50〜60℃で15時間反応後トルエンを水蒸気蒸留す
ると淡黄色結晶が得られる。結晶を濾過後メタノール1
00mgで洗浄してビス−(4−アリルオキシフェニル
)スルホン(5)の白色結晶を得る。収量30.5部(
91,2チ)mp143〜146℃上記の様にして得た
ビス−(4−アリルオキシフェニル)スルホン15部を
トリクロロヘンセン30部に加え216〜219℃で1
0時間加熱する(転位反応)。転位終了後水50部48
%苛性ソーダ12部を加えてフェノール性生成物を抽出
する。水層を活性炭精製後酸析してビス−(3−アリル
−4−ヒドロキシ−フェニル)スルホン(6)の白色結
晶を得た。
ると淡黄色結晶が得られる。結晶を濾過後メタノール1
00mgで洗浄してビス−(4−アリルオキシフェニル
)スルホン(5)の白色結晶を得る。収量30.5部(
91,2チ)mp143〜146℃上記の様にして得た
ビス−(4−アリルオキシフェニル)スルホン15部を
トリクロロヘンセン30部に加え216〜219℃で1
0時間加熱する(転位反応)。転位終了後水50部48
%苛性ソーダ12部を加えてフェノール性生成物を抽出
する。水層を活性炭精製後酸析してビス−(3−アリル
−4−ヒドロキシ−フェニル)スルホン(6)の白色結
晶を得た。
収量14.0部(93,3係) mp 139−144
℃なお式(5)及び(6)の化合物はNMR、マススペ
クトル、元素分析によってその構造式を確認した。
℃なお式(5)及び(6)の化合物はNMR、マススペ
クトル、元素分析によってその構造式を確認した。
実施例2
フラスコにDMF100部、4,4′−スルホニルジフ
ェノール25部、炭酸カリウム15.2部及びp−トル
エンスルホン酸アリルエステル44.s部を加え110
−120℃で8時間攪拌する。次いでDMFを留去しつ
つ昇温し、200〜220℃で6時間攪拌する。103
60部を加えて室温まで冷却攪拌する。析出した結晶を
濾過後ベンゼンで充分洗浄して微かに淡黄色のビス−(
5−71ツルー4−ヒドロキシフェニル)スルホン’e
4 yt−。
ェノール25部、炭酸カリウム15.2部及びp−トル
エンスルホン酸アリルエステル44.s部を加え110
−120℃で8時間攪拌する。次いでDMFを留去しつ
つ昇温し、200〜220℃で6時間攪拌する。103
60部を加えて室温まで冷却攪拌する。析出した結晶を
濾過後ベンゼンで充分洗浄して微かに淡黄色のビス−(
5−71ツルー4−ヒドロキシフェニル)スルホン’e
4 yt−。
収量30,4部(92,1%)
特許出願人 日本化薬株式会社
Claims (2)
- (1)式〔1) で表わされるフェノール性化合物
- (2)式〔2) MO(◇−802(◇−OM (2) (式(2)においてMは水素原子又はアルカリ金属を表
わす) で表わされる化合物と式(3) %式%() (式(3)において又はハロゲン原子、 R806基を
表わしRは置換又は無置換のフェニル基又は低級アルキ
#基を表わす) で表わされる化合物を反応させ、次いで転位させる事を
特徴とする式(1) で表わされるフェノール性化合物の製法
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2431184A JPS60169456A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | フエノ−ル性化合物及びその製法 |
US06/696,913 US4596997A (en) | 1984-02-14 | 1985-01-31 | Phenolic compound, preparation thereof and recording material employing same |
GB08502407A GB2154236B (en) | 1984-02-14 | 1985-01-31 | Bis (3-allyl 4-hydroxyphenyl) sulfone |
DE19853504482 DE3504482A1 (de) | 1984-02-14 | 1985-02-09 | Penolverbindung, verfahren zu deren herstellung und diese enthaltendes aufzeichnungsmaterial |
CH644/85A CH662785A5 (de) | 1984-02-14 | 1985-02-12 | Aufzeichnungsmaterial. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2431184A JPS60169456A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | フエノ−ル性化合物及びその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60169456A true JPS60169456A (ja) | 1985-09-02 |
Family
ID=12134628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2431184A Pending JPS60169456A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | フエノ−ル性化合物及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60169456A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1129549A (ja) * | 1997-05-14 | 1999-02-02 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感熱記録材料およびビスフェノールs誘導体の新規結晶 |
JP2002114757A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-16 | Nicca Chemical Co Ltd | 3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
JP4520591B2 (ja) * | 2000-07-17 | 2010-08-04 | 日華化学株式会社 | 3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
WO2013114987A1 (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-08 | 小西化学工業株式会社 | ジアリルビスフェノール類の一貫製造方法 |
US9963426B1 (en) | 2015-04-27 | 2018-05-08 | Nicca Chemical Co., Ltd. | Process for producing allyl-substituted bisphenol compound |
-
1984
- 1984-02-14 JP JP2431184A patent/JPS60169456A/ja active Pending
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.INDIAN CHEM.SOC.=1977 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1129549A (ja) * | 1997-05-14 | 1999-02-02 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感熱記録材料およびビスフェノールs誘導体の新規結晶 |
JP4520591B2 (ja) * | 2000-07-17 | 2010-08-04 | 日華化学株式会社 | 3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
JP2002114757A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-16 | Nicca Chemical Co Ltd | 3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
WO2013114987A1 (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-08 | 小西化学工業株式会社 | ジアリルビスフェノール類の一貫製造方法 |
JPWO2013114987A1 (ja) * | 2012-01-30 | 2015-05-11 | 小西化学工業株式会社 | ジアリルビスフェノール類の一貫製造方法 |
US9963426B1 (en) | 2015-04-27 | 2018-05-08 | Nicca Chemical Co., Ltd. | Process for producing allyl-substituted bisphenol compound |
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