JPS59131927A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPS59131927A JPS59131927A JP696383A JP696383A JPS59131927A JP S59131927 A JPS59131927 A JP S59131927A JP 696383 A JP696383 A JP 696383A JP 696383 A JP696383 A JP 696383A JP S59131927 A JPS59131927 A JP S59131927A
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- photosensitive resin
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
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- Epoxy Resins (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は新規な感光性樹脂組成□物に係り、更に詳しく
は浴液状患での安定性及び溶解性に優れ、&&光性塗膜
形成時に白化による露光障害がなく、実用性の高い耐熱
性、感光能等を付与I一つる脂肪族ポリイミド系の感光
性樹脂組成、物及びその製造法に関するものである。 近年、電子機器の高密度化、高信頼度化、小型軽量化等
において新I、い変革が見られる。これらに大きく寄与
する機能性材料と1.て回路形成用フォトレジスト材料
があり、いわゆる微細加工全実現している。9jKIC
%LSIの分野においてはかかる微細加工に加えて、従
来無機物で行なわれていた層間絶縁に有機物の特性を活
かI7た使い方%、普及してきており、主と1−でポリ
イミド椿を脂?如き耐熱性に優れた材料が使用されるよ
うになってきた。しかしながら、この材料はスルーホー
ル’4 (1)/(ターン加工はやはりフォトレジスト
ヲ必要とし、このフォトレジスト工程が長く、煩雑な工
程分湯するため、露光、現像によって回路ケ形成した後
もレジストなそのまま残17、絶縁材料と1゜て用いる
ような耐熱性の7オトレジストのil[が強く望まれて
いる。 これらの材料と1−では感光性ポリイミド、環化ホリブ
タジエンをペースにした+wlA性フォトレジスト等が
提案さり、ており、就中特に芳香族ポリイミドはそθ)
ポリイミド骨格が特性面において優れていること、その
製造時に不純物1排除が容、易であること等のためにこ
れを感光性材料へ使用する提案が多くなされている。か
かる感光性ポリイミド類は通常の芳香族ポリイミドの場
合と同様に、前駆体(ポリアミド酸)の形で加工に供せ
られ、ボストキエアーによりイミド化が図られる。 これらの感光性ポリイミドと1.では、ポリイミド前駆
体と重クロム酸塩からなる糸が最初VC捉案されたが(
特公昭49−17374号)、この感光性組成物は再閉
時間が著1.〈短かいとAう致命的な欠点の他、現像工
程が複雑で且つ長め、ポリイミド膜中にクロムイオンが
残存するなどの欠点もあり、実用に至らなかった。また
、龍の例として、ポリイミド前駆体に感光性基をエステ
ル結合で導入した感光性ポリイミド前駆体が提案されて
いるが(特公昭55−30207号)、これも感光性基
を導入する際に脱塩酸反応を含むため塩素イオンが溶液
中に残り、この除去が問題となる。 このような不純物等の問題を回避すべく、ポリイミド1
11駆体に感光性化合物を混合する方法やポリイミド系
化合物σ)前駆体の官能基と感光基を有する化音物の官
能基とを選択1.で反応させ感光基を導入する方法も開
発されている。更に感光基を有する単晴体を用いてIl
&光性ポリイミド前駆体を得る方法も知られている。 しかしながら、これらの感光性ポリイミドはその耐熱性
重視l)観点から、例えばピロメリット酸二無水物と4
.4−ジアミノジフェニルエーテルから合成される芳i
G IiUポリイミド前躯体が幹ポリマーとして用いら
hているが、これら一連の感光性ポリイミドは通常g)
芳香族ポリイミド前駆体の有する欠点を包含17でいる
、即ち、上記前駆体ケ含む溶液は、溶解性に本質的な問
題があす、捷た保存時に一部イミド化による不溶化が起
る等の溶液と1−での安定性にも実用上の大きな欠陥を
有しテオリ、その改善が望まれている。 この溶解性の問題は、例えば感光性ポリイミドと1.て
芳香族ポリイミド前駆体に感光基を導入する場合、ポリ
イミド前躯体VC感光基全導入し得る官能基な予め余分
VCffたせるか或いはポリイミド前駆体のポリアミド
酸酸基を利用する等の方法がとられるが、前記力ように
ポリアミド酸タイプではイミド化が優先し、導入処理が
困難あるいは導入されても部分的なものとなってしまう
。また感光性ポリイミドとして芳香族ポリイミド前駆体
と感光基を有する化合物とを吻−[溶解I、た溶液を′
調整した場合でも、この溶液から塗膜を形成する乾燥工
程におhては大部分の良溶媒が揮発
は浴液状患での安定性及び溶解性に優れ、&&光性塗膜
形成時に白化による露光障害がなく、実用性の高い耐熱
性、感光能等を付与I一つる脂肪族ポリイミド系の感光
性樹脂組成、物及びその製造法に関するものである。 近年、電子機器の高密度化、高信頼度化、小型軽量化等
において新I、い変革が見られる。これらに大きく寄与
する機能性材料と1.て回路形成用フォトレジスト材料
があり、いわゆる微細加工全実現している。9jKIC
%LSIの分野においてはかかる微細加工に加えて、従
来無機物で行なわれていた層間絶縁に有機物の特性を活
かI7た使い方%、普及してきており、主と1−でポリ
イミド椿を脂?如き耐熱性に優れた材料が使用されるよ
うになってきた。しかしながら、この材料はスルーホー
ル’4 (1)/(ターン加工はやはりフォトレジスト
ヲ必要とし、このフォトレジスト工程が長く、煩雑な工
程分湯するため、露光、現像によって回路ケ形成した後
もレジストなそのまま残17、絶縁材料と1゜て用いる
ような耐熱性の7オトレジストのil[が強く望まれて
いる。 これらの材料と1−では感光性ポリイミド、環化ホリブ
タジエンをペースにした+wlA性フォトレジスト等が
提案さり、ており、就中特に芳香族ポリイミドはそθ)
ポリイミド骨格が特性面において優れていること、その
製造時に不純物1排除が容、易であること等のためにこ
れを感光性材料へ使用する提案が多くなされている。か
かる感光性ポリイミド類は通常の芳香族ポリイミドの場
合と同様に、前駆体(ポリアミド酸)の形で加工に供せ
られ、ボストキエアーによりイミド化が図られる。 これらの感光性ポリイミドと1.では、ポリイミド前駆
体と重クロム酸塩からなる糸が最初VC捉案されたが(
特公昭49−17374号)、この感光性組成物は再閉
時間が著1.〈短かいとAう致命的な欠点の他、現像工
程が複雑で且つ長め、ポリイミド膜中にクロムイオンが
残存するなどの欠点もあり、実用に至らなかった。また
、龍の例として、ポリイミド前駆体に感光性基をエステ
ル結合で導入した感光性ポリイミド前駆体が提案されて
いるが(特公昭55−30207号)、これも感光性基
を導入する際に脱塩酸反応を含むため塩素イオンが溶液
中に残り、この除去が問題となる。 このような不純物等の問題を回避すべく、ポリイミド1
11駆体に感光性化合物を混合する方法やポリイミド系
化合物σ)前駆体の官能基と感光基を有する化音物の官
能基とを選択1.で反応させ感光基を導入する方法も開
発されている。更に感光基を有する単晴体を用いてIl
&光性ポリイミド前駆体を得る方法も知られている。 しかしながら、これらの感光性ポリイミドはその耐熱性
重視l)観点から、例えばピロメリット酸二無水物と4
.4−ジアミノジフェニルエーテルから合成される芳i
G IiUポリイミド前躯体が幹ポリマーとして用いら
hているが、これら一連の感光性ポリイミドは通常g)
芳香族ポリイミド前駆体の有する欠点を包含17でいる
、即ち、上記前駆体ケ含む溶液は、溶解性に本質的な問
題があす、捷た保存時に一部イミド化による不溶化が起
る等の溶液と1−での安定性にも実用上の大きな欠陥を
有しテオリ、その改善が望まれている。 この溶解性の問題は、例えば感光性ポリイミドと1.て
芳香族ポリイミド前駆体に感光基を導入する場合、ポリ
イミド前躯体VC感光基全導入し得る官能基な予め余分
VCffたせるか或いはポリイミド前駆体のポリアミド
酸酸基を利用する等の方法がとられるが、前記力ように
ポリアミド酸タイプではイミド化が優先し、導入処理が
困難あるいは導入されても部分的なものとなってしまう
。また感光性ポリイミドとして芳香族ポリイミド前駆体
と感光基を有する化合物とを吻−[溶解I、た溶液を′
調整した場合でも、この溶液から塗膜を形成する乾燥工
程におhては大部分の良溶媒が揮発
【2、乾燥塗膜は該
前駆体と感光基を有する化合物から構成さhることにな
る。こtハような感光基を有する化合物は、一般に該前
躯体に対1.では貧溶媒であって、前駆体の不溶化によ
る白イに現象が乾燥塗膜に起生I−1露光工程に供する
ことが困難となって1−甘う。′また本発明者の観察に
よれば、乾燥塗膜の形成時に感光紙を有する化合物が溶
媒と同時に揮散し、塗膜白化の現象はないが感光能を喪
失する奇異な現象も見出されている。縦って、使f11
シ得る感光基を有する化合物は溶解性或は4目溶件の点
から特殊なもの(例えば1[6価な或は悪l#:分有す
る化合物)[限定されるのが現状であって、芳香族ポリ
イミド前駆体は各種77)処理に伴うイミド化優先によ
り、その溶解性が大全く低下する為、これから実用性g
)高い感光’1tt材料を得る事は非常に困難である。 かかる状況から、不発I41J者は溶液状態での安定性
及び溶解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白化等による
露光障害がなく、実用性の高い耐熱性、゛′感光能ケ付
与しつる感光性樹脂組成物を開発丁べ′く鋭意検討+7
)結東、本発明に至ったものである。 即ち本発明は 式 C式中、Rは脂肪族テトラカルボンl峻残基、Rは2価
の准機基金示す)で表わされる繰返I、単位から本質的
になる約700以上の分子量を有するポリアミド酸の酸
基1当量に対して0.5当量以上の重合性不飽和結合を
有するエポキシ化合物ケ付加せしめたボリイミF前駆体
を含む溶液に光重合開始剤及び場合により重合性不飽和
化合物が配合されており、且つ乾燥後の塗膜は実質的に
光の透過を許容【−活性な感光能を与える新規な感光性
樹脂組成物を提供するものである。 本発明のポリアミド酸は脂肪族テトラカルボン酸二無水
物及びジアミンを出発原料と!−1これらに対1.て実
質的に不活性な有機溶媒中で反応させることにより得ら
れる。 本発明において脂肪族テトラカルボン酸二無水物として
は、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロペンタ
ン−、ビシクロヘキセン−等のテトラカルボン酸二無水
物、5−(2・5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3
−メチル−3−シクロヘキセン−1・2−ジカルボン酸
二ノ1((水物、ビシクロ−(2・2・2)−オクテン
−2・3・5・6−テトラカルボン酸二無水物が挙げら
れる。勿論これらのテトラカルボン酸/7)骨格がアル
キル基等の置換基で置換されていてもよい12、一部脂
肪族ジカルボン酸あるいはトリカルボン酸あるいはその
無水物等の併用も可能である。 これらの脂肪族テトラカルボン酸二無水物と反応させる
ジアミンとしては、一般式H2N −R−Nl2で示さ
れるジアミンであってRは2価の有機基ででちが酸素、
窒素、硫黄、リン、硅素などで結合さねたよりな基であ
ることが出来る。この場合KVcアミノ基または酸無水
物基と反応条件下では定量的には反応しない置換基を持
っていてもよ−。これらの基は生成前駆体の溶解性、加
工性、あるいは接着性などの好−El−い性質を付与す
ることかで鰺るからである。また通常用Aられるトリア
ミンあるいはテトラアミンを併用することも可能である
。 シアミンと1.では芳香族系ジアミンが望ましいが、本
発明に用いられるジアミン知σ)具体例と1゜ては、メ
タフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4.
4’−ジアミノジフェニルプロパン、4.4−ジアミノ
ジフェニルエタン、4.4−ジアミノジフェニルメタン
、ベンジジン、4.4−ジアミノジフェニルスルフィド
、4.4’−ジアミノジフェニルスルホン、3゜3−ジ
アミノジフェニルスルホン、パラ−ビス−(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、メタ−ビス−(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、4.4−ジアミノジフェニル乞斗−
テル、1・5−ジアミノナフタレン、3.3−l 、トムジメチル−4,4−ジアミノビフエニル、3゜4
−ジアミノベンズアニリド、4−(パラ−アミノフェノ
キシ)−4−アミノベンズアニリド、3j 、4−
ジアミノジフェニルエーテル、3.3ジメトキンベンジ
ン、2.4−ビス(ベータアミノ−ターシャリ−ブチル
)トルエン、ビス(パラ−ベータアミノ−タージャリー
プチルフェニル)エーテル、メタキシリレンジアミン、
パラキシリレンジアミン、ジ(パラーア三ノーシクロヘ
キシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
シア3ン、4・4−ジメチルへブタメチレンジアミン、
3−メトキシ−へブタメチレンジアミン、2・11−ジ
アミノドデカン、■・4−ジアミノシクロヘキサン、2
・2−ジアミノジェチルエ3・3−ジアミノジプロポキ
シエタン、2・6−シアミツビリジン、グアナミン、2
・5−ジアミノ−1・3・4−オキサジアゾール、2−
(3−アミノフェニル)−5−アミノベンツオキサゾー
ル、ビス−(4−アミノフェニルボスフィンオキ′シト
、ビス−(4−アミノ−フェニル)ジエチルシランなど
であり、これらは単独ないし混合物として使用され得る
。 本発明rおける脂肪族テトラカルボン酸二無水物とジア
ミンとの反応は通常有機溶媒中で行なわれる。本反応は
発熱反応であり、反応時は何らかの冷却手段により好捷
しく反応温度の制御が出来る。この時雨成分は−y′j
を有機溶媒中に添加し、適当量づつもう一方の成分全添
加するのが好1しい。反応分充分に制御1.つるならば
両成分共存でも支障はない、a常0〜l (111℃の
反応fIM度でポリアミド酸を得る事が出来る。 こ\で更に厳1.Ln条件、例えば80℃以北、溶媒の
沸点捷での温度条件全採用丁わけイミド閉環反応も併発
17、部分的にイミド閉環1.た繰返1一単位を有する
ポリアミド酸−イミドが得られる。これン′・ 2譬本発(3J4 v> 幹ホリマーが脂肪族テトラカ
ルボン酸骨格からなり、溶解性に優れてbる為、繰返1
.単位が部分的にイミド閉環I7ても使用することが出
来るもので、イミド閉環した繰返l一単位は全繰返1、
単位77)約半量捷で許容されつる。更に両成分の比率
はモル比でl:lを選ぶことによって最も高分子量のも
のを得る事ができ、本発明においては分子晴約700以
上のポリアミド酸が便…される。 その分子量が約700以下のものは露光、現像後の樹脂
パターンの焼付は時VC発泡による塗膜°欠陥を生じ易
く、また焼付けにより得られる塗膜の機械的強度に劣る
ため、使1羽を脚けるべきである。 こg)指iia族テトラカルボン酸二無水物とジアミン
との反応で使用さねる溶媒と1.てはN −N−ジメチ
ルボルムアミド、N−N−ジエチルホルムアミド、N−
N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン、N−メチルカプロラクタム、ジメ:fルスルホキシ
ド、テトラメチレンスルホン、テトラメチル尿素、ヘキ
サメチルホスポアミド、ピリジン、キノリン、r−ブチ
ルラクトン、N −アセチル−2−ピロリドン、フェノ
ール、クレゾール類、グリコ−Iし頌、セロソルブ類、
カルピトール類等が挙げられる。この有機溶媒σ)使用
量は反応系の20〜95市量%であるが、場合によって
は軍り性不飽和化合物、開始剤の共存下VCで反応を行
なう事も可能であって、従って実用の粘度を示す濃度と
なるように適宜そ(7)使用量分決定↑ればよい。 かくして得られたポリアミド酸は、とhvc対して7.
16性不飽和結爵を竹するエポキシ化合物全付加+!:
1−めることによって直合性不飽和結合ゲ辱入すること
が出来る。 ここで重合性不飽和結合を有するエポキシ化合物とl−
では実用的にはグリシジルアクリレート、グリシジルメ
タクリレート及びアリルグリシジルエーテルが挙げられ
る。こhらはポリアミ#:酸生成後、そのま1続いて添
加反応させつる。重合性不飽和結合を有するエポキシ化
合物はポリアミド酸酸基1当晴に対1−で()、5当晴
以上、好ま1.〈は0.5〜3当量を配合反応させる。 0.5当♀以下では得られるポリイミド前駆体における
重合性不飽和結合が不充分となり、それ自身での活性光
線等によ′″る硬化がむづかしくなる。 ′ 反応温度は70℃〜12 (111;で、この11
ゲ一般に使用される熱重合防止剤を併用することが出来
る。 熱重合防■ヒ剤の具体例としてはパラメトキシフェノー
ル、ヒドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピ
ロガロール、フェノチアジン、フロラニール、ナフチル
アミン、β−ナフトール、2・6−ジ−ターシャリ−ブ
チル−バラクレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、パ
ラ−トルイジン、メチレンブルーなどが挙げられ、その
使用量は重合性不飽和結合を有するエポキシ化合物1
(1(1重量部に対I2て通虜0.01〜5重帖部とす
るσ)がよい。 かくI−で前記ポリアミド酸に重合性不飽和結合を有す
るエポキシ化合物を付加せしめたポリイミド前1枢体の
溶液が得られる。この溶液に光重合間時にはポリイミド
前IjK体10 (I M置部に対して500市44部
以下σ)他の重合性不飽和化俗物を迫′、加記合するこ
とにより、本発明の感光性樹脂組成物が得られる。 ・ これらσ)付加物及び重合性不飽和化合物σ)束合
開始剤と1.では一般に紫外線硬化型塗料g)開始剤、
増感剤として用いられている各種77)光T任合開始剤
−+使用できる。例えばベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンツインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、2−メ
チルベンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、
ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチ
ルケタール、アントラキノン、メチルアントラキノン、
ジアセチル、。 アセトフェノン、ジフェニルジスルフィド、アントラセ
ン等分量げることができる。 これらの光重合開始剤の使用量はポリイミド前駆体にお
ける重合性不飽和結合を有するエポキシ化合物及び重合
性不飽和化合物100重量部に対して通常(1、(15
〜30重量部、好ま1.<は(1,1〜10重歇部とす
る+7)がよい。これら光重合開始剤にアミン類等の従
来公知の増感助剤を少量併用する事も出来る。また組成
物の熱的な安定性等を向上する為に公知の熱重合防止剤
の共存も有効な場合がある。 本発明の組成物におhで、場合によって追加配合される
重合性不飽和化合物と1.では各種のものがあるが、ア
クリル酸基化合物、メタクリル酸系化合物あるいはアリ
ル基を有する化合物等が実用的であって、具体的なアク
リル酸系化合物と1.ではアクリル酸、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート
、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート
、インブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、カルピトールアクリレート、メトキシエチルア
クリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ブチレングリコールモ
ノアクリレート、N−N−ジメチルアミノエチルアクリ
レート、N−N−ジエチルアミノエチルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、アリルアクリレ
ート、■・3−ブチレングリコールジアクリレート、l
・4−ブチレングリコールジアクリレート、l・6−ヘ
キサングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、2・2−ビス−(4−アクリロキシジェトキシ
フェニル)プロパン、2・2−ビス−(4−アクリロキ
シプロビロキシフェニル)プロパン、トリメチロールプ
ロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、トリアクリルホ
ルマール、テトラメチロ−1ルメタンテトラアクリレー
トなど、ま念メタクリル酸系化合物と1−ではメタクリ
ル酸、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート
、ブチルメタクリレート、インブチルメタクリレート、
ターシャリ−ブチルメタクリレート、シクロへキシルメ
タクリレート、ベンジルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、エチルへキシルメタクリレート、メトキシ
エチルメタクリレート、エトキシエチルメタクリレート
、ブトキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチルメ
タクリレート、N−N−ジメチルアミノメタクリレート
、N−N−ジエチルアミノメタクリレート、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート、メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、アリルメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンモノメタクリレート、ジエチレングリコ
ールモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメ
タクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
l・3−ブチレングリコールジメタクリレート、■・6
−ヘキサングリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、2・2−ビス−(4−メタ
クリロキシエトキシフェニル)プロパン、2・2−ビス
−(4−メタクリロキシジェトキシフェニル)プロパン
、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど、そ
の他クロトン酸ブチル、グリセリンモノクロネート、ビ
ニルブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニル
カプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルラクテ
ート、安息香酸ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニ
ルフタレート、メタクリルアミF1N−メチルメタクリ
ルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−アリール
メタクリルアミF1N−ヒドロキシエチル−N−メチル
メタクリルアミド、アクリルアミド、N−ターシャリ−
ブチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド
、N−ブトキシメチルアクリルアミド、N−47ブトキ
シメチルアクリルアミド、ダイア七トンアクリルアミド
、ヘキシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエー
テル、ビニルトリルエーテル、多価アルコールのポリビ
ニルエーテル、スチレン誘導体と■2てたとえばオルト
および/捷たはパラ位にアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロゲン、カル7K キE/ ル基、71Jル基などの置
換基ケ持ったスチレン、ジビニルベンゼン、アリルオキ
シエタノール、シカフレポン酸σ)ジアリjレエステl
し、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルイミダゾー
ル、N−ビニルビロリドン、N−ビニルカルバゾールな
どを挙げることができ、これらは単独ないL2混合物と
して使用されつる。 か〈1.て本発明の感光性樹脂組数5物が得られ、適宜
の手段にて塗布全行ない乾燥を行なうが、不発明の組成
物においては、脂肪族テトラカルボン酸とジアニンとか
ら得られるポリアミド酸はテトラカルボン酸残基が脂肪
族テトラカルボン酸残基であるため溶解性が良好であり
、また重合性不飽和結合分有するエポキシ化合物との反
応処理における若干のイミド化併発によっても実質的な
溶解性の低下7示さず東合性不庵相結合分七の骨格に2
−入することが出来ると共に、得らf1タボリイ三ドr
jD躯体目尉も溶解性が非常に良好で、乾燥壁模化時の
溶媒揮散後も均一透明な塗膜ケ手える。この@膜上に所
望σ)パターン′(r描いたマスク上から活性光線ケ照
射することにより、照射部は光重合開始剤vrより、直
合性不飽和結合の置台が起り、非照@都に対して溶解性
が大きく底下する。場合により電子株、放射線のような
軍離性放射綴會照゛射することによっても同様な効果を
与える。か〈L、fこh’ii当な溶剤系ケ選択するこ
とにより、現像にて非照射部を除去することにより所望
の樹脂パターン分得る事が出来る。 得られた樹脂パターンは、その後の焼付は即ちボストキ
ーアーにより優れた耐熱性ケ有する絶縁層vc変換しつ
るもので、不発明の組成物は主として前述σ)ような微
細加工の分野において非常VC有用である。 以下、本発明會夾施例、参考例にて説明する。 実施例1 温度計、H2ガス萼入口、トラップ付冷却管及び撹拌装
置を伺した5 (+ (l ccσ)四つロフラスコに
1・2・3・4−ブタンテトラカルボン峻二無水物39
.6 g((1,2モル)及びN−N−ジメチルホルム
アミド185.7N’(f加え、乾燥Nz、/7’ス流
通下で水浴上にて撹拌する。内容物が約5℃位で4゜4
−ジアミノジフェニルエーテル4 (1、(11((1
、2モル)を発熱の度合を見ながら少量づつ嵩加する。 この添加に約30分′5c要1−1反応物の温度は15
t3vcまで上昇1−た。添加後水浴全はず11、¥温
下、約2時間攪拌ケ続け、約3500の分子量分有する
粘稠なポリアミド酸溶液を得た。 次いで、この溶液にグリシジルメタクリレート85゜:
M(0,6モル;ポリアミド酸の酸基に対して1.5倍
当量)全加え90℃で約3時回生反応させポリイミド前
駆体の溶液を得た。 更Vここσ)溶液に光遮断下でイルガキーア−651(
チバ・ガイギー社製:ペンジルジメチルケタール)を4
.27&加え攪拌混合後、1μのフィルターにてろ過1
.て感光性樹脂組成物を得た。 この組[戊物分ガラスプレート上にスピンナーrて2
(10(l rp m内回転数で塗布し、90℃で1o
分聞乾燥り、て透明な5 、5 、u厚の塗膜を得た。 1この’I M Jユにマスクパターンを股IIL、3
000mJ、&−の紫外線全照射1.fC後、N、N−
ジメチルホルムアミド−ベンゼンの混合溶媒にて現像し
、ベンゼンにてリンスケ行なったところ、鮮明な樹脂′
・パターンを得友。 このm脂パターンの塗膜は350℃で2時間加熱焼付け
によるポストキーアー後、空気中、5C/分の昇温速度
による熱重量分析で37(1℃t 。 で顕著り識者は認められず、良好な耐熱性を有するもの
であった。 実施例2 実施例1と同様のフラスコに1・2・3・4−ブタンテ
トラカルボン酸二無水物39 、6 f’(11,2モ
ル)及びN−N−ジメチルホルムアミド184.8f/
を加え、実施例1と同様vCして4.4−ジアミノジフ
ェニルメタン39 、617 (0,2モル)を使用I
5て約3500の分子量を有する粘稠なポリアミド酸溶
液分掛た。 次いで、こ”) 浴evrグリシジルアクリレート76
、81 (11、6モ11/:ポリアミg B +7
) lv塾に対1.て1.51斉当−)を加え8(li
で約211守間反応させポリイミドIjiT躯体の溶M
fX″#た。 (Vcこg)溶液に光速;厨下でイルガキーア−651
を3゜84 f/ vU]え撹拌後、1μ7/)フィル
ターにてろij、iil l 、てj1&光性樹脂組t
N物を得た。 凌 こσ)組成物をガラスプレート上に実施例1
と同様に1.″′r塗イ臥乾腺1.て透明h5.0μm
9g)塗膜k r’4た。こa)@ 禎tF30 o
m:Jlolの照射を行iい、実施例1と同6,1゛て
1.て現鯨、リンスを行なったところ、(l [411
な4J脂パターンケ得た。 こ〃)砧、1川イパターンの塗+1i麹番A央り也’/
111 d己」曳の評イ曲T370C′!l:で顕著l
減f’ilは認めら台ず、良好な耐熱性を1するもrl
)′T゛あった。 実施例3 笑j?f、 咬111と1114A<σ】フラスコてシ
クロペンタンテトラカルボン岬二無水物42 、(1f
/ (11、2モル〕及びN−N−ジメチルホルムアミ
)′191.3g分加え、実施例1と同様に1.て4.
4−ジアミノジフェニルエーテル4 (1、Of ((
1、2モル)を使用I、”’r約301) 00分子車
ケ有する粘稠なポリアミド酸浴液を得た。 次いで、この溶液にグリシジルアクリレート76.81
((1、6モル:ポリアミド酸の酸基に対1.て1.
5倍当量)を加え80℃で約2時間反応させポリイミド
前駆体の溶液を得た。 更にこの溶液に光遮断下でイルガキュアー651′f/
3.84N加え撹拌後、1μのフィルターにてろ過I−
で感光性樹脂組成物分掛た。 この組成、物をガラスプレート上Vc実施例1と同様に
して塗布、乾燥1−で透明な5.2μ厚の塗膜を得た。 この塗1I7i4に3 (1(1mJA−の照射を行な
い、実施例1と同様VC1−で現像、リンス全行りつた
ところ、鮮明な樹脂パターンを得た。 この樹脂パターンの塗膜は実施例1記載の評価で360
℃捷で顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有する
も〃)であった。 実施例4 実施例1と同様の操作及び使用量で1・2・3−4−ブ
タンテトラカルボン酸二無水物及び4.4−ジアミノジ
フェニルエーテル分反応させてポリアミド酸溶液分掛た
。 次いで、この溶液にグリシジルメタクリレート45.5
f/(0,32モル:ポリアミ)′酸の酸基に対して(
)、8倍当量)を加え90℃で約2時間反応させてボリ
イミy前駆体の溶液を得た。 この溶液に2−エチルへキシルアクリレート40 、
(l pを加え、更に光遮断下でイルガキーアー651
分4.281を加え撹拌混合後、1μのフィルターにて
ろ過I−て感光性樹脂組成物を得た。 この組成物をガラスプレート上に実施例1と同様VcL
で塗布、乾燥I−で透明な5.2μ厚の塗膜を得た。こ
の塗膜に300mJ/CII!の照射を行ない実施例1
と同様[して現像、リンス全行なったところ、鮮明な樹
脂パターン全得た。 この樹脂パターンg)塗膜は実施例1記載σ)評価で3
70Cまで1著な減量は認められず、良好な耐熱性を有
するものであった。 また本実施例において、上記ポリイミド前駆体の溶av
c2−エチルへキシルアクリレートに化工てエチルカル
ピトーフレアクリレート4 (1、01F %−加え、
四に光遮断下でイルガキーア−651を4.289を加
え撹拌混合後、1μのフィルターにてろ過I−で感光性
格i脂組成物を得た。 この組収物會ガラスプレート上に上記と同様にして塗布
、乾燥して透明な5.1μ厚の塗膜を得た。この塗膜に
3011 mJA:dの照射を行ない、上記と同様に1
.て現像、リンス全行なったところ、鮮liJな樹脂パ
ターンを得た。 この樹脂パターン/7)塗1漢は実施例1記載I7)評
価で370℃捷で顕著な減量は認められず、良好な耐熱
性を有するものであった。 特許出幀人 日東電気工業株式会社 ゛代表者土方三部
前駆体と感光基を有する化合物から構成さhることにな
る。こtハような感光基を有する化合物は、一般に該前
躯体に対1.では貧溶媒であって、前駆体の不溶化によ
る白イに現象が乾燥塗膜に起生I−1露光工程に供する
ことが困難となって1−甘う。′また本発明者の観察に
よれば、乾燥塗膜の形成時に感光紙を有する化合物が溶
媒と同時に揮散し、塗膜白化の現象はないが感光能を喪
失する奇異な現象も見出されている。縦って、使f11
シ得る感光基を有する化合物は溶解性或は4目溶件の点
から特殊なもの(例えば1[6価な或は悪l#:分有す
る化合物)[限定されるのが現状であって、芳香族ポリ
イミド前駆体は各種77)処理に伴うイミド化優先によ
り、その溶解性が大全く低下する為、これから実用性g
)高い感光’1tt材料を得る事は非常に困難である。 かかる状況から、不発I41J者は溶液状態での安定性
及び溶解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白化等による
露光障害がなく、実用性の高い耐熱性、゛′感光能ケ付
与しつる感光性樹脂組成物を開発丁べ′く鋭意検討+7
)結東、本発明に至ったものである。 即ち本発明は 式 C式中、Rは脂肪族テトラカルボンl峻残基、Rは2価
の准機基金示す)で表わされる繰返I、単位から本質的
になる約700以上の分子量を有するポリアミド酸の酸
基1当量に対して0.5当量以上の重合性不飽和結合を
有するエポキシ化合物ケ付加せしめたボリイミF前駆体
を含む溶液に光重合開始剤及び場合により重合性不飽和
化合物が配合されており、且つ乾燥後の塗膜は実質的に
光の透過を許容【−活性な感光能を与える新規な感光性
樹脂組成物を提供するものである。 本発明のポリアミド酸は脂肪族テトラカルボン酸二無水
物及びジアミンを出発原料と!−1これらに対1.て実
質的に不活性な有機溶媒中で反応させることにより得ら
れる。 本発明において脂肪族テトラカルボン酸二無水物として
は、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン−、シクロペンタ
ン−、ビシクロヘキセン−等のテトラカルボン酸二無水
物、5−(2・5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3
−メチル−3−シクロヘキセン−1・2−ジカルボン酸
二ノ1((水物、ビシクロ−(2・2・2)−オクテン
−2・3・5・6−テトラカルボン酸二無水物が挙げら
れる。勿論これらのテトラカルボン酸/7)骨格がアル
キル基等の置換基で置換されていてもよい12、一部脂
肪族ジカルボン酸あるいはトリカルボン酸あるいはその
無水物等の併用も可能である。 これらの脂肪族テトラカルボン酸二無水物と反応させる
ジアミンとしては、一般式H2N −R−Nl2で示さ
れるジアミンであってRは2価の有機基ででちが酸素、
窒素、硫黄、リン、硅素などで結合さねたよりな基であ
ることが出来る。この場合KVcアミノ基または酸無水
物基と反応条件下では定量的には反応しない置換基を持
っていてもよ−。これらの基は生成前駆体の溶解性、加
工性、あるいは接着性などの好−El−い性質を付与す
ることかで鰺るからである。また通常用Aられるトリア
ミンあるいはテトラアミンを併用することも可能である
。 シアミンと1.では芳香族系ジアミンが望ましいが、本
発明に用いられるジアミン知σ)具体例と1゜ては、メ
タフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、4.
4’−ジアミノジフェニルプロパン、4.4−ジアミノ
ジフェニルエタン、4.4−ジアミノジフェニルメタン
、ベンジジン、4.4−ジアミノジフェニルスルフィド
、4.4’−ジアミノジフェニルスルホン、3゜3−ジ
アミノジフェニルスルホン、パラ−ビス−(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、メタ−ビス−(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、4.4−ジアミノジフェニル乞斗−
テル、1・5−ジアミノナフタレン、3.3−l 、トムジメチル−4,4−ジアミノビフエニル、3゜4
−ジアミノベンズアニリド、4−(パラ−アミノフェノ
キシ)−4−アミノベンズアニリド、3j 、4−
ジアミノジフェニルエーテル、3.3ジメトキンベンジ
ン、2.4−ビス(ベータアミノ−ターシャリ−ブチル
)トルエン、ビス(パラ−ベータアミノ−タージャリー
プチルフェニル)エーテル、メタキシリレンジアミン、
パラキシリレンジアミン、ジ(パラーア三ノーシクロヘ
キシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
シア3ン、4・4−ジメチルへブタメチレンジアミン、
3−メトキシ−へブタメチレンジアミン、2・11−ジ
アミノドデカン、■・4−ジアミノシクロヘキサン、2
・2−ジアミノジェチルエ3・3−ジアミノジプロポキ
シエタン、2・6−シアミツビリジン、グアナミン、2
・5−ジアミノ−1・3・4−オキサジアゾール、2−
(3−アミノフェニル)−5−アミノベンツオキサゾー
ル、ビス−(4−アミノフェニルボスフィンオキ′シト
、ビス−(4−アミノ−フェニル)ジエチルシランなど
であり、これらは単独ないし混合物として使用され得る
。 本発明rおける脂肪族テトラカルボン酸二無水物とジア
ミンとの反応は通常有機溶媒中で行なわれる。本反応は
発熱反応であり、反応時は何らかの冷却手段により好捷
しく反応温度の制御が出来る。この時雨成分は−y′j
を有機溶媒中に添加し、適当量づつもう一方の成分全添
加するのが好1しい。反応分充分に制御1.つるならば
両成分共存でも支障はない、a常0〜l (111℃の
反応fIM度でポリアミド酸を得る事が出来る。 こ\で更に厳1.Ln条件、例えば80℃以北、溶媒の
沸点捷での温度条件全採用丁わけイミド閉環反応も併発
17、部分的にイミド閉環1.た繰返1一単位を有する
ポリアミド酸−イミドが得られる。これン′・ 2譬本発(3J4 v> 幹ホリマーが脂肪族テトラカ
ルボン酸骨格からなり、溶解性に優れてbる為、繰返1
.単位が部分的にイミド閉環I7ても使用することが出
来るもので、イミド閉環した繰返l一単位は全繰返1、
単位77)約半量捷で許容されつる。更に両成分の比率
はモル比でl:lを選ぶことによって最も高分子量のも
のを得る事ができ、本発明においては分子晴約700以
上のポリアミド酸が便…される。 その分子量が約700以下のものは露光、現像後の樹脂
パターンの焼付は時VC発泡による塗膜°欠陥を生じ易
く、また焼付けにより得られる塗膜の機械的強度に劣る
ため、使1羽を脚けるべきである。 こg)指iia族テトラカルボン酸二無水物とジアミン
との反応で使用さねる溶媒と1.てはN −N−ジメチ
ルボルムアミド、N−N−ジエチルホルムアミド、N−
N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン、N−メチルカプロラクタム、ジメ:fルスルホキシ
ド、テトラメチレンスルホン、テトラメチル尿素、ヘキ
サメチルホスポアミド、ピリジン、キノリン、r−ブチ
ルラクトン、N −アセチル−2−ピロリドン、フェノ
ール、クレゾール類、グリコ−Iし頌、セロソルブ類、
カルピトール類等が挙げられる。この有機溶媒σ)使用
量は反応系の20〜95市量%であるが、場合によって
は軍り性不飽和化合物、開始剤の共存下VCで反応を行
なう事も可能であって、従って実用の粘度を示す濃度と
なるように適宜そ(7)使用量分決定↑ればよい。 かくして得られたポリアミド酸は、とhvc対して7.
16性不飽和結爵を竹するエポキシ化合物全付加+!:
1−めることによって直合性不飽和結合ゲ辱入すること
が出来る。 ここで重合性不飽和結合を有するエポキシ化合物とl−
では実用的にはグリシジルアクリレート、グリシジルメ
タクリレート及びアリルグリシジルエーテルが挙げられ
る。こhらはポリアミ#:酸生成後、そのま1続いて添
加反応させつる。重合性不飽和結合を有するエポキシ化
合物はポリアミド酸酸基1当晴に対1−で()、5当晴
以上、好ま1.〈は0.5〜3当量を配合反応させる。 0.5当♀以下では得られるポリイミド前駆体における
重合性不飽和結合が不充分となり、それ自身での活性光
線等によ′″る硬化がむづかしくなる。 ′ 反応温度は70℃〜12 (111;で、この11
ゲ一般に使用される熱重合防止剤を併用することが出来
る。 熱重合防■ヒ剤の具体例としてはパラメトキシフェノー
ル、ヒドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピ
ロガロール、フェノチアジン、フロラニール、ナフチル
アミン、β−ナフトール、2・6−ジ−ターシャリ−ブ
チル−バラクレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、パ
ラ−トルイジン、メチレンブルーなどが挙げられ、その
使用量は重合性不飽和結合を有するエポキシ化合物1
(1(1重量部に対I2て通虜0.01〜5重帖部とす
るσ)がよい。 かくI−で前記ポリアミド酸に重合性不飽和結合を有す
るエポキシ化合物を付加せしめたポリイミド前1枢体の
溶液が得られる。この溶液に光重合間時にはポリイミド
前IjK体10 (I M置部に対して500市44部
以下σ)他の重合性不飽和化俗物を迫′、加記合するこ
とにより、本発明の感光性樹脂組成物が得られる。 ・ これらσ)付加物及び重合性不飽和化合物σ)束合
開始剤と1.では一般に紫外線硬化型塗料g)開始剤、
増感剤として用いられている各種77)光T任合開始剤
−+使用できる。例えばベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンツインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、2−メ
チルベンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、
ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチ
ルケタール、アントラキノン、メチルアントラキノン、
ジアセチル、。 アセトフェノン、ジフェニルジスルフィド、アントラセ
ン等分量げることができる。 これらの光重合開始剤の使用量はポリイミド前駆体にお
ける重合性不飽和結合を有するエポキシ化合物及び重合
性不飽和化合物100重量部に対して通常(1、(15
〜30重量部、好ま1.<は(1,1〜10重歇部とす
る+7)がよい。これら光重合開始剤にアミン類等の従
来公知の増感助剤を少量併用する事も出来る。また組成
物の熱的な安定性等を向上する為に公知の熱重合防止剤
の共存も有効な場合がある。 本発明の組成物におhで、場合によって追加配合される
重合性不飽和化合物と1.では各種のものがあるが、ア
クリル酸基化合物、メタクリル酸系化合物あるいはアリ
ル基を有する化合物等が実用的であって、具体的なアク
リル酸系化合物と1.ではアクリル酸、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート
、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート
、インブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート、カルピトールアクリレート、メトキシエチルア
クリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ブチレングリコールモ
ノアクリレート、N−N−ジメチルアミノエチルアクリ
レート、N−N−ジエチルアミノエチルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、アリルアクリレ
ート、■・3−ブチレングリコールジアクリレート、l
・4−ブチレングリコールジアクリレート、l・6−ヘ
キサングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、2・2−ビス−(4−アクリロキシジェトキシ
フェニル)プロパン、2・2−ビス−(4−アクリロキ
シプロビロキシフェニル)プロパン、トリメチロールプ
ロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、トリアクリルホ
ルマール、テトラメチロ−1ルメタンテトラアクリレー
トなど、ま念メタクリル酸系化合物と1−ではメタクリ
ル酸、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート
、ブチルメタクリレート、インブチルメタクリレート、
ターシャリ−ブチルメタクリレート、シクロへキシルメ
タクリレート、ベンジルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、エチルへキシルメタクリレート、メトキシ
エチルメタクリレート、エトキシエチルメタクリレート
、ブトキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチルメ
タクリレート、N−N−ジメチルアミノメタクリレート
、N−N−ジエチルアミノメタクリレート、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート、メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、アリルメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンモノメタクリレート、ジエチレングリコ
ールモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメ
タクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
l・3−ブチレングリコールジメタクリレート、■・6
−ヘキサングリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、2・2−ビス−(4−メタ
クリロキシエトキシフェニル)プロパン、2・2−ビス
−(4−メタクリロキシジェトキシフェニル)プロパン
、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど、そ
の他クロトン酸ブチル、グリセリンモノクロネート、ビ
ニルブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニル
カプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルラクテ
ート、安息香酸ビニル、ジビニルサクシネート、ジビニ
ルフタレート、メタクリルアミF1N−メチルメタクリ
ルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−アリール
メタクリルアミF1N−ヒドロキシエチル−N−メチル
メタクリルアミド、アクリルアミド、N−ターシャリ−
ブチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド
、N−ブトキシメチルアクリルアミド、N−47ブトキ
シメチルアクリルアミド、ダイア七トンアクリルアミド
、ヘキシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエー
テル、ビニルトリルエーテル、多価アルコールのポリビ
ニルエーテル、スチレン誘導体と■2てたとえばオルト
および/捷たはパラ位にアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロゲン、カル7K キE/ ル基、71Jル基などの置
換基ケ持ったスチレン、ジビニルベンゼン、アリルオキ
シエタノール、シカフレポン酸σ)ジアリjレエステl
し、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルイミダゾー
ル、N−ビニルビロリドン、N−ビニルカルバゾールな
どを挙げることができ、これらは単独ないL2混合物と
して使用されつる。 か〈1.て本発明の感光性樹脂組数5物が得られ、適宜
の手段にて塗布全行ない乾燥を行なうが、不発明の組成
物においては、脂肪族テトラカルボン酸とジアニンとか
ら得られるポリアミド酸はテトラカルボン酸残基が脂肪
族テトラカルボン酸残基であるため溶解性が良好であり
、また重合性不飽和結合分有するエポキシ化合物との反
応処理における若干のイミド化併発によっても実質的な
溶解性の低下7示さず東合性不庵相結合分七の骨格に2
−入することが出来ると共に、得らf1タボリイ三ドr
jD躯体目尉も溶解性が非常に良好で、乾燥壁模化時の
溶媒揮散後も均一透明な塗膜ケ手える。この@膜上に所
望σ)パターン′(r描いたマスク上から活性光線ケ照
射することにより、照射部は光重合開始剤vrより、直
合性不飽和結合の置台が起り、非照@都に対して溶解性
が大きく底下する。場合により電子株、放射線のような
軍離性放射綴會照゛射することによっても同様な効果を
与える。か〈L、fこh’ii当な溶剤系ケ選択するこ
とにより、現像にて非照射部を除去することにより所望
の樹脂パターン分得る事が出来る。 得られた樹脂パターンは、その後の焼付は即ちボストキ
ーアーにより優れた耐熱性ケ有する絶縁層vc変換しつ
るもので、不発明の組成物は主として前述σ)ような微
細加工の分野において非常VC有用である。 以下、本発明會夾施例、参考例にて説明する。 実施例1 温度計、H2ガス萼入口、トラップ付冷却管及び撹拌装
置を伺した5 (+ (l ccσ)四つロフラスコに
1・2・3・4−ブタンテトラカルボン峻二無水物39
.6 g((1,2モル)及びN−N−ジメチルホルム
アミド185.7N’(f加え、乾燥Nz、/7’ス流
通下で水浴上にて撹拌する。内容物が約5℃位で4゜4
−ジアミノジフェニルエーテル4 (1、(11((1
、2モル)を発熱の度合を見ながら少量づつ嵩加する。 この添加に約30分′5c要1−1反応物の温度は15
t3vcまで上昇1−た。添加後水浴全はず11、¥温
下、約2時間攪拌ケ続け、約3500の分子量分有する
粘稠なポリアミド酸溶液を得た。 次いで、この溶液にグリシジルメタクリレート85゜:
M(0,6モル;ポリアミド酸の酸基に対して1.5倍
当量)全加え90℃で約3時回生反応させポリイミド前
駆体の溶液を得た。 更Vここσ)溶液に光遮断下でイルガキーア−651(
チバ・ガイギー社製:ペンジルジメチルケタール)を4
.27&加え攪拌混合後、1μのフィルターにてろ過1
.て感光性樹脂組成物を得た。 この組[戊物分ガラスプレート上にスピンナーrて2
(10(l rp m内回転数で塗布し、90℃で1o
分聞乾燥り、て透明な5 、5 、u厚の塗膜を得た。 1この’I M Jユにマスクパターンを股IIL、3
000mJ、&−の紫外線全照射1.fC後、N、N−
ジメチルホルムアミド−ベンゼンの混合溶媒にて現像し
、ベンゼンにてリンスケ行なったところ、鮮明な樹脂′
・パターンを得友。 このm脂パターンの塗膜は350℃で2時間加熱焼付け
によるポストキーアー後、空気中、5C/分の昇温速度
による熱重量分析で37(1℃t 。 で顕著り識者は認められず、良好な耐熱性を有するもの
であった。 実施例2 実施例1と同様のフラスコに1・2・3・4−ブタンテ
トラカルボン酸二無水物39 、6 f’(11,2モ
ル)及びN−N−ジメチルホルムアミド184.8f/
を加え、実施例1と同様vCして4.4−ジアミノジフ
ェニルメタン39 、617 (0,2モル)を使用I
5て約3500の分子量を有する粘稠なポリアミド酸溶
液分掛た。 次いで、こ”) 浴evrグリシジルアクリレート76
、81 (11、6モ11/:ポリアミg B +7
) lv塾に対1.て1.51斉当−)を加え8(li
で約211守間反応させポリイミドIjiT躯体の溶M
fX″#た。 (Vcこg)溶液に光速;厨下でイルガキーア−651
を3゜84 f/ vU]え撹拌後、1μ7/)フィル
ターにてろij、iil l 、てj1&光性樹脂組t
N物を得た。 凌 こσ)組成物をガラスプレート上に実施例1
と同様に1.″′r塗イ臥乾腺1.て透明h5.0μm
9g)塗膜k r’4た。こa)@ 禎tF30 o
m:Jlolの照射を行iい、実施例1と同6,1゛て
1.て現鯨、リンスを行なったところ、(l [411
な4J脂パターンケ得た。 こ〃)砧、1川イパターンの塗+1i麹番A央り也’/
111 d己」曳の評イ曲T370C′!l:で顕著l
減f’ilは認めら台ず、良好な耐熱性を1するもrl
)′T゛あった。 実施例3 笑j?f、 咬111と1114A<σ】フラスコてシ
クロペンタンテトラカルボン岬二無水物42 、(1f
/ (11、2モル〕及びN−N−ジメチルホルムアミ
)′191.3g分加え、実施例1と同様に1.て4.
4−ジアミノジフェニルエーテル4 (1、Of ((
1、2モル)を使用I、”’r約301) 00分子車
ケ有する粘稠なポリアミド酸浴液を得た。 次いで、この溶液にグリシジルアクリレート76.81
((1、6モル:ポリアミド酸の酸基に対1.て1.
5倍当量)を加え80℃で約2時間反応させポリイミド
前駆体の溶液を得た。 更にこの溶液に光遮断下でイルガキュアー651′f/
3.84N加え撹拌後、1μのフィルターにてろ過I−
で感光性樹脂組成物分掛た。 この組成、物をガラスプレート上Vc実施例1と同様に
して塗布、乾燥1−で透明な5.2μ厚の塗膜を得た。 この塗1I7i4に3 (1(1mJA−の照射を行な
い、実施例1と同様VC1−で現像、リンス全行りつた
ところ、鮮明な樹脂パターンを得た。 この樹脂パターンの塗膜は実施例1記載の評価で360
℃捷で顕著な減量は認められず、良好な耐熱性を有する
も〃)であった。 実施例4 実施例1と同様の操作及び使用量で1・2・3−4−ブ
タンテトラカルボン酸二無水物及び4.4−ジアミノジ
フェニルエーテル分反応させてポリアミド酸溶液分掛た
。 次いで、この溶液にグリシジルメタクリレート45.5
f/(0,32モル:ポリアミ)′酸の酸基に対して(
)、8倍当量)を加え90℃で約2時間反応させてボリ
イミy前駆体の溶液を得た。 この溶液に2−エチルへキシルアクリレート40 、
(l pを加え、更に光遮断下でイルガキーアー651
分4.281を加え撹拌混合後、1μのフィルターにて
ろ過I−て感光性樹脂組成物を得た。 この組成物をガラスプレート上に実施例1と同様VcL
で塗布、乾燥I−で透明な5.2μ厚の塗膜を得た。こ
の塗膜に300mJ/CII!の照射を行ない実施例1
と同様[して現像、リンス全行なったところ、鮮明な樹
脂パターン全得た。 この樹脂パターンg)塗膜は実施例1記載σ)評価で3
70Cまで1著な減量は認められず、良好な耐熱性を有
するものであった。 また本実施例において、上記ポリイミド前駆体の溶av
c2−エチルへキシルアクリレートに化工てエチルカル
ピトーフレアクリレート4 (1、01F %−加え、
四に光遮断下でイルガキーア−651を4.289を加
え撹拌混合後、1μのフィルターにてろ過I−で感光性
格i脂組成物を得た。 この組収物會ガラスプレート上に上記と同様にして塗布
、乾燥して透明な5.1μ厚の塗膜を得た。この塗膜に
3011 mJA:dの照射を行ない、上記と同様に1
.て現像、リンス全行なったところ、鮮liJな樹脂パ
ターンを得た。 この樹脂パターン/7)塗1漢は実施例1記載I7)評
価で370℃捷で顕著な減量は認められず、良好な耐熱
性を有するものであった。 特許出幀人 日東電気工業株式会社 ゛代表者土方三部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 (式中、Rは脂肪族テトラカルボン酸残基、Rは2価の
有機基を示す)で表わさhる繰返し単位から本質的にな
る約700以上の分子量を有するポリアミド酸の酸基1
当量に対して0.5当量以上の重合性不飽和結合を有す
るエポキシ化合物を付加せしめたポリイミド前駆体を含
む溶液に光重合開始剤及び場合により■合性不飽和化合
物が配合されており、且つ乾燥後の塗塗は天質的に光の
透過を許容【7活性な感光能を与える新規な感光性樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP696383A JPS59131927A (ja) | 1983-01-18 | 1983-01-18 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP696383A JPS59131927A (ja) | 1983-01-18 | 1983-01-18 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59131927A true JPS59131927A (ja) | 1984-07-28 |
Family
ID=11652860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP696383A Pending JPS59131927A (ja) | 1983-01-18 | 1983-01-18 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59131927A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01259351A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-17 | Nitto Denko Corp | 感光性樹脂組成物 |
JPH02154265A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JPH02154263A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
-
1983
- 1983-01-18 JP JP696383A patent/JPS59131927A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01259351A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-17 | Nitto Denko Corp | 感光性樹脂組成物 |
JPH02154265A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JPH02154263A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
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