JPS60152436A - カンフアーの不飽和誘導体、それらの製造法及びそれらを含有する医薬 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカンファー（樟脳）の新規不飽和誘導体、それ
らの製造法及び医薬及び化粧料の領域におけるそれらの
使用に関するものである。

本発明に従うカンファーの新規不飽和誘導体は癌唐、乾
癖及びその他の皮膚疾患又ｔユ炎症性及びアレルギー性
皮膚感染症の局所的及び全身的処置においてＥＡ著な活
性を示し、さらに抗鹿瘍活性を示す。

他方において、本発明の化合物はアトピー性皮膚炎及び
呼吸疾患の処置にも有用である。

本発明に従うカンファーの不飽和Ｕ導体は一般式： 〔式中、Ｒ１ないしＲ７はそれぞれ水素原子、低級アル
キル基又はトリフルオルメチル基を表わし；Ｒ＠杜氷水
素原子低級アルキル基、低級アルコキシ基、場合によジ
置換されたアリール基、−Ｃ三Ｎ基、オキサジノニル基
又は次式（ｉ）　、　ＩＩ）（式中、Ｒ９は水素原子、
低級アルキル基又は基−ＯＲ，４を表わし；Ｒ８゜は基
−Ｎぐ：、又は基−悄４を表わし；　Ｒ１＋は水素原子
、低級アルキル基、基−ＯＲＩ、又は基−（ＣＨ２）　
ｐ−Ｎ＜：：、を表わし；ｐは０、／、、２又は３であ
シ、ｒ′及び、／／は同一でも異なってもよくかつそれ
ぞれ水素原子、アルキル基、モノ又はポリヒＰロキシア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、場合によ
ジ置換されたアリール基又はアラルキル基を表わすか又
は−緒に・複素環式基を形成し、あるいはｒ′は水−素
原子を表わしかつｒ　／／はアミノ酸又はグルコサミン
残基を表ワＬ、　：　Ｒ１４は水素原子、アルキル基、
アルカノイル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を
表わし；Ｒ１１１は水素原子、アルキル基、モノ又はホ
リヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、随換アリール基、場合によジ置換き
れたアラルキル基又は粘残基を表わす）のいずれかに相
当する基を表わし：ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅ　Ｕ　ｏ又は
／を表わすが、ｐ、　’：　Ｌ　ｌ）及び／又はｄ　＝
／である場合・１ＣＪｄａ＋ｂ＋ｃ＋ｃｌ＋ｅ、）コで
あシ、一方す及びｄ＝　０　′ｔ″あ２場五にはａ＋ｅ
＋ｅ＝Ｊである〕で表わされるが、たたしつきのｌ）〜
３）の揚台、すなわち ／）　ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ＝＝（７で、ｌかつｄ　＝’　／
である場合； ａ　＋　ｂ　＋　ｃ　＝　０　、　ｄ　＝　／であシか
つｅ＝ｉである場合；及び ３）　Ｒ１＃Ｒ４及びＲ，が水素原子を表わしかつＲ８
が水素原子、−ＣＨ３又は−０ＣＨ３を表わす場合にａ
　＋　ｂ　＋　ｅ　＝　０　、　Ｃ＝　／であシかつｄ
＝／である場合； の式（ＩＪの化合物を除く、カンファーの不飽和誘導体
及びそれらの幾何異性体、光学異性体及びそれらの塩で
ある。

用飴気アルキル％ｔｔは本明細書において使用する場合
、炭素数７〜２０個をもつアルキル基、特にメチル、エ
チル、プロピル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデ
シル、ヘキサデシル及びオクタデシル基を意味する。

用語気低級アルキル基〃は炭素数７〜を個をもつアルキ
ル基、特にメチル、エチル、イソゾロビル、ブチル及び
第３級ブチル基を意味する。

基Ｒ１〜Ｒ７が低級アルキル基を表わす場合、これりは
メチル基であることが好ましい。

−一低級アルコキシ＆’は炭素数７〜ｖ個をもつアルコ
キシ基でアシ、特にメトキン、エトキシ又はイノプロポ
キン基が好ましい。

用＠−アリール基〃は場合によりハロゲン原子、たとえ
ば塩素、臭素又はフッ素原子、ヒドロキシル基、ニトロ
基、低級アルコキシ基又はアミン基によって置換されて
もよいフェニル基を表わす。

用語策アルケニル基〃は炭素数λ〜ｌ・を個をもつアル
ケニル基、特にゾロベニル、ブテニル又はイソペンテニ
ル基を意味する。

用語亀シクロアルキル基Ｉはシクロペンチル又はシクロ
ヘキフル基を意味する。

用語気モノヒドロキシアルキル基〃は炭素数２又は３個
をもつ基、特にλ−ヒドロキシエチル又はλ−ヒドロキ
シゾロビル基を表わす。

用語１ポリヒドロキシアルキル基〃は３〜６個の炭素原
子及び２〜５個のヒドロキシル基を有ｔ−る基、たとえ
ばλ、３−ジヒドロキシグロビノロλ、３．弘−トクー
トリヒドロキシプロビル、３゜ｖ、ｊ−テトラヒドロキ
シペンチル基を意味する。

アラルキル基としては、場合によジヒドロキジル基、ア
ルコキン基又は第弘級アンモニウム基によって置換され
ていてもよいベンジル基及びフェネチル基をあげること
ができる。

基ＲＩ４がアルカノイル基を表わす場合、それはアセチ
ル又はプロピオニル基であることが好ましい。

基ｒ′及びｒ″が一緒に複素環基を形成する場合、それ
らはピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ又はピロリジ
ノ基であり得る。

用語１糖残幕ｌは糖から誘導された基、たとえハクルコ
ース、マンニトール又ハヘンタエリトリントから誘導さ
れた基を意味する。

本発明に従う化合物が塩の形で提供される場合において
、該化合物が少なくとも１個の遊離の酸官能基を肩する
場合にはその塩はアルカリ金属又はアルカリ土類金属の
塩又は有機アミン塩であることができ、また該化合物が
少なくとも７個のアミン官能基金有うる場合にはその塩
は無機酸又は肩機酸の塩、特に塩酸塩、臭化水素酸塩又
はクエン酸塩であることができる。

本発明に従う特に好ましいカンファーの不能ａ誘導体と
しては下記の一般式に相当する化合物をあげることがで
きる。

〔式中、Ｘは芳香核のメタ又はパラ位置にあシ；Ｒ，は
水素原子を表わし；Ｒ４ないしＲ７はそれぞれ水素原子
又はメチル基を表わし；そしてＲｓは基０　。

−さ一〇Ｒ，，（式中、ＲＩＭは水素原子、アルキル基
又はｒ″は低級アルキル基、モノ又はポリヒドロキシア
ルキル基、フェニル基、ヒドロキシル％ｆ−換７エール
基を表わすか又はｒ′及び、／Ｌは一緒にピペリジン環
を形成する）を表わす〕に相当する化合物；（１３）　
一般式。

〔式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表わし；Ｒ４及
びＲ，はそれぞれ水素原子又はメチル基を表わし；そし
てＲ１ｅＲ４又はＲ，の少なくとも一つがアルキルＣ式
中、Ｒｏ、は水素原子、アルキル基又はヒドロキシ低級
アルキル基を表わす）を表わしかつＲ８は芳香核のパラ
位置にある〕に相当する化合物；（０）　一般式： 〔式中、Ｒ１は水素原子を表わし；Ｒ４及びＲ，はそれ
はヒドロキシ低級アルキル基を表わす）を表わし：そし
てＲ８及びＸは芳香核のメタ又はパラ位置にある〕に相
当する化合物： （ＤＪ　一般式： は水素原子、アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基
を表わす）を表わす〕に相当する化合物。

上記一般式（Ｉｔ）の好＝しい化合物としては特に下記
のものをあげることができる。

Ｆ’−［Ｆ−エトキシカルボニル−３−メチル−７に、
３Ｂ−ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カン
ファー； ｐ’−（ｇ−エトキシカルボニル−３−メチル−／Ｅ、
３７．−ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カ
ンファー： ｊ’−（４ｊ−エトキシカルボニル−３−メｆ　ルー／
Ｅ、３Ｂ−ブタジエーン〕−イル−３Ｂ−ベンジリデン
−カンファー； ｖ′−〔弘−エトキシカルボニル−／Ｂ、３Ｅ−ブタジ
ェンコイル−３Ｅ−ベンジリデンカンフアー； ４Ａ’−（ｐ−エトキシカルゼニルー弘−メチル−／Ｂ
、３Ｅ−ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カ
ンファー： ≠Ｌ　（＠−オクタデシルオキ７カルボニルー３−メチ
ル−／　）；　、　Ｊ　Ｂ−ブタジェン〕−イルー３Ｅ
−ベンジリデン−カンファー； ＜ｚ’−（Ｆ−エトキンカルゼニルー／−メチル−７Ｂ
、３ｇ−ブタジェンツーイル−３Ｂ−ベンジリデン−カ
ンファー； Ｆ’−（ｐ−エトキシカルポニル−コーメチルー／Ｅ、
３Ｂ−ブタジェン〕−イル−３Ｅ−ベンジリデン−カン
ファー； ｇ’−（ｐ−カルボキシーコーメチル−／　Ｂ　、３に
一フタジエン〕−イルー３Ｂ−ベンジリデン−カンファ
ー； ｖ′−〔グーカルボキシ−／Ｅ、３Ｆ、−ブタジェン〕
−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カンファー；ＩＩ’−［
４ｆｆ−１ｙルボキン−３−メチル−１Ｆｉ、ｉｗ−フ
タジエン〕−イルー３Ｅ−ベンジＩ）　７’　７−カン
７アー； ３′−〔グーカルボキン−３−メチル−／　Ｂ　、ｊＦ
ｆ−ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カンフ
ァー； ｖ′−〔グーカルボキシ−３−メチル−／　Ｂ　、ＪＺ
−フタジｚン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カンファ
ー； Ｖ′−〔グー力ルゼキシー／−メチル−／Ｉｉ、３Ｂ−
＃ｌジエン〕−イルー３１４−　ヘンシリテン−カン７
アー； 弘′−〔≠−カルキｔキシー≠−メチルー／Ｅ、ＪＦ３
−ツタジエンツーイル−３Ｅ−ベンジリデン−カンファ
ー； ｔｏｙ　（≠−（Ｎ−エチルカルノ々ミル）　−ｓ−メ
チル−７Ｅ、３Ｅ−ブタジェン〕−イルー３ｇ−ベンジ
リデン−カンファー； ≠／　（＄−ピペリジルカルボニル−３−メチル−／＃
、３Ｂ−ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カ
ンファー： 弘Ｉ−〔弘−（Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルカルバミル
−３−メチル−／Ｂ、３Ｅ−ブタジェン〕−イルー３Ｂ
−ベンジリデン−カン７アー；弘ｌ−〔弘−（Ｎ−ヒド
ロキシ−λ−エチルカルノ々ミルー３−メチル−／Ｅ、
３Ｅ−ｆタジエン〕−イル−３１ｉｉ　−ベンジリデン
−カン７７−。

上記一般式口の好ましい化合物としては特につぎのもの
をあげることができる。

３Ｅ−［ｒ′−メトキシカル−ニル−３−フェニル−２
−メチル−２Ｅ−プロペン〕−イリテンーカンファー； ＪＥ−［３−ｐ−）ジル−２−メチル−，２ｇ−プロペ
ン〕−イリデン−カン７アー； ３　Ｅ　−（ｊ　−ｐ　−）ジル−ｌ−メチル−２Ｅ−
ソロベン〕−イリデン−カンファー； ３Ｅ−〔弘Ｉ−カルボキンー３−フェニル−２−メチル
−λＥ−プロペン〕−イリデンーカンファー。

上記一般式（ＩＶ）の化合物の好ましい例゛としては特
につぎのものをあげることができる。

μ′−〔３′−エトキシ力ルゲニルーλ−フェニル−／
Ｅ−エテン〕−イルー３Ｅ−ベンジＩＩデンーカンフ了
−； μ／　（＄−エトキシ力ルポニルーコーフェニルーコー
メチルー／１ｉｉ−エテン〕−イルーＪＥ−ベンジリデ
ン−カンフ７〜； ≠Ｉ　（ａ′−エトキシカルボニルーコーフェニルーｌ
−メチル−／１３−エテン〕−イルーｊＦｉ−ベンジリ
デン−カンファ−； ＜ｚ’　−（ｅ’−カルボキシーコーフェニル−／　−
メチル−／Ｅ−エテン〕−イルーＪＥ−ベンジリデン−
カンファー； ≠′−〔μ′−カルボキシー２−フェニルー／Ｅ−エテ
ン〕−イルーＪＥ−ベンジリデン−カンファ−； ≠′（＊／−カルポキシーーーフェニルーλ−メチル−
１Ｅ−エテノ）−１ルーＪＥ−ベンジリデン−カンファ
ー。

上記一般式ＩＶ）の化合物の好ましい例としては特につ
ぎのものをあげることができる。

Ｊｇ−４２，Ａ−ジノチル−７−メドキシカルポニルー
コＩｆｌ、４’Ｅ、４Ｆｉ−一＼ブタトリエン〕−イリ
デンーカンフ了−０ 一般式１１）の化合物を製造するためには種々の合成法
全使用することができる。これらの方法を以下に示す。

Δ、第一法 この方法は天然の又は合成［ｊり得られるカンファー（
２）に式（１）の化合物全フルドール縮合させることか
らなる。

この方法に従えば、式（１）の化合物の種々の基は一般
式（１）について前記した意義を有し得るが。

ｒ′ キル基又は基−（ＯＨ２）ｐ−Ｎ（、（たソしｐ≠Ｑの
場合）全表わす〕を表わし得なめ。

アルドール縮合はプロトン溶剤又は非プロトン溶剤中で
アルカリ金属了ルコラートのような有機塩基又はアルカ
リ金属了ミド又はアルカリ金属水素化物又はアルカリ全
編もしくはアルカリ土類金属水酸化物のような無機塩基
の存在下で行なうことができる。この方法は’ｌ？に一
般式（ＩＩＮの化合物の合成のために適するものである
。

ａ　＋　ｂ　＋　ｅ’＝　０でありかつＣ及びｄ−テｌ
である式（１）の化合物は既知の方法に従って、たとえ
ば下記０６反賦・に従う式（３）の化合物と式（４）の
化合物とのフルドール縮合によって製造することができ
る。

Ｉｔ、　’Ｒ５ （３１，４゜ このアルドール縮合は上記反応と同一の条件で行なうこ
とができる。

Ｂ、第二法 この方法は一カンフ了−キノン（５１（ｄ　又はｊ異性
体構造又はｄ＋ｂ異性体混合物の形態）と式（６１の化
合物とを縮合させることからなる。

（６） この方法に従えば１式（６）の化合物の種々の基は一般
式（１）について上記した意義會有し得るが、基Ｉｔ８
は基−Ｃ−几１．〔式中、ＦＬ４．は水素原子、アル１ キル基又は基−ｆＯＨ）−Ｎ／’　ただしｐ≠Ｏの楊２
ｐ　＼、・ 合）會表わす〕を表わし得ない。

Ａ　１ｈ　弐Ｐ　（Ｘ　’）　６ｅＹｅｉ　Ｉｃ　中、
　Ｘ　ｕ　７　’Ｊ　−ルａであり、Ｙは有機酸又は無
機酸の陰イオンである）のトＩＪ了り−ルホスホニウム
基又は式−Ｐ（Ｚ）２（式↓ 中、　ｚｒｔ了ルコキシ基である）のジアルコキシホス
フィニル基を表わす。

Ａ１が−ｐ（ｘ）、ｅｙｅを表わす場合には、カンフ了
キノン（５ンとの縮合はナトリウムメチラートのような
アルカリ金属アルコラードの存在下又は随意にアルキル
基によって置換されたアルキレンオキシドの存在下で、
場合によっては塩化メチレン又はジメチルホルムアミＶ
ｆ）Ｘうな溶剤中で行なわれる。反応＠度は呈温から反
応混合物の沸点までの範囲の温度である。

Ａ、が−Ｐ（Ｚ）２１に表わす場合には、カンフ了−↓ キノン（５）との縮合は塩基の存在下かつ好ましくは不
活性有機溶剤の存在下、たとえばベンゼン、トルエン、
ジメチルホルム了ミド、テトラヒＰロフラン、ジオキサ
ン又は１．λ−ジメトキシエタン中で水素化すｈ　ＩＩ
ウムによって、あるいは了ルコラートに裏って、たとえ
ばメタノール中ナトリウムメチラートによって、０℃か
ら反応混合物の沸点までの温度で行なわれる。この縮合
も同様に無傍塙基、７′ｃとえば水酸化カリウム又は水
酸化ナトリウムを用いて有機溶剤、たとえばテトラヒド
ロフラン中で行なうことができる。塩基中に含まれる金
属カチオンの錯化全助長し得る環状エーテルを反応混合
物に添加することによってその錯化能を増強せしめ得る
。この方法は特に一般式ｔＶ）の化合物の合成のために
適当である。

Ｃ１第三法 この方法は式（７）の化合物を式（８）の化合物と縮合
させることからなる。

（７） この方法に従えば１式（８）の化合物の棹々の基は一般
式１１）について上記した定義を有し得るが、基几。

は基−０−Ｒ１，（式中、几１．は水素原子、アルキ１ 合）會表わす〕盆表わし得ない。

式（７ン又は（３）において、Ａ又はＢはオキソ基を表
わしそして他方はその除テ（：　−ｐ　［Ｘ）　５＄ｙ
ｅ　のトリ”ｒ　１−ルホスホニウム基ヲ衣ゎすか又は
式す（たソし式中、Ｘ、Ｙ及び２は第二法において定義
１．たとおりである）。

この縮合反応の条件はＡ及びＢの定義と関連して前記第
二法に述べた条件と同一である。

コＱ：）　方Ｇ　ｆ’ｊ：　％　Ｋ　Ａ　カー　Ｐ　（
Ｘ、）５％ｅ又ｔｆ　Ｐ　［Ｚ］　２↓ である式（力の化合物及びＢがオキソ基である式（８）
の化合物から一般式（Ｉｔ）及び（ＩＶ）の化合物を合
成するために適当である。

ａ　＝　０　、　ｂ＝　（７であり％Ａがトリ了す−ル
ホスホニウムｉ又ｕジ了ルコキシポスフィニル基ヲ表わ
す場合の式（７）の化合物は下記の反応式に従って製造
することができる。

式（９）の化合物のハロゲン化は塩素又は臭素、特に雄
々臭素に用いる、あるいはＮ−ハロアミｒ。

特に屡々Ｎ−ブロムスクシンイミドの工うなＮ−ハロス
クシンイミド金柑いる慣用のハロゲン化法に従って行な
うことができる。

ハロゲン化は四塩化炭素のような不活性有機溶剤中で、
ペンジイルノミ−オキシｒ又は了ゾビスイノプチロニト
リルのようなラジカル開始剤化合物のイｒ在下又は紫外
ｆ！照射下で行なわれる。ハロゲン誘導体すＱの式０υ
のトリ了リールホスホニウム塩・′＼（７Ｊ　又１ｄ−
式Ｑ２のジアルコキシホスフィニル誘導体への転化は既
知、慣用の方法で実ｖＩｌｉＩ−得る。トリ了Ｉ＋−ル
ホスホニウム塩中のハロゲンアニオンは後にアニオンＹ
ｅによって置換され得る。

Ｂがオキソ基を表わす式（８）の化合物は既知の方法に
従って製造することができる。

Ｄ、第四法 この方法は弐〇３の化合物と式圓の化合物とを縮合させ
ることからなる。

７ ４１ 式α３及びＱ４１において、Ａ又けＢけオキソ基ヲ衣わ
しそして他方はその際式−ｐ（ｘ）−■Ｙθのトリアコ １１−ルホスホニウム基ヲ表わす７１）又は式−Ｐ　［
Ｚ）２↓ のジアルコキシホスフィニル基全表わす。

Ｂが式−Ｐ（Ｘ）６ｅＹｅの基又はオキソ基を表わす場
合には、Ｒ８は基−０−Ｒ１，（式中、Ｒ４１は水素１ しｐ≠００場合）に表わす〕を表わし得ない。

Ｂが−Ｐ（Ｚ）２を表わす場合には、Ｒ８は基↓ 一〇−も、（式中１ｔ１１は基−ＯＲ１ｓ又は基−（Ｏ
Ｈ２）ｐ−１ 弐口の化合物及び武具の化合物の縮合反応はＡ及びＢの
定義に関連して前記第二法について述べたと同一の条件
で行なうことができる。

この方法は特に一般式＋ｌｌ）の化合物の製造に適する
ものである。

この場合、出発物質は下記の式： の化合物であり、これはつぎの二つの反応式に従って製
造することができる、 ｌ）反応弐鳥１ Ｌｔｌ（１８ Ｉｔ６＝）ｌ　、　ＤＩ−１５，０，２Ｈ５又はＯ２０
コ）反応式煮λ ４ Ｒ１α５゜ 札＝Ｈ 反応式Ａ／に従えば、化合物（至）と化合物ａ力とのフ
ルドール縮合はプロトン溶剤又は非プロトン溶剤中で、
アルカリ金属了ルコラートの工うな有機塩基又はアルカ
リ金属アミＰ又は水素化物又はアルカリ全編もしくはア
ルカリ土類金属水酸化物のような無機塩基の任在下で行
なうことができる。

反応式嵐−に従えば、化合物叫の化合物ｏ特への５１元
は金属水素化物、たとえば水素化アルミニウム優秀−７
１１−ｉｌ＋−リチウムを使用して実施し得る。この還
元は不活性溶剤中で００から溶剤の沸点までの範囲の温
度で行なわれる。

化合物Ｏ罎の化合物σ５）（Ｒ６＝Ｈ）への酸化は温和
な酸化剤によって、たとえば不活性溶剤中に懸濁させた
二酸化マンガンを用いて行なうことができる。

以下０本発明のカンファーの新規不飽和誘導体の製造全
実施例によって説明する。

実施例／ 式（■）（ただし、Ｒ１，Ｒ，４，Ｒ５及びＲ，＝）（
、Ｒ６＝−ＯＨ３，ｕ８＝−ｃｏ２ｏ２Ｈ５，ｘは）ぐ
う位）の化付物の製造 （ａ／）テトラヒドロフラン３０ｍ１中の水酸ｆｌ、カ
リウム粉末／ｌの懸濁物にジエチル　３−エトキシカル
ゼニル′−２−メチル−プロペン−２−イルホスホネー
）（２／Ｊ比のシス／トランス異性体の混合物）’　、
２．Ｊ　４’　ｆ全添加する。ｉｏ分間接触後、ｄ。

ｔ−３−ベンジリデン−カンファー　グ′−カルボアル
デヒド２．ｔ　ｔ　ｆ　ｆ添加する。室温で７時間攪拌
し、ついでトルエン１００ｄ、で稀釈する。セライト上
で沖過し、ついでｐ液ケ蒸発させる。ヘキサン中で２回
再結晶した後、下記の特性ケもつ生成物２２老得る。

融点：１１１℃ 紫外スペクトル（メタノールノ：λｍａｘ　：　３μＩ
ｎｍε＝！＋２４＃θ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　７９３３　７３９　１．Ｌｔｌ’　％実測値
：　７９４ｔｔ　７りｔ　／、２．７０　％（ａＪ）加
圧子再結晶ｐ液のクロマトグラフィー（Ｌｏｂａｒ　カ
ラム−メルク製シリカ−溶離液：酢酸エチルコ、！％に
含むヘキサン、ついで酢酸エチルをｊ係まで傾斜）によ
って（／Ｅ、ｊＺ）異性体會得る。

融点：＜７０℃ 紫外スペクトル（クロロホルム）：λｍＢｚ　：　３　
ｊ　ｊ　ｆ１ｍε　＝４Ｌ７７００ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　７９．３３　’ｌエタン／、Ｌｔｌｒ　％実
測値：　７り／３７りｊ　ＡＸｇ、２％（Ｒ３）上記と
同一の操作手順に従い、ｄ　、Ｌ−３−ベンジリデン−
カンファー　ｊ′−力ルゼアルデヒドの代りに天然カン
ファーを原料と毛て得られるｄ−Ｊ−ベンジリデン−カ
ン７アー　Ｖ′−力ルヂアルデヒドに用いる。得られる
生成物全ヘキサン中で再結晶することにより精製する。

融点：／≠３℃ 紫外スペクトル（クロロホルム）：λｍａｘ　：　３４
１ｊ　ｎｍε＝！２１００ 元素分析：’　ＯＨＯ 理論値　二　７’７３３　７９９　／、２１１　％実測
値：　７５！ｊ、２　７り７　／ｘ、ＡＯ％実施例２ 式（２）（ただしＲ１及びＲ５＝Ｈ，Ｒ，４＝ＯＨ３，
Ｒ，８＝ｐ−００２０Ｈ３）の化付物の製造 ／、２−ジメトキシエタン１００−中のカンファーＪ　
ｆ　（２Ｘ　／　０’−２モル）の溶液に窒素流下で／
、２−ジメトキシエタン１００ｍｅ中の水素化ナトリウ
ムＯ０りｔり（２Ｘ　／　０””モル）の懸濁液に室温
で添加する。２時間攪拌し、ついで１時間還流に保持す
る。Ｏ℃に冷却しそして／、２−ジメトキシエタン１０
０−中の≠−メトキシカルボニルーα−メシル−シンナ
ムアルデヒドＪ　ｆ　（１０’モル）の溶液を滴加する
。再び温度ｆ、２０℃に上昇させて３時間攪拌する。過
剰の水素化ナトリウム金破壊した後１反応混付物全水中
に注入しそして生成物音へキサン中に抽出する。油状物
グｖ會得、これ紮シリカゲル上で溶離剤としてヘキサン
及び酢酸エチルの混合物ケ用いてクロマトグラフィー処
理して精製する。

溶剤全蒸発した後、所望の生成物θ、４　ｆ　（Ｒｄｔ
：Ｉｌ係）全書る。

融点：１３７℃ 紫外スペクトル：　ｖｔｏｒ−リ：λｍａｘ：３２１ｒ
ｎｍε、、、３７ｊ００ 元素分析：ＯＨＯ 理論値ニアｇθ７　７７４４　／ＩＡ／／ｉ’％実測値
：　７１１３　７７！　／４１．０２％実施例３ 式（ｌｉｐ　（ただしＲ１及びＦＬ５＝ｌ■、　Ｒ４＝
−Ｏｆ（５，Ｒ・８−グーメトキシカルゼニルーａ−メ
チル−シンナムアルデヒドの代りに≠、α−ジメチルー
シンナムアルデヒド街用いて実施例λの操作を反復して
所望の化合物紮得る。

得られた生成物音エタノールー水（り：ｌノの混合物中
で再結晶することによって精製する。

融点ニア００℃ 紫外スペクトル：　（Ｅｔ（川）：λｍａｘ　：　３．
２１１℃ｍε＝３１ｒｏ。

元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　ｌ’ｊ：ｔＡ　ｉ９０　ｔＪｇ％実測値：　
ｔよ！２　ｊｒグ　！ｔ２チ実施例ψ 弐Ｎ（ただしＲ，１，Ｒ４及びＲ，５＝Ｈ、Ｒ，８＝　
ｐ−ＣｌＯ２０２Ｈ５゜３−ベンジリデン−カンファー
　グ′−カルポアルデヒドコ、Ｊ　Ｐ　（／　０−２モ
ルノ及びジエチル　グーエトキシ力ルヂニルーペンジル
ホスホネート３、コｆ　（／　０−２モル）全テトラヒ
ドロフラフ、２０蔵に溶解する。この溶液欠／、４ｔ、
７，１０．／３−ペンターオキサーシク四ペンタデカン
０．Ｏｔ　ｆを含むテトラヒドロフランｘｏｍε中の水
素化ナトリウム０．ｊ　ｆの悲濁液に０℃で滴加する。

温度全２０℃まで再上昇させそして２時間攪拌する。反
応混合物を水中に注入しそして生成物をエーテルで抽出
する。

この生成物をエタノールからの再結晶によって精製する
。

融点：／／μ℃ 紫外スペクトル：　（ＥｔＯＨ）λｍａｘ　：ｊｊ７ｎ
ｍε＝ｓｙｔｏ。

元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　Ｉｌ、／コ　７．２タ　／／、ｊｒ係実測値
：　ＩＩ、３１Ａ７２ｔ）　／１４１１　％実施例！ 式（ＩＩ）　（７ζだしＲ１，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びａ
７＝ｔＩ。

ジエチル　弘−エトキシカルヂニルーペンジルホスホネ
ートの代りにトリエチル　グーホスホノークロトネート
ケ用いたことを除いて実施例≠の方法ケ反復して標題化
合物全書る。

得られた生成物をエタ−７−　ルからの再結晶により精
製する。

融点：１１０℃ 紫外スペクトル：（ＥｔＯＨ）λｍａｘ：ＪｊＯｎｍε
＝ｔｏ、ｏｏ。

元素分析：　ＯＨＯ 理論値ニア９０タ　７７≠　７３１７％実測値：　７♂
り／　７，７Ｊ　／３．２０％実施例６ 式（財）（ただしＦＬｌ、ＵＬ４及びＲ５＝Ｈ、ｎ、Ｂ
＝ｍ−Ｃｏ２０２Ｈ５。

ジエチル　Ｊ−エトキシカルボニル−ベンジルホスホネ
ートの代りにジエグール　３−エトキシカルゼニルーペ
ンジルホスホネート孕用い友こと欠除いて実施例≠の方
法を反復して標題化貴物音得る。

得いれた生成物ケエタノールから再結晶化することによ
って精製する。

融点：りｒ℃ 紫外スペクトル：（メタノールノ　λｍａＸ”Ｊ弘ｊｎ
ｍε＝、ｆ０７００ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　Ｊ’／、／、２　７２５＞　ｉｙ、ｊｒ　％
実測値：　１０．り、ｔ　Ｚ３θ　ｉｙ、７ｊ’１６実
施例７ 式（ＩＦ）　（ただしＲ，１，Ｒ，４，Ｒ，５及びＲ，
６＝Ｈ、Ｒ，＝−ＣＩ−Ｉ５゜（ａ）　次式の化合物の
製造 エーテル２　！　Ｏｍｅをアルゴン雰囲気下で一３０℃
に冷却しそし、て水素化リチウムアルミニウムＪ、Ｊ’
　ｙ　＞添加する。この温度でｐ’−（−、ｘ−エトキ
シカルボニル−／Ｅ−エテノ）−１ルー３Ｅ−ベンジリ
デン−カンファー３３ＪＰｉゆっくり導入する。反応混
合物の温度欠室温までゆっくり再上昇させ、ついで酢酸
エチル１００ｄｆ添加する。

水で稀釈しそしてセライト上で濾過する。有機相紮傾瀉
しそして溶剤を減圧下圧留去する。

残渣紮エーテル／ｌＯ＠ｌｌＩｃ溶解しそしてこの溶液
紮ヘキサン／　Ａ　Ｏｒｒｔｌ中の活性二酸化マンガン
ｊＯりのＲ間物に添加する。室温で２時間攪拌し、つい
で濾過し、溶剤全蒸発させる。

生成１欠シリカゲル上で溶離剤として゛トルエンー酢酸
エチル（タタ：ｊ）の混会物ケ用いてクロマトグラフィ
ーにより精製し、ついで蒸発後残渣衛イソプロピルエー
テルから再結晶させる。

融点：１３１℃ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　ｒ／、ｔｏ　７Ｊ’３　１０．１７％実測値
：　１７”／、ＩＩＩ　７ｔＯ／／、Ｏｊｔ％（ｂ）　
３−ベンジリデン−カンファー　≠′−力ルゼアルデヒ
ドの代りに上記工程（、）で得られた化合物上用いかつ
ジエチル　弘−エトキシカルボニル−ペンジルホスホネ
ートの代りにトリエチル　コーホスホノープロビオネー
トヲ用いたこと欠除いて実施例弘に述べた方法を反復す
る。

得られる生成物音へキサンからの再結晶によって精製す
る。

融点：　／＋２０℃ 紫外スペクトル：　（ＥｔＯＨ）λｍａｘ　：Ｊｔ４Ｚ
ｎｍε＝ｊＰ＋２θＯ 元素分析：ＯＨ，，０ 理論値：　７５！、？Ｊ　７タタ　１．７６に係実測値
：　７９／ｌ　１０／　／２．ｊ／　％実施例！ 式（ｌＩ’Ｄ　＜ただしＲ４＝ＯＩ−Ｉ３．　［１，４
及びＲ５＝Ｈ、７３，８＝テトラヒドロフラン７　！　
ｍｌ！中のジイソプロピルアミン２．ｔＡ、２２の溶液
全ヘキサン中のブチルリチウム０．０２．２モルの溶液
に０℃で７０分間かかつて滴加する。ｌ夕分間攪拌した
後、−７ｔ℃まで冷却しそしてテトラヒドロフラン、２
ｔ＠７４中のカンファー３．０　！　ｆ　’ｉ添加する
。３０分間攪拌しそしてテトラヒドロフラン２０ｍｅ中
Ｄμｍメチル−ベンザルアセトン３．ｊ　Ｊ　ｆの溶液
を添加する。−７１ｒ℃で４ｔ、を分間攪拌し、ついで
ＩＮ塩酸６．２−ｆ添加しそして温度欠室温まで再上昇
させる。エーテルで３回抽出し、有機相葡水洗し、つい
で硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶剤全減圧下で留去し
。

残渣衛ベンゼン１００ｍ１Ｋ溶解する。ｐ″″″トルエ
ンスルホン酸０ｆｆ添加しそして形成される水を留去し
ながら還流下に２０分間保持する。溶剤街蒸発させそし
て生成物ケエタノールーヘキサン（／　：／）混合物中
で再結晶させて所望の生成物０、ＩＩ　ｆ欠得る。

融点：／μｔ℃ 紫外スペクトル［ＥｔＯｔ４）　：λｍａｘ：ＪＪＪ’
ｎｍε＝＋２７りθＯ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　ｌ’ｒｔｔ　ｉ９０　Ｊ：４１％実測値：　
１１３０　１．７！　タフ！憾実施例り 式（ＪＴ）　（ただしＩｔｌ、　Ｒ４，ｎ６及びＲ，、
＝　Ｈ、Ｒ５＝−ＯＨ３゜（、）　次式の化廿物の製造 メタノール１０．ｌ中の３０チ苛性ソーダθ、３−の熱
溶液にメタノール７０ｄ、中の３−ベンジリデン−カン
ファー　≠′−カルゼアルデヒＦｒｆ及びプロパツール
ＩＱ−の熱溶液ケ滴加する。還流下に７時間加熱し、つ
いで冷却しそして反応混合物全水中に注入する。エーテ
ルで抽出しかつ蒸発させた後、イソプロピルエーテル中
で再結晶化させることによって淡黄色結晶Ｊ、７　ｆ　
’（得る。

融点二ｌｌμ℃ 紫外スペクトル（Ｒｔｏｌす：λｍａｘ＝ｊ　、２　Ｊ
’　ｎｍε＝μμ、０００ 元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　Ｉ／、７♂　７Ｊｕ　１０．３ｔ　％実測値
：　Ｉ／、Ａｏ　７ざＪ　１０．、！、２　％（ｂ）　
３−ベンジリデン−カンファー　弘′−力ルゼアルデヒ
ドの代りに上記工程Ｃａ１で得られた化会物紮用いかつ
ジエチル　グーエトキシカルゼニルーペンジルホスホネ
ートの代りにトリエチル　ホスホノアセテートヶ用いて
実施例に述べたと同様に操作する。

祷られる生成物ｔヘキサノからＪＪｊ結ｉ＾することに
よって精製する。

融点ニア４Ｌ℃ 紫外スペクトル（ＥｔＯＨ，）　：λｒｒ＋ａｘ　：　
３１１−２ｏｍε＝グ５．５００ 元素分析：　０　１（０ 理論値：　７９３３　７り！／　／、２♂１％実測値：
　７５！ｊ４’　１０２　／２．４ｔＯ％実施例ＩＯ 式（ｌＮ）（友だしＴｌ、１．Ｒ４，）Ｒ６及び■７二
ｌ−１、Ｌ（，５＝−ＯＨ３゜実施例りで得られた化会
物ｉ、ｓｖ２エタノールｊＯｔｎｌＶｃ溶解する。３−
Ｎ・苛性ソーダｊ−を添加しそして、？θ分間還流下に
加熱する。水’ｊ　Ｏｙ１７！’（７添加し、ついでア
ルコールを留去する。反応混合物耐酸性化し、得られる
生成物ｋＦ’過し、水洗し。

乾燥しそして酢−敲エチルから再結晶化する。

融点：２θｒ℃ 紫外スペクトル（ＯＨＯｔ３］：λｒｏａｘ　：　３４
１１１ｎｍε＝４ｔａ、３ｏ。

元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　７ｒ、１３　７ｕｌｒ　／、３．７０　％実
測値＝７ｒりｔ、７Ｊグ　／３オグ係実施例／／ 弐〇Ｖ）（ただしＲ１及びＲ，４＝）Ｉ　、ｔ　Ｒ５−
−０Ｈ３，Ｒ，８＝ジエチル弘−エトキシカル昶ニルー
ベンジルホスホネートの代りにジエチルグーエトキシカ
ルゼニルーフェニルエチルホスホネートヲ用いて実施例
≠と同様の方法で操作する。

得られる生成物をエタノールからの再結晶によって精製
する。

融点：１３グ℃ 紫外スペクトル（０１１０ｔ３）　：λｍａｘ：ＪＪＪ
ｎｍε＝グ帆ｌＯＯ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　Ｉ／、／２　７．コタ　１１．３１％実測値
：　♂／、／ｊ　７３グ　／／、Ｊコチ実施例／コ ３−ペン、クリデンーカンファ−ψ′−カーｙｂｙｇア
ルデヒドの代シにｑ′−アセチル−３−４ンジリデンー
カンーフア−を用いて実施例グと同様の操作全行なう。

得られる生成物をエタノールからの再結晶によって精製
する。１３／Ｚ比が２ｊ／７３の異性体混合物が得られ
る。

実施例／３ 式＠／）　（ｆｃだしＲ１及びＲ５＝　Ｈ’、　Ｒ，４
＝−ＯＨ５，ＦＬ８＝実施例／２で得られた化合物全実
施例１０に示した条件に従って加水分解することによっ
て標題化会物音得る。

得られた生成物ケアセトンからの結晶化によって精製す
る。

融点二コ３０℃ 紫外スペクトル（ＥｔＯＨ）：λＩｎａｘ　３２　！　
ｎｍε＝２ｔ７００ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　Ｊ’／、００　７００　／１００　％実測値
：　ざ０．１コ　ＺθＪ−／／、７タチこの生成物はＢ
／Ｚ　比が２！／７ｊ　である異性体混脅物の形で存在
する。

一犬１０ＩＪ　／ノ 式（Ｍ　（−ａりり、　ｎ、１．　ａ４及０：ｎ５＝Ｈ
，ＲＢ＝ｐ−００２Ｈ、ｘ実施例弘において製造された
化合物全実施例ｉ。

に示したと同一の操作方法に従って加水分解することに
よって標題の化会物音得る。

得られた生成物全アセトンからの再結晶によって精製す
る。

融点：〉２６０℃ 紫外スペクトル（ＥｔＯＨ）　：λｍａｘ：３．ｔ！：
ｎｍε＝＝ｊｔ、０００ 元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　１０．１３　Ｊ、７！　／、２．４１　％実
測値：　ｒＯ，８’ｊｔ　４．７Ｆ　／、を−ざチ実施
例／ｊ 式（■）（ただしＲ１，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びｌ’Ｌ、
＝Ｈ。

実施例！で得られた化合物全実施例／’０に述べたと同
一の操作方法に従って加水分解することによって標題化
合物を得る。

得られる生成物音アセトンからの再結晶により精製する
。

融点：２コ♂℃ 紫外スペクトル（ＥｔＯＨ）　：λｍａｘ　：　３　ｊ
　Ｏｎｍε＝ｒｓ、ｔｏ。

元素分析：ＯＨＯ 理論値＝　７ｇ！７　７／グ　／ｌＡ、！９係実測値：
　７♂ｊ／　７２２　／１Ａ３０チ実施例／を 式（ＩＶ）　（＊りＬ　Ｒ４及Ｕ　ｎ４−ｒ−ｒ　、　
ｎ５＝−ｏｒ−ｒ３．　ｈ、８＝実施例／／で得られた
化合物孕実施例１０に述べたと同一の操作方法に従って
加水分解することに工って標題化合物を得る。

得られる生成物全アセトンからの再結晶によって精製す
る。

融点＝２６ｊ℃ 紫外スペクトルＣ０ＨＯ１３）　：λｙ１１３ｚ　：　
Ｊ　−？　Ａ　ｎｍε二４’／２００ 元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　ＩＩ、００　７００　／コｏｏ％実測値：　
ＩＩ、０４４　７０９　／／、７３　％実施例／７ 式（［１０（７’ｊ　タシＲ１及Ｄ　”５−Ｈ、ｎ４”
”−０Ｈ３、Ｒｌｓ　＝実施例コで得られた化付物を実
施例１θで述べたと同一の操作方法に従って加水分解す
ることによって標題化付物紮得る。

得られる生成物全アセトンからの再結晶によって精製す
る。

融点：２３０℃ 紫外スペクトル（ＥｔＯＦ（）　：λｍａｘ：Ｊ２ｊｎ
ｍε＝３Ａ７００ 元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　７７７４’　７≠ｊ／≠７り係実測値：　７
１７３　７３／　／１Ａｔｊ　９６実施例ｉｔ 式（■）（ただしＲ，１，Ｒ４，Ｒ５及びＲ，＝　１−
１　、　Ｒ，６＝−ＯＨ３゜（ａ）　実施例／　（ａ／
）で得られた化合物を実施例ＩＯに述べたと同一の操作
方法に従って加水分解することによって標題化合物聖書
る。

得られる生成物音アセトンから再結晶することによって
精製する。

融点二コｊ／℃ 紫外スペクトル（ＥｔＯＨ）　：λｍａｘ：Ｊ４’ｆｎ
ｍε＝ｒｏｔｒｏ。

元素分析：ＯＨＯ 理論値：　７１，１コ　７弘７１３６タチ実測値：　７
ｆ、７＆　７．ｊ３　／Ｊ、７０１％（ｂ）　実施例／
　（ａりで得られ′ｆ′ｃ（／Ｅ１３’ｌ）異性体音実
施例ＩＯに述べたと同一の操作方法に従って力１水分解
することによって（／Ｊ、？Ｚ）構造をもつ対応する酸
を得る。

生成物はアセトンからの再結晶によって精製する。

融点：２ｕｕ−２＜ＡＡ℃ 紫外スペクトル（メタノール〕：λｍａｚ：３４Ｌｒｎ
ｍε＝≠ｔｔｏ。

元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　７１？、２　７グ７　１３１９％実測値：　
７ｇり１７グｊ　／３３コチ（ｃ）　実施例／　（ａＪ
）　で得られた化付物を実施例１０に述べ１こと同一の
操作方法に従って加水分解することによって対応する光
学異性体を得る。

−得られた生成物はアセトンからの再結晶によって精製
する。

融点＝２３ｇ℃ 紫外スペクトル（メタノール−ｒ）ＭｓＯ）　：λｎ１
ａＸ　：　３４Ａ／ｎｍε＝ｊコ３０θ 元素分析：ＯＨＯ 理論値：　７１１．２７１１７　／３ｉ９実測値ニア１
９μ　７６２　／３．１０比施光度：　（クロロ−ホル
ム〕〔α］　ｕ　＝　＋　ｚ　７゜実施例／り 式（■）（ただしＲ１，Ｒ５，Ｒ，６及びＲ，＝［（、
、Ｒ４＝−ＯＨ，。

Ｒ１８＝−ＣＯ２Ｃ２Ｈ５，Ｘはパラ位）の化合物の製
造３−ベンジリデン−カンファー　グ′−カルヂアルデ
ヒドの代りＦＣＦ／−アセチル−３−ベンジリデン−カ
ンファーを用いかつジエチル　μ−エトキシカルボニル
ーベンジルホスホネートの代りにトリエチル　ｔ−ホス
ホノクロトネートを用いて実施例μの方法を反復して標
題化合物を得る。

実施例−〇 式（■）（ただしＲ１，ＴＬ５．Ｒ６及びＲ，、＝＝Ｈ
、Ｒ，４＝ＯＴ、Ｉ３゜実施例１りで得られた粗製の化
付物に実施例１０に述べたと同一の操作方法に従って加
水分解する。

得られた生成物全アセトンからの再結晶によって精製す
る。

融点二ココｔ℃ 紫外スペクトル（０ＨＯ１す：λｍａｘ：Ｊ４ｔ、ｔｎ
ｍε＝弘０３００ 元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　７７１３　７４’ｆ　／３．７０１％実測値
＝７Ｌ♂７　７ｊμ　１３６７係実施例Ｊ／ 式（Ｉｆ）（、ただしＲ１，Ｒ４，Ｒ５及びＦＬ、＝Ｈ
、Ｒ６〒−０Ｈ３゜Ｒ８＝　−００２０２Ｈ５、Ｘはメ
タ位）の化合物の製造３−、ベンジリデン−カンファー
　ｑ′−力ルゼアルデヒドの代りに３−ベンジリデン−
カンファー３′−カルボアルデヒドを用いたこと金除い
て実施例／に述べた方法に従って操作して標題化合物を
得る。

得られ１ζ生底物はヘキサンからの再結晶によって精製
する。

実施例、２２ 式（ｌｌｌ　（瓦だしＪ　、　Ｒ４、Ｒ５及びＲ７＝Ｈ
、Ｉ’Ｌ６＝−ＯＨ３゜１も、　＝−００２Ｈ、Ｘ　Ｉ
′ｉメタ位）の化合物の製造実施例−２／て得られた化
合物を実施例１θに述べたと同一の操作方法に従って加
水分解して標題化付物會得る。

得られる生成物全酢酸から再結晶化することによって精
製する。

融点：〉２５０℃ 紫外スペクトル（メタノール中の飽和酢液ン：λｍｉｘ
：ＪＯ２Ｈｍ元素分析：　ＯＨＯ 理論値：　７ｒ３．２　７μ７７３６り係実測値：　７
１．１３　７ｊコ　／　３．ｒ　Ｊ％実実施ココ ３（ＩＩ）　（ただしｌ’Ｌ１．Ｒ４，Ｒ５及びＲ，＝
Ｈ、Ｔ’４．６＝−ＯＨ３゜実施例ｔｒ（ａ）で得られ
た化合物、２２及び三塩化燐０．３−ｔ　ｔｎｅ　ｋ　
）ルエン２０ｄ中で室温で２時間攪拌する。減圧下に蒸
留し、ついでエーテル１００ｍ１　’（添加する。−３
０℃まで冷却しそしてエーテルｊＯｄ中のエチルアミン
７ｍｌの溶液全添加する。

室温で３時間攪拌する。有機相全水洗し、溶液な減圧下
で留去しそして生成物ケシリカゲルクロマトグラフィー
（溶離剤ニジクロルメタン、ついでジクロルメタン−酢
酸エチル（３０：ｊｔＯ））によって精製する。下記の
特性ケもつ所望の生成物／、４ｔｆ紮得る。

融点：ｌｊ♂℃ 紫外スペクトル：λｍａｘ　：　Ｊ≠りｎｍε　＝　６
２１１００ 元素分析：　ＱＨＮＯ （０，ｊＨ２０）　理論値ニア７、乙２　ｇ、２ｇ　３
，６２　１０，３３チ実測値：　７７、Ａ２　１，３４
Ａ　３．Ａｔ　１０μｇチ実施例＋２４を 式（ＩＩ）（ただしＲ１，ＩＩ４．■、及びＲ７＝１−
１．几、＝トルエン２０−及び三塩化燐００ＳＳ−中の
実施例／ざ（、）で得られた化合物２ｔの懸濁物を≠Ｏ
℃で２時間加熱する。トルエンを減圧下で留去しそして
残渣をエーテル１００−中に再溶解する。エーテル３０
−中のピペリジン０．６−の溶液を添加し室温で３時間
攪拌する。水で稀釈しセして′エーテルで抽出後、生成
物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離剤ニジクロル
メタン、ついでジクロルメタン−酢酸エチル（ｔｓ：、
ｉｊ）＞によって精製する。

溶剤を蒸発させた後、所望の生成物０．６９を得る。

融点二／グＱ℃ 紫外スペクトル（クロロホルム）： λｍａｘ　：　３４’　Ｉ　ｎｍ ε　＝　≠　タ　ｔｏ。

元素分拍：　ＯＨＮ　Ｏ 理論＠：　１０，３３　１．ｔｉｌＬｔ３，３！　７．
ｔｔ％実側値：♂Ｏ，ｊ弘　δ、Ｊ／　３，４ｔ０　７
．Ａｔ％実施例コｊ 式（１）（ただしＲ１，Ｒ４４４５及びＲ６＝　Ｈ、几
、＝−ＯＨ３４１８＝　−００２Ｈ、Ｘは／ξう位）の
化合物の製造 実施例７で得られた化合物を実施例１０に述べたと同一
の操作方法に従って加水分解することによって標題化合
物を製造する。

得られる生成物をアセトンからの再結晶化によって精製
する。

融点：＋２グ０℃ 紫外スペクトル（メタノール飽和溶液）二λｍａｘ　：
　ｊ　ｊ４’　ｎｍ 元素分析：　ＣＨＯ 理論値：　７１ｆ３　７ぎｌ　／３，７θ％実測値＝７
ｇ、Ｉｌｌ　７．ＩＩＩ　／３．ＩＩ　％実施例コを 式（ＩＩ）　（ただし几１．”４１”５及びＲ，、＝　
Ｈ、Ｒ６＝テトロヒドロフラン弘θｍｅ及びチオニルク
ロライド０．！３−中の実施例ｔｇ（ａ）で得られた化
合物λ、ｓｙの懸濁物を室温で２時間攪拌する。この溶
液を濾過しそしてＰ液にテトラヒドロフラン１０−中の
バラアミノンエノール０．　Ｊ’　２　ｆの溶液を添加
する。室温で２０時間保持し、ついで水ｉｏ。

−で稀釈する。２Ｎ塩酸で酸性化した後、生成物をジク
ロルメタンで抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥する。溶剤を減圧下で留去し、得られる生成物をエタ
ノールからの再結晶によって精製する。

融点；３６０℃ 紫外スペクトル（メタノール）： λｍａｘ　：　ｊ　６０　ｎｍ ε＝６２ｔｏ。

元素分析：　ＯＨＮ　、０ ＮＷｆａ＠：　７９；Ｔ１６　１．、ＫＡ　３．／７　
１０，１９　％実測１直　：　７り、３／　ｔ、タタ　
３．λλ　１０，６１　％実施例−７ 式（■）（ただしＲ，１，Ｒ４，Ｒ５及び几、＝Ｈ１■
、−〇Ｈ３，Ｒ８＝−０ＯＮＨＯＨ２０Ｈ２０Ｈ，Ｘは
パラ位）の化合物の製造 実施例／Ｊ（ａ）で得られた化合物、３．ｊｆ及びカル
ボニルジイミダゾール八６ｔをジメチルホルムアミド２
００−中でＳＯ℃で７時間加熱する。０℃１で冷却しそ
してモノエタノールアミン０．７１ｄヲ添加する。７０
℃まで漸進的に加熱しそしてこの温度に２時間保持する
。新たにモノエタノールアミン０，７ｄを添加しそして
加熱をさらに７時間続ける。ジメチルホルムアミドを減
圧下に留去し、ついで水で稀釈する。この混合物を酢酸
エチルで抽出する。溶剤を蒸発させそしてシリカゲルク
ロマトグラフィーによって精製した後、透明油状物／、
１Ｉ−２を得る。これは酢酸エチル中で結晶化する。

得られる生成物はっぎの特性を有する。

融点：／３１１”℃ 紫外スペクトル（ＣＨＯＰ５）　：λｍａＸ　：　３　
ｊ　−２’　Ｈｍε　＝　４１．　ｔ　Ｏ００ 元素分析：　ＯＨＮ　Ｏ （０，，２，ｇ）（２０）　Ｗ　Ｆｉｎ　Ｉ直：　７ｓ
、ＩＦ　１，２ｔ　Ｊ、６１　ｉ−，９０２６実測直ニ
アｊ、≠７７、り、２　Ｊ、！；２　／３，０ｇ％実施
例１ど 式（旧（ただし几４．ｉｔ４．ＦＬ５及び几、　＝Ｈ、
Ｒ６＝−ＯＨ３Ｒ８＝　−０−０−（０Ｈ２）１７０Ｊ
（６，Ｘはパラ位）の化火施例／　ｆ　（ａ）で得られ
た化合物３．ｊ２及びカルホ’−ルジイミダゾールへ♂
？をジメチルホルムアミドｊ０−中でｔｏ℃にコ時間加
熱する。

０Ｃ−Ｚで冷却し、ついでオクタデカノール３ｖ及びｌ
、ざ−ジアザービシクロＣ’ｒ弘、Ｑ〕−７−ウンデセ
ン／。７ｖを添加する。≠時間攪拌し、ついでインプロ
ビルエーテルノθθｍｌで稀釈する。

有機相を一２Ｎ塩酸で洗滌し、ついで水洗し、最後に炭
酸カリウム飽和躊液で洗滌うる。溶剤を減圧下に留去し
、残渣をヘキサン１ｏｏｄ中に再溶解しそして溶液を濾
過する。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
離剤：ヘキサンー酢酸エチルタロ：、ｆ）によって精製
する。第一の両分として下記の特性をもつ／Ｅ、３Ｚ異
性体／１を得る。

融点＝７ｔ℃ 紫外スペクトル（クロロホルム）： λｍａｘ　：　３−ｔ≠Ｉ１ｍ ε　：　≠　７　、ｌ！　３０ 元素分析：　ＯＨＯ 理論１ｉｉ　：　ＩＩ、ｔ７　１０，３６　７．！＃　
％実測値：　ｇ／、ｌ、ｔ　１０，３タ　１，２．９％
第二の画分（八ｔｙ）は下記の特性をもつ／Ｅ。

３Ｅ異性体である。

融点二ど０℃ 紫外スペクトル（クロロホルム）； λｍａｘ　：　３　！　２　Ｈｍ ε　：　ｊ　≠　ｊ　ＯＯ 元素分析：　ＯＨ０ ｆｊｌ　ｉ？ｉｉｉ　＠　：　ＩＩ　、６７　１０．ｊ
ｌ＝　７．！６　％実測値：　ＩＩ、ｌ、ｌ、１０，３
１　ｆ、λＯ％本発明はさらに上記定義した一般式（Ｉ
）のカンファーの不飽和前導体、それらの異性体及びそ
れらの塩の少なくとも一釉を有効成分とする医薬組成物
を提供するものである。

これらの化合物は、裸のラットにおける１テープストリ
ツピング（３ａｐｅ　ｓｔｒｉｐｐｉｎｇビによる誘発
後のオルニチン　デカルボキシラーゼの抑制試験におい
て艮好な活性を示す。この試験は細胞増殖現象に及ぼす
レチノイドの作用の尺度として認められている。

さらに本発明の化合物は、胎児の奇形癌（ｔｅｒａ−１
ｏｃａｒｃｉｎｏｍｅ　）　Ｆり（Ｃａｎｃｅｒ　ＲＩ
ｅｓｅ’ａｒｃｈ　４Ｌ３　！６２ざ頁、ｌりｆｆｊ）
の細胞、分化試験においてより大きな活性を示す。

本発明の化合物は角化（たとえば上皮細胞の分化、増殖
）障害に関連した疾患ならびに炎症性成分による皮膚そ
の他の疾患、特に。

−尋常性、面乾性又は多形性注性、老人性・日照性Ａ−
倫及び薬物による又は職業病性茂琢−乾鱒が拡大した及
び／又は悪化した状態、角化についてのその他の障害、
特に魚鱗癖及び魚鱗斜状症状、 一ダリエー氏病 一掌跳角化症 一白色角化症（１ｅｕｃｏｐｌａｓｉｅｓ）及び白色角
化症症状、扁平苔ｆｄ　（１１ｃｈｅｎ　ｐｌａｎ）。

−重度の又は拡大した、あるいは艮性又は悪性のあらゆ
る皮膚病性増殖 の治療に有用である。

本発明の化合物はさらに若干のリューマチ性疾患、特に
乾癖性リューマチにも有効である。

さらにウサギについて行なわれた刺激試験は、一般式（
１）の化合物はリチノイン酸より刺激性が少ないことを
示した。

本発明による化合物は通常、−日当り約２μ？／ｋｇ　
−！　ｍｑ　／　ｋｙ、好−ましくけ／　、　０　μｆ
ｔ〜２　ｒｒｑ　／　ｋ７　ノ用量で投与される。

医薬組成物の担体としては、従来慣用の担体のすべて全
使用することができ、活性化合物は担体中にＭＭした状
態または分散した状態で存在する。

投薬は経口、非経口又は局所的投与により行なうことが
できる。

経口投与用の医薬は錠剤、カプセル、糖衣錠、シロップ
、懸濁液ｐ液、粉＊、顆粒又は乳濁液の形とすることが
できる。

非経口的に投与される医薬組成物は潅流用又は注射用射
液又は＠濁液の形とすることができる。

本発明による化合物を活性成分とする局所投与用の医薬
組成物は軟膏、チンキ剤、クリーム、溶液、ローション
、ゲル、ポマード、粉末、貼薬（ｔｉｍｂｒｅｓ）父は
含浸タンポン、スプレーあるいは懸濁液の影７とするこ
とができる。

局所投与用組成物は、一般式（１）の化合物を０．００
０　／〜約ｊ重量％含んでいることが好ましい。

これら局所投与用組成物は臨床医の指示に従って無水剤
の形とするかあるいは水性剤の形にすることができかつ
他の成分を含むこともできる。

皮膚用ゲル及びクリームのような局所投与用組成物は特
に八属、尋常性＆揄、日照性座倫及び薬物による又は職
業病的八属のだめの局所的処置及び角化症、特に錯角化
症、溝角化症及び分離性角化症（ｄｉｓｋｅｒａｔｏｓ
ｅ）ピおける処置に向けられる。

こ９型の処置においては望ましくない副作用は認められ
ず、本発明の組成物は通常患者によって十分許容される
ものである。

通常の方法では、組成物は有効成分の浸透全助長するた
めに７８１回病害部位に塗布してマツサージ処理を行彦
うことが望ましい。

この処理は規則的に続けられるべきであり、また局所反
応が全くない場合には塗布頻度を１日２回に増加するこ
とができる。

処理期間は通常数週間であり、改善の最初の兆候は処置
２週間頃に認められ、それは処置の終るまで、すなわち
１２週〜／≠週間続く。この７日に少なくとも／回塗布
ケ行なう処置期間の後、持続的処ｆｉｉ″は１週間に２
回又は３回の割付で行なうことができる。

本発明による一般式（１）の化付物及び／又はそれらの
塩はさらに化粧料分野において、特に身体及び毛髪の衛
生の維持及び特に創４毛髪再生、脱毛防止、皮膚又は毛
髪の脂ぎった外観の改善１日光の有害な作用に対する保
護あるいは捷た生理学的に乾燥した皮膚の処理などに使
用し得る。

したがって本発明によれば、さらに許容し得る担体中に
一般式（Ｈの化付物、それらの異性体及びそれらの塩の
少なくとも７種ケ含有してなる化粧料組成物が提供され
る。この組成物は特にローション、ゲル、石鹸又はシャ
ンプーの形で提供される。

化粧料組成物中の一般式（Ｉ）の化合物の濃度は０．０
００　ｊ乃至２重量係、好ましくは０．０　／乃至１重
量％である。

本発明による医薬及び化粧料組成物は不活性添加剤又は
さらに薬力学的に又は化粧料的に活性な添加剤、特にチ
アモリルホリノン及びその誘導体又は尿素などの水和剤
（ｈｙｄｒａｔｉｎｇ　ａｇｅｎｔ）　、　８−カルボ
キシメチル−システィン、Ｓ−ベンジル−システアミン
及びその誘導体、チオキソロンなどの抗脂漏剤、エリス
ロマイシン、ネオマイシン及びテトラサイクリン類など
の抗生物質、゛ミノキシジル（Ｍｌｎｏｘｉｄｉｌ）”
（２，ｔ−ジアミノ−６−ピペリジノ−ビリミジンー３
−オキシド）及びその誘導体などの毛髪再生促進剤；ジ
アゾキシド（Ｄｉａｚｏｘｉｄｅ）、フェニトイン（Ｐ
ｈｅｎｙｔｏｉｎ）及び沃化オキサプロパニウム（ｏｘ
ａｐｒｏｐａｎｉｕｍ）ニステロイド系及び非ステロイ
ド系抗炎症剤；カロチノイド、特にβ−カロチン；アン
トラリン及びその誘導体、ｊ、Ｉｆ、／／、／≠−エイ
コ・杼′トラエン酸、及びｊ、ｇ、／／−エイコサトリ
エン酸なとの抗乾釘剤を含有し得る。

本発明による組成物は壕だ風味改良剤、防腐剤、安定剤
、水分調節剤、ｐ）（’調節剤、滲透圧改善剤、乳化剤
、八及びＢ紫外線ｐ光剤、α−トコフェロール、ブチル
ヒドロキシアニソール又はブチルヒドロキシトルエンな
どの酸化防止剤も含むことができる。

以下、単に例証のために、すなわち本発明を何等限定す
る意図なしに、一般式（１）のカンファーの不飽和誘導
体を有効成分とする本発明の医薬組成物及び化粧料組成
物の具体例を示す。

組成例１ 実施例１３の化合物　Ｑ、０ｊＯｆ ラクトース　Ｑ、０１２ｆ ステアリン酸　０．００３９ 精製タルク　０．０／ｊｆ 甘味剤　適量 着色剤　適量、 米澱粉を加えて　０．ｔ００？ 活性化合物０．０　ｊ　ｆを含むこれらの錠剤は所要成
分の乾燥混合物を直接、圧縮することによって得られる
。

これらの錠剤は乾齢の処置において／日λ〜参錠の割合
で投与される。

組成例λ 実施例／　（ａ／）の化合物　Ｑ、０ｊＯｆとうもろこ
し澱粉　０．０ＡＯｆ ラクトースを加えて　０．３０Ｏｆ この混合物をＴ　ｉ　０２及び保存料を含むゼラチンか
ら構成されたカプセル中に包入する。

歳艙、乾鮮又は慢性多発性関節炎の処置に対しては、１
日ｌ〜３カプセルの割合で投与する。

組成例３ 実施例コの化合物　Ｑ、０ＪＯｆ ポリエチレングリコール弘ｏｏ　ｔｏｙフチルヒドロキ
シトルエン　０．０≠２エタノールを加えて　１ｏｏｙ このゲルは皮膚病に罹った皮膚又はｋｍに罹った皮膚上
に１日／〜３回塗布する。

組成例弘 局所塗布用エマルジョン 実施例ｇの化合物　−２ｆ ベンジリデンカンフアー　４′ｇ 脂肪酸（Ｃ′Ｆ３１２）トリグリセライド　３／ｆグリ
セリン　モノステアレート６ｆ ステアリン酸　、２ｔ セチルアルコール　／、２９ ラノリン　≠２ 保存料　０．３２ プロパンジオール　、２ｆ トリエタノールアミン　０．ｊ　ｆ 香料　Ｏ０≠２ 脱塩水を加えて　１００ｆ 組成例ｊ 局所塗布用ゲル 実施例／ざ（、）の化合物　０．／ｆ エタノール　４′３ｔ α−トコフェロール　０．Ｏｊ　ｆ トリエタノールアミンの２０％水溶液３．１　ｆ水　タ
、Ｊｆ ゾロピレングリコールを加えて　／　００ｆこの実施例
において、実施例１ざ（、）の化合物の代りに実施例ｉ
ｓ、ｉ’ｙ、ｉざ（Ｃ）又は２３の化合物を使用するこ
とができる。

第１頁の続き ［相］Ｉｎｔ、ＣＩ、’　識別記号　庁内整理番号０発
　明　者　アラン・ラグランシュ　フランス国。

シャドー、リュ・オーゲスト・ルノワール。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ／　一般式： Ｃ式中、Ｉｔｌないし几、はそれぞれ水素原子、低級ア
   ルキル基又はトリフルオルメチル基ｔ［わし；ル、は水
   素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ晶、場合によ
   り置換されたアリール基、−〇三Ｎ基。 オキサジノニル基又は次式ｆ＋１　、　（ＩＩＲ９０ （式中、几、は水素原子、低級アルキル基又は基−０Ｒ
   ４４七表わし；几、。は基−Ｎ＜；：又は基−０Ｒ１４
   １、コ又は３であり　、Ｉ及びｒｌは同一でも異なって
   も工（かつそれぞれ水素原子、アルキル基、モノ又ハポ
   リヒｒロキシアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
   ル基、場合により置換された了り一ル基又はアラルキル
   基を表わすか又は−緒に複素環式基を形成し、あるいは
   ｒ′は水素原子を表わしかつｒｌはアミノ酸又はグルコ
   サミン残基を表わし；ＦＬ１４は水素原子、アルキル基
   、アルカノイル基。 シクロアルキル基又はアルケニル基を表わし；ＦＬ１５
   は水素原子％フルキル基、モノ又はポリヒドロキシアル
   キル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基
   、置換了す−ル基、場合により置換されたアラルキル基
   又は糖残基を表わす）のいずれかに相当する基を表わし
   ；ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅはＯ又は／’（＋−表わすが、
   たソしＬ及び／又はｄ＝／である場合にはａ　＋　ｂ　
   ＋　ｃ、　＋　ｄ　＋’　ｅ″＞コであり、一方す及び
   ｄ＝０である場合にはａ　＋　ｃ十ｅ＝３である〕で表
   わされるが、たたしつぎのｌ）〜３）の場合、すなわち ／）　ａ　十ｂ　＋　ｃ　＋　ｅ　＝　０でありかつｄ
   　＝　／である場合； にａ　＋　ｂ　十ｃ　＝　０　、　ｄ　＝　／でありか
   つｅ＝ｌである場合；及び ｊ）Ｒ１，Ｒ，４及びＲ５が水素原子を表わしがつ几８
   が水素原子％−ＯＨ，又は−００Ｈ６を表わす場合にａ
   　＋　ｂ　＋　ｅ　＝　０　、　ｃ　＝　／でありかっ
   Ｊｍｌである場合； の式（１）の化合物を除く、カンファーの不飽和誘導体
   及びそれらの幾何異性体、光学異性体及びそれらの塩、 ２　アルキル基が炭素数７−２０個を−もつもの。 特にメチル、エチル、フロビル、＋２−エチルヘキシル
   、オクチル、ドデシル、ヘキサデシル又はオクタデシル
   基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、　アルコキシ基が炭素数ｌ〜φ個をもつもの。 特にメトキシ、エトキシ又はインプロポキシ基である特
   許請求の範囲第１項記載の化合物。 仏　了リール基が場合により塩素、臭素又はフッ素原子
   の工うなハ咀ゲン原子、ヒドロキシル基。 されたフェニル基である特許請求の範囲第１項記載の化
   合物。 ｊ　アルケニル基が炭素数２〜１１個をもつもの１％に
   プロペニル、ブテニル又はインペンテニル基である特許
   請求の範囲第１項記載の化合物。 ６、　シクロアルキル基がシクロペンチル又はシクロヘ
   キシル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 Ｚ　ヒドロキシ低級アルキル基が炭素数λ又はＪｍｌに
   ４つもの、特にコーヒドロキシエチル又はλ−ヒドロキ
   シプロピル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
   。 Ｌ　アラルキル基が場合によりヒドロキシル基。 アルコキシ基又は第弘級了ンモニウム基で置換されたベ
   ンジル基又はフェネチル基である特許請求の範囲第１項
   記載の化合物。 ２　アルカノイル基がアセチル基又はゾロピオニル基で
   ある特許請求の範囲第７項記載の化合物。 １０基ｒ′及びｒ′が一緒に複素環式基、特にピペリジ
   ン、ピペラジノ、モルホリノ又はピロリジノ基を形成す
   る特許請求の範囲第７項記載の化合物。 ｌ／　化合物が一般式： （式中％Ｘは芳香核のメタ区はパラ位置にあり；■、は
   水素原子全表わし；Ｒ４ないしＲ，はそれぞれ水素原子
   又はメチル基を表わし；そしてＲ８は１ 基−０−ＯＦＬ、５（式中、Ｒ１５は水素原子、アルキ
   ル基又はモノ又はポリヒドロキシアルキル基を表わわし
   ＋　ｒ’は低級アルキル基、モノ又はポリヒドロキシア
   ルキル基、フェニル基、ヒドロキシル置換フェニル基を
   表わすか又はｒ′及びｒｌは一緒にピペリジン環を形成
   する）を表わす〕に相当する化合物である特許請求の範
   囲第１項ないし第１Ｑ項のいずれかに記載の化合物。 ／２　化合物が一般式： し式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基會表わし；　Ｒ４
   及びＲ−それぞれ水素原子又はメチル基會表わし；そし
   て几１．Ｒ４又はＲ５の少なくとも一つが了にキル基を
   表わす場合にはＲ８はメチル基を表わし又は１ 几８は炭素数１〜４個のアルキル基又は基−０−（ＪＲ
   １５（式中、ＦＬ１５は水素原子、アルキル基又はヒド
   ロキシ低級アルキル基を表わす）を表わしかつ几。 は芳香核のパラ位置にある〕に相当する化合物である特
   許請求の範囲第１項ないし第１０項のいずれかに記載の
   化合物。 ＋３．　化合物が一般式： 〔式中、Ｒ１は水素原子′に表わし；ｋＬ４及びＲ５は
   それぞれ水素原子又はメチル基を表わし；そして１ １ｔ８は基−〇−０ル　（式中、几、５は水素原子、ア
   ル５ キル基又はヒ）′ロキシ低級アルキル基ヲ表わす）を表
   わし；そしてＲ８及びＸは芳香核のメタ又はＡう位置に
   ある〕に相当する化合物である特許請求の範囲第１項な
   いし第１０項のいずれかに記載の化合物。 ／４１．　化合物が一般式： チル基を表わし：そしてＲ８は基−０−ＯＲ１，（式中
   、几、５は水素原子、アルキル基又はヒドロキシ低級ア
   ルキル基を表わす）を表わす〕に相当する化合物である
   特許請求の範囲第１項ないし第１０項のいずれかに記載
   の化合物。 ／ｊ　つぎの群： ＜ｚ’−（ｐ−エトキシカルボニル−Ｊ−、＋ｉチルー
   ／１３．ｊｇ−ブタジェン〕−イルーｆＦｉ−ペンジリ
   デンーカ／フ了−； 参’−Ｃμ−エトキシカルゼニル−３−メチル−ｉｇ、
   ｉｚ−ブタジェン〕−イルーＪＢ−ベンジリデン−カン
   ファ−； ／　（弘−エトキシカルボニル−Ｊ−メチル−ＩＢ、Ｊ
   Ｅ−ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリゾｙ−カンフ
   ァ−； μ′−〔μ−エトキシカルボニルー／Ｅ、ＪＥ−ブタジ
   ェン〕イルーｊｌｌ−ベンジリデンカンフ了−； ｐ’−（弘−エトキシカルボニル−μｍメチル−／ｆｌ
   、、ＪＥ−ブタジェン〕−イルーＪ’ｇｊ−ベンジリゾ
   ７−カンファー− ｐ’−（ｐ−オクタデシルオキシカルボニル−３−メチ
   ル−ｉＢ、ｉｇ−ブタジェン〕−イルーＪＥ−ペンジリ
   デンーカン７了−； 朝−（＜ｚ−エトキシカルボニル−１−メチル−ＩＢ、
   ＪＥ−ブタジェン〕−１イルーｊｌ−ベンジリデン−カ
   ンファー； ｙ　（μ−エトキシ力ルゼニルーコーメチルーｔ　Ｆｒ
   　、　Ｊ　Ｉｉ！−ブタジェン〕−イル−ｊ　Ｂ−ベン
   ジリデン−カンフ丁−一 参′−〔弘−カルボキシーコーメチル−１’Ｅ、ｊＦ。 −ブタジェン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カンファ
   ー； φ′−〔μ−力ルゴキシー／Ｆ、、ｊＦｊ−ブタジェン
   〕−イル−３Ｅ−ベンジリデン−カンファ−；ｌ′−〔
   μ−カルゼキシーＪ−メチルー／ｇ、ＪＥ−ブタジェン
   〕−イルー３１−ペンジリデンーカンファ一二 Ｊ′−〔ダーカルゼキシー３−メチル−ＩＢ、Ｊｇ−フ
   タジエン〕−イルー１ｐ、−ヘン、７　＋３７’ンーカ
   ンフ了−； ｕｌ　（参−カルボキシ−３−メチルニ／Ｂ、：ＩＺ−
   ブタジェン〕−イルーＪＥ−ベンジリデンーカンフ、７
   −−； 参′−〔弘−カルボキシ−７−メチル−ｔＢ、Ｂ−ブタ
   ジェン〕−イルーＪＥ−ペンＸ）１１デンーカンフアー
   ； ｑ′−〔≠−カルゲキシー参−メチルーｉｚ、ＪＢ−ブ
   タジェン〕−イルーＪＥ−ベンジリデン−カンファー； 参’−（弘−（Ｎ−エチルカルツマミル）−３−メチル
   −／’ｇｊ、３Ｅ−ブタジェン〕−イル−ＪＥ−ベンジ
   リデン−カンファ−； μ′−〔≠−ピペリジル力ルゼニルー３−メチル−ｔＥ
   、ＪＥ−ブタジェン〕−イルーＪＥ−Ｒンジリデンーカ
   ンファ一； ≠’−（４’　−（Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルカルシ
   々ミル−Ｊ−メチル−ｉ　Ｅ＊　ＪＢ　ｉタジエン〕−
   イルーＪＥ−ベンジリデンーカンファー；≠′−〔μ−
   （Ｎ−ヒドロキシーコーエチルカルノ々ミル−Ｊ−メチ
   ル−ｉＥ、３ｇ−−ｔタジエン〕−イルーＪＥ−ベンジ
   リデン−カンファー；から選んだ化合物である特許請求
   の範囲第１１項記載の化合物、 １６　つぎの群： Ｊ、ｇ−［≠′−メトキシカルボニルー３−フェニルー
   コーメチル−λＥ−プロペン］−イリデンーカンフ了−
   ： ｊｌｉｉ−（ｊ−ｐ−）リルー２−メチル−，２Ｅ−ゾ
   ロペンツ−イリデン−カンフ了−； Ｊ　Ｐｌ−［Ｊｐ　）リルーｌ−メチルーλＥ−ゾロペ
   ン〕−イリデン−カンファ−； ｚ”ｎ　−（ａ’−力ルゼキシー３−フエニに一コーメ
   チルーλＥ−７’ロベン〕−イリデン−カンファ−； から選んだ化合物である特許請求の範囲第７２項記載の
   化合物。 ／２つぎの群： Ｊ　（＋ｌ−エトキシ力ルポニルーコーフェニル−／ｌ
   −エテン〕−イルー！３−ベンジリデン−カンファ−； 参′−〔３′−エトキシカルボニル−λ−フェニルー／
   Ｅ−エテン〕−イル−Ｊ３−ベンジリデン−カンファ−
   ； ＋’−（参′−エト牛シカルポニルーコーフェニル−２
   −メチル−／Ｅ−エテン〕−イルーｊＢ−ベンジリデン
   −カンファ−； ≠′−〔μ′−エトキシカルボニルーコーフェニルーｌ
   −メチル−／Ｅ−エテン〕−イルーｊＥ−ベンジリデン
   −カンファ−； 弘′−〔参′−カルボキシー２−フェニル−１−メチル
   −／Ｅ−エテン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カンフ
   ァー； ≠′−〔≠′−カルデキシーコーフェニルー／Ｅ−エテ
   ン〕−イルーＪＢ−ベンジ１１デンーカンフ了−； 参′−〔μ′−カルボキシーコーフェニルー２−メチル
   −／Ｅ−エテン〕−イルー３Ｅ−ベンジリデン−カンフ
   ァ−； から選んだ化合物である特許請求の範囲第１Ｊ項記載の
   化合物。 ／＆　化合物が３Ｅ−〔λ、ｔ−・ジメチル−７−メド
   キシカルポニルー２Ｂ、４Ｆ３．ＡＦｉ−へブタトリエ
   ンクーイリデン−カンフ了−である特許請求の範囲第１
   Ｕ項記載の化合物。 ／７一般式： １式中、几、ないしＲ７はそれぞれ水素原子、低級アル
   キル基又はトリフルオルメチル基會表わし；几。は水素
   原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、場合により
   置換されたアリール基、−Ｃ三Ｎ基、オキサジノニル基
   又は次式（ｉｌ　、　ｆｉｉ）几、　Ｏ を衣わし；ＦＬｌ、は水素原子、低級アルキル基。 基−０Ｒ１５又は基−（ＯＨ２）ｐ−Ｎ＜　’、を表わ
   し；ｐはθ、ｌ、λ又はＪであり、ｒ′及びｒ“は同一
   でも異なっても工くかつそれぞれ水嵩原子、アルキル基
   。 モノ又ハホリヒドロキシアルキル基、アルケニル基、シ
   クロアルキル基、場合により置換された了リール基又は
   アラルキル基を表わすか又は−緒に複素環式基全形成し
   、あるいはｒ′は水素原子を表わしかつｒｆはアミノ酸
   又はグルコサミン残基全表わし、几、４は水素原子、ア
   ルキル基、了ルカノイル基、シクロアルキル基又はアル
   ケニル基會表わし；几、５は水素原子、アルキル基、モ
   ノ又はポリヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、
   アルケニル基、了リール基、置換子り−ル基場合により
   置換された７ラルキル基又は糖残基全表わす）のいずれ
   かに相当する基を表わし；　ａ　＊　ｂ　＊　ｅ　１ｄ
   及びｅはＯ又は／ｉ表わすが、たソしｂ及び／又はｄ＝
   ／である場合にけａ　＋　ｂ　＋　ｃ　＋　ｄ　＋　ｅ
   　’＞２であり、一方す及びｄ＝０である場合に：　Ｖ
   ｉａ　＋Ｑ＋ｅ＝Ｊである〕で表わされるが、ただしっ
   ぎのｌ）〜３）の場合、すなわち ／　）　ａ　＋　ｂ　＋　ｃ　＋　ｅ　＝　０でありか
   つｄ　＝　／である場合； 合にａ　−１−ｂ　＋　ｃ　〜０．　ｄ−／でありかつ
   ｅ＝ｌである場合；及び Ｊ）　Ｒ１、几。及びＲ５が水素原子を表わしかっ几。 が水素原子、−［’１ｌＨ３又は→（ＩＨ５’Ｑ表わす
   場合にａ　＋　ｂ　＋　ｅ　＝　０　、　ｃ　＝　／で
   ありかつｄ＝ｌである場合； の式（１）の化合物を除く、カンファーの不飽和Ｉ導体
   及びそれらの幾何異性体、光学異性体又はそれらの塩會
   経口、非経口又は局所投与するに適する媒体中に含有し
   てなる医薬組成物。 ２０、局所に適用するに適する形態含有しかつ一般式（
   Ｉ）の化合物＠ｏ、ｏｏｏｉ−を重量％含有してなる特
   許請求の範囲第１Ｐ項記載の医薬組成物。 η　一般式： 〔式中、几、ないしＲ，はそれぞれ水素原子、低級アル
   キル基又はトリフルオルメチル基’ｋｆｆわし；ＦＬ８
   は水嵩原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、場合
   にエフ［換された了ＩＩ−ル基、−〇三Ｎ基。 オキサジノニル基又は次式（１）　、　（Ｉｉ）（式中
   、Ｒ９は水素原子、低級アルキル基又は基−ＯＲ，４を
   表わし：　Ｒ＋ｏは基−Ｎ＜ニア又は基−悄４を表わし
   ；Ｒ１１は水素原子、低級アルキル基、基−ＯＲ，６又
   は基−（ＣＨｚ　）　ｐ　’＜”ｒ：ｔを表わし；ｐは
   Ｏ２／、コ又は３であｐ、ｒ’及びｒ／／は同一でも具
   なってもよくかつそれぞれ水素原子、アルキル基、モノ
   又はポリヒドロキシアルキル基、アルケニル基、シクロ
   アルキル基、場合によシ置換されたアリール基又はアラ
   ルキル基を表わすか又は−緒に複素環式基を形成し、あ
   るいはｒ′は水素原子を表わしかつｒ／／はアミノ酸又
   はグルコサミン残基を表わし；Ｒ１４は水素原子、アル
   キル基、アルカノイル基、シクロアルキル基又はアルケ
   ニル基を六わし：Ｒ１ｇは水素原子、アルキル基、モノ
   又はポリヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、ア
   ルケニル基、アリール基、置換アリール基場合により置
   換されたアラルキル基又は糖残基を表わす）のいずれか
   に相当する基を表わし：ａ、ｂ、ｅ、ｄ及びｅ　Ｆｉ、
   ０又は／ｌ−表わすが、たｘＬ、ｂ及び／又はｄ＝／で
   ある場合にはａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ、）Ｊであり、一方す
   及びｄ＝０であ／）場合にはＢ　十Ｃ＋　ｅ＝　３であ
   る〕で表わされるが、たｙしつぎの／）〜３）の場合、
   すなわち ／）　ａ＋ｂ＋ｃ＋ｅ：ｌ：（７でありかっｄ＝／であ
   る場合； ａ　＋　ｂ　＋　ｃ　＝＝　０　、　ｄ　＝　／であシ
   がっｅ　＝　／である場合；及び ３）　Ｒ＋　＃Ｒ４及びＲ５が水素原子′ｆＬ−衣わし
   がっＲ８が水ｘｍ子、−Ｃ１１３又Ｊ”ｌ　−０Ｃ１１
   ｓｆＩ：表わす場合にａ＋ｂ＋ｅ＝０　、Ｃ，””／で
   ありかっｄ＝／である場合； の式（１）の化合物を除く、カンファーの不飽和誘導体
   及びそれらの幾何異性体、光学異性体又はそれらの塩を
   化粧料用に許容し得る担体中に含有してなる化粧料組成
   物。