JPS5915449A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な感光性樹脂組成物に係シ、更に詳しくは
溶液状態での安定性及び溶解性に優れ、感光性塗膜形成
時に白化による露光障害がなく、実用性の高い耐熱性、
感光能等を付与しうる脂肪族ポリイミド系の感光性樹脂
組成物及びその製造法に関するものである。

近年、電子機器の高密度化、高信頼度化、小型軽量化等
において新しい変革が見られる。これらに大きく寄与す
る機能性材料として回路形成用フォトレジスト材料があ
り、いわゆる微細加工を実現している。更にＩＣ１ＬＳ
Ｉの分野においてはかかる微細加工に加えて、従来無機
物で行なわれていた眉間絶縁に有機物の特性を活かした
使い方が普及してきておシ、主としてポリイミド樹脂の
如き耐熱性に優れた材料が使用されるようになってきた
。しかしながら、この材料はスルーホール等のパターン
加工はやけシフオドレジストを必要とし、このフォトレ
ジスト工程が長く、煩雑な工程を要するため、露光、現
像によ−７て回路を形成した後もレジストをその′！！
、ま残し、絶縁材料として用いうるような耐熱性のフォ
トレジストの出現が強く望まれている。

これらの材料としては感光性ポリイミド、環化ポリブタ
ジェンをベースにした耐熱性フォトレジスト等が提案さ
れており、就中特に感光性ポリイミドはそのポリイミド
骨格が特性面において優れていること、不純物排除が容
易であること等のために注目されている。感光性ポリイ
ミド類は通常のポリイミドの場合と同様Ｋ、前駆体（ポ
リアミド酸）の形で加工に供せられ、ポストキュアーに
よジイミド化が図られる。

感光性ポリイミドとしては、ポリイミド前駆体と重クロ
ム酸塩からなる系が最初に提案されたが（特公昭４９−
１７３７４号）、この感光性組成物は可使時間が著しく
短かいという致命的な欠点の低現像工程が複雑で且つ長
い、ポリイミド膜中にクロムイオンが残存するなどの欠
点もあシ、実用に至らなかった。また、他の例として、
ポリイミド前駆体に感光性基をエステル結合で導入した
感光性ポリイミド前駆体が提案されているが（特公昭５
５−３０２０７号）、これも感光性基を導入する際に脱
塩酸反応を含むため塩素イオンが溶液中に残り、この除
去が問題となる。

このような不純物等の問題を回避すべく、ポリイミド前
駆体に感光性化合物を混合する方法やポリイミド系化合
物の前駆体の官能基と感光基を有する化合物の官能基と
を選択して反応させ感光基を導入する方法も開発されて
いる。更に感光基を有する単量体を用いて感光性ポリイ
ミド前駆体を得る方法も知られている。

しかしながら、これらの感光性ポリイミドはその耐熱性
重視の観点から、例えばピロメリット酸二無水物と４・
４′−ジアミノジフェニルエーテルから合成される芳香
族ポリイミド前駆体が幹ポリマーとして用いられている
が、これら一連の感光性ポリイミドは通常の芳香族ポリ
イミド前駆体の有する欠点を包含している。即ち、上記
前駆体を含む溶液は、溶解性に本質的な問題があシ、ま
た保存時に一部イミド化による不溶化が起る等の溶液と
しての安定性にも実用上の大きな欠陥を有しておシ、そ
の改善が望まれている。

この溶解性の問題は、例えば感光性ポリイミドとして芳
香族ポリイミド前駆体と感光基を有する化合物とを均一
に溶解した溶液を調整した場合でも、この溶液から塗膜
を形成する乾燥工程においては大部分の良溶媒が揮発し
、乾燥塗膜は該前駆体と感光基を有する化合物から構成
されることになる。このような感光基を有する化合物は
、一般に該前駆体に対しては貧溶媒であって、前駆体の
不溶化による白化現象が乾燥塗膜に起生じ、露光工程に
供することが困難となってしまう。また本発明者の観察
によれば、乾燥塗膜の形成時に感光基を有する化合物が
溶媒と同時に揮散し、塗膜白化の現象はないが感光能を
喪失する奇異な現象も見出されている。従って、使用し
得る感光基を有する化合物は溶解性或は相溶性の点から
特殊なもの（例えば高価な或は悪臭を有する化合物）に
限定されるのが現状である。

かかる状況から、本発明者は溶液状態での安定性及び溶
解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白（１／による露光
障害がなく、実用性の高い耐熱性、感光能を付与しうる
感光性樹脂組成物を開発すべく鋭意検討の結果、本発明
に至ったものである０即ち本発明は 式 （式中、Ｒは脂肪族テトラカルボ／酸残基、Ｒ′は２価
の有機基を示す）で表わされる繰返し単位あるいは部分
的にこの学位がイミド閉環した繰返し単位からなシ、約
７００以上の分子量を有するポリイミド前駆体を含む溶
液に重合性不飽和化合物及び光重合開始剤が配合されて
おり、且つ乾燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容し活
性な感光能を与える新規な感光性樹脂組成物を提供する
ものである。

本発明のポリイミド前駆体は脂肪族テトラカルボン酸二
無水物及びジアミンを出発原料とし、これらに対して実
質的に不活性な有機溶媒中で反応させることＫよシ容易
に得られる。

、本発明において脂肪族テトラカルボン酸二無水物とし
ては、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−１シクロペン
タン−、ビシクロヘキセン−等のテトラカルボン酸二無
水物、３−メチル−５−無水コハクニル−３−シクロヘ
キセン−１・２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ−（
２・２．２）−４クタンー２・３・５・６・−テトラカ
ルボン酸二無水物が挙げられる０勿論これらのテトラカ
ルボン酸の骨格がアルキル基等の置換基で置換されてい
テモヨイし、一部脂肪族ジカルボン酸するいはトリカル
ボン酸あるいはその無水物等の併用も可能である。

これらの脂肪族テトラカルボン酸二無水物と反応きせる
ジアミンとしては、一般式ＨＩＮ−Ｒ’〜ＮＨ。

で示されるジアミンであってＲ′は２１ｉ［ｆｊ−の有
機基であり、芳香族、脂肪族、脂環族、ヘテロ環族など
の基であるか、或いはこれらの組合せ、又はこれらが酸
素、窒素、硫黄、リン、硅素などで結合されたような基
であることが出来る。この場合Ｒ′にアミン基または酸
無水物基と反応条件下では定量的には反応しない置換基
を持っていてもよい。これらの基は生成前駆体の溶解性
、加工性、あるいは接着性などの好ましい性質を付与す
ることができるからである。また通常用いられるトリア
ミンあるいはテトラアミンを併用することも可能である
０ ジアミンとしては芳香族系ジアミンが望ましいが、本発
明に用いられるジアミン類の具体例としてハ、メタフェ
ニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、４・４′−
ジアミノジフェニルプロパン、４・４′−ジアミノジフ
ェニルエタン、４・４′−ジアミノジフェニルメタン、
ベンジジン、４・４′−ジアミノジフェニルスルフィド
、４・４′−ジアミノジフェニルスルホン、３・３′−
ジアミノジフェニルスルホン、パラ−ビス−（４−アミ
ノフェノキシ）ベンゼン、メタ−ビス−（４−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン、４・４′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、１・５−ジアミノナフタレン、３・３′−ジメ
チル−４・４′−ジアミノビフェニル、３・４′−ジア
ミノベンズアニリド、　’４−　（パラ−アミノフェノ
キシ）−４−アミノベンズアニリド、３・４′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、３・３′シメドキンベンジン、
２・４−ビス（ベータアミノ−１ｇ３；ｙ’−ｙ−ル）
トルエン、ビス（パラ−ベータアミノ−第３ブチルフエ
ニル）エーテル、メタキシリレンジアミン、バラキシリ
レンシアεン、ジ（ハラ−アミノ−シクロヘキシル）メ
タン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミ
ン、オクタメチレンジアミン、ｓｉｓｓｓｔｉｗｗｓｔ
ｑｗｓｉｗｗノナメチレンジアミン、４・４−ジメチル
へブタメチレンジアミン、３−メトキシ−へブタメチレ
ンジアミン、２・１１−ジアミノドデカン、１．４−ジ
アミノ／クロヘキサン、２・２′−ジアミノジエチルエ
ーテル、２・２′−ジアミノジエチルチオエーテル、３
・３′−ジアミノジプロポキシエタン、２・６−ジアミ
ツピリジン、グアナミン、２・５−ジアミノ−１・３・
４−オキサジアゾール、２＜　ａ／−アミノフェニル）
−５−アミ、ｚベンツオキサゾール、ビス−（４−アミ
ノフェニルホスフィンオキシト、ビス−（４−アミノ−
フェニル）ジエチルシランなどであシ、これらは単独な
いし混合物として使用され得る。

本発明における脂肪族テトラカルボン酸二無水物とジア
ミンとの反応は通常有機溶媒中で行なわれる。本反応は
発熱反応であり、反応時は何らかの冷却手段によシ好ま
しく反応温度の制御が出来る。この時雨成分は一方を有
機溶媒中に添加し、適当蓋づつもう一方の成分を添加す
るのが好ましい。反応を充分に制御しうるならば両成分
共存でも支障はない。通常０〜１００℃の反応温度でポ
リイミド前駆体のポリアミド酸を得る事が出来る〇こ＼
で更に厳しい条件、例えば８０℃以上、溶媒の沸点まで
の温度条件を採用すればイミド閉環反応も併発し、部分
的にイミド閉環した繰返し単位を有するポリアミド酸−
イミドからなるポリイミド前駆体が得られる。これは本
発明の幹ノ女脂肪族テトラカルボン酸骨格からなシ、溶
解性に優れている為、繰返し単位が部分的にイミド閉環
してもポリイミド前駆体として使用することが出来るも
ので、イミド閉環した繰返し単位は全繰返し単位の８０
％まで許容されうる。更に両成分の比率はモル比で１＝
１を選ぶことによって最も高分子量のものを得や事がで
き、本発明においては分子量約７００以上のポリイミド
前駆体が使用される。

その分子量が約７００以下のものは露光、現像後の樹脂
パターンの焼付は時に発泡による塗膜欠陥を生じ易く、
また焼付けにより得られる塗膜の機械的強度に劣るだめ
、使用を避けるべきである。

この脂肪族テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反
応で使用される溶媒としてはＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ・Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メ
チルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメ
チレンスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホス
ホアミド、ピリジン、キノリン、γ−ブチルラクトン、
Ｎ　−アセチル−２−ピロリドン、フェノール、クレゾ
ール類、グリコール類、セロソルブ類、カルピトール類
等が挙げられる。この有機溶媒の使用量は反応系の２０
〜９５重量％であるが、場合によ−ては重合性不飽和化
合物、開始剤の共存下にて反応を行なう事も可能であっ
て、従って実用の粘度を示す濃度となるように適宜その
使用量を決定すればよい。

本発明の組成物における重合性不飽和化合物としては各
種のものがあるが、アクリル酸系化合物、メタクリル酸
系化合物或はアＩＪ　）し基を有する化合物等が実用的
である。具体的なアクリル酸系化合物としてはアクリル
酸、メチルアクリレート１エチルアクリＩ／−）、ｎ−
プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ
−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−
エチルへキシルアクリレート、カルピトールアクリレー
ト、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルアク
リレート、ブトキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブ
チレングリコールモノアクリレ−）、Ｎ−Ｎ−ジメチル
アミノエチルアクリ１／−ト、Ｎ−Ｍ−ジエチルアミノ
エチルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、アリルアクリレート、
１・３−ブチレングリコールジアクリレート、１・４−
ブチレングリコールジアクリレート、１・６−ヘキザン
グリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ジグロピレングリコールジアクリレート
、２・２−ビｘ−（４−アクリロキシジェトキシフェニ
ル）プロノ（ン、２．２−ビス−（４−アクリロキシプ
ロビロキシフェニル）プロパン、トリメチロールプロノ
くンジアクリレート、ぺ／タエリスリトールジアク１ル
−ト、トリメチロールプロノくントリアク１ル−ト、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ト１Ｊアクリル
ホルマール、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
トなと、またメタクリレ酸系化合物としてはメタクリル
酸、メチルメタクリｌ／−１−、エチルメタクリレート
、グリシルメタクリレート、イソブチルアクリレート、
プチルメタク１ル−ト、イソブチルメタクリレート、タ
ーシャ１ノーブチルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、ベンジルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、エチルへキシルメタクリレート、メトキシ
エチルメタクリレート、エトキシエチルメタクリレ−＋
−、ブトキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、
ヒドロキシブチルメタクリレ−ト、ヒドロキシペンチル
メタクリレート、Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノメタクリレー
ト、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノメタクリレート、グリシジ
ルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレ
ート、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート
、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、エチレン
グリコールヅメタフリレート、■・３−ブチレングリコ
ールジメタクリレート、１・６−ヘキザングリコールジ
メタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレ
ート、２・２−ビス−（４−メタクリロキシエトギシフ
ェニル）プロパン、２・２−ビス−（４−メタクリロキ
シジェトキシフェニル）プロノくン、トリメチロールプ
ロパントリメタクリｌ／−１−など、その他クロトン酸
ブチル、グリセリンモノクロネート、ビニルブチレート
、ビニルトリメチルアセテート、ビニルカプロエート、
ビニルクロルアセテート、ビニルラクテート、安息香酸
ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニルフタレート、
メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−
エチルメタクリルアミド、Ｎ−アリールメタクリルアミ
ド、２Ｊ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルア
ミド、アクリルアミド、Ｎ−ターシャリ−ブチルアクリ
ルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ブトキ
シメチルアクリルアミド、Ｎ−インブトキシメチルアク
リルアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ヘキシルビ
ニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、ビニル
トリルエーテル、多価アルコールのポリビニルエーテル
、スチレン誘導体としてたとえばオルトおよび／または
パラ位にアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、カルボ
キシル基、アリル基などの置換基ヲ持ったスチレン、ジ
ビニルベンゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン
酸のジアリルニスデル、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ
−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビ
ニルカルバゾールなどを挙げることができ、これらは単
独ないし、混合物として使用されうる。

これらの重合性不飽和化合物の使用量は、ポリイミド前
駆体の樹脂分１００重量部に対して１０〜５００重量部
、好ましくは２０〜２００重量部である。

１０重量部以下では重合性不飽和化合物の重合による硬
化が不充分となシ、また５００ｘ量部以上ではポストキ
ュア一時の残存の影響により、塗膜の耐熱性を低下させ
てしまう。使用量は各重合性不飽和化合物の活性、また
組成物に使用されている溶剤との関係即ち乾燥時に残存
し、硬化能を発揮しうる量を考慮して決定するのが望ま
しい。

これらの重合性不飽和化合物の放射線による重合開始剤
としては一般に紫外線硬化型塗料の開始剤、増感剤とし
て用いられている各種の光重合開始剤を使用できる。例
えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ペンゾインイソグロビルエーテル、
ベンゾインメチルエーテル、２−、、ｌチルベンゾイン
、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジル、ベン
ジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ア
ントラキノン、メチルアントラキノン、ジアセチル、ア
セトフヱノン、ジフェニルジスルフィド、アントラセン
等を挙げることができる。これらの光重合開始剤の使用
量は重合性不飽和化合物ｉｏ。

重量部に対して通常０．０５〜３０重量部、好ましくは
０．１〜１０重量部とするのがよい。これら光重合開始
剤にアミン類等の従来公知の増感助剤を少量併用する事
も出来る。また組成物の熱的な安定性等を向上する為に
公知の熱重合防止剤の共存も有効な場合がある。

熱重合防止剤の具体例としてはパラメトキシフェノール
、ヒドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピロ
ガロール、フェノチアジン、フロラニール、ナフチルア
ミン、β−カフ）−＃、２・６−ジ−ターシャリ−ブチ
ル−パラクレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、パラ
−トルイジン、メチレンブルー、などが挙げられ、その
使用量は重合性不飽和化合物１００重量部に対して通常
０．０１〜５重量部とするのがよい。

かくして得られた感光性樹脂組成物は適宜の手段にて塗
布を行ない乾燥を行なう。この際本発明の組成物の骨格
である脂肪族テトラカルボン酸二無水物とジアミンとか
ら得られたテトラカルボン酸残基が脂肪族テトラカルボ
ン酸残基であるポリイミド前駆体は溶解性が非常に良好
で、乾燥塗膜化時の溶媒揮散後の重合性不飽和化合物中
でも均一透明な塗膜を与える。この塗膜上に所望のパタ
ーンを描いたマスク上から活性光線を照射することＫよ
り、照射部は光重合開始剤により、重合性不飽和化合物
の重合が起シ、非照射部に対して溶解性が大きく低下す
る。場合により電子線、放射線のような電離性放射線を
照射することによっても同様な効果を与える０かくして
これを適当な溶剤系を選択することによｐ１現像にて非
照射部を除去することにより所望の樹脂パターンを得る
事が出来る。

得られた樹脂パターンは、その後の焼付は即ちボストキ
ュア後により優れた耐熱性を有する絶縁層に変換しうる
もので、本発明の組成物は主と［７て前述のような微細
加工の分野において非常に有用である。

以下、本発明を実施例、参考例にて説明する。

実施例１ 温度計％　Ｎｒガス導入口、トラップ付冷却管及び撹拌
装置を付した５　００ｃｃの四つ目フラスコに１・２・
３・４−ブタンテトラカルボン酸二無水物３９．６９（
０，２モル）及びＮ−Ｎ−ジメチルホルムアミド１８５
．７ｇを加え、乾燥Ｎ、ガス流通下で水浴上にて撹拌す
る。内容物が約５℃位で４６４７−ジアミツジフエニル
エーテル４０．０９　（０，２モル）全発熱の度合を見
ながら少量づつ添加する。この添加に約３０分を要し、
反応物の温度は１５℃にまで上昇した。添加後水浴をは
ずし、室温下、約２時間撹拌を続け、約３５００の分子
量を有する活量なポリアミド酸溶液を得た。

この溶液に２−エチルへキシルアクリレート７９．６ｇ
を加え、更に光遮断下でイルガキュアー６５１（チバ・
ガイギー社製：ベンジルジメチルケタール）を３．９８
ｇ加え撹拌混合後、１μのフィルターにてろ過して感光
性樹脂組成物を得た。

この組成物をガラスプレート上にスピンナーにて３００
０　ｒ、　ｐ、　ｍ、の回転数で塗布し、８０℃で１０
分間乾燥して透明な６．５μ厚の塗膜を得た。この塗膜
上にマスクパターンを設置し、３００１ｎＪ／（７２／
の紫外線を照射した後、Ｎ−Ｎ−ジメチルホルムアミド
−ベンゼンの混合溶媒にて現像し、ベンゼンにてリンス
を行なったところ、鮮明な樹脂）くターンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は３５０℃で２時間加熱焼付け
によるボストキュア後、空気中、５℃／分の昇温速度に
よる熱重量分析で３７０℃まで顕著な減量は認められず
、良好な耐熱性を有するものであ、た。

実施例２ 実施例１と同様のフラスコに１−２．３．４−ブタンテ
トラカルボン酸二無水物３９．６ｇ（０，２モル）及び
Ｎ−Ｎ−ジメチルホルムアミド１８４．８９を加え、実
施例１と同様にして４・４′−ジアミノジフェニルメタ
ン３９．６ｇ（０，２モル）を使用して約３５００の分
子量を有する粘１Ｎなポリアミド酸溶液を得た。

この溶液にエチルカルピトールアクリレート１９．２９
を加え、更に光遮断下でイルガキュアー６５１を３．９
６９加え撹拌混合後、１μのフィルターにてろ過して感
光性樹脂組成物を得た。

仁の組成物をガラスプレート上に実施例１と同様にして
塗布、乾燥して透明な６．０μ厚の塗膜を得た。この塗
膜ＶＣ３００ｍＪ／−の照射を行ない、実施例１と同様
にして現像、リンスを行なったところ、鮮明な樹脂パタ
ーンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は実施例１記載の評価で３７０
℃まで顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有する
ものであった。

実施例３ 実施例１と同様のフラスコにシクロペンタンテトラカル
ボン酸二無水物４２．０９（０，２モル）及びＮ−Ｎ−
ジメチルホルムアミド１９１．３９を加え、実施例１と
同様にして４・４′−ジアミノジフェニルメタンＩし４
０．０９　（０，２モル）を使用して約３０００の分子
量を有する粘門なポリアミド酸溶液を得た。

この溶液にエチルカルピトールアクリレート８２．０９
を加え、更に光遮断下でイルガキュアー６５１を４．１
０９を加え撹拌混合後、１μのフィルターにてろ過して
感光性樹脂組成物を得だ。

この組成物をガラスプレート上に実施例１と同様にして
塗布、乾燥して透明な６．８μ厚の塗膜を得た。この塗
膜Ｖｃ３００　ｍＪ／ｒｙｄの照射を行ない、実施例１
と同様にして現像、リンスを行な−、たところ、鮮明な
樹脂パターンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は実施例１記載の評価で３６０
℃まで顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有する
ものであ−、た。

実施例４ 実施例１と同様のフラスコＫｌ・２・３・４−ブタンテ
トラカルボン酸二無水物３９．６９　（０，２モル）及
びＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１８５．７９を加え、
乾燥Ｎ、ガス流通下で水浴上にて撹拌する。

実施例１と同様にして４・４′−ジアミノジフェニルエ
ーテル４０．０ｇ（０，２モル）を添加した後、水浴を
はずし、次いで加熱器を取りつけて加熱し、１２０℃で
約２時間加熱撹拌し、約３２００の分子量を有する粘１
１４な溶液を得た。この溶液は赤外吸収スペクトルにお
いて１７８０　ｃｍ　　及び１８４０　ａｍ　付近のイ
ミドの特性吸収を有するポリアミド酸−イミドの溶液で
あり、またその酸価から全繰返し単位の約７０％がイミ
ド閉環した繰返し単位を有するものであった。次いで実
施例１と同様にして感光性樹脂組成物を得た。

この組成物をガラスプレートＬに実施例１と同様にして
塗布、乾燥して透明な６．１μ厚の塗膜を得た。この塗
膜に３００ｍＪ／−の照射を行ない、実施例１と同様に
して現像、リンスを行な−、だところ、鮮明な樹脂パタ
ーンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は実施例１記載の評価で３７０
℃まで顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有する
ものであまた。

参考例 実施例１と同様のフラスコにピロメリット酸二無水物４
３．６９（０，２モル）及びＮ−Ｎ−ジメチルポルムア
ミドａｓｏ、ｓｇを加え、実施例工と同様に（７て４・
４′−ジアミノジフェニルエーテル４０．０ｇ（０，２
モル）を使用して活量な芳香族ポリアミド酸溶液を得た
。

この溶液に２−エチルへキシルアクリレート８３．６ｇ
を加え、更に光遮断下で・イルガキュアー６５１を４１
８ｇを加え撹拌混合後、１μのフィルターにてろ過して
樹脂組成物とし２だ。

この組成物をガラスグレート上に実施例１と同様にして
塗布、乾燥したところ不溶化により白化した。

゛まだ同様にして重合性不飽和化合物とし２てエチルカ
ルピトールアクリレートを用いた場合ｉｄ　４．０μ厚
の塗膜を得たが、この塗膜ｄ：過剰の照射によっても露
光パターンは得られず感光能を有さなかった。

特許出願人 日東電気工業株式会社 代表者土方三部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式 （式中、Ｒは脂肪族テトラカルボン酸残基、Ｒ′は２価
   の有機基を示す）で表わされる繰返し単位あるいは部分
   的にこの単位がイミド閉環した繰返し単位からなり、約
   ７００以上の分子量を有するポリイミド前駆体を含む溶
   液に重合性不飽和化合物及び光重合開始剤が配合されて
   おシ、且つ乾燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容し活
   性な感光能を与える新規な感光性樹脂組成物。