JP2562142B2 - 芳香族化合物、その製法、ひとおよび動物薬および化粧品における用途 - Google Patents

芳香族化合物、その製法、ひとおよび動物薬および化粧品における用途

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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、新規芳香族化合物、その製法並びにひと
および動物薬および化粧品における用途に関するもので
あった。
［発明の開示］ この発明による化合物は、角質化（分化−増殖）障害
に関連する皮膚疾患および炎症および／または免疫アレ
ルギー要素に関連する皮膚（または他の）疾患の局所お
よび全身処理および結合組織の変質疾患の処理における
活性並びに抗腫瘍活性を呈する。他方これらの化合物
は、皮膚または呼吸器のアトピーおよびリューマチ性乾
癬の処置に用いられ得る。
同様にこれらの化合物は、アクネ（座そう）に関係す
る病原（微生物）に対する優れた活性を有する。
最後に、眼科領域特に角膜疾患の処理にも適用され
る。
この発明による芳香族化合物は、次の一般式 ［式中、 ｎは０または１であり、 １）ｎ＝１の場合 Ｒ′は水素原子または１〜４個の炭素原子を有するア
ルコキシ基であり、 Ｒ″は、水素原子、OH基、１〜４個の炭素原子を有す
るアシルオキシ基、１〜４個の炭素原子を有するアルコ
キシ基またはアミノ基（NH2）であり、 またはＲ′およびＲ″は一緒になってオキソ（＝
０）、メタノ（＝CH2）もしくはヒドロキシイミノ（＝
Ｎ−OH）基を形成し、 R1は−CH2OH基または−COR10基（式中、R10は、水素
原子、−OR11基または− を表わし、 R11は、水素原子、１〜20個の炭素原子を有する直鎖
または分枝状アルキル基、モノヒドロキシアルキル、ポ
リヒドロキシアルキル、所望により１個以上の基で置換
されていてもよいアリールもしくはアラルキルまたは糖
残基または−（CH2） を表わし、 ｐは、１、２または３であり、ｒ′およびｒ″は、水
素原子、低級アルキル基、所望によりヘテロ原子により
中断されていてもよいモノヒドロキシアルキル基、ポリ
ヒドロキシアルキル基、所望により置換されていてもよ
いアリールもしくはベンジル基、アミノ酸残基もしくは
アミノ糖残基を表わすかまたは一緒になって複素環を形
成する） を表わし、 R2、R3、R4、R5およびR6は、水素原子、−OH、１〜12
個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基、
所望により置換されていてもよいシクロアルキル、シク
ロアルケニル、フェニル基または次式 （ｉ）−Ｘ−C6H5 （ii）−Ｘ−R12または （iii）−NHCOR13 （式中、 Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−SO−、−SO2−または−OCO
−を表わし、 R12は、低級アルキルまたはフルオロアルキル基を表
わし、そして R13はアルキルまたはフェニル基を表わす）のうちの
１つに対応する基を表わし、 R2〜R6基のうち少なくとも１つは水素原子以外のもの
であり、 R7、R8およびR9は、水素原子またはメチル基を表わ
し、R7およびR9は一緒になってベンゼン環と共にナフタ
レン環を形成し得るが、ただし式（Ｉ）において、R2、
R3、R5およびR6が水素原子を表わすときまたはR6がヒド
ロキシル基を表わすときにR4がメチル基、OH基または−
COH3基を表わす場合R7が水素原子またはメチル基である
化合物は除くものとする。
２）ｎ＝０の場合 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はOH基を表わすかまたは、 Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝０）を形
成し、 R1は、−CH2OH、−CH＝０または−COOR11基を表わ
し、R11は水素原子または低級アルキル基であり、 R2およびR3は水素原子または３〜６個の炭素原子を有
するアルキル基を表わし、 R5は、 （ｉ）３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルまた
はアルキル基である場合、R4は低級アルキル基、ヒドロ
キシ基またはアルコキシ基を表わし、または （iii）水素原子である場合、R4は低級アルキル基を表
わし、 R6は水素原子を表わし、そして R7は水素原子またはメチル基を表わすが、ただし、R4
がOH基を表わし、R3およびR5がｔ−ブチル基を表わす式
（Ｉ）の化合物は除くものとする］ で示され得、これらの芳香族化合物の塩類並びにそれら
の光学および幾何異性体も同様である。
低級アルキル基の語は１〜６個の炭素原子を有する基
を包含するものとする。
低級アルキル基および20個以下の炭素原子を有するア
ルキル基の例としては、メチル、エチル、イソプロピ
ル、ブチル、ｔ−ブチル、イソオクチル、ドデシル、ヘ
キサデシルおよびオクタデシルを挙げることができる。
モノヒドロキシアルキル基の語は、２〜６個の炭素原
子を有する基を包含し、とくに２−ヒドロキシエチル、
２−ヒドロキシプロピルまたは２−ヒドロキシエトキシ
エチル基が挙げられる。
ポリヒドロキシアルキル基の語は、３〜６個の炭素数
原子および２〜５個のヒドロキシル基を有する基を包含
し、例えば2,3−ジヒドロキシプロピル、1,3−ジヒドロ
キシプロピルまたはペンタエリトリトール残基がある。
アリール基の語は、所望によりハロゲン原子、−OH、
−NO2、低級アルキル基、トリフルオロメチル基または
カルボン酸官能基により置換されていてもよいフェニル
基を包含するものとする。
好ましいアラルキル基としてはベンジル基例えばフェ
ネチル基を挙げることができる。
糖残基の語は、例えばグルコース、マンノース、エリ
トロースまたはガラクトースに由来する残基を包含する
ものとする。
アミノ酸残基の語は、例えばメチオニンまたはαもし
くはβ−アラニンに由来する残基を包含するものとす
る。
アミノ糖残基の例としては、グルコサミン、ガラクト
サミンまたはマンノサミンに由来する残基を挙げること
ができる。
シクロアルキル基の語は、５〜12個の炭素原子を有す
る基を包含するものとし、とくにシクロペンチル、シク
ロヘキシルおよびアダマンチル基がある。
シクロアルケニル基は、好ましくは１−シクロヘキセ
ニルおよび１−シクロペンテニル基を包含するものとす
る。
好ましいフルオロアルキル基としてはトルフルオロメ
チルおよびペンタフルオロエチル基を挙げることができ
る。
ｒ′およびｒ″が一緒になって複素環を形成する場
合、好ましくはピペリジノ、ピペラジノ、モノホリノ、
ピロリジノまたは４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラ
ジノである。
この発明による化合物が塩形態を呈している場合、問
題となるのは、アルカリ金属、アルカリ土類金属または
亜鉛の塩類または有機アミン塩類（少なくとも１個の遊
離酸官能基を含むとき）、または無機酸または有機酸、
特に塩類、臭化水素酸またはクエン酸の塩類（少なくと
も１個のアミン官能基を含むとき）である。
前記式（Ｉ）で示されるこの発明の化合物は、下式
（II）および（III）に対応するベンゼン誘導体または
ナフタレン誘導体であり得る。
（式中、R1〜R7、Ｒ′およびＲ″は式（Ｉ）のｎ＝０の
場合と同じ意味を有する） （式中、R1〜R6、Ｒ′およびＲ″は式（Ｉ）のｎ＝１の
場合と同じ意味を有する） 注目すべきことは、式（III）で示される化合物が光
および酸素に対してすぐれた安定性を示すことである。
式（II）で示される化合物の場合、特に好ましいのは
次式（IV） （式中、 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はOH基を表わすか、または Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ（＝０）を形成
し、 Ｒ′１は、−CH2OH、−CH＝０または−COOR′11基を
表わし、 Ｒ′11は水素原子または低級アルキル基であり、 Ｒ′２およびＲ′３は、水素原子または３〜６個の炭
素原子を有するアルキル基を表わし、そして Ｒ′５は（ｉ）３〜６個の炭素原子を有するアルキル
またはシクロアルキル基であるときＲ′４は低級アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、（i
i）水素原子であるときＲ′４は低級アルキル基を表わ
す） で示されるものである。
式（III）で示される化合物の場合、特に好ましいの
は、次式（Ｖ）および（VI）で示されるものである。
（式中、 Ｒ′10は、−OR′11または−NHR′11を表わし、Ｒ′
11は、水素原子または低級アルキル基を表わし、 Ｒ′２は、水素原子または低級アルキル基を表わし、
そしてＲ″４は、低級アルキル基、好ましくはイソプロ
ピルまたはｔ−ブチル基、またはシクロアルキル基、好
ましくはシクロヘキシル基を表わす） （式中、 Ｒ′10は、−OR′11または−NHR′11を表わし、Ｒ′
11は水素原子または低級アルキル基を表わし、 Ｒ″２およびＲ′６は水素原子または低級アルキル基
を表わし、 Ｒ′３は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基ま
たはアダマンチル基を表わし、そして Ｒ′12は低級アルキル基またはフェニル基を表わす） この発明による式（Ｉ）で示される化合物として、特
に次のものを挙げることができる。
６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸メチル、 ６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル、 ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸、 ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸メチル、 ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸、 Ｎ−エチル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボキシアミド、 ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボン酸メチル、 ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸メチル、 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボン酸メチル、 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボン酸メチル、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボン酸、 ６−（４−フェノキシベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸メチル、 ６−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］ナフタレン−２−カルボン酸、 ６−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］ナフタレン−２−カルビノール、 ６−（2,4−ジイソプロピルベンジル）ナフタレン−
２−カルボン酸、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メ
チル、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸、 ４−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］安息香酸、 １−（2,4−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−
ヒドロキシメチルフェニル）メタノール、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアル
デヒド、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸エチル、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）
ヒドロキシメチル］安息香酸メチル、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）
ヒドロキシメチル］安息香酸、 ４（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）安
息香酸、および ４（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
安息香酸、 ４（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
安息香酸メチル、 ４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
イル）安息香酸メチル、および ４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
イル）安息香酸。
またこの発明は、例えば上記式（Ｉ）の化合物の製法
を目的とする。
式（II）（ただし、Ｒ′およびＲ″は一緒になってオ
キソ基を形成し、ｎ＝０）で示される化合物は次の反応
式により得られる。
R11＝１〜20個の炭素原子を有するアルキル。
出発物質の４−アルコキシカルボニル安息香酸（１）
は、４−ホルミル安息香酸アルキル、好ましくは４−ホ
ルミル安息香酸メチル（市販製品である）の酸化により
得られる。
対応する酸塩化物は、常用の酸塩化物製造方法に従い
塩化チオニルの作用により製造される。
４−アルコキシカルボニル安息香酸塩化物（２）とベ
ンゼン誘導体（３）の縮合反応は、フリーデル−クラフ
ツ反応条件下、すなわち０〜25℃の温度で有機溶媒、例
えば1,2−ジクロロエタン中無水塩化アルミニウムの存
在下攪拌しながら行なわれる。
エステル（４）から出発した、けん化により対応する
酸（５）を得、次いでN,N′−カルボニルジイミダゾー
ル（CDI）の存在下式 で示されるアミンの作用により式（６）で示されるアミ
ドに変換することができる。
式（Ｉ）におけるR11の意味次第では、特にR11がモノ
ヒドロキシまたはポリヒドロキシアルキル基を表わす場
合、メチルエステル（４）（R11＝−CH3）から出発して
酸（５）を製造し、次にこうして得られた酸を公知方法
により選択されたアルコールのエステルにエステル化す
るのが好ましい。
式（Ｉ）で示される化合物においてｎ＝１の場合、そ
れらは次の反応式により得られる。
ケト酸（５）を水素化アルミニウムリチウムの存在下
還元して対応するジオール（７）を得、次いでクロロク
ロム酸ピリジウム（PCC）の存在下で酸化してケト−ア
ルデヒド（８）を得る。これを置換または非置換ホスホ
ノ酢酸アルキルを用いたウィティヒーホーナー反応によ
りTHFのような有機溶媒中水素化ナトリウムの存在下に
式（９）で示される不飽和エステルを得る。
次に式（９）で示されるエステルを前と同様にして対
応する酸に変換し、次いで式 で示されるアミンの作用によりアミドに変換し得る。
式（II）（ただし、Ｒ′＝ＨおよびＲ″＝OH）で示さ
れる化合物は、ケトン誘導体から出発してTHFまたはメ
タノール中水素化ホウ素ナトリウムで還元することによ
り得られる。
式（II）（ただし、Ｒ′＝Ｒ″＝Ｈ）で示される化合
物は、塩酸の存在下、酢酸中亜鉛を用いてケトン誘導体
を還元することにより得られる。
カルボニルの還元反応は、種々の置換基（R2〜R7）お
よびR1基の性質と両立し得るものであるべきである。場
合により保護を確実にするのが望ましいが、カルボニル
の還元はR1＝−CO2Hの場合何ら問題をもたらさない。
式（II）（ただしＲ′＝ＨおよびＲ″＝C1−C4アシル
オキシ）で示される化合物のアシルオキシ誘導体は、酸
の活性形態、例えば無水物または酸塩化物を式（II）
（ただしＲ′＝ＨおよびＲ″＝OH）で示される化合物と
反応させることにより得られる。
また式（II）（ただし、Ｒ′＝ＨおよびＲ″＝C1−C4
アルコキシ）で示される化合物のアルコキシ誘導体は、
式（II）（ただしＲ′＝ＨおよびＲ″＝OH）で示される
化合物から出発して常法により得られる。
アシルオキシおよびアルコキシ誘導体の製造におい
て、R1基がエステル、酸またはアミド官能基であるのが
好ましい。
式（III）（ただし、Ｒ′およびＲ″は一緒になって
オキソ基を形成する）で示される化合物は、次の反応式
により得られる。
Ｘ＝BrまたはClおよびR11＝C1−C20アルキル。
出発物質の６−アルコキシカルボニルナフタレン−２
−カルボン酸は、好ましくは市販製品のナフタレン−2,
6−ジカルボン酸メチルから出発する、ナフタレン−2,6
−ジカルボン酸アルキルのモノけん化反応により得られ
る。対応する酸塩化物（11）は、常用の酸塩化物製造方
法に従い、塩化チオニルの作用により製造される。
６−アルコキシカルボニルナフタレン−２−カルボン
酸塩化物（11）の縮合反応は、フリーデル−クラフツ反
応条件下でベンゼン誘導体（12）と、またはマグネシウ
ムを含むハロゲンベンゼン誘導体（13）との間で行なわ
れ得る。
フリーデル−クラフツ反応条件は、式（４）で示され
る化合物の製造に関して前述したものと同じである。マ
グネシウムを含むハロゲノベンゼン誘導体（13）の製造
は、還流温度で無水THF中において行なわれ、酸塩化物
の縮合は同溶媒中約０℃の温度で行なわれる。
式（II）で示される化合物に関して前述した方法と同
様にして、式（III）で示される他の化合物すなわち式
（15）および（16）で示される化合物および式（III）
（ただし、Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基以外
のものを表わす）で示される化合物を得ることができ
る。
同様にこの発明は、例えば前記の式（Ｉ）で示される
化合物の医薬用途に関する。
これらの化合物は、ヌードラットにおける「テープス
トリッピング」による誘発後のオルニチンデカルボシラ
ーゼ阻害試験において活性を示す［ブクリエル等、「ダ
ーマトロジカ（Dermatologica）」196巻、４号（1984
年）］。この試験は、抗増殖活性の尺度として認められ
ている。
これらの化合物は特に、角質化（分化−増殖）障害と
関連した皮膚疾患および炎症および／または免疫アレル
ギー要素と関連した皮膚疾患、特に、 一般的アクネ、面ぼう性アクネ、または多形性アク
ネ、老年性アクネ、日焼によるアクネ、および薬品によ
るアクネ、または職業性アクネ、 広域および／または重症の状態の乾癬、および角質化
の多の障害、および特に魚鱗癬および魚鱗様状態、 ダリエ症、 手掌−足の裏の角皮症、 ロイコプラキーおよびロイコプラキー様状態、扁平苔
癬、 良性または悪性、重症または広域のあらゆる皮膚増殖 の処理に適している。
また、腫瘍（癌）、リューマチ性乾癬、皮膚または呼
吸器アトピーおよび角膜疾患に関連した眼科におけるあ
る種の問題を処理において活性を示す。
またこの発明は、少なくとも１種の前記式（Ｉ）の化
合物、その塩類、または光学もしくは幾何異性体を含有
する医薬組成物に関するものである。
したがってこの発明は、適当な医薬用支持材中に少な
くとも１種の式（Ｉ）の化合物および／またはその塩類
および／または光学もしくは幾何異性体を含有すること
を特徴とする、特に上記疾患の処理を目的とする新規医
薬組成物に関するものである。
一般にこの発明の化合物は、約２μg/kg（体重）〜2m
g/kg（体重）の割合で１日１回投与される。
組成物の担体としては常用の担体を用いることがで
き、活性成分は賦形剤中に溶解した状態または分散した
状態で存在する。
投与は、経口、非経口、局所または経眼手段により行
なわれる。経口投与の場合、医薬は、錠剤、カプセル、
糖衣錠剤、シロップ、けん濁液、溶剤、散剤、顆粒剤、
乳剤の形をとり得る。非経口投与の場合、組成物は注入
用または注射用溶液またはけん濁液の形をとり得る。
局所投与の場合、この発明による化合物をベースとす
る医薬組成物は、軟膏、チンキ剤、クリーム、ポマー
ド、パウダー、タンブル（timbre）、湿潤タンポン、溶
液剤、ローション、ゲル、スプレーまたは懸濁剤の形態
をとり得る。
局所投与用組成物は、臨床上の指示に従い無水物形態
または水性形態をとり得る。
点眼手段の場合、主として目薬の形をとる。
局所投与または点眼用組成物は、好ましくは前記式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を組成物の全重量に対
して0.005〜約５重量％の割合で含有する。
またこの発明による式（Ｉ）の化合物は、化粧品分
野、特に身体および頭髪の衛生および特にアクネ傾向の
ある皮膚の処置、頭髪の再生、脱落防止、皮膚または毛
髪の脂肪相に対する処置、日焼による悪影響の防止およ
び処置または生理学的に乾燥した皮膚の処置に適してい
る。
同様にこの発明は、適当な化粧用担体中に少なくとも
１種の式（Ｉ）の化合物またはその塩類および／または
その異性体を含有する化粧組成物を目的とするものであ
り、これらの組成物は特にローション、ゲル、クリー
ム、石けんまたはシャンプーの形をとる。
化粧組成物における式（Ｉ）の化合物の濃度は、0.00
05〜２重量％および好ましくは0.01〜１重量％である。
この発明による医薬および化粧組成物は、不活性添加
剤または薬理学的もしくは化粧活性添加剤および特に湿
潤剤、例えばチアモルホリノンおよびその誘導体または
尿素、抗脂漏剤または抗アクネ剤、例えばＳ−カルボキ
シメルステイン、Ｓ−ベンジルシステアミン、それらの
塩および誘導体、チオキソロンまたは過酸化ベンゾイ
ル、抗生物質、例えばエリトロマイシンおよびそのエス
テル類、ネオマイシン、テトラサイクリン類および4,5
−ポリメチレン−３−イソチアゾロン、頭髪再生に適し
た薬剤、例えば「ミノキシジル（Minoxidil）」（2,4−
ジアミノ−６−ピペリジノピリミジン−３−オキシド）
およびその誘導体、ジアゾオキシド（Diazoxide）（７
−クロロ−３−メチル−1,2,4−ベンゾチアジアジン−
1,1−ジオキシド）およびフェニトイン（Phenytoin）
（5,5−ジフェニルイミダゾリジン−2,4ジオン）、ステ
ロイドおよび非ステロイド系抗炎症剤、カロチノイド類
および特にβ−カロチン、抗乾癬剤、例えばアントラリ
ンおよびその誘導体および5,8,11,14−エイコサテトラ
イン酸および5,8,11−トリイン酸およびそれらのエステ
ルおよびアミドを含み得る。
またこの発明による組成物は、風味改良剤、保存剤、
安定剤、湿度調整剤、pH調整剤、浸透圧修正剤、乳化
剤、UV−ＡおよびUV−Ｂフィルター、酸化防止剤、例え
ばα−トコフェロール、ブチルヒドロキシアニソールま
たはブチルヒドロキシトルエンを含有し得る。
以下、この発明による式（Ｉ）で示される活性化合物
の幾つかの製造例およびそれらを含有する組成物の製剤
例を挙げて説明を行なうが、これらに限定するわけでは
ない。
［製造例］ 実施例１ ６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸メチルの製造 ［式（Ｖ）（ただしＲ′10＝−OCH3、Ｒ′２＝Ｒ″４
＝イソC3H7である）で示される化合物］ 1.62g（10ミリモル）のｍ−ジイソプロピルベンゼン
および2.49g（10ミリモル）の６−メトキシカルボニル
ナフタレン−２−カルボン酸塩化物および80ccの無水1,
2−ジクロロエタンから成る懸濁液に1.87g（14ミリモ
ル）の無水塩化アルミニウムを分割して加える。混合物
を４時間周囲温度で攪拌し、次に100ccの酸性氷水に注
ぐ。有機相を分離する。水相を70ccのジクロロエタンに
より２回抽出する。ジクロロエタン相を集め、重炭酸ナ
トリウムおよび水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濃縮する。得られた固体をトルエン／ジクロロメタン
（60/40）混合物中シリカゲルクロマトグラフィーによ
り精製し、次にイソプロピルエーテル中で不純物除去を
する。濾過および乾燥後、融点71〜73℃で白色粉末形態
の６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸メタン1.2gを得る。
1HNMR（60MHz）スペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析:C25H25O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 80.40 6.75 12.85 実測値 80.16 7.00 13.13 実施例２ ６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸の製造 ［式（Ｖ）（ただし、Ｒ′10＝−OH、Ｒ′２＝Ｒ″４
＝イソC3H7）で示される化合物］ 実施例１で得られた６−（2,4−ジイソプロピルベン
ゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル0.9g（2,4
ミリモル）の懸濁液を２時間15ccのアルコールおよび15
ccの6Nカリ水溶液から成る混合物と攪拌しながら、還流
温度に加熱する。50ccの水を加えた後、アルコールを減
圧下濃縮除去する。こうして得られた水相を200ccに希
釈し、０〜５℃の温度に冷却し、15ccの12N塩酸により
酸性化する。得られた沈澱を濾過し、水洗し、80℃でカ
リにより乾燥する。
イソプロピルエーテルで再結晶後、融点187〜189℃の
６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボン酸の白色結晶0.5gを得る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは所望の構造と一致す
る。
元素分析:C24H24O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 79.97 6.71 13.32 実測値 79.94 6.72 13.25 実施例３ ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチルの製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OCH3、Ｒ″＝R3′＝R
6′＝−CH3、R12′＝−CH3）で示される化合物］ 1.5g（10ミリモル）の2,3,5−トリメチルアニソール
および2.5g（10ミリモル）の６−メトキシカルボニルナ
フタレン−２−カルボン酸塩化物および80ccの無水1,2
−ジクロロエタンから成る懸濁液に1.87g（14ミリモ
ル）の無水塩化アンモニウムを分割して加える。混合物
を３時間周囲温度で攪拌し、100ccの酸性氷水に注ぐ。
有機相を分離する。水相をさらに１回100ccのジクロロ
エタンで抽出する。ジクロロエタン相を集め、重炭酸ナ
トリウム、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
する。得られた固体をトルエン／ジクロロメタン60/40
混合物中シリカゲルクロマトグラフィーにより精製す
る。濃縮および乾燥後、融点144〜145℃の黄色粉末形態
の６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル1.2gを得る。
1HNMR（60MHz）スペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析:C23H22O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 76.22 6.12 17.66 実測値 76.30 6.09 17.50 実施例４ ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸の製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OH、R2″＝R3′＝
R6′＝−CH3、R12′＝−CH3）で示される化合物］ 実施例３で得られた６−（４−メトキシ−2,3,6−ト
リメチルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチ
ル0.98g（2.7ミリモル）の懸濁液を２時間還流温度に加
熱しながら20ccのアルコールおよび20ccの6Nカリ水溶液
から成る混合物と攪拌する。60ccの水を加えた後、アル
コールを減圧下濃縮除去する。得られた水相を300ccに
希釈し、０〜５℃に冷却し、20ccの12N塩酸により酸性
化する。得られた沈澱を濾過し水洗し、80℃でカリによ
り乾燥する。まずシクロヘキサン／酢酸エチル混合物、
次いでヘキサン／アセトン混合物で再結晶後、融点260
℃の６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸の白色結晶0.71gを得
る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは所望の構造と一致す
る。
元素分析:C22H20O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 75.84 5.79 18.37 実測値 75.64 5.87 18.50 実施例５ ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸メチルの製造。
［式（Ｖ）ただし、R10′＝−OCH3、R2″＝Ｈ、R4″
＝ｔ−C4H9）で示される化合物］ 1.61g（12ミリモル）のｔ−ブチルベンゼンおよび3g
（12ミリモル）の６−メトキシカルボニルナフタレン−
２−カルボン酸塩化物および80ccの無水1,2−ジクロロ
エタンから成る懸濁液に3.2g（24ミリモル）の無水塩化
アルミニウムを分割して加える。混合物を５時間周囲温
度で攪拌し、100ccの酸性氷水に注ぐ。有機相を分離
し、水相をさらに１回100ccのジクロロエタンにより抽
出する。ジクロロエタン相を集め、重炭酸ナトリウムで
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。得られた
粗固体をメタノールにより２回次いでイソプロパノール
により１回再結晶する。乾燥後、融点133.5〜134.5℃の
６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸メチルの白色結晶1.62gを得る。
1HNMR（60MHz）スペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析:C23H22O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 79.74 6.40 13.86 実測値 79.88 6.50 13.53 実施例６ ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸の製造。
［式（Ｖ）（ただし、R10′＝−OH、R2′＝Ｈ、R4″
＝ｔ−C4H3）で示される化合物］ 実施例５で得られた６−（４−ｔ−ブチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル1.25g（3.6ミリ
モル）の懸濁液を25ccのアルコールおよび25ccの6Nカリ
水溶液の混合物中で２時間還流温度に加熱しながら攪拌
する。100ccの水を加えた後、アルコールを減圧下濃縮
除去する。得られた水相を250ccに希釈し、０〜５℃に
冷却し、次いで20ccの12N塩酸により酸性化する。得ら
れた沈澱を濾過し、水洗し、80℃でカリにより乾燥す
る。
イソプロピルエーテルで再結晶後、融点233〜234℃の
６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸の白色結晶0.84gを得る。
1HNMR（250MHz）スペクトウは所望の構造と一致す
る。
元素分析:C22H20O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 79.49 6.04 14.44 実測値 79.54 6.07 14.36 実施例７ Ｎ−エチル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボキシアミドの製造。
［式（Ｖ）（ただし、R10′＝−NHC2H5、R2′＝Ｈ、R
4″＝ｔ−C4H9）で示される化合物］ 実施例６で得られた６−（４−ｔ−ブチルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸250mg（0.75ミリモ
ル）およびN,N′−カルボニルジイミダゾール150mg（0.
92ミリモル）および8ccの無水ジクロロメタンから成る
懸濁液を１時間周囲温度で攪拌する。次いで得られた溶
液に0.06cc（0.88ミリモル）の無水エチルアミンを加え
る。１時間の攪拌後、反応媒質を20ccのジクロロメタン
により希釈し、10ccの水、10ccの１規定ソーダ、10ccの
水、10ccの1N塩酸および10ccの水により続けて洗浄す
る。ジクロロメタン相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
乾固する。粗アミドを60℃で真空乾燥し、次いでイソプ
ロピルエーテルにより再結晶する。融点139℃のＮ−エ
チル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボキシアミドの白色結晶190mgを得る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは、所望の構造と一致す
る。
元素分析:C24H25NO2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｏ（％） 計測値 80.19 7.01 3.90 8.90 実測値 79.98 7.00 4.03 9.11 実施例８ ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボン酸メチルの製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OCH3、R2′＝R6′＝
Ｈ、R3′＝１−アダマンチル、R12′＝−CH3）で示され
る化合物］ 6.6g（0.02ミリモル）の２−アダマンチル−４−ブロ
モアニソールおよび75ccの無水テトラヒドロフランから
成る溶液を500mg（0.02モル）テトラヒドロフランで覆
われたマグネシウムに加え、マグネシウム全部が消える
まで還流する。次いで反応媒質を０℃に冷却し、2.5g
（0.01モル）の６−メトキシカルボニルナフタレン−２
−カルボン酸塩化物を無水THF（テトラヒドロフラン）
に溶かした溶液に加える。混合物を周囲温度で１時間保
ち、次いで塩化アンモニウム水溶液に注ぐ。所望の生成
物をエーテルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧濃縮する。６−（３−アダマンチル−４−メトキシベ
ンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチルをシリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し（溶離剤：ヘキサ
ン／酢酸エチル）、メタノールにより結晶化する。
融点130〜132℃の白色粉末1.2gを得る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは、所望の構造と一致す
る。
実施例９ ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）
ナフタレン−２−カルボン酸の構造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OH、R2″＝R6′＝
Ｈ、R3′＝１−アダマンチル、R12′＝−CH3）で示され
る化合物］ 実施例８で得られた６−（３−アダマンチル−４−メ
トキシベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル
1gの懸濁液を50ccのエタノールおよび50ccの6Nカリ水溶
液から成る混合物中50〜60℃の温度で１時間攪拌する。
100ccの水を加えた後、エタノールを減圧下濃縮除去す
る。水相に塩酸を加えて酸性化することにより約pH1に
し、次に100ccの酢酸エチルで２回抽出する。有機相を
乾燥し、減圧濃縮する。６−（３−アダマンチル−４−
メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸をメ
タノールにより結晶化する。濃縮後、融点270〜272℃の
淡赤色粉末を得る。
元素分析:C29H28O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 79.06 6.40 14.52 実測値 78.58 6.43 14.64 実施例10 ６−（４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カ
ルボン酸メチルの製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OCH3、R2″＝R3′＝R
6′＝Ｈ、R12′＝−CH3）で示される化合物］ 4.5g（0.04モル）のアニソールおよび10g（0.04モ
ル）の６−メトキシカルボニルナフタレン−２−カルボ
ン酸塩化物および約80ccの無水ジクロロエタンから成る
溶液に8.05g（0.06モル）の無水塩化アルミニウムを少
量ずつ加える。混合物を周囲温度で一夜放置し、100cc
の氷水に注ぐ。有機相を分離する。水相を300ccのジク
ロロメタンにより抽出する。有機相を合わせ、重炭酸ナ
トリウムで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮する。所望の生成物をアセトニトリルで再結晶化し、
次いでメチルエチルケトンで再結晶化することにより精
製する。融点170〜171℃の白色粉末2.5gを得る。
元素分析:C20H16O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 74.98 5.03 19.97 実測値 75.05 4.95 19.94 実施例11 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボン酸メチルの製造。
［式（Ｖ）（ただし、R10′＝−OCH3、R2′＝Ｈ、
R4″＝シクロヘキシル）で示される化合物］ 2.08g（13ミリモル）のフェニルシクロヘキサン、3.2
3（13ミリモル）の６−メトキシカルボニルナフタレン
−２−カルボン酸塩化物および80ccの無水1,2−ジクロ
ロエタンから成る懸濁液に3.33g（25ミリモル）の無水
塩化アルミニウムを分割して加える。混合物を周囲温度
で６時間撹拌し、次に150ccの酸性氷水に注ぐ。有機相
を分離する。水相を60ccのジクロロエタンにより２回抽
出する。ジクロロエタン相を合わせ、重炭酸ナトリウム
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減圧濃縮す
る。粗生成物をメタノール、次いでイソプロパノールに
より２回再結晶する。乾燥後、融点130℃の６−（４−
シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン
酸メチルの白色結晶2.4gを得る。
1HNMR（60MHz）スペクトルは、所望の構造に一致す
る。
元素分析:C25H24O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 80.62 6.50 12.89 実測値 80.12 6.58 13.28 実施例12 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−
２−カルボン酸の製造。
［式（Ｖ）（ただし、R10′＝−OH、R2′＝Ｈ、R4″
＝シクロヘキシル）で示される化合物］ 実施例11で得られた６−（４−シクロヘキシルベンゾ
イル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル1.2g（3.2ミ
リモル）の懸濁液を25ccのアルコールおよび25ccの6Nカ
リ水溶液から成る混合物中３時間還流温度に加熱しなが
ら撹拌する。150ccの水を加えた後、アルコールを減圧
下濃縮除去する。得られた水相を400ccに希釈し、０〜
５℃に冷却し、次いで20ccの12N塩酸により酸性化す
る。得られた沈澱を濾過し、水洗し、80℃で真空乾燥す
る。イソプロピルアルコールで再結晶後、融点241〜242
℃の６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸の赤味を帯びた白色結晶0.95gを得
る。
1HNMR（250MHz）ペクトルは、所望の構造に一致す
る。
元素分析:C24H22O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 80.42 6.19 13.39 実測値 80.36 6.19 13.23 実施例13 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボン酸メチルの製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OCH3、R2″＝R6′＝
Ｈ、R3′＝−C6H5、R12′＝−CH3）で示される化合物］ 80ccの無水1,2−ジクロロエタン中2.4g（13ミリモ
ル）の２−メトキシビフェニルおよび3.23g（13ミリモ
ル）の６−メトキシカルボニルナフタレン−２−カルボ
ン酸塩化物から成る懸濁液に3.33g（25ミリモル）の無
水塩化アルミニウムを分割して加える。混合物を周囲温
度で４時間攪拌し、150ccの酸性氷水に注ぐ。有機相を
分離する。水相を60ccのジクロロエタンにより２回抽出
する。ジクロロエタン相を合わせ、重炭酸ナトリウムで
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次に減圧濃縮する。
得られた固体を再び200ccのメタノールに溶かして濾過
し、メタノール、次いでアセトニトリルにより２回再結
晶する。乾燥後、融点160〜162℃の６−（４−メトキシ
−３−フェニルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン
酸メチルの白色結晶2gを得る。
1HNMR（60MHz）スペクトルは、所望の構造に一致す
る。
元素分析:C26H20O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 78.77 5.09 16.14 実測値 78.79 5.08 15.98 実施例14 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフ
タレン−２−カルボン酸の製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OH、R2′＝R6′＝
Ｈ、R3＝−C6H5、R12′＝−CH3）で示される化合物］ 実施例13で得られた６−（４−メトキシ−３−フェニ
ルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル1.3g
（3.28ミリモル）の懸濁液を30ccのアルコールおよび30
ccの6Nカリ水溶液の混合物中で３時間還流温度に加熱お
よび攪拌する。200ccの水を加えた後、アルコールを減
圧下濃縮除去する。生成した水相を500ccの水で希釈
し、０〜５℃に冷却し、次に25ccの12N塩酸により酸性
化する。生成した沈澱を濾過し、水洗し、80℃で真空乾
燥する。粗生成物を初めにジクロロメタン、次にジクロ
ロメタン／イソプロパノール混合物で溶離してシリカゲ
ル60クロマトグラフィーにより迅速に精製する。減圧濃
縮し、アセトニトリル／酢酸混合物で再結晶後、融点22
1〜223℃の６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイ
ル）ナフタレン−２−カルボン酸の白色結晶0.6gを得
る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは、所望の構造に一致す
る。
元素分析:C25H18O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 78.52 4.74 16.74 実測値 78.63 4.83 16.55 実施例15 ６−（４−フェノキシベンゾイル）ナフタレン−２−
カルボン酸メチルの製造。
［式（VI）（ただし、R10′＝−OCH3、R3″＝R6′＝
Ｈ、R12′＝−C6H5）で示される化合物］ 2.21g（13ミリモル）のジフェニルエーテルおよび3.2
3g（13ミリモル）の６−メトキシカルボニルナフタレン
−２−カルボン酸塩化物および80ccの無水1,2−ジクロ
ロエタンから成る懸濁液に3.33g（25ミリモル）の無水
塩化アルミニウムを分割して加える、混合物を周囲温度
で５時間撹拌し、次に150ccの酸性氷水に注ぐ。有機相
を分離し、水相を80ccのジクロロエタンにより２回抽出
する。ジクロロエタン相を合わせ、重炭酸ナトリウムで
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次に減圧濃縮する。
得られた固体を沸騰メタノールで洗浄することにより精
製し、次にイソプロパノールで再結晶する。乾燥後、融
点173℃の６−（４−フェノキシベンゾイル）ナフタレ
ン−２−カルボン酸メチルの白色結晶3.2gを得る。
1HNMR（60MHz）スペクトルは所望の構造に一致する。
元素分析:C25H18O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 78.52 4.74 16.74 実測値 78.55 4.83 16.64 実施例16 ６−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］ナフタレン−２−カルボン酸の製造。
［式（III）（ただし、Ｒ′＝Ｈ、Ｒ″＝OH、R2＝R4
＝イソC3H7、R3＝R5＝R6H、R1＝−CO2H）で示される化
合物］ 実施例２で得られた６−（2,4−ジイソプロピルベン
ゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸0.54g（1.5ミリモ
ル）および15ccの無水テトラヒドロフランから成る溶液
（０℃に冷却）に、170mg（4.5ミリモル）の水素化ホウ
素ナトリウムを加え、周囲温度に戻しながら１時間攪拌
し、次に約30分で還流温度に加熱する。還元は完了して
いる。
反応媒質を０℃に冷却し、次に0.1N塩酸をゆっくりと
加えることにより酸性化し、エチルエーテルで抽出す
る。
エーテル相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
乾固する。得られた粗生成物を少量のアセトンを含有す
るヘキサンにより再結晶する。70℃で乾燥後、６−
［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメチ
ル］ナフタレン−２−カルボン酸の白色結晶0.4gを得
る、融点225℃。
1HNMR（250MHz）スペクトルは所望の構造に一致す
る。
元素分析:C24H26O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 79.53 7.23 13.24 実測値 79.16 7.23 13.44 実施例17 ６−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］ナフタレン−２−カルビノールの製造。
［式（III）（ただし、Ｒ′＝Ｈ、Ｒ″＝OH、R2＝R4
＝ｉ−C3H7、R3＝R5＝R6＝Ｈ、R1＝CH2OH）で示される
化合物］ −10℃に冷却した230mg（６ミリモル）の水素化アル
ミニウムリチウムおよび5ccの無水テトラヒドロフラン
から成る溶液に、実施例２で得られた６−（2,4−ジイ
ソプロピルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸0.
72g（２ミリモル）および無水テトラヒドロフラン10cc
から成る溶液を加える。
周囲温度に戻しながら１時間攪拌後、反応媒質を０℃
に冷却し、0.1N塩酸をゆっくりと加えることにより酸性
化し、エチルエーテルで抽出する。
エーテル相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
乾固する。粗生成物をトルエン／ジクロロメタン／酢酸
エチル（20/40/30）混合物で溶離するシリカゲル60高速
クロマトグラフィーにより精製し、次にヘキサン／アセ
トン混合物で再結晶化する。
70℃で真空乾燥後、６−［（2,4−ジイソプロピルフ
ェニル）ヒドロキシメチル］ナフタレン−２−カルビノ
ール、融点136℃の白色針晶0.52gを得る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは所望の構造と一致す
る。
元素分析:C24H28O2 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 82.72 8.10 9.18 実測値 82.54 8.07 9.48 実施例18 ６−（2,4−ジイソプロピルベンジル）ナフタレン−
２−カルボン酸の製造。
［式（III）（ただし、Ｒ′＝Ｒ″＝R3＝R5＝R6＝
Ｈ、R2＝R4＝ｉ−C3H7およびR1＝−CO2H）で示される化
合物］ 亜鉛末1.3g（20ミリモル）および氷酢酸20ccから成る
懸濁液に実施例２で得られた６−（2,4−ジイソプロピ
ルベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸0.72g（２
ミリモル）を加え、１時間加熱還流する。次いで2ccの1
2N塩酸を滴下し、30分還流を続ける。
周囲温度に冷却し、20ccの12N塩酸を加えた後、反応
媒質を100ccの水で希釈し、ジクロロメタンで抽出す
る。有機相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃
縮する。得られた粗生成物をトルエン／ジクロロメタン
／酢酸エチル（30/40/30）混合物で溶離するシリカゲル
60クロマトグラフィーにより精製し、次に痕跡量のアセ
トンを含有するヘキサンで再結晶する。
60℃で真空乾燥後、６−（2,4−ジイソプロピルベン
ジル）ナフタレン−２−カルボン酸、融点183〜185℃の
白色結晶0.4gを得る。
1HNMR（250MHz）スペクトルは所望の構造と一致す
る。
元素分析:C24H26O2 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 83.20 7.56 9.24 実測値 83.08 7.49 9.41 実施例19 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メ
チルの製造。
［式（IV）（ただし、R2′＝R4′＝ｉ−C3H7、R2′お
よびＲ＝オキソ、R3′＝R5′＝Ｈ、およびR1′＝−CO
2CH3）で示される化合物］ 1.20ccの1,3−ジイソプロピルベンゼン（0.011モル）
および2g（0.01モル）の４−メトキシカルボニル安息香
酸化物および50ccの無水1,2−ジクロロエタンを周囲温
度で攪拌して成る溶液に、温度を35℃以下に維持しなが
ら2.40gの無水塩化アルミニウム粉末を少量ずつ加え
る。
出発生成物全部が消えるまで１時間攪拌を続ける。反
応媒質を100ccの氷水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出す
る。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水によ
り洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。
油状物を回収し、ヘキサンにより結晶化して2.7gの４
−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メチ
ル、融点64〜65℃を得る。
1HNMR（80MHz）スペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析:C21H24O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 77.75 7.46 14.79 実測値 77.55 7.46 14.87 実施例20 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸の
製造。
［式（IV）（ただし、R2′＝R4′＝ｉ−C3H7、R2′お
よびＲ″＝オキソ、R3′＝R5′＝Ｈ、およびR1′＝−CO
2H）で示される化合物］ 実施例19で得られた４−（2,4−ジイソプロピルベン
ゾイル）安息香酸メチル2.7gおよび200ccの無水アルコ
ールから成る溶液に6Nカリ水溶液75ccを加える。出発生
成物全部が消えるまで反応混合物の温度を約１時間で40
℃にし、次いでアルコールを減圧濃縮する。水相を300c
cの水で希釈し、０℃に冷却し、濃塩酸で酸性化する。
得られた生成物を濾過し、トルエン／ヘキサン混合物
で再結晶化する。融点181〜182℃の白色粉末1.3gを回収
する。
1HNMR（80MHz）スペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析:C20H22O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計測値 77.39 7.15 15.46 実測値 77.19 7.15 15.56 実施例21 １−（2,4−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−
ヒドロキシメチルフェニル）メタノールの製造。
［式（IV）（ただし、R2′＝R4′＝ｉ−C3H7、Ｒ′＝
Ｈ、Ｒ″＝OH、R3′＝R3′＝R5′＝ＨよびR1′＝−CH2O
H）で示される化合物］ ０℃に維持された3.5gの水素化アルミニウムリチウム
および200ccの無水テトラヒドロフランの懸濁液に実施
例19で得られた４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイ
ル）安息香酸メチル10gおよびテトラヒドロフラン50cc
から成る溶液を滴下する。滴下終了後、周囲温度で出発
生成物および還元中間体が全部消えるまで反応媒質の攪
拌を続ける。
50ccの酢酸エチルを加えて過剰の水素化物を除去後、
溶液を200ccの水に注ぎ、3N塩酸により酸性化し、酢酸
エチルで抽出する。有機相を洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。6gの１−（2,4−ジイソプロ
ピルフェニル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェニ
ル）メタノールを回収し、ヘキサンで結晶化して融点85
〜86℃の白色粉末形態を得る。1HNMR（80MHz）スペクト
ルは所望の構造と一致する。
実施例22 ４−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシ
メチル］安息香酸の製造。
［式（IV）（ただし、R2′＝R4′＝ｉ−C3H7、Ｒ′＝
Ｈ、Ｒ″＝OH、R3′＝R5＝ＨおよびR1′＝−CO2H）で示
される化合物］ 実施例20で得られた４−（2,4−ジイソプロピルベン
ゾイル）安息香酸1gメタノール10ccを周囲温度で攪拌し
た溶液に2gの水素化ホウ素ナトリウムを少量ずつ加え
る。
出発物質が全部消えるまで２時間撹拌を続ける。
反応媒質を100ccの水により加水分解し、次に3N塩酸
溶液で酸性化する。
メタノールを減圧濃縮後、水相を酢酸エチルで抽出す
る。有機相を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮する。
残留物を少量のジイソプロピルエーテルに溶かし、40
0mgの４−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキ
シメチル］安息香酸、融点114〜115℃を得る。
1HNMR（80MHz）スペクトルは所望の構造と一致する。
実施例23 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアル
デヒドの製造。
［式（IV）（ただし、R2′＝R4′＝ｉ−C3H7、Ｒ′お
よびＲ″＝オキソ、R3′＝ＨおよびR1′＝−CHO）で示
される化合物］ 実施例21で得られた１−（2,4−ジイソプロピルフェ
ニル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェニル）メタノ
ール6gおよび無水ジクロロメタン200ccから成る溶液に
クロロクロム酸ピリジニウム10.8gを加える。
出発生成物がすべて消えるまで約３時間攪拌を続け、
次いで20gのシリカおよび300ccのジクロロメタンを加え
た後、溶液を濾過し、塩化アンモニウム溶液および水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。
シリカゲルクロマトグラフィー（溶離剤はヘキサン／
酢酸エチル9/1）で精製後、3gの４−（2,4−ジイソプロ
ピルベンゾイル）ベンズアルデヒドを油状物として得
る。
1HNMR（80MHz）スペクトルは、所望の構造と一致す
る。
実施例24 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸エチルの製造。
［式（Ｉ）（ただし、ｎ＝１、R2＝R4＝ｉ−C3H7、
Ｒ′およびＲ″＝オキソ、R3＝R5＝R6＝R7＝R8＝Ｈ、R9
＝CH3およびR1＝−CO2C2H5）で示される化合物］ 3.5ccの２−トリエチルホスホノプロピオネートおよ
び200ccの無水テトラヒドロフランから成る溶液に1gの
水素化ナトリウムを少量ずつ加える。気体の放出が認め
られる。
約２時間攪拌を続け、続いて光を遮断した状態で、数
滴のクラウンエーテルおよび実施例23で得られた４−
（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアルデヒド3
gを無水テトラヒドロフラン50ccに溶かした溶液を加え
る。加え終えた後、攪拌を２時間続け、次に反応媒質を
塩化アンモニウム飽和溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。
有機相を洗浄し、乾燥し、減圧濃縮する。
シリカゲルクロマトグラフィー（溶離剤、ヘキサン／
酢酸エチル:9.5/0.5）により精製後、2gの４−（2,4−
ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチル桂皮酸エチル
を油状物として回収する。
1HNMR（80MNz）スペクトルは所望の構造と一致する。
実施例25 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチ
ル桂皮酸の構造。
［式（Ｉ）（ただし、ｎ＝１、R2＝R4＝ｉ−C3H7、
Ｒ′およびＲ″＝オキソ、R3＝R5＝R6＝R7＝R8＝Ｈ、R9
＝CHおよびR1＝−CO2H）で示される化合物］ 実施例24で得られた４−（2,4−ジイソプロピルベン
ゾイル）−α−メチル桂皮酸エチル1.5gの溶液を、100c
cのエタノールおよび50ccの6Nカリ水溶液からなる混合
物中40〜50℃の温度で２時間攪拌する。
エタノールを減圧濃縮後、残留物を500ccの水に溶か
し、3N塩酸により酸性化する。
酢酸エチルにより所望の酸を抽出する。有機相を洗浄
し、乾燥し、減圧濃縮する。
ヘキサンで結晶化することにより、融点119〜120℃の
白色粉末0.9gを得る。1HNMR（80MHz）スペクトルは、４
−（2,4ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチル桂皮
酸の構造と一致する。
元素分析:C23H26O3 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 78.82 7.48 13.70 実測値 78.91 7.49 13.90 実施例26 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）
ヒドロシメチル］安息香酸メチルの製造。
［式（IV）（ただし、R1′＝−CO2CH3、Ｒ′＝Ｈ、
Ｒ″＝OH、R5＝アダマンチル、R4′＝OCH3、R2′＝R3′
＝Ｈ）で示される化合物］ 38g（0.118モル）の２−アダマンチル−４−ブロモア
ニソールおよび350ccのテトラヒドロフランから成る溶
液に2.87g（0.118モル）のマグネシウムを加える。マグ
ネシウムがすべて消えるまでテトラヒドロフランの還流
を維持する。反応媒質を０℃に冷却後、50ccのテトラヒ
ドロフランに13.7gの４−ホルミル安息香酸メチルを溶
かした溶液を滴下する。混合物を１時間周囲温度に保
ち、次に塩化アンモニウム飽和溶液に注ぐ。所望の生成
物をエーテルで抽出する。
有機相を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮する。
圧力を加えながらシリカゲルクロマトグラフィー（溶
離剤：トルエン／酢酸エチル85:5）を行なった後、白色
結晶生成物19g、融点109〜110℃を回収する。1HNMR（80
MHz）スペクトルは、４−［（３−アダマンチル−４−
メトキシフェニル）ヒドロキシメチル］安息香酸メチル
の構造と一致する。
実施例27 ４−［（３−アダマンチル−４−メノキシフェニル）
ヒドロキシメチル］安息香酸の製造。
［式（IV）（ただし、R1′＝−CO2H、Ｒ′＝R2′＝
R3′＝Ｈ、Ｒ″＝OH、R5′＝アダマンチル）で示される
化合物］ 実施例26で得られた４［（３−アダマンチル−４−メ
トキシフェニル）ヒドロキシメチル］安息香酸メチル19
gの懸濁液を、300ccのエタノールおよび200ccの6Nカリ
水溶液から成る混合物中で１時間30分60℃に加熱する。
エタノールを減圧濃縮後、残留物を300ccの水に溶か
し、3N塩酸により酸性化（pH2）する。
所望の酸をエーテルで抽出する。有機相を洗浄し、乾
燥し、減圧濃縮する。
軽いクリーム状生成物、融点219〜220℃、17gを得
る。1HNMR（80MHz）スペクトルは、４−［（３−アダマ
ンチル−４−メノキシフェニル）ヒドロキシメチル］安
息香酸の構造と一致する。
元素分析:C25H28O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 76.50 7.19 16.31 実測値 76.17 7.08 15.93 実施例28 ４−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）
安息香酸の製造。
［式（IV）（ただし、R1′＝−CO2H、R2′＝R3′＝
Ｈ、Ｒ′およびＲ″＝オキソ、R5′＝アダマンチル、
R4′＝−OCH3）で示される化合物］ 実施例27で得られた４−［（３−アダマンチル−４−
メトキシフェニル）ヒドロキシメチル］安息香酸10gを
アセトン700ccに溶かした溶液に、室温で8gのK2Cr2O7、
7ccの濃硫酸および50ccの水から成る溶液を滴下する。
出発生成物が消えるまで１時間攪拌を続ける。
アセトンを減圧濃縮後、残留物を500ccの水に溶か
し、エチルエーテルで抽出する。
有機相を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃
縮する。４−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾ
イル）安息香酸9.5gを回収する。1HNMR（80MHz）スペク
トルは所望の構造と一致する。
粗酸3gの試料をトルエン／ヘキサン混合物で再結晶す
ることにより融点235〜236℃の酸2.5gを得る。
元素分析:C25H26O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 76.90 6.71 16.39 実測値 76.97 6.76 16.52 実施例29 ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイ
ル）安息香酸メチルの製造。
［式（IV）（ただし、R1′＝−CO2CH3、R2′＝R3′＝
Ｈ、Ｒ′およびＲ″＝オキソ、R5′＝アダマンチル、
R4′＝OH）で示される化合物］ 実施例28で得られた４−（３−アダマンチル−４−メ
トキシベゾイル）安息香酸1.5gおよびメタノール150cc
から成る懸濁液に、1ccの濃塩酸溶液を加える。混合物
を溶倍の沸点温度で４時間撹拌する。次いで周囲温度
で、200ccの水に注ぎ、100ccの酢酸エチルで３回抽出す
る。酢酸エチル相を合わせて、水洗し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮する。次いで粗生成物をシリカゲ
ルカラムに通して分画する。
４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイ
ル）安息香酸メチルをヘキサン／酢酸エチル（8/2）混
合物で溶離する。溶媒を濃縮後、所望の生成物を融点27
0℃の白色結晶形態で単離する。
元素分析:C25H26O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 76.90 6.71 16.39 実測値 76.50 6.97 16.11 実施例30 ４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
イル）安息香酸メチルの製造。
［式（IV）（ただし、R1′＝−CO2OH3、R2′＝Ｈ、
Ｒ′およびＲ″＝オキソ、R3′＝R5′＝ｔ−C4H9、R4′
＝OH）で示される化合物］ ０℃で20gの2,6−ジ−ｔ−ブチルフェノールおよび19
gの４−メトキシカルボニル安息香酸塩化物および300cc
のトルエンを攪拌して成る溶液に50ccまトルエンで11.6
ccの塩化錫を希釈したものを滴下する。溶液は徐々に赤
くなる。次いで滴下終了後０℃で２時間攪拌を続け、次
に反応媒質を周囲温度で一夜放置する。次いで混合物30
0ccの氷水に注ぎ、150ccの酢酸エチルで３回抽出する。
酢酸エチル相を合わせ、重炭酸ナトリウム溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。
得られた粗生成物を最小限量のトルエンで希釈し、シ
リカゲルカラムに通す。所望の生成物をヘキサン／酢酸
エチル（1/1）混合物で溶離する。溶媒を濃縮し、乾燥
後、綿状白色粉末形態の４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸メチル（融点172
℃）3gを得る。
元素分析:C23H28O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 74.97 7.66 17.37 実測値 75.00 7.70 17.52 実施例31 ４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
イル）安息香酸の製造。
［式（IV）（ただし、R1′＝−CO2H、R2′＝Ｈ、Ｒ′
およびＲ″＝オキソ、R3′＝R5″＝ｔ−C4H9、R4′＝O
H）で示される化合物］ 40ccの6Nカリ水溶液および100ccのエタノールから成
る混合物中実施例30により得られた４−（3,5−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイル）安息香酸メチル
1gを含む溶液を１時間50℃の温度にする。次いで、エタ
ノールを真空蒸発により除去し、得られた生成物を200c
cの水中で攪拌し、6N塩酸を加えることにより溶液を酸
性化し、次いで300ccの酢酸エチルにより抽出する。酢
酸エチル相を水で３回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。酢酸エチルを真空蒸発により除く。粗生成物を痕
跡量のメタノールの存在下トルエンで再結晶化後、融点
255℃の４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾイル）安息香酸の白色結晶0.7gを得る。
NMRスペクトルは所望の構造と一致する。
元素分析:C22H26O4 Ｃ Ｈ Ｏ （％） 計算値 74.55 7.39 18.06 実測値 74.12 7.42 18.61 ［製剤例］ A.経口投与用 製剤例Ｉ 0.2gの錠剤 ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチル ベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸…… 0.010g アミドン…… 0.115g 燐酸二カルシウム…… 0.020g シリカ…… 0.020g 乳糖…… 0.030g タルク…… 0.010g ステアリン酸マグネシウム…… 0.005g 製剤例II 5mlアンプルの飲用懸濁液 ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾ イル）ナフタレン−２−カルボン酸…… 0.010g グリセリン…… 0.500g 70％ソルビトール…… 0.500g サッカリンナトリウム…… 0.010g パラヒドロキシ安息香酸メチル…… 0.040g 着香剤…… 適 量 精製水…… 適量加えて全5000gとする B.局所投与用 製剤例III 軟膏 ６−（−メトキシ−３−フェニルベンゾイ ル）ナフタレン−２−カルボン酸メチル…… 0.100g ミリスチン酸イソプロピル…… 81.700g 流動ワセリン油…… 9.100g デグッサ社から「エロジル（Aerosil）200」 の名称で販売されているシリカ…… 9.100g 製剤例IV アニオン性油中水クリーム ６−（４−メトキシ2,3,6−トリメチル ベンゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸メ チル…… 0.100g ドデシル硫酸ナトリウム…… 0.800g グリセリン…… 2.000g ステアリルアルコール…… 20.000g ダイナマイト・ノーベル社から「ミグリオー ル（Miglyol）812」の名称で販売されている カプリン酸／カプリル酸トリグリセリド…… 20.000g 保存剤…… 適 量 脱イオン水…… 適量加えて全100.000gとする 前記製剤例IIIおよびIVにおいて、活性化合物を等量
の６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン
−２−カルボン酸と置き換えることができる。
製剤例Ｖ ゲル Ｎ−エチル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル ）ナフタレン−２−カルボキシアミド…… 0.500g エルキュール社から「クルセル（Klecel）HF」 の名称で販売されているヒドロキシプロピルセ ルロース…… 2.000g 水／エタノール（50/50） …… 適量加えて全100.000gとする 製剤例VI 抗脂漏性クリーム アトラス社から「ミルジ（Myrj）52」の名称 で販売されているポリオキシエチレンステア レート（エチレンオキシド40モル）…… 4.000g アトラス社から「トウイーン（Tween）20」 の名称で販売されているポリオキシエチレン （エチレンオキシド20モル）ソルビタンおよ びソルビトールのラウリン酸エステル混合物 …… 1.800g ガテュフオシュ社から「グルオール（GELEOL ）」の名称で販売されているグリセリンモノ およびステアレート混合物…… 4.200g プロピレングリコール…… 10.000g ブチルヒドロキシアニソール…… 0.010g ブチルヒドロキシトルエン…… 0.020g ケト−ステアリルアルコール…… 6.200g 保存剤…… 適 量 ペルヒドロスクアレン…… 18.000g ダイナマイト・ノーベル社から「ミグリオー ル（Miglyol）812」の名称で販売されている カプリル−カプリン酸トリグリセリド混合物 …… 4.000g Ｓ−カルボキシメチルシスティン ……3.000g 99％トリエタノールアミン…… 2.500g ６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル） ナフタレン−２−カルボン酸…… 0.100g 水…… 適量加えて全100.00gとする 製剤例VII 抗脂漏性クリーム アトラス社から「ミルジ（Myrj）52」の名称 で販売されているポリオキシエチレンステア レート（エチレンオキシド40モル）…… 4.000g アトラス社から「トウイーン（Tween）20」 の名称で販売されているポリオキシエチレン （エチレンオキシド20モル）ソルビタンおよ びソルビトールラウリン酸エステル混合物…… 1.800g カデュフオシュ社から「グルオール（GELEOL ）」の名称で販売されているグリセリンモノ およびジステアレート混合物…… 4.200g プロピレングリコール…… 10.000g ブチルヒドロキシアニソール…… 0.010g ブチルヒドロキシトルエン…… 0.020g ケト−ステアリルアルコール…… 6.200g 保存剤…… 適 量 ペルヒドロスクアレン…… 18.000g ダイナマイト・ノーベル社から「ミグリオー ル（Miglyol）812」の名称で販売されている カプレル−カプリン酸トリグリセリド混合物 …… 4.000g ５−アミノ−５−カルボキシ−３−チア吉草 酸−２−ベンジルチオエチルアンモニウム …… 3.000g ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレ ン−２−カルボン酸…… 0.500g 水…… 適量加えて全100.000gとする 製剤例VIII 頭髪用ローション プロピレングリコール…… 20.000g エタノール…… 34.870g 総分子量400のポリエチレングリコール…… 40.000g 水…… 4.000g ブチルヒドロキシアニソール…… 0.010g ブチルヒドロキシトルエン…… 0.020g ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベン ゾイル）ナフタレン−２−カルボン酸…… 0.100g ミノキシジル…… 1.000g 製剤例IX 抗アクネゲル ６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル） ナフタレン−２−カルボン酸…… 0.200g イソプロピルアルコール…… 40.000g グリッドリッチ・ケミカル・カンパニー社か ら「カルボポール（CARBOPOL）940」の名称 で販売されているアクリル酸ポリマー…… 1.000g 99％トリエタノールアミン…… 0.600g ブチルヒドロキシアニソール…… 0.010g ブチルヒドロキシトルエン…… 0.020g チオキソロン…… 0.500g プロピレングリコール…… 8.000g 精製水…… 適量加えて全100.000gとする
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 33/38 Ｃ０７Ｃ 33/38 39/15 39/15 39/17 39/17 39/205 39/205 43/178 7419−4Ｈ 43/178 Ｃ 43/23 7419−4Ｈ 43/23 Ｃ 43/295 7419−4Ｈ 43/295 Ｃ 43/315 43/315 49/86 49/86 59/84 59/84 63/36 63/36 65/105 65/105 65/11 65/11 65/26 65/26 65/34 65/34 65/36 65/36 65/40 65/40 69/738 9546−4Ｈ 69/738 Ｚ 69/76 9546−4Ｈ 69/76 Ａ 229/06 229/06 231/02 231/02 235/84 235/84 317/22 317/22 317/44 317/44 323/19 323/19 323/62 323/62 // Ａ６１Ｋ 7/00 Ａ６１Ｋ 7/00 Ｃ 7/06 7/06 7/50 7/50 31/045 ＡＤＡ 31/045 ＡＤＡ 31/075 ＡＣＤ 31/075 ＡＣＤ 31/11 ＡＢＬ 31/11 ＡＢＬ 31/12 31/12 31/135 ＡＢＥ 31/135 ＡＢＥ 31/165 ＡＢＦ 31/165 ＡＢＦ 31/19 31/19 31/215 31/215 31/235 31/235 31/395 31/395 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 セルジュ・レストル フランス国93600 オルネイ−ス−ボア、 リュ・アナトール・フランス 140番 (72)発明者 ブラーム・シュルート フランス国06600 アンティベ、シュマ ン・ド・バル−ボスク、アモー・ド・バ ル・ボスク、ビラ 35番

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式 ［式中、 ｎは０または１であり、 １）ｎ＝１の場合 Ｒ′は、水素原子であり、 Ｒ″は、水素原子またはOH基、またはＲ′およびＲ″は
    一緒になってオキソ（＝０）を形成し、 R1は−CH2OH基または−COR10基 （式中、R10は、水素原子、−OR11基または を表わし、 ここで、R11は、水素原子または１〜20個の炭素原子を
    有する直鎖または分枝状アルキル基を表わし、ｒ′およ
    びｒ″は、水素原子または低級アルキル基を表す）を表
    わし、 R2、R3、R4、R5およびR6は、水素原子、−OH、１〜12個
    の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基、所
    望により置換されていてもよいシクロアルキル、フェニ
    ル基または次式 （ｉ）−Ｘ−C6H5、または （ii）−Ｘ−R12 （式中、 Ｘは、−Ｏ−を表わし、 R12は、低級アルキルを表わす） のうちの１つの対応する基を表わし、 R2〜R6基のうち少なくとも１つは水素原子以外のもので
    あり、 R7、R8およびR9は、水素原子またはメチル基を表わし、
    R7およびR9は一緒になってベンゼン環と共にナフタレン
    環を形成し得るが、ただし式（Ｉ）において、R2、R3、
    R5およびR6が水素原子を表わすときまたはR6がヒドロキ
    シル基を表わすときにR4がメチル基、OH基または−OCH3
    基を表わす場合R7が水素原子またはメチル基である化合
    物は除くものとする。 ２）ｎ＝０の場合 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はOH基を表わすかまたは、 Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝０）を形成
    し、 R1は、−CH2OH、−CH＝Ｏまたは−COOR11を表わし、R11
    は水素原子または低級アルキル基であり、 R2およびR3は水素原子または３〜６個の炭素原子を有す
    るアルキル基を表わし、 R5は、 （ｉ）３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルまた
    はアルキル基であり、この場合、R4は低級アルキル基、
    ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、または （ii）水素原子であり、この場合、R4は低級アルキル基
    を表わし、 R6は水素原子を表わし、そして R7は水素原子またはメチル基を表わすが、ただし、R4が
    OH基を表わし、R3およびR5がｔ−ブチル基を表わす式
    （Ｉ）の化合物は除くものとする］ で示されることを特徴とする芳香族化合物および前記芳
    香族化合物の塩類並びにそれらの光学および幾何異性
    体。
  2. 【請求項２】低級アルキル基および20個以下の炭素原子
    を有するアルキル基が、メチル、エチル、イソプロピ
    ル、ブチル、ｔ−ブチル、イソオクチル、ドデシル、ヘ
    キサデシルおよびオクタデシル基から成る群から選ばれ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。
  3. 【請求項３】シクロアルキル基がシクロペンチル、シク
    ロヘキシルまたはアダマンチル基であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  4. 【請求項４】次式 （式中、 R1〜R7、Ｒ′およびＲ″は、特許請求の範囲第１項ｎ＝
    ０の場合と同じ意味を有する） で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜３
    項のいずれか１項記載の化合物。
  5. 【請求項５】次式 ［式中、 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はOH基を表わすか、または Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝Ｏ）を形成
    し、 Ｒ′１は、−CH2OH、−CH＝Ｏまたは−COOR′11基を表
    わし、 Ｒ′11は水素原子または低級アルキル基であり、 Ｒ′２およびＲ′３は水素原子または３〜６個の炭素原
    子を有するアルキル基を表わし、そして、 Ｒ′５は、（ｉ）３〜６個の炭素原子を有するアルキル
    またはシクロアルキル基である場合、Ｒ′４は低級アル
    キル基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、ま
    たは（ii）水素原子である場合、Ｒ′４は低級アルキル
    基を表わすが、ただし、Ｒ′４がOH基を表わし、Ｒ′３
    およびＲ′５がｔ−ブチル基を表わす式（IV）の化合物
    は除くものとする］ で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜４
    項のいずれか１項記載の化合物。
  6. 【請求項６】次式 （式中、R1〜R6、Ｒ′およびＲ″は、特許請求の範囲第
    １項ｎ＝１の場合と同じ意味を有する） で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜３
    項のいずれか１項記載の化合物。
  7. 【請求項７】次式 （式中、 Ｒ′10は−OR′11または−NHR′11を表わし、Ｒ′11は
    水素原子または低級アルキル基を表わし、 Ｒ′２は水素原子または低級アルキル基を表わし、そし
    てＲ″４は低級アルキル基、好ましくはイソプロピルも
    しくはｔ−ブチル基またはシクロアルキル基、好ましく
    はシクロヘキシル基を表わす） で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第６項記
    載の化合物。
  8. 【請求項８】次式 （式中、 Ｒ′10は−OR′11または−NHR′11を表わし、Ｒ′11は
    水素原子または低級アルキル基を表わし、 Ｒ″２およびＲ′６は水素原子または低級アルキル基を
    表わし、 Ｒ′３は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基また
    はアダマンチル基を表わし、そして Ｒ′12は低級アルキル基またはフェニル基を表わす） で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第６項記
    載の化合物。
  9. 【請求項９】６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）
    ナフタレン−２−カルボン酸メチル、 ６−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ナフタレン−
    ２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイル）
    ナフタレン−２−カルボン酸メチル、 ６−（４−メトキシ−2,3,6−トリメチルベンゾイル）
    ナフタレン−２−カルボン酸、 ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
    ルボン酸メチル、 ６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタレン−２−カ
    ルボン酸、 Ｎ−エチル−６−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）ナフタ
    レン−２−カルボキシアミド、 ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナ
    フタレン−２−カルボン酸メチル、 ６−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）ナ
    フタレン−２−カルボン酸、 ６−（４−メトキシベンゾイル）ナフタレン−２−カル
    ボン酸メチル、 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−２
    −カルボン酸メチル、 ６−（４−シクロヘキシルベンゾイル）ナフタレン−２
    −カルボン酸、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
    レン−２−カルボン酸メチル、 ６−（４−メトキシ−３−フェニルベンゾイル）ナフタ
    レン−２−カルボン酸、 ６−（４−フェノキシベンゾイル）ナフタレン−２−カ
    ルボン酸メチル、 ６−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメ
    チル］ナフタレン−２−カルボン酸、 ６−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメ
    チル］ナフタレン−２−カルビノール、 ６−（2,4−ジイソプロピルベンジル）ナフタレン−２
    −カルボン酸、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸メチ
    ル、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）安息香酸、 ４−［（2,4−ジイソプロピルフェニル）ヒドロキシメ
    チル］安息香酸、 １−（2,4−ジイソプロピルフェニル）−１−（４−ヒ
    ドロキシメチルフェニル）メタノール、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）ベンズアルデ
    ヒド、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチル
    桂皮酸エチル、 ４−（2,4−ジイソプロピルベンゾイル）−α−メチル
    桂皮酸、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
    ドロキシメチル］安息香酸メチル、 ４−［（３−アダマンチル−４−メトキシフェニル）ヒ
    ドロキシメチル］安息香酸、 ４−（３−アダマンチル−４−メトキシベンゾイル）安
    息香酸メチル、および ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
    安息香酸、 ４−（３−アダマンチル−４−ヒドロキシベンゾイル）
    安息香酸メチル、 ４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイ
    ル）安息香酸メチル、および ４−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイ
    ル）安息香酸 から成る群から選ばれることを特徴とする、特許請求の
    範囲第１〜８項のいずれか１項記載の化合物。
  10. 【請求項１０】次式 ［式中、 ｎは０または１であり、 １）ｎ＝１の場合 Ｒ′は、水素原子であり、 Ｒ″は、水素原子またはOH基、またはＲ′およびＲ″は
    一緒になってオキソ（＝０）を形成し、 R1は−CH2OH基または−COR10基 （式中、R10は、水素原子、−OR11基または を表わし、 ここで、R11は、水素原子または１〜20個の炭素原子を
    有する直鎖または分枝状アルキル基を表わし、ｒ′およ
    びｒ″は、水素原子または低級アルキル基を表す）を表
    わし、 R2、R3、R4、R5およびR6は、水素原子、−OH、１〜12個
    の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基、所
    望により置換されていてもよいシクロアルキル、フェニ
    ル基または次式 （ｉ）−Ｘ−C6H5、または （ii）−Ｘ−R12 （式中、 Ｘは、−Ｏ−を表わし、 R12は、低級アルキルを表わす） のうちの１つの対応する基を表わし、 R2〜R6基のうち少なくとも１つは水素原子以外のもので
    あり、 R7、R8およびR9は、水素原子またはメチル基を表わし、
    R7およびR9は一緒になってベンゼン環と共にナフタレン
    環を形成し得るが、ただし式（Ｉ）において、R2、R3、
    R5およびR6が水素原子を表わすときまたはR6がヒドロキ
    シル基を表わすときにR4がメチル基、OH基または−OCH3
    基を表わす場合R7が水素原子またはメチル基である化合
    物は除くものとする。 ２）ｎ＝０の場合 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はOH基を表わすかまたは、 Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝０）を形成
    し、 R1は、−CH2OH、−CH＝Ｏまたは−COOR11を表わし、R11
    は水素原子または低級アルキル基であり、 R2およびR3は水素原子または３〜６個の炭素原子を有す
    るアルキル基を表わし、 R5は、 （ｉ）３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルまた
    はアルキル基であり、この場合、R4は低級アルキル基、
    ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、または （ii）水素原子であり、この場合、R4は低級アルキル基
    を表わし、 R6は水素原子を表わし、そして R7は水素原子またはメチル基を表わすが、ただし、R4が
    OH基を表わし、R3およびR5がｔ−ブチル基を表わす式
    （Ｉ）の化合物は除くものとする］ で示されることを特徴とする芳香族化合物および前記芳
    香族化合物の塩類並びにそれらの光学および幾何異性体
    の製造方法であって、有機溶媒中、ハロゲン化物例えば
    次式 （式中、 R7は水素原子またはメチル基を表わし、R11は１〜20個
    の炭素原子を有するアルキル基である） の一方に対応する酸塩化物を、次式 （式中、 ＸはBrまたはClを表わし、 R2〜R6は上記の意味を有する） の一方に対応するベンゼン誘導体を反応させ、必要なら
    ば、得られたケトエステルを対応するケト酸にけん化
    し、そして続いて式 （式中、ｒ′およびｒ″は上記のものと同じ意味）で示
    されるアミンの作用によりケト酸を対応するアミドに変
    換するか、または続いてケト酸をヒドロキシ酸またはジ
    オールに変換し、そして場合によりジオールを酸化して
    対応するケトアルデヒドとすることを特徴とする方法。
  11. 【請求項１１】縮合反応が、フリーデル−クラフツ反応
    条件下、1,2−ジクロロエタンに溶かした無水塩化アル
    ミニウムの存在下０〜25℃の温度で攪拌しながら行われ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第10項記載の方
    法。
  12. 【請求項１２】酸塩化物と式（13）で示されるマグネシ
    ウム含有有機化合物との縮合反応が約０℃の温度でTHF
    （テトラヒドロフラン）中において行なわれることを特
    徴とする、特許請求の範囲第10項記載の方法。
  13. 【請求項１３】アミドの製造がN,N′−カルボニルジイ
    ミダゾールの存在下に行われることを特徴とする、特許
    請求の範囲第10項記載の方法。
  14. 【請求項１４】THFまたはメタノール中水素化ホウ素ナ
    トリウムの存在下にケト酸が対応するヒドロキシ酸に還
    元されることを特徴とする、特許請求の範囲第10項記載
    の方法。
  15. 【請求項１５】ケトアルデヒドがクロロクロム酸ピリジ
    ニウムを用いてジオールを酸化することにより得られ、
    前記の対応するジオールが水素化アルミニウムリチウム
    の存在下ケト酸の還元反応の結果生成したものであるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第10項記載の方法。
  16. 【請求項１６】次式 ［式中、 ｎは０または１であり、 １）ｎ＝１の場合 Ｒ′は、水素原子であり、 Ｒ″は、水素原子またはOH基、またはＲ′およびＲ″は
    一緒になってオキソ（＝０）を形成し、 R1は−CH2OH基または−COR10基 （式中、R10は、水素原子、−OR11基または を表わし、 ここで、R11は、水素原子または１〜20個の炭素原子を
    有する直鎖または分枝状アルキル基を表わし、ｒ′およ
    びｒ″は、水素原子または低級アルキル基を表す）を表
    わし、 R2、R3、R4、R5およびR6は、水素原子、−OH、１〜12個
    の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基、所
    望により置換されていてもよいシクロアルキル、フェニ
    ル基または次式 （ｉ）−Ｘ−C6H5、または （ii）−Ｘ−R12 （式中、 Ｘは、−Ｏ−を表わし、 R12は、低級アルキルを表わす） のうちの１つの対応する基を表わし、 R2〜R6基のうち少なくとも１つは水素原子以外のもので
    あり、 R7、R8およびR9は、水素原子またはメチル基を表わし、
    R7およびR9は一緒になってベンゼン環と共にナフタレン
    環を形成し得るが、ただし式（Ｉ）において、R2、R3、
    R5およびR6が水素原子を表わすときまたはR6がヒドロキ
    シル基を表わすときにR4がメチル基、OH基または−OCH3
    基を表わす場合R7が水素原子またはメチル基である化合
    物は除くものとする。 ２）ｎ＝０の場合 Ｒ′は水素原子を表わし、 Ｒ″はOH基を表わすかまたは、 Ｒ′およびＲ″は一緒になってオキソ基（＝０）を形成
    し、 R1は、−CH2OH、−CH＝Ｏまたは−COOR11を表わし、R11
    は水素原子または低級アルキル基であり、 R2およびR3は水素原子または３〜６個の炭素原子を有す
    るアルキル基を表わし、 R5は、 （ｉ）３〜６個の炭素原子を有するシクロアルキルまた
    はアルキル基であり、この場合、R4は低級アルキル基、
    ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表わし、または （ii）水素原子であり、この場合、R4は低級アルキル基
    を表わし、 R6は水素原子を表わし、そして R7は水素原子またはメチル基を表わすが、ただし、R4が
    OH基を表わし、R3およびR5がｔ−ブチル基を表わす式
    （Ｉ）の化合物は除くものとする］ で示されることを特徴とする芳香族化合物および前記芳
    香族化合物の塩類並びにそれらの光学および幾何異性体
    の製造方法であって、有機溶媒中、ハロゲン化物例えば
    次式 （式中、 R7は水素原子またはメチル基を表わし、R11は１〜20個
    の炭素原子を有するアルキル基である） の一方に対応する酸塩化物を、次式 （式中、 ＸはBrまたはClを表わし、 R2〜R6は上記の意味を有する） の一方に対応するベンゼン誘導体を反応させ、必要なら
    ば、得られたケトエステルを対応するケト酸にけん化
    し、そして続いて式 （式中、ｒ′およびｒ″は上記のものと同じ意味）で示
    されるアミンの作用によりケト酸を対応するアミドに変
    換するか、または続いてケト酸をヒドロキシ酸またはジ
    オールに変換し、そして場合によりジオールを酸化して
    対応する、次式 （式中、R2〜R7は上記と同じ意味） で示されるケトアルデヒドを得、式 （式中、R9およびR11は上記と同じ意味） で示されるホスホノ酢酸アルキルと有機溶媒中水素化ナ
    トリウムの存在下に反応させ、得られた式 で示される飽和ケトエステルを式（Ｉ）における基の異
    なる定義を有するものに到達させ得る反応を常用の条件
    下で行うことを特徴とする方法。
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