JPS62249939A - 芳香族化合物、その製法、ひとおよび動物薬および化粧品における用途 - Google Patents

芳香族化合物、その製法、ひとおよび動物薬および化粧品における用途

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JPS62249939A JP62083691A JP8369187A JPS62249939A JP S62249939 A JPS62249939 A JP S62249939A JP 62083691 A JP62083691 A JP 62083691A JP 8369187 A JP8369187 A JP 8369187A JP S62249939 A JPS62249939 A JP S62249939A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、新規芳香族化合物、その製法並びにひとお
よび動物薬および化粧品における用途に関するものであ
る。
［発明の開示］ この発明による化合物は、角質化（分化−増殖）障害に
関連する皮膚疾患および炎症および／または免疫アレル
ギー要素に関連する皮膚（または他の）疾患の局所およ
び全身処置および結合組織の変質疾患の処置における活
性並びに抗腫瘍活性を呈する。他方これらの化合物は、
皮膚または呼吸器のアトピーおよびリューマヂ性乾ｎ？
の処置に用いられ得る。
同様にこれらの化合物は、アクネ（座そう）に関係する
病原（微生物）に対する優れた活性を有する。
最後に、限月領域特に角膜疾患の処置にも適用される。
１）ｎ＝１の場合 Ｒｏは水素原子または１〜４個の炭素原子を有するアル
コキシ基であり、 Ｒ”は、水素原子、ＯＨ基、１〜４個の炭素原子を有す
るアシルオキシ基、１〜４個の炭素原子を有するアルコ
キン基またはアミノ基（ＮＨｚ）であり、 またはＲｏおよびＲ”は−緒になってオキソ（−〇）、
メタノ（−ＣＩ−１りもしくはヒドロキシイミノ（−Ｎ
−ＯＨ）基を形成し、 Ｒ１は一〇　Ｈｔ　ＯＩ−１基または一〇　ＯＲ＋　ｏ
基（式中、ＲＩＧは、水素原子、　ＯＲ１＋基または−
ｒ。
Ｎ−ｒ”を表わし、 Ｒ１１は、水素原子、１〜２０個の炭素原子を有する直
鎖または分枝状アルキル基、モノヒドロキシアルキル、
ポリヒドロキシアルキル、所望により１個以上の基で置
換されていてもよいアリールｒ” を表わし、 ｐは、１，２または３であり、ｒｏおよびｒｏは、水素
原子、低級アルキル基、所望に上りへテロ原子により中
断されていてもよいモノヒドロキシアルキル基、ポリヒ
ドロキシアルキル基、所望により置換されていてもよい
アリールもしくはベンジル基、アミノ酸残基もしくはア
ミノ糖残堰を表わずかまたは一緒になって複素環を形成
する）を表わし、 Ｒ３、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６およびＲ８は、水素原子、−０
Ｈ１１〜１２個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝状
アルキル基、所望により置換されていてもよいシクロア
ルキル、シクロアルケニル、フェニル基または次式 ％式％ （式中、 Ｘは、−〇−１−Ｓ−１−ＳＯ−１５Ｏｔ−または一０
ＣＯ−を表わし、 Ｒ１１は、低級アルキルまたはフルオロアルキル基を表
わし、そして Ｒ１３はアルキルまたはフェニル基を表わす）のうちの
１つに対応する基を表わし、 Ｒ７−Ｒ１１基のうち少なくとも１つは水素原子以外の
ものであり、 Ｒ１、ＲｓおよびＲ９は、水素原子またはメチル基を表
わし、Ｒ７およびＲ９は一緒になってベンゼン環と共に
ナフタレン環を形成し得るが、ただし式（１）において
、Ｒ７、Ｒ３、Ｒ５およびＲ８が水素原子を表わすとき
またはＲ８がヒドロキシル基を表わすときにＲ４がメチ
ル基またはＯＩ−Ｉ基を表わす場合Ｒ１が水素原子また
はメチル基である化合物は除くものとする。
２）ｎ＝ｏの場合 Ｒｏは水素原子を表わし、 Ｒ”はＯＩ−Ｉ基を表わすかまたは、 Ｒ“およびＲ”は−緒になってオキソ基（−〇）を形成
し、 Ｒ１は、−ＣＨ２０Ｈ，−、ＣＨ＝Ｏまたは−Ｃ００Ｒ
，，基を表わし、Ｒ１，は水素原子または低級アルキル
基であり、 Ｒ２およびＲ３は水素原子または３〜６個の炭素原子を
有するアルキル基を表わし、 Ｒ６は、 （１）３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルまた
はアルキル基である場合、Ｒ４は低級アルキル基、ヒド
ロキシ基またはアルコキシ基を表わし、または （ｉｉｉ）水素原子である場合、Ｒ４は低級アルキル基
を表わし、 Ｒ６は水素原子を表わし、そして Ｒ９は水素原子またはメチル基を表わすコで示され得、
これらの芳香族化合物の塩類並びにそれらの光学および
幾何異性体も同様である。
低級アルキル基の語は１〜６個の炭素原子を有する基を
包含するものとする。
低級アルキル基および２０個以下の炭素原子を有するア
ルギル基の例としては、メチル、エチル、イソプロピル
、ブチル、ｔ−ブチル、イソオクチル、ドデシル、ヘキ
サデシルおよびオクタデシルを挙げることができる。
モノヒドロキシアルキル基の語は、２〜６個の炭素原子
を有する基を包含し、とくに２−ヒドロキシエチル、２
−ヒドロキシプロピルまたは２−ヒドロキシエトキシエ
チル基が挙げられる。
ポリヒドロキシアルキル基の語は、３〜６個の炭素原子
および２〜５個のヒドロキシル基を有する基を包含し、
例えば２．３−ジヒドロキシプロピル、１．３−ジヒド
ロキシプロピルまたはペンタエリトリトール残基がある
。
アリール基の語は、所望によりハロゲン原子、−ＯＨ，
−Ｎｏ、、低級アルキル基、トリフルオロメチル基また
はカルボン酸官能基により置換されていてもよいフェニ
ル基を包含するものとする。
好ましいアラルキル基としてはベンジル基例えばフェネ
チル基を挙げることができる。
糖残基の語は、例えばグルコース、マンノース、エリト
ロースまたはガラクトースに由来する残基を包含するも
のとする。
アミノ酸残基の語は、例えばメヂオニンまたはαもしく
はβ−アラニンに由来する残基を包含するものとする。
アミノ糖残基の例としては、グルコサミン、ガラクトサ
ミンまたはマンノサミンに由来する残基を挙げることが
できる。
シクロアルキル基の語は、５〜１２個の炭素原子を有す
る基を包含するものとし、とくにンクロペンヂル、シク
ロヘキシルおよびアダマンチル基がある。
シクロアルケニル基は、好ましくは１−シクロへキセニ
ルおよびｌ−シクロペンテニル基を包含するものとする
。
好ましいフルオロアルキル基としてはトリフルオロメチ
ルおよびペンタフルオロエヂル基を挙げることができる
。
ｒ′およびｒ”が−緒になって複素環を形成する場合、
好ましくはピペリジノ、ピペラジノ、モノホリノ、ピロ
リジノまたは４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ
である。
この発明による化合物が塩形聾を呈している場合、問題
となるのは、アルカリ金属、アルカリ土類金属または亜
鉛の塩類または有機アミン塩類（少なくとも１個の遊離
酸官能基を含むとき）、または無機酸または有機酸、特
に塩類、臭化水素酸またはクエン酸の塩類（少なくとも
１個のアミン官能基を含むとき）である。
前記式（１）で示されるこの発明の化合物は、下式（１
１）および（１１）に対応するベンゼン誘導体また（式
中、Ｒ＋　〜Ｒ７、ＲｏおよびＲ”は式（１）のｎ＝０
の場合と同じ意味を有する） （式中、ｒ（、〜Ｒ，，Ｒ’およびＲ”は式（１）のｎ
＝１の場合と同じ意味を有する） 注目すべきことは、式（ＩＩＩ）で示される化合物が光
および酸素に対してずぐれた安定性を示すことである。
式（ＩＩ）で示される化合物の場合、特に好ましいのは
次式（１＼ｒ） （式中、　　　　パ５ Ｒｏは水素原子を表わし、 Ｒ”は０１１基を表わずか、または ＲｏおよびＲ”は−緒になってオキソ基（−〇を形成し
、 Ｒｏ、は、　ＣＨ２０Ｈ、ＣＨ＝　Ｏまたは一０００１
１’、、基を表わし、 Ｒｏ、は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒｏ、
およびＲ”３は、水素原子または３〜６個の炭素原子を
有するアルキル基を表わし、そしてＲ’ｓは（１）３〜
６個の炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル
基であるときＲ’　４は低級アルキル基、ヒドロキシ基
またはアルコキシ基を表わし、（１１）水素原子である
ときＲ’４は低級アルキル基を表わす） で示されるものである。
式（Ｉｌｌ　）で示される化合物の場合、特に好ましい
のは、次式（Ｖ）および（Ｖ［）で示されるものである
。
Ｒ’　１０は、　ＯＲ’＋＋または−Ｎ　ｌ−Ｉ　Ｒ’
　＋　＋を表わし、Ｒｏｌ、は、水素原子または低級ア
ルキル基を表わし、 Ｒｏ、は、水素原子または低級アルキル基を表わし、そ
してＲｏ４は、低級アルキル基、好ましくはイソプロピ
ルまたはｔ−ブチル基、またはシクロアルキル基、好ま
しくはシクロヘキシル基を表わ（式中、 Ｒ’＋ｏは、　ＯＲ’＋＋または−ＮＨＲ’＋＋を表わ
し、Ｒ’ｌ＋は水素原子または低級アルキル基を表わし
、 Ｒ”、およびＲ’ｇは水素原子または低級アルギル基を
表わし、 Ｒ’ａは、水素原子、低級アルキル基、フェニル基また
はアダマンチル基を表わし、モしてＲｏｌ、は低級アル
キル基またはフェニル基を表わす） この発明による式（１）で示される化合物として、特に
次のものを挙げることができる。
６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸メチル、 Ｂ−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−２，３，６−）リメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル、６−（４−メ
トキシ−２，３，６−）リメヂルベンゾイル）ナフタレ
ン−２−カルボン酸、６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル
）ナフタレン−２−カルボン酸メチル、 ６　＝（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸、 Ｎ−エヂルー６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボキシアミド、 ６−（３−アダマンデル−４−メトキシベンゾイル）ナ
フタレン−２−カルボン酸メチル、６−（３−アダマン
デル−４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カル
ボン酸、 ６−（４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カル
ボン酸メチル、 ６−（４−シクロへキシルベンゾイル）ナフタレン−２
−カルボン酸メチル、 ６−（４−シクロへキシルベンゾイル）ナフタレン−２
−カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸メチル、 ６〜（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸、 ６−（４−フェノキシベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸メチル、 ６−［（２，４〜ジイソプロピルフエニル）ヒドロキシ
メヂルコナフタレン−２−カルボン酸、６−［（２，／
Ｉ−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメチル］ナフ
タレン−２−カルビノール、６−（２，４−ジイソプロ
ピルベンジル）ナフタレン−２−カルボン酸、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メ
チル、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸、 ４−［（２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］安息香酸、 １−（２，４−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−
ヒドロキシメチルフェニル）メタノール、４−（２，４
−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアルデヒド、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸エチル、 ４、−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メ
チル桂皮酸、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
ドロキシメヂル］安息香酸メヂル、４−［（３−アダマ
ンチル−４−メトキシフェニル）ヒドロキシメチル］安
息香酸、 ４−（３−アダマンデル−４−メトキシベンゾイル）安
息香酸、および ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
安息香酸、 ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
安息香酸メチル、 ４、−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾイル）安息香酸メチル、および ４、−Ｃ３，５〜ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾイル）安息香酸。
またこの発明は、例えば上記式（１）の化合物の製法を
目的とする。
式（■）（ただし、Ｒ゛およびＲ”は−緒になってオキ
ソ基を形成し、ｎ−０）で示される化合物は次の反応式
により得られる。
＋（００ （４′。
Ｒ５（５） Ｒ，、−１〜２０個の炭素原子を有するアルギル。
出発物質の４−アルコキシカルボニル安息香酸（１）は
、４−ホルミル安息香酸アルキル、好ましくは４−ポル
ミル安息香酸メヂル（市販製品である）の酸化ににり得
られる。
対応する酸塩化物は、常用の酸塩化物製造方法に従い塩
化ヂオニルの作用により製造される。
４−アルコキシカルボニル安息香酸塩化物（２）とベン
ゼン誘導体（３）の縮合反応は、フリーデル−クラフッ
反応条件下、すなわち０〜２５℃の温度で有機溶媒、例
えば１．２−ジクロロエタン中無水塩化アルミニウムの
存在下撹拌しながら行なわれる。
エステル（４）から出発した、けん化により対応する酸
（５）を得、次いでＮ、Ｎ’−カルボニルジイミダゾー
ル（ＣＤＩ）の存在下式ＨＮ　−ｒ’で示されｒ” るアミンの作用により式（６）で示されるアミドに変換
することができる。
式（＋）にお＋−ＪるＲ１１の意味次第では、特に１日
。
がモノヒト〔１ギンまたはポリヒドロキノアルキル基を
表わす場合、メチルエステル（４）（Ｒｚ＝＝−ＣＩＬ
、）から出発して酸（５）を製造し、次にこうして得ら
れた酸を公知方法により選択されたアルコールのエステ
ルにエステル化するのが好ましい。
式（１）で示される化合物においてｎ＝１の場合、それ
らは次の反応式により得られる。
Ｈ ケト酸（５）を水素化アルミニウムリヂウムの存在下還
元して対応するジオ、−ル（７）を得、次いでクロロク
ロム酸ピリジウム（ｐｃＣ）の存在下で酸化してケト−
アルデヒド（８）を得る。これを置換または非置換ホス
ホノ酢酸アルキルを用いたウィティヒーポーナー反応に
よりＴ　ＨＦのような有機溶媒中水素化ナトリウムの存
在下に式（９）で示される不飽和エステルを得る。
次に式（９）で示されるエステルを前と同様にして対応
する酸に変換し、次いで弐ＨＮ　−ｒ’で示さｒ″ れるアミンの作用によりアミドに変換し得る。
式（■）（ただし、Ｒ’＝ＨおよびＲ”＝ＯＨ）で示さ
れる化合物は、ケトン誘導体から出発してＴＨＥまたは
メタノール中水素化ホウ素ナトリウムで還元することに
より得られる。
式（■）（ただし、Ｒ’−Ｒ”−Ｈ）で示される化合物
は、塩酸の存在下、酢酸中亜鉛を用いてケトン誘導体を
還元することにより得られる。
カルボニルの還元反応は、種々の置換基（Ｒ，〜Ｒ，）
およびＲ１基の性質と両立し得るものであるべきである
。場合により保護を確実にするのが望ましいが、カルボ
ニルの還元はＲ、−−Ｇ　Ｏ、Ｉ−Ｉの場合何ら問題を
もたらさない。
式（■）（ただしＲ’−ＨおよびＲ””ＣＩ　Ｃ４アシ
ルオキシ）で示される化合物のアシルオキシ誘導体は、
酸の活性形態、例えば無水物または酸塩化物を式（■）
（ただしＲｏ−ＨおよびＲ”＝ＯＨ）で示される化合物
と反応させることにより得られる。
また式（■）（ただし、Ｒ’−ＨおよびＲ”−〇＋−Ｃ
４アルコキシ）で示される化合物のアルコキシ誘導体は
、式（■）（ただしＲ’　＝　ｌ−ＩおよびＲ”−０１
（）で示される化合物から出発して常法により得られる
。
アシルオキシおよびアルコキシ誘導体の製造において、
Ｒ０基がエステル、酸またはアミド官能基であるのか好
ましい。
式（■）（たたし、ＲｏおよびＲｏは一緒になってオキ
ソ基を形成する）で示される化合物は、次の反応式によ
り得られる。
Ｘ＝ＢｒまたはｃＱおよびＲ＋　＋　＝　Ｃ＋　　０２
０アルキル。
出発物質の６−アルコキシカルボニルナフタレン−２−
カルボン酸は、好ましくは市販製品のすフタシン−２，
６−’、ｊカルボン酸メチルから出発する、ナフタレン
−２，６−ジカルボン酸アルキルのモノけん化反応によ
り得られる。対応する酸塩化物（１１）は、常用の酸塩
化物製造方法に従い、塩化ヂオニルの作用により製造さ
れる。
６−アルコキシカルボニルナフタレンー２−カルボン酸
塩化物（１１）の縮合反応は、フリーデル−クラフッ反
応条件下でベンゼン誘導体（１２）と、またはマグネシ
ウムを含むハロゲンベンゼン誘導体（１３）との間で行
なわれ得る。
フリーデル−クラフッ反応条件は、式（４）で示される
化合物の製造に関して前述したものと同じである。マグ
ネシウムを含むハロゲノベンゼン誘導体（１３）の製造
は、還流温度で無水ＴＨＦ中において行なイつれ、酸塩
化物の縮合は同溶媒中約０℃の温度で行なわれる。
式（ＩＩ）で示される化合物に関して前述した方法と同
様にして、式（Ｉ）で示される他の化合物すなわち式（
１５）および（１６）で示される化合物および式（■）
（ただし、ＲｏおよびＲ”は−緒になってオギソ基以外
のものを表わす）で示される化合物を得ることかできる
。
同様にこの発明は、例えば前記の式（Ｉ）で示される化
合物の医薬用途に関する。
これらの化合物は、ヌードラットにおける「テープスト
リッピング」による誘発後のオルニヂンデカルボシラー
ゼ阻害試験において活性を示す［ブクリエル等、「ダー
マトロジカ（Ｄ　ｅｒｍａｔｏｌｏｇｉｃａ）Ｊ１６９
巻、４号（１９８４年）］。この試験は、抗増殖活性の
尺度として認められている。
これらの化合物は特に、角質化（分化−増殖）障害と関
連した皮膚疾患および炎症および／または免疫アレルギ
ー要素と関連した皮膚疾患、特に、一般的アクネ、面ぼ
う性アクネ、または多形性アクネ、老年性アクネ、日焼
によるアクネ、および薬品によるアクネ、または職業性
アクネ、広域および／または重症の状態の乾衝、および
角質イヒの他の障害、および特に魚鱗癖および魚鱗様状
態、 ダリエ症、 手掌−足の裏の角皮症、 ロイコブラキーおよびロイコプラキ一様状態、扁平苔１
？、 良性または悪性、重症または広域のあらゆる皮膚増殖 の処置に適している。
また、腫瘍（癌）、リューマチ性乾癖、皮膚または呼吸
器アトピーおよび角膜疾患に関連した眼科におけるある
種の問題を処置において活性を示す。
またこの発明は、少なくとも１種の前記式（Ｉ）の化合
物、その塩類、または光学もしくは幾何異性体を含有す
る医薬組成物に関するものである。
したがってこの発明は、適当な医薬用支持材中に少なく
とも１種の式（１）の化合物および／またはその塩類お
よび／または光学もしくは幾何異性体を含有することを
特徴とする特に上記疾患の処置を目的とする新規医薬組
成物に関するものである。
一般にこの発明の化合物は、約２μ９／に９’ｃ体重）
〜２Ｒ９／に！７（体重）の割合で１日１回投与される
。
組成物の担体としては常用の担体を用いることができ、
活性成分は賦形剤中に溶解した状態または分散した状態
で存在する。
投与は、経口、非経口、局所または経眼手段により行な
われ得る。経口投与の場合、医薬は、錠剤、カプセル、
糖衣錠剤、シロップ、ニブん濁液、溶剤、散剤、顆粒剤
、乳剤の形をとり得る。非経口投与の場合、組成物は注
入用または注射用溶液またはけん濁液の形をとり得る。
局所投与の場合、この発明による化合物をベースとする
医薬組成物は、軟膏、チンキ剤、クリーム、ポマード、
パウダー、タンブル（ｔｉｍｂｒｅ）、湿潤タンポン、
溶液剤、ローション、ゲル、スプレーまたは懸洞剤の形
態をとり得る。
局所投与用組成物は、臨床上の指示に従い無水物形態ま
たは水性形態をとり得る。
点眼手段の場合、主として目薬の形をとる。
局所投与または点眼用組成物は、好ましくは前記式（１
）の化合物の少なくとも１種を組成物の全重量に対して
０．０００５〜約５重量％の割合で含有する。
またこの発明による式（１）の化合物は、化粧品分野、
特に身体および頭髪の衛生および特にアクネ傾向のある
皮膚の処置、頭髪の再生、脱落防止、皮膚または毛髪の
脂肪相に対する処置、日焼ににる悪影響の防止および処
置または生理学的に乾燥した皮膚の処置に適している。
同様にこの発明は、適当な化粧用担体中に少なくとも１
種の式（１）の化合物またはその塩類および／またはそ
の異性体を含有する化粧組成物を目的とするものであり
、これらの組成物は特にローション、ゲル、クリーム、
石けんまたはシャンプーの形をとる。
化粧組成物における式（１）の化合物の濃度は、０．０
００５〜２重量％および好ましくは０．０１−１重量％
である。
この発明による医薬および化粧組成物は、不活性添加剤
または薬理学的もしくは化粧活性添加剤および特に湿潤
剤、例えばチアモルホリノンおよびその誘導体または尿
素、抗脂漏剤または抗アクネ剤、例えばＳ−カルボキシ
メチルスティン、Ｓ−ベンジルシステアミン、それらの
塩および誘導体、チオギソロンまたは過酸化ベンゾイル
、抗生物質、例えばエリトロマイシンおよびそのエステ
ル類、ネオマイシン、テトラサイクリン類および４．５
−ポリメチレン−３−イソデアゾロン、頭髪再生に適し
た薬剤、例えば［ミノキシジル（Ｍｉｎｏｘｉｄｉｌ）
　Ｊ（２、４−ジアミノ−６−ビペリジノピリミジンー
３−オキシド）およびその誘導体、ジアゾオキシド（Ｄ
　ｉ　ａｚｏｘ　１ｄｅ）　（７−クロロ−３−メチル
−１，２，４−ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシ
ド）およびフェニトイン（Ｐｈｅｎｙｔｏｉｎ）（５。
５−ジフェニルイミダゾリジン−２，４−ジオン）、ス
テロイドおよび非ステロイド系抗炎症剤、カロチノイド
類および特にβ−カロチン、抗乾癖剤、例えばアントラ
リンおよびその誘導体および５゜８、ＩＩ、１４−エイ
コサテトライン酸および５゜８．１１−）リイン酸およ
びそれらのエステルおよびアミドを含み得る。
またこの発明による組成物は、風味改良剤、保存剤、安
定剤、湿度調整剤、ｐＨ調整剤、浸透圧修正剤、乳化剤
、ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂフィルター、酸化防止剤、例
えばα−トコフェロール、ブチルヒドロキシアニソール
またはブチルヒドロキシトルエンを含有し得る。
以下、この発明による式（Ｉ）で示される活性化合物の
幾つかの製造例およびそれらを含有する組成物の製剤例
を挙げて説明を行なうが、これらに限定するわけではな
い。
［製造例］ 実施例１ ６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸メチルの製造 ［式（■）（ただしＲ’１ｆｉ＝−ＯＣＨ３、Ｒ’、＝
Ｒ″４−イソＣ、Ｉ−Ｔ　７である）で示される化合物
］１．６２９（１０ミリモル）のｍ−ジイソプロピルベ
ンゼンおよび２．４９９（１０ミリモル）の６−メドキ
シカルボニルナフタレンー２−カルボン酸塩化物および
８０ｃｃの無水１．２−ジクロロエタンから成る懸濁液
に１．８７９（１４ミリモル）の無水塩化アルミニウム
を分割して加える。混合物を４時間周囲温度で撹拌し、
次に１００ｃｃの酸性氷水に注ぐ。有機相を分離する。
水相を７０ｃｃのジクロロエタンにより２回抽出する。
ジクロロエタン相を集め、重炭酸ナトリウムおよび水で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。得られた
固体をトルエン／ジクロロメタン（６０／４０）混合物
中ソリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、次にイ
ソプロピルエーテル中で不純物除去をする。濾過および
乾燥後、融点７１〜７３℃で白色粉末形態の６−（２，
４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン−２−カル
ボン酸メタン１゜２９を得る。
’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と一
致する。
元素分析：　Ｃ２５Ｈｔ　ｓ　Ｏｓ ＣＨＯ（％） 計算値　８０．４０　６．７５　１２．８５実測値　８
０．１６　７．００　１３．１３実施例２ ６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸の製造 ［式（■）（ただし、Ｒ’ｌ０＝−ＯＨ１Ｒ’ｔ”Ｒ”
４−イソＣ３Ｈ７）で示される化合物］実施例１で得ら
れた６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸メチル０．９９Ｃ２，４ミリモル
）の懸濁液を２時間１５ｃｃのアルコールおよび１５ｃ
ｃの６Ｎカリ水溶液から成る混合物と撹拌しながら、還
流温度に加熱する。５０ｃｃの水を加えた後、アルコー
ルを減圧下濃縮除去する。こうして得られた水相を２０
０ｃｃに希釈し、０〜５℃の温度に冷却し、１５ｃｃの
１２Ｎ塩酸により酸性化する。得られた沈澱を濾過し、
水洗し、８０℃でカリにより乾燥する。
イソプロピルエーテルで再結晶後、融点１８７〜１８９
℃の６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸の白色結晶０゜５ｇを得る。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と
一致する。
元素分析、Ｃｔ４Ｈｔ４０ｑ ＣＨＯ（％） 計測値　７９．９７　６．７１　１３．３２実測値　７
９．９４　６．７２　１３．２５実施例３ ６−（４−メトキシ−２，３，６４リメチルベンゾイル
）ナフタレン−２−カルボン酸メチルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋ｏ’　＝　　ＯＣＨ３、Ｒｔ
　”　＝Ｒ３°−Ｒｅ’−−ＣＨ，、Ｒ，、’＝−ＣＨ
３）で示される化合物］ ｔ、ｓｇ（ｔｏミリモル）の２．３．５−）リメチルア
ニソールおよび２．５ｇ（１０ミリモル）の６−メドキ
シカルボニルナフタレンー２−カルボン酸塩化物および
８０ｃｃの無水１．２−ジクロロエタンから成る懸濁液
に１．８７９（１４ミリモル）の無水塩化アンモニウム
を分割して加える。混合物を３時間周囲温度で撹拌し、
１００ｃｃの酸性氷水に注ぐ。有機相を分離する。水相
をさらに１回１００ＣＣのジクロロエタンで抽出する。
ジクロ口エタン相を集め、重炭酸ナトリウム、水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。得られた固体
をトルエン／ジクロロメタン６０／４０混合物中シリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製する。濃縮および乾
燥後、融点１４４〜１４５℃の黄色粉末形態の６−（４
−メトキシ−２，３，６−）リメチルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボン酸メチル１．２ｇを得る。
’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と一
致する。
元素分析：　Ｃ２３Ｉ−１２２０４ ＣＩ−１０（％） 計測値　７６．２２　６．１２　１７．６６実測値　７
６．３０　６．０９　１７．５０実施例４ ６−（４−メトキシ−２，３，６−）リメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋ｏ’−０Ｉ−Ｌ　Ｒ２”−Ｒ
３’−Ｒ６°−−ＣＨ３、Ｒ、、’　−−ＣＨ，）で示
される化合物］ 実施例３で得られた６−（４−メトキシ−２，３゜６−
ドリメチルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メ
チル０．９８ｙ（２，７ミリモル）の懸創液を２時間還
流温度に加熱しながら２０ｃｃのアルコール４３よび２
０ｃｃの６Ｎカリ水溶液から成る混合物と撹拌する。６
０ｃｃの水を加えた後、アルコールを減圧下濃縮除去す
る。得られた水相を３００ｃｃに希釈し、０〜５℃に冷
却し、２０ｃｃの１２Ｎ塩酸により酸性化する。得られ
た沈澱を濾過し、水洗し、８０℃でカリにより乾燥する
。まずシクロヘキザン／酢酸エヂル混合物、次いでヘキ
サン／アセトン混合物で再結事後、融点２６０℃の６−
（４−メトキシ−２，３，６−ドリメチルベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボン酸の白色結晶０゜７１ｇを得
る。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と
一致する。
元素分析：　ＣｔｔＨｔ。０゜ ＣＨＯ（％） 計測値　７５．８４．　５．７９　１８．３７＝４８− 実測値　７５．６４　５．８７　１８．５０実施例５ ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸メチルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ５゜’−ＯＣＨｓ、Ｒｔ”＝Ｈ
１Ｒ４”−ｔ−Ｃ４１−Ｉｌｌ）で示される化合物］１
．６１ｇ（１２ミリモル）のｔ−ブチルベンゼンおよび
３ｇ（１２ミリモル）の６−メドキシカルボニルナフタ
レンー２−カルボン酸塩化物および８０ｃｃの無水１．
２−ジクロロエタンから成る懸濁液に３．２ｇ（２４ミ
リモル）の無水塩化アルミニウムを分割して加える。混
合物を５時間周囲温度で撹拌し、１００ｃｃの酸性氷水
に注ぐ。有機相を分離し、水相をさらに１回１００ｃｃ
のジクロロエタンにより抽出する。ジクロロエタン相を
集め、重炭酸ナトリウムで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮する。得られた粗固体をメタノールにより２
回次いでイソプロパツールにより１回再結晶する。乾燥
後、融点１３３．５〜１３４．５℃の６−（４−し−ブ
チルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチルの
白色結晶１．６２１？を得る。
’ｒ−ＴＮＭＲ（６０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造
と一致する。
元素分析：　ＣｔａＨ２ｔＯ＋１ ＣＨＯ（％） 計測値　？９．７４．　６．４０　１３．８６実測値　
７９．８８　６．５０　１３．５３実施例６ ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸の製造。
１式（■）（ただし、Ｒ１０°＝−ＯＨＳＲ，’−Ｈ。
Ｒ４”＝ｔ　　Ｃ４Ｈ１１）で示される化合物］実施例
５で得られた６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸メチル１．２５９（３，６ミリモ
ル）の懸濁液を２５ｃｃのアルコールおよび２５ｃｃの
６Ｎカリ水溶液の混合物中で２時間還流温度に加熱しな
がら撹拌する。１００ｃｃの水を加えた後、アルコール
を減圧下濃縮除去する。
得られた水相を２５０ｃｃに希釈し、０〜５℃に冷却し
、次いで２０ｃｃの１２Ｎ塩酸により酸性化する。得ら
れた沈澱を濾過し、水洗し、８０℃でカリにより乾燥す
る。
イソプロピルエーテルで再結晶後、融点２３３〜２３４
℃の６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２
−カルボン酸の白色結晶０．８４９を得る。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｇ）スペクトルは所望の構造と
一致する。
元素分析：　Ｃｔ、Ｔ４．。０３ ＣＨＯ（％） 計測値　７９．４９　　Ｂ、０４．　１４．／１４実測
値　７９．５４　６．０７　１４．．３６実施例７ Ｎ−エチル−６−（４，−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボキシアミドの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ，ｏ’−−Ｎ■−ＩＣ，Ｈ６、
Ｒ２゜＝Ｔ−ｒＸＲ，“＝ｔ−Ｃ，Ｈ，）で示される化
合物］実施例６で得られた６−（４（−ブチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸２５０１１ｇ（０゜７
５ミリモル）およびＮ、Ｎ’−カルボニルジイミダゾー
ル１５０ＪＩｇ（０，９２ミリモル）および８ｃｃの無
水ジクロロメタンから成る懸濁液を１時間周囲温度で撹
拌する。次いで得られた溶液に０．０６ｃｃ（０，８８
ミリモル）の無水エチルアミンを加える。１時間の撹拌
後、反応媒質を２０ｃｃのジクロロメタンにより希釈し
、１０ｃｃの水、１０ｃｃの１規定ソーダ、１０ｃｃの
水、ｌ０ｃｃのＩＮ塩酸およびｌ０ｃｃの水により続け
て洗浄する。ジクロロメタン相を硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮乾固する。粗アミドを６０℃で真空乾燥し、次
いでイソプロピルエーテルにより再結晶する。融点１３
９℃のＮ−エチル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボキシアミドの白色結晶１９０Ｉ
ＩＩｇを得る。
Ｊ−ＩＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは、所望の構
造と一致する。
元素分析：　ＣｙＪＴ　ｙ、Ｎ　Ｏｔ ＣＨＮ　　　　　Ｏ（％） 計測値　８０．１９　７．０１　３．９（１８，９０実
測値　７９．９８　７．００　４．０３　９．１１５２
一 実施例８ ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナ
フタレン−２−カルボン酸メチルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋ｏ”　＝　−ＯＣＴ（ａ、Ｈ
９゛−Ｒｅ’　−Ｈ、Ｒｓｏ−１−アダマンチル、ａｌ
ｔ’＝−ＣＨ３）で示される化合物］ ６．６ｇ（０，０２ミリモル）の２−アダマンチル−４
−ブロモアニソールおよび７５ｃｃの無水テトラヒドロ
フランから成る培液を５００１１ｇ（０，０２モル）テ
トラヒドロフランで覆われたマグネシウムに加え、マグ
ネシウム全部が消えるまで還流する。次いで反応媒質を
０℃に冷却し、２．５９（０，０１モル）の６−ノドキ
シカルボニルナフタレン−２〜カルボン酸塩化物を無水
Ｔ　ＨＦ　（テトラヒドロフラン）に溶かした溶液に加
える。混合物を周囲温度で１時間保ち、次いて塩化アン
モニウム水溶液に注ぐ。所望の生成物をエーテルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。
６〜（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナ
フタレン−２−カルボン酸メチルをシリカゲルクロマト
グラフィーにより精製しく溶離剤：ヘキサン／酢酸エチ
ル）、メタノールにより結晶化する。
融点１３０〜１３２℃の白色粉末１．２ｇを得る。
Ｊ（ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは、所望の構造
と一致する。
実施例９ ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナ
フタレン−２−カルボン酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ７゜’＝−ＯＨ，Ｒ９”−Ｒｅ
’−Ｔ−Ｔ　、　Ｒ３’−１−アダマンデル、Ｒ，、’
＝−ＣＩ（３）で示される化合物コ 実施例８で得られた６−（３−アダマンデル−４−メト
キシベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル１
ｇの懸濁液を５０ｃｃのエタノールおよび５０ｃｃの６
Ｎカリ水溶液から成る混合物中５０〜６０℃の温度で１
時間撹拌する。１００ｃｃの水を加えた後、エタノール
を減圧下濃縮除去する。水相に塩酸を加えて酸性化する
ことにより約ｐＨ１にし、次に１００ｃｃの酢酸エチル
で２回抽出する。有機相を乾燥し、減圧濃縮する。６−
（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸をメタノールにより結晶化する。
濃縮後、融点２７０〜２７２℃の淡赤色粉末を得る。
元素分析：　Ｃ２ｅＨ＊ａ０４ ＣＨＯ（％） 計測値　７９．０６　６．４０　１４．５２実測値　７
８，５８　６．４３　１４．６４実施例１０ ６−（４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カル
ボン酸メヂルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋ｏ’　＝　　ＯＣＩ−Ｌ、Ｒ
，”−ｒ（、’＝Ｒ，°＝　Ｈ、Ｒｌｔ’　＝〜ＣＨ３
）で示される化合物］ ４．５ｇ（０，０４モル）のアニソールおよび１０ｇ（
０，０／１モル）の６−メドキシカルボニルナフタレン
ー２−カルボン酸塩化物および約８０ｃｃの無水ジクロ
ロエタンから成る溶液に１１１．０５ｇ（０，０６モル
）の無水塩化アルミニウムを少量ずつ加える。混合物を
周囲温度で一夜放置し、１００ｃｃの氷水に注ぐ。有機
相を分離する。水相を３００ｃｃのジクロロメタンによ
り抽出する。有機相を合わせ、重炭酸ナトリウムで洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。所望の
生成物をアセトニトリルで再結晶化し、次いでメチルエ
チルケトンで再結晶化することにより精製する。融点１
７０〜１７ピＣの白色粉末２．５９を得る。
元素分析：　０２０１−１１００４ Ｃ’ＨＯ（％） 計測値　７４．９８　５．０３　　＋９．９７実測値　
７５．０５　４．９５　１９．９４実施例１１ ６−（４−シクロへキシルベンゾイル）ナフタレン−２
−カルボン酸メチルの製造。
［式（Ｖ）（ただし、Ｒ＋ｏ’−ＯＣＨ＊、Ｒｔ’＝Ｈ
。
Ｒ４”−シクロヘキシル）で示される化合物］２．０８
ｇ（１３ミリモル）のフェニルシクロヘキサン、３．２
３（１３ミリモル）の６−メドキシカルボニルナフタレ
ンー２−カルボン酸塩化物お上び８０ｃｃの無水１．２
−ジクロロエタンから成る懸濁液に３．３３９Ｃ２５ミ
リモル）の無水塩化アルミニウムを分割して加える。混
合物を周囲温度で６時間撹拌し、次に１５０ｃｃの酸性
氷水に注ぐ。
有機相を分離する。水相を６０ｃｃのジクロロエタンに
より２回抽出する。ジクロロエタン相を合わせ、重炭酸
ナトリウムで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで
減圧濃縮する。粗生成物をメタノール、次いでイソプロ
パツールにより２回再結晶する。乾燥後、融点１３０℃
の６−（４−シクロへキシルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボン酸メチルの白色結晶２．４９を得る。
’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ）スペクトルは、所望の構造に
一致する。
元素分析”　２５　Ｈ２４０９ ＣＩ（Ｏ（％） 計測値　８０．６２　６．５０　１２．８９実測値　８
０．１２　６．５８　１３．２８実施例Ｉ２ ６−（４−シクロへキシルベンゾイル）ナフタレシー２
−カルボン酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋ｏ’−ＯＨｌＲ，’＝Ｈ。
Ｒ４”＝シクロヘキシル）で示される化合物コ実施例１
１で得られた６−（４−シクロへキシルベンゾイル）ナ
フタレン−２−カルボン酸メチル１．２ｇ（３，２ミリ
モル）の懸濁液を２５ｃｃのアルコールおよび２５ｃｃ
の６Ｎカリ水溶液から成る混合物中３時間還流温度に加
熱しながら撹拌する。
１５０ｃｃの水を加えた後、アルコールを減圧下濃縮除
去する。得られた水相を４００ｃｃに希釈し、０〜５℃
に冷却し、次いで２０ｃｃの１２Ｎ塩酸により酸性化す
る。得られた沈澱を濾過し、水洗し、８０℃で真空乾燥
する。イソプロピルアルコールで再結晶後、融点２４１
〜２４２℃の６−（４，−シクロへキシルベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボン酸の赤味を帯びた白色結晶０
．９５９を得る。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは、所望の構造
に一致する。
元素分析：　Ｃ，４Ｈｔｔ（Ｌ＋ ＣＨＯ（％） 計測値　８０，４２　６．１９　１３．３９実測値　８
０．３６　６．１９　１３．２３実施例１３ ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸メチルの製造。
（式（■）（ただし、ｒ（、ａ’−−ＯＣＨｆｌ、Ｒｔ
″＝Ｒｅ’＝Ｈ，Ｒ３°＝−Ｃ６Ｔ４．、、Ｒ，、’＝
−Ｃ１（、）で示される化合物コ ８０ｃｃの無水１．２−ジクロロタン中２．４．９（１
３ミリモル）の２−メトキシビフェニルおよび３．２３
ｇ（１３ミリモル）の６−メドキシカルポニルナフタレ
ンー２−カルボン酸塩化物から成る懸濁液に３．３３９
（２５ミリモル）の無水塩化アルミニウムを分割して加
える。混合物を周囲温度で４時間撹拌し、１５０ｃｃの
酸性氷水に注ぐ。有機相を分離する。水相を６０ｃｃの
ジクロロメタンにより２回抽出する。ジクロロエタン相
を合わせ、重炭酸ナトリウムで洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥し、次に減圧濃縮する。得られた固体を再び２０
Ｏｃｃのメタノールに溶かして濾過し、メタノール、次
いでアセトニトリルにより２回再結晶する。乾燥後、融
点１６０〜１６２℃の６−（／Ｉ−メトキン−３−フェ
ニルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチルの
白色結晶２２を得る。
’　ｌ−Ｉ　Ｎ　Ｍ　Ｒ（６０Ｍ　＋−１ｚ）スペクト
ルは、所望の構造に一致する。
元素分析：　Ｃ２１１Ｈ２００４ ＣＩ−１０（％） 計測値　７８．７７　５．０９　　＋６．１４実測値　
７Ｂ、７９　５．０８　　＋５．９８実施例１４ ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
レン−２−カルボン酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋　ｏ’−Ｏｒ−１、Ｒｔ”−
Ｒｅ’＝Ｈ１Ｒ３°−−Ｃ８Ｉ−１５、ｒ（、ｔ’＝−
ＣＨ３）で示される化合物］ 実施例１３で得られたら−（４−メトキシ−３−フェニ
ルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル１．
３９（３，２８ミリモル）の懸濁液を６Ｏ− ３０ｃｃのアルコールおよび３０ｃｃの６Ｎカリ水溶液
の混合物中で３時間還流温度に加熱および撹拌する。２
００ｃｃの水を加えた後、アルコールを減圧上濃縮除去
する。生成した水相を５００ｃｃの水で希釈し、０〜５
℃に冷却し、次に２５ｃｃの１２Ｎ塩酸により酸性化す
る。生成した沈澱を濾過し、水洗し、８０℃で真空乾燥
する。ｍ生成物を初めにジクロロメタン、次にジクロロ
メタン／イソプロパツール混合物で溶離してシリカゲル
６０クロマトグラフイーにｊ；り迅速に精製する。減圧
濃縮し、アセトニトリル／酢酸混合物で再結晶後、融点
２２１〜２２３℃の６−（４−メトキシ−３−フェニル
ベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸の白色結晶０
．６ｇを得る。
’Ｉ−ＩＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは、所望の
構造に一致する。
元素分析：　ＣｚａＨ＋ｅＯ４ ｃｒ−ｔｏ（％） 計測値　７８．５２　４．７４　１６．７４実測値　７
８．６３　４．８３　１６．５５６１一 実施例１５ ６−（４〜フエノキシベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸メチルの製造。
［式（■）（た）Ｊし、Ｒ＋ｏ’−ＯＣｌ−１８、Ｉ’
ｔｚ”””Ｒ３’−Ｒｆｉ’＝Ｈ１Ｒ＋　ｘ’　−Ｃｎ
　ｔＩ５）で示される化合物］ ２．２１９（１３ミリモル）のジフェニルエーテルおよ
び３．２３ｇ（１３ミリモル）の６−メドキシカルボニ
ルナフタレンー２−カルボン酸塩化物および８０ｃｃの
無水１．２−ジク（１ｖ１エタンから成る懸濁液に３．
３３ｇ（２５ミリモル）の無水塩化アルミニウムを分割
して加える。混合物を周囲温度で５時間撹拌し、次に１
５０ｃｃの酸性氷水に注ぐ。
有機相を分離し、水相を８０ｃｃのジクロロエタンによ
り２回抽出する。ジクロロエタン相を合わせ、重炭酸ナ
トリウムで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次に減圧
濃縮する。得られた固体を沸騰メタノールで洗浄するこ
とにより精製し、次にイソプロパツールで再結晶する。
乾燥後、融点１７３℃の６−（４−フェノキンベンゾイ
ル）ナフクレン−２−カルボン酸メチルの白色結晶３．
２ｇを得る。
’ＨＮＭＲ（６０Ｍｌ−１ｚ）スペクトルは所望の構造
に一致する。
元素分析：　Ｃ２６１−１＋　ｅ　Ｏ４ＣＨＯ（％） 計測値　７８．５２　４．７４　１６．７４実測値　７
Ｂ、５５　４．８３　１６．６４実施例１６ ６−［（２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］ナフタレン−２−カルボン酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ’＝ＩＩＳ　Ｒ”−０Ｈ１Ｒ２
−Ｒ４−イソＣ３１（？、Ｒ３””　Ｒ５−Ｒａ　＝　
Ｉ（、Ｒ＋　＝−ＣＯ，ｌ−１）で示される化合物］ 実施例２で得られた６−（２，４−ジイソプロピルベン
ゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸０．５４ｇ（１，
５ミリモル）および１５ｃｃの無水テトラヒドロフラン
から成る溶液（０℃に冷却）に、１７０ｍｇ（４，５ミ
リモル）の水素化ホウ素ナトリウムを加え、周囲温度に
戻しながら１時間撹拌し、次に約３０分で還流温度に加
熱する。還元は完了している。
反応媒質を０°Ｃに冷却し、次に０．ＩＮ塩酸をゆっく
りと加えるごとにより酸性化し、エチルエーテルで抽出
する。
エーテル相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮乾
固ずろ。得られた粗生成物を少量のアセトンを含有する
ヘキサジにより再結晶する。７０℃で乾燥後、６−［（
２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメチル］
ナフタレン−２−カルボン酸の白色結晶０．４ｇを得る
、融点２２５℃。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＩ（ｚ）スペクトルは所望の構造
に一致する。
元素分析：Ｃ２＊Ｈｔ。０３ ＣＩ−１０（％） 計測値　７９．５３　７．２３　１３．２／１実測値　
？９．１６　７．２３　１３．４４実施例１７ ６−［（２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］ナフタレン−２−カルビノールの製造。
＝６４− ［式（■）（ただし、Ｒ’＝Ｈ１Ｒ”−０Ｈ１Ｒ，−Ｒ
ａ＝＋　　　　ｃ３）Ｉｆｆ、　　Ｒ、、＝　　Ｒ５＝
　　Ｒ６＝　　［−ｒ　、　　　Ｒ、＝　　ＣＩ−Ｉ、
ＯＩ−１）で示される化合物コ −１０℃に冷却した２　３０ｍｙ（６ミリモル）の水素
化アルミニウムリチウムおよび５ｃｃの無水テトラヒド
ロフランから成る溶液に、実施例２で得られた６−（２
，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸０．７２９Ｃ２ミリモル）および無水テトラヒ
ドロフランｌ０ｃｃから成る溶液を加える。
周囲温度に戻しながら１時間撹拌後、反応媒質を０℃に
冷却し、０．ＩＮ塩酸をゆっくりと加えることにより酸
性化し、エチルエーテルで抽出する。
エーテル相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮乾
固する。粗生成物をトルエン／ジクロロメタン／酢酸エ
チル（２０／４０／３０）混合物で溶離するシリカゲル
６０高速クロマトグラフイーにより精製し、次にヘキサ
ン／アセトン混合物で再結晶化する。
７０℃で真空乾燥後、６−［（２，４−ジイソプロピル
フェニル）ヒドロキシメチル］ナフタレン＝２〜カルビ
ノール、融点１３６℃の白色針量０゜５２９を得る。
’ＨＮＭＲ（２５０Ｍｌ−Ｉｚ）スペクトルは所望の構
造と一致する。
元素分析：　Ｃｐ＋Ｉ−ＩｔｓＯｑ ＣＨＯ（％） 計測値　８２．７２　８．１０　９．１８実測値　８２
．５４’　　８．０７　９．４８実施例１８ ６−（２，４−ジイソプロピルベンジル）ナフタレン−
２−カルボン酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ’−Ｒ”＝　Ｒ＊　＝　Ｒｓ　
＝　Ｒｅ　−ＩＩＳＲｔ−Ｒ４＝ｉ−Ｃ３Ｈ７およびＲ
＋　−ＣＯｔ　Ｉ−Ｉ　）で示される化合物］ 亜鉛末１．３ｙ（２０ミリモル）および氷酢酸２０ｃｃ
から成る懸濁液に実施例２て得られた６−（２゜４−ジ
イソプロピルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸
０．７２９（２ミリモル）を加え、１時間加熱還流ずろ
。次いで２ｃｃの１２Ｎ塩酸を滴下し、３０分還流を続
（−する。
周囲温度に冷却し、２０ｃｃの１２Ｎ塩酸を加えた後、
反応媒質をｌ００ｃｃの水で届釈し、ジクロロメタンで
抽出する。有機相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧濃縮する。得られた粗生成物をトルエン／ジクロロ
メタン／酢酸エチル（３０／４０／３０）混合物で溶離
するシリカゲル６０クロマトグラフイーにより精製し、
次に痕跡量のアセトンを含有するヘキサンで再結晶する
。
６０℃で真空乾燥後、６−（２，４−ジイソプロピルベ
ンジル）ナフタレン−２−カルボン酸、融点１８３〜１
８５°Ｃの白色結晶０．４ｇを得る。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と
一致する。
元素分析：　Ｃ３ｔ１−１２ｅＯ２ ＣＩ（０（％） 計測値　８３．２０　７．５６　９．２／１実測値　８
３．０８　７．４９　９．４１実施例１９ ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メ
チルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ２°−Ｒ□’　”ｉ−Ｃ！１１
−１？、Ｒ。
およびＲｏ”−オキソ、Ｒ３’−４，’二Ｉ−［、およ
びＲｌｏ−−ＣＯ２ＣＩ（、）で示される化合物コ１．
２０ｃｃの１．３−ジイソプロピルベンゼン（０，０１
１モル）および２ｇ（０，０１モル）の４−メトキシカ
ルボニル安息香酸塩化物および５０ｃｃの無水１．２−
ジクロロエタンを周囲温度で撹拌して成る溶液に、温度
を３５℃以下に維持しながら２．４．０９の無水塩化ア
ルミニウム粉末を少量ずつ加える。
出発生成物全部が消えるまで１時間撹拌を続ける。反応
媒質を１ｏｏｃｃの氷水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出
する。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水に
より洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する
。
Ｍｊ状物を回収し、ヘキサンにより結晶化して２゜７ｇ
の４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸
メチル、融点６４〜６５℃を得る。
’Ｉ−ＩＮＭＲ（８０Ｍｒ−１ｚ）スペクトルは所望の
構造と一致する。
元素分析：　Ｃ２＋　１−ｒ　、４０３ＣＨＯ（％） 計測値　７’１．７５７．４．Ｇ　　１４．７９実測値
　７７．５５７．４６　１／１．８７実施例２０ ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸の
製造。
［式（■）（ただし、Ｒ２°−Ｒ４°−ｉ　　Ｃｓ　Ｉ
−Ｉ　？、ＲｏおよびＲ”−オキソ、Ｒ３°−ｈ５°−
１−１およびＲ１−−Ｇｏ、Ｈ）で示される化合物］ 実施例１９で得られた４−（２，４−ジイソプロピルベ
ンゾイル）安息香酸メチル２．７ｇおよび２００ｃｃの
無水アルコールから成る溶液に６Ｎカリ水溶液７５ｃｃ
を加える。出発生成物全部が消えるまで反応混合物の温
度を約１時間で４０℃にし、次いでアルコールを減圧濃
縮する。水相を３００ｃｃの水で希釈し、０℃に冷却し
、濃塩酸で酸性化する。
得られた生成物を濾過し、トルエン／ヘキサン混合物で
再結晶化する。融点１８１〜１８２℃の白色粉末１．３
ｇを回収する。
’Ｉ−ＩＮＭＲ（８０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造
と一致する。
元素分析：Ｃ７゜ＨｔｚＯｓ ＣＨＯ（％） 計測値　７７．３９　７．１５　１５．４６実測値　７
７．１９　７．１５　１５．５６実施例２１ １−（２，４−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−
ヒドロキシメチルフェニル）メタノールの製造。
［式（■）（ただし、Ｒｔ’　−Ｒ４°−ｉ　−Ｃ３１
（７、Ｒ゛＝　ｔ−１，Ｒ”　＝　ＯＨｌＲ，’＝Ｒ５
’＝１１およびＲ３°＝−ＣＨ２０Ｈ）で示される化合
物］ ０℃に維持された３、５１？の水素化アルミニウムリチ
ウムおよび２００ｃｃの無水テトラヒドロフランの懸濁
液に実施例１９で得られたｌ（２，４，−ジイソプロピ
ルベンゾイル）安息香酸メチル１０ｇおよびテトラヒド
ロフラン５０ｃｃから成る溶液を滴下する。滴下終了後
、周囲温度で出発生成物および還元中間体が全部消える
まで反応媒質の撹拌を続ける。
５０ｃｃの酢酸エチルをη口えて過剰の水素化物を除去
後、溶液を２００ｃｃの水に注ぎ、３Ｎ塩酸により酸性
化し、酢酸エチルで抽出する。有機相を洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。　　６ｇの１−（
２，４−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−ヒドロ
キシメチルフェニル）メタノールを回収し、ヘキサンで
結晶化して融点８５〜８６℃の白色粉末形態を得る。’
ＨＮＭＲ（８０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と一致
する。
実施例２２ ４−［（２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］安息香酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒｘ’　−Ｒ４°＝ｉ−Ｃ３Ｈ？
、Ｒ゛＝Ｈ１Ｒ″＝ＯＨＳｒ（３°−Ｒｓ　’　−Ｈお
よびＲｌｏ−−Ｃ０ｚＨ）で示される化合物］ 実施例２０で得られた４、−（２，４−ジイソプロピル
ベンゾイル）安息香酸１ｇメタノール１ｏｏｃｃを周囲
温度で撹拌した溶液に２ｇの水素化ポウ素ナトリウムを
少量ずつ加える。
出発物質が全部消えるまで２時間撹拌を続ける。
反応媒質を１００ｃｃの水により加水分解し、次に３Ｎ
塩酸溶液で酸性化する。
メタノールを減圧濃縮後、水相を酢酸エチルで抽出する
。有機相を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮する。
残留物を少量のジイソプロピルエーテルに溶かし、４０
０肩９の４−［（２，４−シイツブ上ビルフェニル）ヒ
ドロキシメチル］安息香酸、融点１１４〜１１５℃を得
る。
’ＨＮＭＲ（８０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造と一
致する。
実施例２３ ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアル
デヒドの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ２’　−Ｒ−°−ｉ　　Ｃｓ　
Ｉ−Ｉ　？、Ｒ。
およびＲ″＝＝オキソ３°−Ｒｓ’　”’　Ｉ−ｒおよ
びＲ１一−ＣＨ０）で示される化合物］ 実施例２１で得られた１−（２，４−ジイソプロピルフ
ェニル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェニル）メタ
ノール６ｇおよび無水ジクロロメタン２００ｃｃから成
る溶液にクロロクロム酸ピリジニウムＩＯ，８９を加え
る。
出発生成物がすべて消えるまで約３時間撹拌を続け、次
いで２０ｇのシリカおよび３００ｃｃのジクロロメタン
を加えた後、溶液を濾過し、塩化アンモニウム溶液およ
び水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮す
る。
シリカゲルクロマトグラフィ＝（溶離剤はヘキサン／酢
酸エチル９／１）で精製後、３ｇの４−（２，４−ジイ
ソプロピルベンゾイル）ベンズアルデヒドを油状物とし
て得る。
’ＨＮＭＲ（８０Ｍ１（ｚ）スペクトルは、所望の構造
と一致する。
実施例２４ ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸エチルの製造。
［式（Ｉ）（ただし、ｎ−１，Ｒｔ−Ｒｔ＝ｉ−Ｃ３１
−（７、ＲｏおよびＲ”−オキソ、Ｒｓ　＝　Ｒｓ　−
Ｒｅ　＝　Ｒ？　＝Ｒｓ　＝　Ｈ、Ｒ９−ＣＨ３および
Ｒ＋−Ｃ０ｔＣｔＨｓ）で示される化合物］ ３　、５　ｃｃの２−トリエチルホスポノブロピオネー
トおよび２００ｃｃの無水テトラヒドロフランから成る
溶液に１ｇの水素化ナトリウムを少量ずつ加える。気体
の放出が認められる。
約２時間撹拌を続け、体いて光を遮断した状態で、数滴
のクラウンエーテルおよび実施例２３で得られた４−（
２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアルデヒド
３ｇを無水テトラヒドロフラン５０ｃｃに溶かした溶液
を加える。加え終えた後、撹拌を２時間続け、次に反応
媒質を塩化アンモニウム飽和溶液に注ぎ、酢酸エチルで
抽出する。
有機相を洗浄し、乾燥し、減圧濃縮する。
シリカゲルクロマトグラフィー（溶離剤、ヘキサン／酢
酸エチル：９．５１０．５）により精製後、２ｇの４−
（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチル桂
皮酸エチルを油状物として回収する。
’Ｉ−ＩＮＭＲ（８０ＭＨｚ）スペクトルは所望の構造
と一致する。
実施例２５ ｄ−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸の製造。
［式（１）（ただし、ｎ”　Ｌ　ＩＲ７−Ｒ４＝！　　
Ｃ３Ｈ７、Ｒ゛およびＲ”−オキソ、Ｒｏ　＝　ｎ　ｓ
　−Ｒ６＝　Ｒ７＝ｒ（８＝Ｈ，Ｒｅ＝ＣＨ３およびＲ
，−−Ｃｏ、Ｈ）で示される化合物］ 実施例２４で得られた４−（２，４−ジイソプロピルベ
ンゾイル）−α−メチル桂皮酸エチル１．５９の溶液を
、１００ｃｃのエタノールおよび５０ｃｃの６Ｎカリ水
溶液からなる混合物中４０〜５０８Ｃの温度で２時間撹
拌する。
エタノールを減圧濃縮後、残留物を５００ｃｃの水に溶
かし、３Ｎ塩酸により酸性化する。
酢酸エチルにより所望の酸を抽出する。有機相を洗１、
乾燥し、減圧濃縮する。
ヘキサジで結晶化することにより、融点１１９〜１２０
℃の白色粉末０．９ｇを得る。’ＨＮＭＲ（８０Ｍ　Ｉ
（ｚ）スペクトルは、４−（２，４−ジイソプロピルベ
ンゾイル）−α−メチル桂皮酸の構造と一致する。
元素分析・Ｃ＋＋５ｌ（ｔ。０３ ＣＨＯ（％） 計算値　７８．８２　７．４８　１３．７０実測値　７
８．９］　　７．４，９　１３．９０実施例２６ ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
ドロキシメチルコ安息香酸メチルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋’−Ｃ０ｔＣＨａ、Ｒ’−Ｈ
，ｒ（”＝ＯＨ，Ｒ，’−アダマンデル、Ｒ，’−ＯＣ
Ｉ−１３、Ｒｔ　’　＝　Ｒ３°＝　Ｉ−Ｉ　）で示さ
れる化合物］３８ｇ（０，１１８モル）の２−アダマン
チル−４−ブロモアニソールおよび３５０ｃｃのテトラ
ヒドロフランから成る溶液に２．８７ｆＩ（０，１１８
モル）のマグネシウムを加える。マグネシウムがすべて
消えるまでテトラヒドロフランの還流を維持する。
反応媒質を０℃に冷却後、５０ｃｃのテトラヒドロフラ
ンに１３．７ｇの４−ホルミル安息香酸メチルを溶かし
た溶液を滴下する。混合物を１時間周囲温度に保ち、次
に塩化アンモニウム飽和溶液に注ぐ。所望の生成物をエ
ーテルで抽出する。
有機相を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
する。
圧力を加えながらシリカゲルク【ツマトゲラフイー（溶
離剤：トルエン／酢酸エチル８５：５）を行なった後、
白色結晶生成物１９ｇ、融点１０９〜１１０℃を回収す
る。’Ｉ−ｒＮＭＲ（８０Ｍｌ−Ｉｚ）スペクトルは、
４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
ドロキシメチルコ安息香酸メチルの構造ト一致する。
実施例２７ ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
ドロキシメチル］安息香酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ，’−−〇〇、Ｈ１Ｒ’−Ｒ２
’−Ｒ３°−Ｉ（ＳＲ”−０Ｈ１Ｒ６°＝アダマンチル
）で示される化合物］ 実施例２６で得られた４［（３−アダマンチル−４−メ
トキシフェニル）ヒドロキシメチル］安息香酸メチル１
９ｇの懸副液を、３００ｃｃのエタノールおよび２００
ｃｃの６Ｎカリ水溶液から成る混合物中で１時間３０分
６０℃に加熱する。
エタノールを減圧濃縮後、残留物を３００ｃｃの水に溶
かし、３Ｎ塩酸により酸性化（ｐｉ−１２）する。
所望の酸をエーテルで抽出する。有機相を洗浄し、乾燥
し、減圧濃縮する。
軽いクリーム状生成物、融点２１９〜２２０℃、Ｉ７９
を得る。’ＨＮＭＲ（８０ＭＨｚ）スペクトルは、４−
［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒドロ
キシメチル］安息香酸の構造と一致する。
元素分析：　ＣｚｓＨｔｅＯ４ ＣＨＯ（％） 計算値　７Ｇ、５０　７．１９　１６．３１実測値　７
６．１７　７．０８　１５．９３実施例２８ ４−（３−アダマンデル−４−メトキシベンゾイル）安
息香酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ１°＝　−ＣＯ？　Ｉ−１、Ｒ
２’　＝　Ｒ３’−ＨｌＲｏおよびＲ”−オキソ、Ｒ５
’−アダマンチル、Ｒ４’　−−ＯＣＨ３）で示されろ
化合物］実施例２７で得られた４＝［（３−アダマンチ
ル−４−メトキシフェニル）ヒドロキシメチル］安息香
酸１０ｇをアセトン７００ｃｃに溶かした溶液に、室温
で８９のＫ　ｖ　Ｃｒ　ｔ　Ｏ？、７ｃｃの濃硫酸およ
び５０ｃｃの水から成る溶液を滴下する。
出発生成物が消えるまで１時間撹拌を続ける。
アセトンを減圧濃縮後、残留物を５００ｃｃの水に溶か
し、エチルエーテルて抽出する。
有機相を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
する。４−（３−アダマンデル−４−メトキシベンゾイ
ル）安息香酸９．５ｇを回収する。
’Ｔ−（ＮＭＲ（８０Ｍｌ（ｚ）スペクトルは所望の構
造と一致する。
粗酸３ｇの試料をトルエン／ヘキサン混合物で再結晶す
ることにより融点２３５〜２３６℃の酸２．５ｇを得る
。
元素分析：　Ｃｙ５ＨｔｏＯ４ ＣＨＯ（％） 計算値　７６．９０　６．７１　１６．３９実測値　７
６．９７　　Ｇ、７Ｇ　　Ｉ（ｉ、５２実施例２９ ４−（３−アダマンデル−４−ヒドロキシベンゾイル）
安息香酸メチルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ１’　−〇　〇　、ＣＩ−ｒ　
ｓ、Ｒ２゛−Ｒ３’＝Ｉ−Ｉ、　Ｒ’およびＲ″＝＝オ
キソ５°＝アダマンチル、Ｒ４’＝ＯＨ）で示される化
合物コ実施例２８て得られた４−（３−アダマンチル−
４−メトキシベンゾイル）安息香酸１．５ｇおよびメタ
ノール１５０ｃｃから成る懸’／６’Ｊ液に、Ｉｃｃの
濃塩酸溶液を加える。混合物を溶媒の沸点温度で４時間
撹拌する。次いで周囲温度で、２００ｃｃの水に注ぎ、
１００ｃｃの酢酸エチルで３回抽出する。
酢酸エチル相を合わせ、水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧濃縮する。次いで粗生成物をシリカゲルカラ
ムに通して分画する。
４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
安息香酸メチルをヘキサン／酢酸エチル（８／２）混合
物で溶離する。溶媒を濃縮後、所望の生成物を融点２７
０℃の白色結晶形態で単離する。
元素分析：　Ｃｖ５ＨｔａＯｈ ＣＩ−ＩＯ（％） 計算値　７６．９０　６．７１　１６．３９実測値　７
６．５０　６，９７　１６．１１実施例３０ ４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
イル）安息香酸メチルの製造。
［式（■）（ただし、Ｒ，’−−Ｃｏ、Ｃｌ−ｌ３、Ｒ
７°＝Ｈ，Ｒ’およびＲ″＝＝オキソ３°＝Ｒ５°＝ｔ
−Ｃ。
Ｈｅ５ｒ（４“−０１−１）で示される化合物］０℃で
２０１ｉ＋の２．６−ジーｔ−ブチルフェノールおよび
１９ｇの４−メトキシカルボニル安息香酸塩化物および
３００ｃｃのトルエンを撹拌して成る溶液に５０ｃｃま
トルエンで１１．６ｃｃの塩化錫を希釈したものを滴下
する。溶液は徐々に赤くなる。次いで滴下終了後０℃で
２時間撹拌を続け、次に反応媒質を周囲温度で一夜放置
する。次いで混合物を３００ｃｃの氷水に注ぎ、１５０
ｃｃの酢酸−８１＝ エチルで３回抽出する。４乍酸エヂル相を合わせ、重炭
酸ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
、濃縮する。
得られた粗生成物を最小限量のトルエンで希釈し、シリ
カゲルカラムに湧す。所望の生成物をヘキサン／酢酸エ
チル（１／１）混合物で溶離する。
溶媒を濃縮し、乾燥後、綿状白色粉末形態の４＝（３，
５−ジーＬ−ブヂルー４７ヒドロキシベンゾイル）安息
香酸メチル（融き１７２６Ｃ）３ｇを得る。
元素分析：　ＣｔａＨｔｅ０４ Ｃ）（Ｏ（％） 計算値　７４．９７　７．６６　１７．３７実測値　７
５．００　７．７０　１７．５２実施例３１ ４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
イル）安息香酸の製造。
［式（■）（ただし、Ｒ＋’　＝　Ｃ０ｔＨ−Ｒｔ’　
−Ｈ。
ＲｏおよびＲ”＝オキソ、Ｒ＋ｌ’＝ｒ（、’＝ｔ−Ｃ
，Ｈ，、Ｒ４°＝　ＯＨ）で示される化合物コ ４０ｃｃの６Ｎカリ水溶液および１００ｃｃのエタノー
ルから成る混合物中実施例３０により得られた４−（３
，５−ノー［−ブチル−４−ヒドロギシベンゾイル）安
息香酸メチル１ｇを含む溶液を１時間５０℃の温度にす
る。次いて、エタノールを真空蒸発により除去し、得ら
れた生成物を２００ｃｃの水中で撹拌し、６Ｎ塩酸を加
えることにより溶液を酸性化し、次いで３００ｃｃの酢
酸エチルにより抽出する。酢酸エチル相を水で３回洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチルを真空蒸
発により除く。粗生成物を痕跡徂のメタノールの存在下
トルエンで再結晶化後、融点２５５℃の４−（３，５−
ジーＬ〜ブヂルー４−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸
の白色結晶０．７ｇを得る。
ＮＭＲスペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析：　Ｃｗ　ｔ　ｌ−Ｉ　−６０４ＣＨＯ 計算値　７４．５５　７．３９　１８．０６実測値　７
４．１２　７．４２　１８．６１［製剤例］ Ａ２経口投与用 製剤例１ ０．２ｇの錠剤 ６−（４〜メトキシ〜２，３．６ 一ドリメチルベンゾイル）ナツタ ロン−２−カルボン酸・・・　　　　　　ｏ、ｏ　ｔ　
ｏｇアミトン・・・　　　　　　　　　　　　　０．１
１５９燐酸二カルシウム・・・　　　　　　　０．０２
０９シリカ・・・　　　　　　　　　　　　０．０２０
ｇ乳糖　・・・　　　　　　　　　　　　　０．０３０
ｇタルク・・・　　　　　　　　　　　　　ｏ、ｏ　ｔ
　ｏ’ｉステアリン酸マグネシウム・・・　　　０．０
０　！１製剤例■ ５ｔｔｒＱアンプルの飲用懸濁液 ６−（３−アダマンチル−４−メ トキシベンゾイル）ナフタレン−２ −カルボン酸・・・　　　　　　　　　　０．０１　ｏ
ｉ＋グリセリン・・・　　　　　　　　　　　０．５０
０ｇ７０％ソルビトール・・・　　　　　　０．５００
９サツカリンナトリウム・・・　　　　　０．０１０９
パラヒドロキシ安息香酸メチル・・　ｏ、ｏ４ｏｇ着香
剤・・　　　　　　　　　　　　　適　重積製水・・・
　　　適量加えて全５０００ｇとするＢ１局所投与用 製剤例■ 軟膏 ６−（４−メトキシ−３−フェニル ベンゾイル）ナフタレン−２−カルボ ン酸メチル・・・　　　　　　　　　　　０．１００ｇ
ミリスヂン酸イソプロピル・・・　　８１．７００ｇ流
動ワセリン浦・・・　　　　　　　　９．１００ｇデグ
ッサ社から「エロジル（Ａｅｒｏｓｉｌ）２００」の名
称で販売されている シリカ・・・　　　　　　　　　　　　　９．ＩＯｏｇ
製剤例■ アニオン性油中水クリーム ６−（４−メトキシ２，３．６−ド リメチルベンゾイル）ナフタレン− ２−カルボン酸メチル・・・　　　　　　０．１００ｇ
ドデシル硫酸ナトリウム・・・　　　　０．８００９グ
リセリン・・・　　　　　　　　　　　　２．０００９
ステアリルアルコール・・・　　　　２０．０００９ダ
イナマイト・ノーペル社から［ ミグリオール（Ｍｉｇｌｙｏｌ）８１２Ｊの名称で販売
されているカプリン酸／ カプリル酸トリグリセリド・・・　　　２０．０００ｇ
保存剤　・・・　　　　　　　　　　　適　重税イオン
水・・・　　適量加えて全１００．０００９とする前記
製剤例■および■において、活性化合物を等量の６−（
２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸と置き換えることができる。
製剤例■ ゲル Ｎ−エチル−６−（４−１−ブ チルベンゾイル）ナフタレン−２ 一カルボキシアミド・・・　　　　　　　０．５００９
工ルキユール社から「クルセル （Ｋ　１ｕｃｅｌ）Ｉ−（Ｆ　ｊの名称で販売されてい
るヒドロキンプ口ピルセルロ −ス・・・　　　　　　　　　　　　　　２．ｏｏｏｇ
水／エタノール（５０１５０） ・・・　　適量加えて全１００．００　ｏｇとする製剤
例■ 抗脂漏性クリーム アトラス社から［ミルジ（Ｍｙｒｊ） ５２」の名称で販売されているポリ オキシエチレンステアレート（エチ レンオキシド４０モル）・・・　　　　　　４．０００
９アトラス社から［トウイーン（ Ｔ　ｗｅｅｎ）　２０　Ｊの名称で販売されているポリ
オキシエチレン（エチレン オキシ、ド２０モル）ソルビタンお上 びソルビトールのラウリン酸エス チル混合物・・・　　　　　　　　　　　１．８００ｇ
ガテユフオシュ社から［グルオー ル（ＧＥＬＥＯＬ）ｊの名称で販売さ れているグリセリンモノおよびノ ステアレート混合物・・・　　　　　　　４．．２００
９プロピレングリコール・・・　　　　１０．０００９
ブチルヒドロキシアニソール・・・　　０．０１０９プ
チルヒドロギシトルエン・・・　　　０．０２０ｇケト
−ステアリルアルコール・・・　　６．２００ｇ保存剤
　・・・　　　　　　　　　　　　適　量ペルヒドロス
クアレン・・・　　　　１８．０００ｇダイナマイト・
ノーペル社から 「ミグリオール（Ｍｉｇｌｙｏｌ）８１２　Ｊの名称で
販売されているカプリル ーカプリン酸トリグリセリド混合 物・・・　　　　　　　　　　　　　　４．０００ｆｌ
Ｓ−カルボキシメチルシスティン・・３．０００ｇ９９
％トリエタノールアミン・・・　　２．５００９６−（
２，４−ジイソプロピルベ ンゾイル）ナフタレン−２−カル ボン酸・・・　　　　　　　　　　　　ｏ、ｔｏｏｇ水
　・・・　　　適量加えて全１００．００９とする製剤
例■ 抗脂漏性クリーム アトラス社から［ミルジ（ＭｙｒＤ ５２」の名称で販売されているボ リオキシエヂレンステアレート（ エチレンオキシド４０モル）・・・　　　　４．０００
９アトラス社から「トウィーン（ Ｔ　ｗｅｅｎ）　２０　Ｊの名称で販売されているポリ
オキシエチレン（エチレン オキシド２０モル）ソルビタンお上 びソルビトールラウリン酸エステ ル混合物・・・　　　　　　　　　　　　ｔ、ｓｏｏｇ
カデュフオシュ社から「グルオ ール（ＧＥＬＥＯＬ）Ｊの名称で販 売されているグリセリンモノおよ びジステアレート混合物・・・　　　　　４．２００９
プロピレングリコール・・・　　　　１０．０００９ブ
チルヒドロキシアニソール・・・　　０．０１０９ブヂ
ルヒドロキシトルエン・・・　　　０．０２０９ケト−
ステアリルアル２−ル・・・　　６．２００ｇ保存剤　
・・・　　　　　　　　　　　　適　量ベルヒドロスク
アレン・・・　　　　　１８．０００ｇダイナマイト・
ノーペル社か ら［ミグリオール（Ｍ　１ｇ１ｙｏｌ）　８１２Ｊの名
称で販売されている カブレルーカプリン酸トリグリ セリド混合物・・・　　　　　　　　　　４．．０００
９５−アミノ−５−カルボキシ −３−チア吉草酸−２−ベンジ ルチオエチルアンモニウム・・・　　　　３．０００９
６−（４−ｔ−ブチルベンゾイ ル）ナフタレン−２−カルボン酸・・　　０．５００ｇ
水　・・　　適量加えて全１００．０００ｇとする製剤
例■ 頭髪用ローション プロピレンゲルコール・・・　　　　２０．０００９エ
タノール・・・　　　　　　　　　　３４．．８７０ｇ
総分子量４００のポリエチレ ングリコール・・・　　　　　　　　　４０．０００ｇ
水・・・　　　　　　４．０００９ ブヂルヒドロキシアニソール・・・　　０．０　＋　０
９ブチルヒドロキシトルエン・・・　　　０．０２０９
６−（３−アダマンチル−４ 一メトキシベンゾイル）ナフタ シン−２−カルボン酸・・・　　　　　　０．１００９
ミノキシジル・・　　　　　　　　　　１．０００９製
剤例ＩＸ 抗アクネゲル ６−（２，４−ジイソプロピル ベンゾイル）ナフタレン−２− カルボン酸・・・　　　　　　　　　　　０．２００ｇ
イソプロピルアルコール・・・　　　４０．０００９グ
リツドリツヂ・ケミカル・カ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ｎは０または１であり、 １）ｎ＝１の場合 Ｒ′は水素原子または１〜４個の炭素原子を有するアル
    コキシ基であり、 Ｒ″は、水素原子、ＯＨ基、１〜４個の炭素原子を有す
    るアシルオキシ基、１〜４個の炭素原子を有するアルコ
    キシ基またはアミノ基（ＮＨ＿２）であり、 またはＲ′およびＲ″は一緒になってオキソ（＝０）、
    メタノ（＝ＣＨ＿２）もしくはヒドロキシイミノ（＝Ｎ
    −ＯＨ）基を形成し、 Ｒ＿１は−ＣＨ＿２ＯＨ基または−ＣＯＲ＿１＿０基（
    式中、Ｒ＿１＿０は、水素原子、−ＯＲ＿１＿１基また
    は▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Ｒ＿１＿１は、水素原子、１〜２０個の炭素原子を有す
    る直鎖または分枝状アルキル基、モノヒドロキシアルキ
    ル、ポリヒドロキシアルキル、所望により置換されてい
    てもよいアリールもしくはアラルキルまたは糖残基また
    は▲数式、化学式、表等があります▼基 を表わし、 ｐは、１、２または３であり、ｒ′およびｒ″は、水素
    原子、低級アルキル基、所望によりヘテロ原子により中
    断されていてもよいモノヒドロキシアルキル基、ポリヒ
    ドロキシアルキル基、所望により置換されていてもよい
    アリールもしくはベンジル基、アミノ酸残基もしくはア
    ミノ糖残基を表わすかまたは一緒になって複素環を形成
    する）を表わし、 Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５およびＲ＿６は、水素
    原子、−ＯＨ、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖もし
    くは分枝状アルキル基、所望により置換されていてもよ
    いシクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル基また
    は次式 （ｉ）−Ｘ−Ｃ＿６Ｈ＿５ （ｉｉ）−Ｘ−Ｒ＿１＿２または （ｉｉｉ）−ＮＨＣＯＲ＿１＿３ （式中、 Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ＿２−または
    −ＯＣＯ−を表わし、 Ｒ＿１＿２は、低級アルキルまたはフルオロアルキル基
    を表わし、そして Ｒ＿１＿３はアルキルまたはフェニル基を表わす）のう
    ちの１つに対応する基を表わし、 Ｒ＿２〜Ｒ＿６基のうち少なくとも１つは水素原子以外
    のものであり、 Ｒ＿７、Ｒ＿８およびＲ＿９は、水素原子またはメチル
    基を表わし、Ｒ＿７およびＲ＿９は一緒になってベンゼ
    ン環と共にナフタレン環を形成し得るが、ただし式（
    I ）において、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿５およびＲ＿６が
    水素原子を表わすときまたはＲ＿６がヒドロキシル基を
    表わすときにＲ＿４がメチル基またはＯＨ基を表わす場
    合Ｒ＿７が水素原子またはメチル基である化合物は除く
    ものとする。 ２）ｎ＝０の場合 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はＯＨ基を表わすかまたは、 Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝０）を形成
    し、 Ｒ＿１は、−ＣＨ＿２ＯＨ、−ＣＨ＝Ｏまたは−ＣＯＯ
    Ｒ＿１＿１基を表わし、Ｒ＿１＿１は水素原子または低
    級アルキル基であり、 Ｒ＿２およびＲ＿３は水素原子または３〜６個の炭素原
    子を有するアルキル基を表わし、 Ｒ＿５は、 （ｉ）３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルまた
    はアルキル基であり、この場合、Ｒ＿４は低級アルキル
    基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、または （ｉｉｉ）水素原子であり、この場合、Ｒ＿４は低級ア
    ルキル基を表わし、 Ｒ＿６は水素原子を表わし、そして Ｒ＿７は水素原子またはメチル基を表わす］で示される
    ことを特徴とする芳香族化合物および前記芳香族化合物
    の塩類並びにそれらの光学および幾何異性体。 （２）低級アルキル基および２０個以下の炭素原子を有
    するアルキル基が、メチル、エチル、イソプロピル、ブ
    チル、ｔ−ブチル、イソオクチル、ドデシル、ヘキサデ
    シルおよびオクタデシル基から成る群から選ばれること
    を特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （３）モノヒドロキシアルキル基が２〜６個の炭素原子
    を有する基、例えば２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
    キシプロピルまたは２−ヒドロキシエトキシエチル基で
    あることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の化
    合物。 （４）ポリヒドロキシアルキル基が３〜６個の炭素原子
    および２〜５個のヒドロキシル基を含む基、例えば２，
    ３−ジヒドロキシプロピル、１，３−ジヒドロキシプロ
    ピルまたはペンタエリトリトール残基であることを特徴
    とする、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （５）アリール基が所望によりハロゲン原子、−ＯＨ、
    −ＮＯ＿２、低級アルキル基、トリフルオロメチル基ま
    たはカルボン酸官能基により置換されていてもよいフェ
    ニル基であることを特徴とする、特許請求の範囲第１項
    記載の化合物。 （６）アラルキル基がベンジルまたはフェネチル基であ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。 （７）糖残基が、グルコース、マンノース、エリトロー
    スまたはガラクトースに由来することを特徴とする特許
    請求の範囲第１項記載の化合物。 （８）アミノ糖残基がグルコサミン、ガラクトサミンま
    たはマンノサミンに由来することを特徴とする、特許請
    求の範囲第１項記載の化合物。 （９）シクロアルキル基がシクロペンチル、シクロヘキ
    シルまたはアダマンチル基であることを特徴とする、特
    許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１０）シクロアルケニル基が１−シクロヘキセニル基
    または１−シクロペンテニル基であることを特徴とする
    、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１１）ｒ′およびｒ″基が一緒になって、ピペリジノ
    、ピペラジノ、モノホリノ、ピロリジノまたは４−（２
    −ヒドロキシエチル）ピペラジノを形成することを特徴
    とする、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （１２）次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、 Ｒ＿１〜Ｒ＿７、Ｒ′およびＲ″は、特許請求の範囲第
    １項ｎ＝０の場合と同じ意味を有する） で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜１
    １項のいずれか１項記載の化合物。 （１３）次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ［式中、 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はＯＨ基を表わすか、または Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝Ｏ）を形成
    し、 Ｒ′＿１は、−ＣＨ＿２ＯＨ、−ＣＨ＝Ｏまたは−ＣＯ
    ＯＲ′＿１＿１基を表わし、 Ｒ′＿１＿１は水素原子または低級アルキル基であり、
    Ｒ′＿２およびＲ′＿３は水素原子または３〜６個の炭
    素原子を有するアルキル基を表わし、そして、Ｒ′＿５
    は、（ｉ）３〜６個の炭素原子を有するアルキルまたは
    シクロアルキル基である場合、Ｒ′＿４は低級アルキル
    基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、または
    （ｉｉ）水素原子である場合、Ｒ′＿４は低級アルキル
    基を表わす］ で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜１
    ２項のいずれか１項記載の化合物。 （１４）次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＿１〜Ｒ＿６、Ｒ′およびＲ″は、特許請求
    の範囲第１項ｎ＝１の場合と同じ意味を有する）で示さ
    れることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜１１項の
    いずれか１項記載の化合物。 （１５）次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、 Ｒ′＿１＿０は−ＯＲ′＿１＿１または−ＮＨＲ′＿１
    ＿１を表わし、Ｒ′＿１＿１は水素原子または低級アル
    キル基を表わし、Ｒ′＿２は水素原子または低級アルキ
    ル基を表わし、そしてＲ″＿４は低級アルキル基、好ま
    しくはイソプロピルもしくはｔ−ブチル基またはシクロ
    アルキル基、好ましくはシクロヘキシル基を表わす）で
    示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１４項記
    載の化合物。 （１６）次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、 Ｒ′＿１＿０は−ＯＲ′＿１＿１または−ＮＨＲ′＿１
    ＿１を表わし、Ｒ′＿１＿１は水素原子または低級アル
    キル基を表わし、Ｒ″＿２およびＲ′＿６は水素原子ま
    たは低級アルキル基を表わし、 Ｒ′＿３は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基ま
    たはアダマンチル基を表わし、そして Ｒ′＿１＿２は低級アルキル基またはフェニル基を表わ
    す） で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１４項
    記載の化合物。 （１７） ６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
    −２−カルボン酸メチル、 ６−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
    −２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−２，３，６−トリメチルベンゾイ
    ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル、６−（４−メ
    トキシ−２，３，６−トリメチルベンゾイル）ナフタレ
    ン−２−カルボン酸、 ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
    ルボン酸メチル、 ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
    ルボン酸、 Ｎ−エチル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタ
    レン−２−カルボキシアミド、 ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナ
    フタレン−２−カルボン酸メチル、６−（３−アダマン
    チル−４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カル
    ボン酸、 ６−（４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カル
    ボン酸メチル、 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−２
    −カルボン酸メチル、 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−２
    −カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
    レン−２−カルボン酸メチル、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
    レン−２−カルボン酸、 ６−（４−フェノキシベンゾイル）ナフタレン−２−カ
    ルボン酸メチル、 ６−［（２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
    メチル］ナフタレン−２−カルボン酸、６−［（２，４
    −ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメチル］ナフタ
    レン−２−カルビノール、６−（２，４−ジイソプロピ
    ルベンジル）ナフタレン−２−カルボン酸、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メ
    チル、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸、 ４−［（２，４−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
    メチル］安息香酸、 １−（２，４−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−
    ヒドロキシメチルフェニル）メタノール、４−（２，４
    −ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアルデヒド、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
    ル桂皮酸エチル、 ４−（２，４−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
    ル桂皮酸、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
    ドロキシメチル］安息香酸メチル、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
    ドロキシメチル］安息香酸、 ４−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）安
    息香酸メチル、および ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
    安息香酸、 ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
    安息香酸メチル、 ４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
    イル）安息香酸メチル、および ４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
    イル）安息香酸 から成る群から選ばれることを特徴とする、特許請求の
    範囲第１〜１６項のいずれか１項記載の化合物。 （１８）有機溶媒中、ハロゲン化物例えば次式▲数式、
    化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表等
    があります▼ （２）（１１） （式中、 Ｒ＿７は水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ＿１＿１
    は１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である） の一方に対応する酸塩化物を、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ （３）（１３） （式中、 ＸはＢｒまたはＣｌを表わし、 Ｒ＿２〜Ｒ＿６は特許請求の範囲第１項記載の意味を有
    する） の一方に対応するベンゼン誘導体を反応させ、必要なら
    ば、得られたケトエステルを対応するケト酸にけん化し
    、そして続いて式▲数式、化学式、表等があります▼（
    式中、ｒ′およびｒ″は特許請求の範囲第１項記載のも
    のと同じ意味）で示されるアミンの作用によりケト酸を
    対応するアミドに変換するか、または続いてケト酸をヒ
    ドロキシ酸またはジオールに変換し、そして場合により
    ジオールを酸化して対応するケトアルデヒドとすること
    から成ることを特許請求の範囲第１〜１７項のいずれか
    １項記載の化合物の製造方法。 （１９）縮合反応が、フリーデル−クラフツ反応条件下
    、１，２−ジクロロエタンに溶かした無水塩化アルミニ
    ウムの存在下０〜２５℃の温度で撹拌しながら行なわれ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第１８項記載の方
    法。 （２０）酸塩化物と式（１３）で示されるマグネシウム
    含有有機化合物との縮合反応が約０℃の温度でＴＨＦ（
    テトラヒドロフラン）中において行なわれることを特徴
    とする、特許請求の範囲第１８項記載の方法。 （２１）アミドの製造がＮ，Ｎ′−カルボニルジイミダ
    ゾールの存在下に行なわれることを特徴とする、特許請
    求の記載第１８項記載の方法。 （２２）ＴＨＦまたはメタノール中水素化ホウ素ナトリ
    ウムの存在下にケト酸が対応するヒドロキシ酸に還元さ
    れることを特徴とする、特許請求の範囲第１８項記載の
    方法。 （２３）ケトアルデヒドがクロロクロム酸ピリジニウム
    を用いてジオールを酸化することにより得られ、前記の
    対応するジオールが水素化アルミニウムリチウムの存在
    下ケト酸の還元反応の結果生成したものであることを特
    徴とする、特許請求の範囲第１８項記載の方法。 （２４）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物の製造方法であって、次式▲数式、化
    学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿２〜Ｒ＿７は特許請求の範囲第１項と同じ
    意味） で示され、特許請求の範囲第１８および２３項で得られ
    たケトアルデヒドを、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿９およびＲ＿１＿１は特許請求の範囲第１
    項と同じ意味） で示されるホスホノ酢酸アルキルと有機溶媒中水素化ナ
    トリウムの存在下に反応させること、および得られた不
    飽和ケトエステルを特許請求の範囲第１項記載の式（
    I ）における基の異なる定義を有するものに到達させ得
    る反応を常用の条件下で行行なうことを特徴とする方法
    。 （２５）特許請求の範囲第１〜１７項のいずれか１項記
    載の式（ I ）で示される化合物または特許請求の範囲
    第１８〜２４項のいずれか１項記載の方法により得られ
    た化合物であることを特徴とする医薬。 （２６）経口、非経口、局所投与または点眼用の適当な
    賦形剤中に、少なくとも特許請求の範囲第１〜１７項の
    いずれか１項記載の式（ I ）で示される化合物または
    特許請求の範囲第１８〜２４項のいずれか１項により得
    られた化合物を含有することを特徴とする医薬組成物。 （２７）局所適用または点眼に適した形態で提供され、
    式（ I ）で示される化合物を０．０００５〜約５重量
    ％の割合で含有することを特徴とする、特許請求の範囲
    第２６項記載の組成物。 （２８）皮膚、呼吸器および眼の疾患の処置を目的とす
    る医薬組成物の製造における特許請求の範囲第１〜１７
    項のいずれか１項記載の化合物または特許請求の範囲第
    １８〜２４項のいずれか１項記載の方法により得られた
    化合物の用途。 （２９）適当な化粧用担体中に少なくとも特許請求の範
    囲第１〜１７項のいずれか１項記載の式（ I ）で示さ
    れる化合物または特許請求の範囲第１８〜２４項のいず
    れか１項記載の方法により得られた化合物を含有するこ
    とを特徴とする、身体および毛髪衛生用化粧組成物。 （３０）式（ I ）で示される化合物を０．０００５〜
    ２重量％および好ましくは０．０１〜１重量％の濃度で
    含有することを特徴とする、特許請求の範囲第２９項記
    載の化粧組成物。 （３１）少なくとも不活性添加物または薬力学的活性も
    しくは化粧活性添加物を含有することを特徴とする、特
    許請求の範囲第２７および３０項のいずれか１項記載の
    組成物。
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