JPS5968331A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な感光性樹脂組成物に係り、更に詳しくは
溶液状態での安定性及び溶解性に優れ、感光性塗膜形成
時に白化等による露光障害がなく、実用性の高い耐熱性
、感光能等を付与しつる脂肪族ポリイミド系の感光性樹
脂組成物及びその製造法に関するものである。

近年、電子機器の高密度化、高信頼度化、小型軽量化等
において新しい変革が見られる。これらに大きく寄与す
る機能性材料として回路形成用フォトレジスト材料があ
り、いわゆる微細加工を実現している。更にＩＣ，ＬＳ
Ｉの分野においてはかかる微細加工に加えて、従来無機
物で行なわれていた層間絶縁に有機物の特性を活かした
使い方が尊属ｌ−できており、主としてポリイミド樹脂
の如き耐熱性に優れた材料が使用されるようになってき
た。しかしながら、この材料はスルーホール等のパター
ン加工はやはりフォトレジストを必要とし、こＩ７）フ
ォトレジスト工程が長く、煩雑な工程を要するため、露
光、現像によって回路を形成した後もレジストヲその−
１寸残し、絶縁材料として用いるような耐熱性のフォト
レジストの出現が強く望捷れている。

これらの材料としては感光性ポリイミド、環化ポリブタ
ジェンをペースにした耐熱性フォトレジスト等が提案さ
れており、就中特に芳香族系のポリイミドはそのポリイ
ミド骨格が特性面において優れていること、その製造時
に不純物排除が容易であること等のためにこれを感光性
材料へ使用する提案が多くなされている。かかる感光性
ポリイミド類は通常の芳香族ポリイミドの場合と同様に
、前駆体（ポリアミド酸）の形で加工に供せられ、ボス
トキーアーにょリイミド化が図らり、る。

これらの感光性ポリイミドとしては、ポリイミド前駆体
と重クロム酸塩からなる系が最初に提案されたが（特公
昭４９−１７３７４号）、この感光性組成物は可使時間
が著しく短かいという致命的な欠点の他、現像工程が複
雑で且つ長い、ポリイミド膜中にクロムイオンが残存す
るなどの欠点もあり、実用に至らなかった。また、他の
例として、ポリイミド前駆体に感光性基をエステル結合
で導入【−た感光性ポリイミド前駆体が提案されている
が（特公昭５５−３０２０７号）、これも感光性基を導
入する１祭に脱塩酸反応を含むため塩素イオンが溶液中
に残り、この除去が問題となる。

このような不純物等の問題を回避すべく、ポリイミド前
駆体に感光性化合物を混合する方法やポリイミド系化合
物の前駆体の官能基と感光基を有する化合物の官能基と
を選択して反応させ感光基を等大する方法も開発されて
ｂる。更に感光基を有する単量体を用いて感光性ポリイ
ミド前駆体を得る方法も知られている。

しかＩ−ながら、これらの感光性ポリイミドはその耐熱
性重視の観点から、例えばピロメリット酸二無水物と４
．４−ジアミノジフヱニルエーテルから合成される芳香
族ポリイミドｉ旧、枢体が幹ポリマーとして用いられて
いるが、これら一連の感光性ポリイミドは通常の芳香族
ポリイミド前駆体の有する欠点を包含している。即ち、
上記前躯体を含む溶液は、溶解性に本質的な問題があり
、また保存時に一部イミド化による不溶化が起る等の溶
液としてｇ）安定性にも実用上の大きな欠陥を有してお
り、その改善が望捷れている。

この溶解性の問題は、例えば感光性ポリイミドとして芳
香族ポリイミド前駆体と感光基を有する化合物とを均一
にｔぶ解した溶液を調整し念場合でも、この溶液から塗
膜を形成する乾燥工程においては大部分の良溶媒が揮発
し、乾燥塗膜は該前駆体と感光基を有する化合物から構
成されることになる。このような感光基を有する化合物
は、一般に該前駆体に対１．ては貧溶媒であって、前駆
体の不溶化による白化現象が乾燥塗膜に起生１−１露光
工捏Ｇて供することが困りイＬとなってｌ−まり。また
本発明者７７）観察によれば、乾燥塗膜の形成時に感光
基を有する（ヒ合物が溶媒と同時に揮散１−１塗膜白化
の現象はないが感光能を喪失する奇異な現象も見出され
ている。従って、使用し得る感光基を有する化合物は溶
解性或は相溶性の点から特殊なもの（例えば高価な或は
悪臭を有する化合物）に限定されるのが現状である。

かかる状況から、本発明者は溶液状席での安定性及び溶
解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白化等による露光障
害がなく、実用性の高い耐熱性、感光能を付与ｌ一つる
感光性樹脂組成物を開発すべく鋭意検討の結果、本発明
に至ったものである。

即ち本発明は、脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとを
モノマ一単位と１−で反応させて得られる酸価残存率４
０チ以下であって分子内にイミド結合を有Ｉ７且つ分子
末端にカルボキシル基及びアミン基を有するポリイミド
前１駆体を含む溶液に重合性不１列和化合物及び光重合
開始剤が配合されてふ・す、月つ乾燥後の塗膜は実質的
に光の透過を許容し活性な感光能才与える新規な感光性
（６）１脂組収物を提供するものでｔ）る。

本発＋、ｖＪ［ｈいて酸化残存率４０％以下であって分
子内にイミド結合を有し２且っ分子末端にカルボキシル
基及びアミン基を有するポリイミド前駆体は脂肪族テト
ラカルボン酸及びシアミンを出発原料と！７、こｈらに
対１．て実ｖｊ的に不活性な有機溶媒中で反応させるこ
とにより得られる。

本発明にお因で脂肪族テトラカルボン酸と１７では、ブ
タン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロペンタン−、
ビシクロヘキセン−等のテトラカルボン酸、５−（１，
２−ジカルボキシエチル）−３−メチル−３−シクロヘ
キセン−１，２−ジカルボン酸、ビシクロ−（２・２・
２）−オクタン−２・３・５・６−テトラカルボン酸が
挙げられる。勿論これらのテトラカルボン酸の’Ｆｔ　
）ｆ？’ｒ　７％　アルキル基等の置換基で置換されて
いてもよいし、一部脂肪族ジカルボン酸あるいはトリカ
ルボン酸あるいはその無水物等の併用も可能である。

これらの脂肪族テトラカルボン酸と反応させるジアミン
と］、では、一般式Ｈ２Ｎ　−Ｒ−ＮＨ２で示されるジ
アミンであってＲは２価の有機基であり、芳香族、脂肪
族、脂環族、ヘテロ環族などの基であるか、或Ａはこれ
らの組合せ、又はこれらが酸素、屋素、硫黄、リン、硅
素などで結合さｈだようｈ基であることが出来る。この
場合ＩＺにアミノ基またはカルボキシル基と反応条件下
では定量的には反応！−なＡ置換基を持っていてもよい
。これらの基は生成前駆体の溶解性、加工性、あるいは
接着性々どの好寸しい性質を付与することができるから
である。また通常用ｔ、−，１−１ｈるトリアミンある
ｂはテトラアミンを併用することも可能である。

ジアミンとしては芳香族系ジアミンがｉｔＬ、いが、本
発明に用いられるジアミン類の具体例としては、メタフ
ェニレンジアミン、バラフェニレンジアミン、４・４−
ジアミノジフェニルプロパン、４°４−ジアミノジフェ
ニルエタン、４・４−ジアミノジフェニルメタン、ベン
ジジン、４・４′−ジア三ノジフエニｌレスルフイド、
４・４−うンアミノジフエニＪレスｌレホン、３・３−
シア三ノジフェニルスルホン、バラ−ビス−（４−アミ
ノフェノキシ）ベンゼン、メタ−ビス−（４−アミノフ
ェノキシ）ベンセ°ン、４・４−シア三ノジフェニＪレ
エーデル、１・５−ジアミノナフタレン、３・３−ジメ
チル−４・４−ジアミノビフェニル、３・４−ジアミノ
ベンズアニリド、４−（バラ−アミノフェノキシ）−４
−アミノベンズアニリド、３・４−ジアミノジフェニル
エーテル、３・３ジメトキシベンジジン、２・４−ビス
（ベータアミノ−ターシャリブチル）トルエン、ビスＣ
ノくラーベータアミノーターシャリーブチルフエニル）
エーテル、メタフェニレンジアミン、ノずラキシリレン
ジアミン、ジ（バラーア三ノーシクロヘキシル）メタン
、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、
オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、４・
４−ジメチルへブタメチレンジアミン、３−メトキシ−
へブタメチレンジアミン、２・１１−ジアミノドデカン
、１・４−ジアミノシクロヘキサン、２・２−ジアミノ
ジエチルエーテル、２・２−ジアミノジエチルチオエー
テル、３．３−ジアミノジプロポキシエタン、２・６−
ジアミツピリジン、グアナミン、２・５−ジアミノート
３・４−オキサジアゾール、２−（３−アミノフェニル
）−５−アミノベンツォキザゾール、ビス−（４−アミ
ノフェニルホスフィンオキシト、ビス−（４−アミノ−
フェニル）ジエチルシランなどであり、こねらは単独な
めし混合物と１−で使用され得る。

本発明における脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとの
反応は通常有機溶媒中で行なわれる。

この反応で使用される溶媒と１−ではＮ−Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ−Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
、Ｎ−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、
テトラメチレンスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメ
チルホスホアミド、ピリジン、キノリン、γ−ブチルラ
クトン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、フェノール、
クレゾール類、グリコール類、セロソルブ類、カルピト
ールＭ等が挙げられる。この有機溶媒の使用量は反応系
の２０〜９５重量％であるが、場合によっては取合性不
飽和化合物、開始剤９）存在下にて脂肪）Ｕテトラカル
ボン酸とジアミンとの反応を行なう事も可能であって、
従って実用の粘度を示すｌ農度となるよつに適宜その使
用量分決定すればよい。

１脂肪族テトラカルボン峻とジアミンの使用モル比は等
モルが望せしい。しかし数モル％位のどちらかび）週刊
の下でも可能である。反応温度は６（）℃以上、常圧下
で沸点捷で、特に８０℃から沸点までの温度が望捷１．
い。

以上の反応で主としてアミノ基１個当り、２個のカルボ
キシル基が反応してイミド化が起り、分子内にイミド結
合を有し、分子末端にカルボキシル基及びアミノ基を有
するポリイミド前駆体の溶液が得られる。この場合、本
反応はその反応系（１）酸価を測定することによって、
即ち反応初期の系内のカルボン酸成分による酸価（酸価
は試料］ｇ当りσ）カルボキシル基のｍ　７当亀で表わ
す）を１００％として、反応後どれだけのカルボキシル
基が残存１．ているかを示す酸価残存率によってその反
応の程度全知ることが出来る。

而して、本発明におけるポリイミドη７１　ｉ＜体はそ
の酸価残存率が４０％以下となる寸で反応を進めたもの
であって、酸価残存率が４０％を起えるものは反応が不
充分で、露光、現像後の樹脂パターンの焼付けによるポ
リイミド形成時に発泡による塗膜欠陥を生じ易く、また
焼付けにより得られる塗膜の機械的強度に劣るため、使
用を避けるべきである。

本発明の組成物における重合性不飽和化合物としては各
種のものがあるが、アクリル酸系化合物、メタクリル酸
系化合ｅｌ或はアリル基を有する化合物等が実用的であ
る。具体的なアクリル酸系化合物としてはアクリル酸、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレ−）ｓｎ−ブチ
ルアクリレート、インブチルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−エチル
へキシルアクリレート、カルピトールアクリレート、メ
トキシエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメ
クリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ブチレ
ングリコールモノアクリレート、Ｎ−Ｎ−ジメチルレア
三ノエチルアクリレート、Ｎ−Ｎ−ジエチルレア三ノエ
チＪレアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、アＩＪ　７Ｌ／　７クリレート、１・３−ブチレ
ングリコールジアクリレート、ｌ・４−ブチレングリコ
ールジアクリレート、１・６−へキサングリコールジア
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ジプロピレングリコールジアクリレート、２・２−ビス
−（４−アクリロキシジェトキシフェニル）プロパン、
２・２−ビス−（４−アクリロキシプロビロキシフェニ
ル）プロパン、トリメチロールプロパンジアクリレート
、ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、トリアクリルホルマール、テトラメチ
ロールメタンテトラアクリレートなど、またメタクリル
酸系化合物としてはメタクリル酸、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、イ
ソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イ
ンブチルメタクリレート、ターシャリ−ブチルメタクリ
レート、シクロへキシルメタクリレート、ベンジルメタ
クリレート、オクチルメタクリレート、エチルへキシル
メタクリレート、メトキシエチルメタクリレート、エト
キシエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレ
ート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、Ｉ　ドロキシペンチルメタクリレート、Ｎ−Ｎ−ジ
メチルアミノメタクリレ−１−１Ｎ−Ｎ−ジエチルアミ
ノメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレ
ート、メククリロキシブロビルトリメトキシシラン、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート
、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、エチレン
グリフールジメタクリレート、１・３−ブチレングリコ
ールジメタクリレート、■・６−ヘキサンゲリコールジ
メタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレ
ート、２・２−ビス−（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２・２−ビス−（４−メタクリロキ
シジェトキシフェニル）プロパン、トリメチロールプロ
パントリツタクリレートなど、その他クロトン的ブチル
、グリセリンモノクロネート、ビニルブチレート、ビニ
ルトリメチルアセテート、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、ビニルラクテート、安息香酸ビニル
、ジビニルサクシネート、ジビニルフタレート、メタク
リルアミリ１Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチル
メタクリルアミド、Ｎ−アリールメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、ア
クリルアミド、Ｎ−ターシャリ−ブチルアクリルアミド
、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル
アクリルアミド、Ｎ−インブトキシメチルアクリルアミ
ド、ダイア七トンアクリルアミド、ヘキシルビニルエー
テル、工４−７Ｌ／ヘキシルビニルエーテル、ビニルト
リルエーテル、多価アルコールのポリビニルエーテル、
スチレン誘導体としてたとえばオルトおよび／またはバ
ラ位にアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、カルボキ
シル基、アリル基などの置換基を持ったスチレン、ジビ
ニルベンゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン酸
のジアリルエステル、Ｎ−ビニルオキザゾリドン、Ｎ−
ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバソールなどを挙げることができ、これらは単独
ないし、混合物として使用されつる。

これらσ）重合性不飽和化合物の使用量は、ポリイミド
前駆体の樹脂分１００重量部に対１−て１。

〜５０（）重量部、好捷しくは２ｏ〜２００重量部であ
る。１（）重量部以下では重合性不飽和化合物の重合に
よる硬化が不充分となり、また５　（１　０重量部以上
ではボストキュア一時の残存の影響により、塗膜の耐熱
性を読下させてしまう。使用量は各重合性不飽和化合物
の活性、捷たｌｉｌｆＩ成物に使用されている溶剤との
関係即ち乾腑時に残存し、硬化能を発揮しつるＩｊｔ分
考慮Ｉ−で決定するのが望捷しい。

これらσ）重合性不飽和化合物の放射線による重合ＩＷ
Ｊ始剤と１，では一般に紫外線４１ｊ．ｌ化型塗料の開
始剤、Ｊｌ「ｌ　ｌ・＆剤として用いｃ−、れでいる各
種ｇ）光重合１；１１始削に使用て歳る。例えばベンゾ
イン、ベンゾインメチルニーデル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾイノインプロピルエーテル、ベンゾイン
ブチルエーテル、２−メチルベンゾイン、ベンゾフェノ
ン、ニヒラーズヶトン、ベンジル、ベンジルジメチルケ
タール、ベンジルジエチルケタール、アントラキノン、
メチルアントラキノン、ジアセチル、アセトフェノン、
ジフェニルジスルフィド、アントラセン等ヲ挙げること
ができる。これらの光重合開始剤の使用量は重合性不飽
和化合物１００重量部に対して通常（１　、　０　５〜
３０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部とするのが
よい。これう光重合開始剤にアミン類等の従来公知の増
感助剤を少量併用する事も出来る。また組成物の熱的な
安定性等を向上する為に公知の熱重合防止剤の共存も有
効な場合がある。

熱度合防止剤の具体例としてはパラメトキシフェノール
、ヒドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピロ
ガロール、フェノチアジン、フロラニール、ナフチルア
ミン、β−ナフトール、２・６−ジ−ターシャリ−ブチ
ル−パラクレゾール、ヒリシン、ニトロベンゼン、パラ
−トルイジン、メチレンブルー、などが挙げられ、その
使用量は重合性不飽和化合ｅ］１　０　ｏ重量部に対し
て通常０、０１〜５重量部とするのがよい。

かくして得られた感光性樹脂組成物は適宜の手段にて塗
布を行ない乾燥を行なう。この際本発明の組成物の骨格
である脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとから得られ
た脂肪族ポリイミド前駆体は溶解性が非常に良好で、乾
燥塗膜化時の溶媒揮散後の重合性不飽和化合物中でも均
一透明な塗膜マスク上から活性光線を照射することによ
り、照射部は光重合開始剤により、重合性不飽和化合物
の重合が起り、非照射部に対１，て溶解性が大きく低下
する。場合により電子線、放射線のよりな′市離性放射
線を照射することによっても同様な効果を与える。かく
してこれ全適当な溶剤系を選択することにより、現像に
て非照射部を除去することにより所望の樹脂パターンを
得る事が出来る。

得られた樹脂パターンは、その後の焼付は即ちボストキ
＝アーにより１δ光Ｉ７た重合性不飽和化合物の揮散と
ともにポリイミド前駆体のアミノ基とカルボキシル基と
の反応が更に進み優りた耐熱性全有する絶縁属に変換し
つるもので、本発明の組成物は主として前述のような微
細加工の分野において非常に有用である。

以下、本発明を実施例、参考例にて説明する。

実施例１ 温度計、Ｎ２ガス導入口、トラップ付冷却管及び撹拌装
置を付した３０Ｃ）ヱの四つ］コフラスコに（（１，２
モル）及びＮ−Ｎ−ジメチルホルムアミド１２９．６１
　’Ｔ加え、Ｎ２ガス流通下で加熱、攪拌する。内容物
が１１０℃位で１・２・３・４−ブタンテトラカルボン
酸４６　、８　Ｉ　Ｃ（＋、２モル）全添加する。１１
０℃で反応を続けると約４時間で（１，９０７ｍｅｑ／
ｇの酸価を有するようｒ（なり（酸価残存率２４．５ｆ
Ｏ）分子内にイミド結合分有し且分子末端にカルボキシ
ル基及びアミノ基を有するポリイミド前駆体溶液が得ら
れた。

この溶液ｖｃ２−エチルへキシルアクリレート８６．４
ｇを加え、更に光遮断下でイルガキュアー６５１（チバ
・ガイギー社製、ベンジルジメチルケタール）′ｆｆ４
．３２ｆ加え、撹拌混合後、１μのフィルターにてろ過
１〜で感光性樹脂組成物を得た。

この組成物ゲカラスプレート上にスピンナーにて３００
０　ｒ　ｐ　ｍの回転数で塗布し、９０℃で１（〕分間
乾燥して透明な６．５μ厚の塗膜を得た。

こ７７）塗膜上にマスクパターンを設置し、３００ｍＪ
／／ｃｄノ紫外線を照射した後、Ｎ−Ｎ−ジメチルホル
ムアミド−ベンゼンの混合Ｍ媒にて現像し、ベンゼンに
てリンスを行なったところ、鮮り］なパターンが得られ
た。

この塗膜は３５０℃で２時間加熱した後の空気中、５℃
／分の昇温速度にょる熱意（ｉ分析で３８０℃捷で顕著
ｆｘ減敏は１徳めら）ｑず、良好な耐熱性を有するもの
であった。

実施例２ 実施例１と同様のフラスコに４・４−ンアミノジフェニ
ルエーテル４０　、Ｏｆ　（（１、２モル）及びＮ−Ｎ
−ジメチルホルムアミド１３　Ｆｌ。２ｙ？加え、実施
例１とｌ’ｉ、ｉＪ様にして１・２・３・４−ブタンテ
トラカルボン酸４６．８ｆ（０，２モル）’？全添加、
１１０　Ｃで反応を続けると約２時１ｊｉＪで１．３１
２　ｍｅｑ／７の酸価分有するようＶＣなり（酸価残存
率３５．６％）分子内にイミド結合を有し且つ分子末端
にカルボキシル基及びアミノ基を何するポリイミド前駆
体溶液が得られた。

このＲＨに２−エチルへキシルアクリレート８６．８ｙ
を加え、更に光遮断下でイルガキーア−６５１を４，３
４１ｍえ、攪拌混合後、１μのフィルターにてろ過して
感光性樹脂組成物を得た。

この組１反物Ｉをガラスプレート上に実施例１と同様に
１−て塗布、乾燥して透明な６．２μ厚の塗膜を得念。

この塗膜Ｖｃ３　（ｌ　ｎ　ｍＪＡｊの照射ケ行ない、
実施例１と同様にして現像、リンスを行なったところ、
鮮明なパターンが得・らｈた。

この塗ＩＩψは実施例１記載の評価で３７５℃寸で顕著
な減紹は認められず、良好な耐熱性を有するものであっ
た。

実施例３ 実施例１と同様のフラスコ［４・４−ジア：ノジフェニ
ルメタン３９．６ｙ（０，２モル）及びＮ−Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド１３３．２９に加工、実施例１と同様に
してシクロペンタンテトラカルボン酸４９　、２　ｆ　
（（１、２モル）を添加し、ｌ　ｌ　（１℃で反応を続
けると約４時間で０．９４４　ｍｅｑ／ｆの酸価を有す
るようになり（酸価残存率２６．２％）、分子内にイミ
ド結合を有し且つ分子末端にカルボキシル基及びアミノ
基を有するポリイミド前駆体溶液が得らｉ″した。

この溶液にエチルカルピトールアクリレート８８．８ｆ
を加え、更に光遮断下でイｌレガキーアー６５１分４．
４４ｆ加え、攪拌混合後、１μσ）フイｒレターにてろ
過して感光１１！４：掻Ｉｌｌ旨組成４勿を得た。

この組成ｅＩｆｆガラスプレート上に実施例１と同様に
して塗布、乾燥し１．て透Ｅ３Ｊ−Ｉな６．３μ厚／７
）塗膜を得た。こび）塗膜に３００　ｍＪ／ｃｔＡの照
射を行ない、実施例１と同様にして現像、リンスを行な
ったところ、鮮明なパターンが得らハた。

こｌ′７）塗膜は実施例１記載の評価で３８（１℃ｔで
顕著ｌ減Ｍは１招めらハず、良好な耐熱性分有するもの
であった。

参考例 ５ＱＱｅｃ／７）″４！、施例１と同様のフラスコにピ
ロメリット峻二無水物４３．６ｆ（０，２モｌし）及び
Ｎ、Ｎ−ジメチｌレホルムア三ド３Ｂｏ、８９’ｒ加え
、乾燥Ｎ２ガス流通下で水浴上にて攪拌する。内容物が
約５℃位で４・４−ジアミノジフエニｌレエーテル４ｏ
、０ｆ（０，２モル）を発熱の度合を見ながら少量づつ
添加する。この添加に約３０分を要し、反応物の温度は
１５℃に捷で上昇した。

添加後水浴をはずし、室温下、約２時間攪拌を続け、粘
稠なポリアミド酸溶液ｆ　Ｎ　ｆｔ。

とのＭ　７Ｊｉ、　Ｋ　２−エチルへキシルアクリレー
ト８３．６＆ケ加え、更に光遮断下でイルガキーア−６
５１を４．　、１８　ｇ加え、攪拌混合後、１μのフィ
ルターにてろ過して樹脂組成物とした。

こ丙組成物全ガラスプレート上に実施例１と同様にして
塗布、乾燥ｌ−たところ、この塗膜は不溶化により白化
１．た。

また重合性不飽和化Ａ−物として上記／７）２−エチル
へキシルアクリレートにかえて、エチル力ルビトールア
クリレートヲ使用した場合は、塗布、乾燥後の塗膜は３
ｆ！ｉ、明であったが、エチルカルピトールアクリレー
ト（７）大半が揮発して全く感光能を示さないものであ
った。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 脂肪族テトラカルボン酸とジアミンとをモノマ一単位と
   して反応させて得られる酸価残存率４０チ以下であって
   分子内にイミド結合を有し且つ分子末端にカルボキシル
   基及びアミ７基を有するポリイミド前駆体を含む溶液に
   重合性不飽和化合物及び光重合開始剤が配合されており
   、且つ乾燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容し活性な
   感光能を与える新規な感光性樹脂組成物。