JPS6157620A - 有機溶媒可溶性の感光性ポリイミド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、を槻溶媒に対する溶解性が優れ、有機溶媒に
熔解した場合に充分な貯蔵安定性を有する、高分子鎖中
に感光基を含有する高感度の新規な芳香族ポリイミド、
詳しくは、耐熱性、電気的及び機械的性質に優れ、且つ
無色で透明性に優れた膜を形成でき、半導体工業におけ
る固体素子への絶縁膜やパッシベーション膜の形成材料
、及び半導体のｍ積回路や多層プリント配線板などの眉
間絶縁材料等として好適な、有＆’５ｌｆ６媒可溶性の
感光性ポリイミドに関する。

〔従来の技術〕

半導体工業における固体素子への絶縁膜やパッシベーシ
ョン膜の形成材料、及び半導体築積回路や多層プリント
配線板などの層間絶縁材料は、耐熱性及び絶縁性に冨む
ことが要請される。断る観点から、上記のパッシベーシ
ョン膜等を、絶縁性と共に耐熱性の高いポリイミドで形
成することが種々提案されている（特開昭４９−１１５
５４１号公報、特開昭５４−１１６２１６号公報、特開
昭５４−１１６２１７号公報、特開昭５５−４５７４７
号公報、特開昭５５−４５７４８号公報及び特開昭５６
−４５９１５号公報等参照）。

また、有機溶媒可溶性のポリイミド（感光基を育しない
）に、光硬化性基ををする単量体を混合して光硬化させ
るようにした耐熱性フォトレジスト組成物（特開昭５４
−１０９８２８号公報等参照）も提案されている。

また、テトラカルボン酸二無水物と光架橋性不飽和二重
結合を含むノアミン化合物、例えばジアミノカルコンと
を反応させて、感光性及び耐熱性等に優れたポリイミド
を得ることが提案されている（特開昭５７−１３１２２
７号公報参照）。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述の特開昭４９−１１５５４１号公報、特開昭５４−
１１６２１６号公報、特開昭５４−１１６２１７号公報
、特開昭５５−４５７４７号公報、特開昭５５−４５７
４８号公報及び特開昭５６−４５９１５号公報等に記載
の提案のうちポリイミドを用いたものは、溶媒不溶性で
感光基を有しておらず、上述の提案においては、感光基
を含有するポリマーは、何れもポリイミド前駆体である
ポリアミック酸のカルボキシル基をアミド化、エステル
化などして変性した形であり、光硬化時にイミド化して
ポリイミドとするか、又は光硬化後ポストベークしてポ
リイミドとする必要がある。

また、特開昭５４−１０９８２８号公報等に提案されて
いる耐熱性フォトレジスト組成物は、光硬化性が劣り、
しかも光硬化後のポリイミドの耐熱性も充分ではない、
また、耐熱性に優れている芳香族ポリイミドは、一般に
溶媒に対する溶解性が劣るので、光硬化後未露光部をを
機熔媒に溶解させる工程を含むレリーフパターンの形成
には通さない。

また、特開昭５７−１３１２２７号公報に提案されてい
るポリイミドは、感光性に優れているが、有機溶媒に対
する溶解性が劣るため、熔解に長時間を要し、レリーフ
パターンを形成する上で実用上の問題がある。

更に、芳香族ポリイミドは耐熱性には優れるが、着色が
認められ、着色を嫌う用途には問題がある。

また、ジアミン成分が感光基を含有するジアミンのみか
らなるポリイミドは、貯蔵安定性が悪く、レリーフパタ
ーンの形成が不可能である。

ｃ問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、上述の現状に鑑み、耐熱性、電気的及び
機械的性質に優れ、且つ無色で透明性に優れたレリーフ
パターンを容易に形成し得る、芳香族ポリイミドを提供
することを目的として種々検討した結果、芳香族テトラ
カルボン酸またはその二無水物と、２つの特定の芳香族
ジアミン化合物との、共重縮合物からなる芳香族ポリイ
ミドが、光透過性に優れ、高い感光性を有すると共にを
機溶媒可溶性で、且つを機熔媒に熔解した場合に充分な
貯蔵安定性を有しており、上記目的を達成し得ることを
知見した。

即ち、本発明は、上記知見に基づきなされたもので、芳
香族テトラカルボン酸成分と、下記一般式（１）で表さ
れる芳香族ジアミン化合物４０〜９０モル％及び下記一
般式（ｆｆ＞で表される芳香族ジアミン化合物６０〜１
０モル％との、共重縮合物からなる、有機溶媒可溶性の
感光性ポリイミド、を提供するものである。

８２Ｎ−＾ｒ＋　−ＮＯ３（１） （但し、上式中、Ａｒ１は感光基を含有する芳香族残基
を示す、） Ｈ２ＮＣＨ２−八ｒ２−Ｃ）１２ＮＨ２（Ｉり（但し、
上式中、Ａｒ２は芳香族残基を示す、）以下に本発明の
感光性ポリイミドについてその製造法と共に詳述する。

前記共重縮合物からなる本発明の感光性ポリイミドの典
型的な構造は、略等モルの酸成分とジアミン成分との共
重縮合物からなり、ジアミン成分中、ｉｕ記一般式（＋
）で表される芳香族ジアミン化合物と前記一般式（Ｕ）
で表される芳香族ジアミン化合物との割合は前者４０〜
９０モル％に対し後者６０〜１０モル％、好ましくは前
者５０〜８０モル％に対し！＆者５０〜２０モル％であ
る。

前記一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジアミン化合物が
全ジアミン成分に対して１０モル％より少ない場合には
、得られるポリイミドはポリマー溶液とした時の貯蔵安
定性が乏しく、また、６０モル％より多い場合には、得
られるポリイミドは前記一般式（１）で表される芳香族
ジアミン単位の減少により、光感度が低下し好ましくな
い。

そして、本発明の感光性ポリイミドは、次の如き方法で
製造される。

叩ち、本発明の感光性ポリイミドは、芳香族テトラカル
ボン酸成分と、前記一般式Ｃ１１及び（■）で表される
２つの芳香族ジアミン化合物とを共重縮合してポリアミ
ック酸となし、更に該ポリアミック酸を脱水閉環（イミ
ド化）することにより前記共重縮合物を合成して得られ
る。

本発明の感光性ポリイミドの製造に用いられる上記芳香
族テトラカルボン酸成分としては、具体的には３．　３
’　、　　４．　４°　−ビフェニルテトラカルボン酸
、またはその二無水物、２．２°、３゜３°　−ビフェ
ニルテトラカルボン酸、またはその二無水物、２．３．
３’　、４°　−ビフェニルテトラカルボン酸、または
その二無水物、２．３．３”、４°　−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸、または七〇二無水物及び３．３°、
４，４°　−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、または
その二無水物があげられ、上記芳香族テトラカルボン酸
のエステル化物、塩などでもよいが、特にビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物が好ましい。

また、ジアミノ成分の一つであるｉｉＩ記一般式（■）
で表される芳香族ジアミン化合物としては、感光性の炭
化水素不飽和基を存する芳香族ジアニンであれば良く、
例えば、３，５−ジアミノ安息香酸エチルアクリル酸エ
ステル、２．４−ジアミノ安息香酸エチルアクリル酸エ
ステル、３．５−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル酸
エステル、２．４−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル
酸エステル、３．５−ジアミノ安息香酸グリンジルア゛
　クリレートエステル、２．４−ジアミノ安息香酸グリ
シジルアクリレートエステル、３．５−ジアミノ安息香
酸グリシジルメタクリレートエステル、２．４−ジアミ
ノ安息香酸グリシジルメタクリレートエステル、３．５
−ジアミノ安息香酸ケイ皮エステル、２．４−ジアミノ
安息香酸ケイ皮エステルなどの安息香酸エステル１ＪＩ
１．５−ジアミノベンジルアクリレート、３．５−ジア
ミノベンノルメタクリレート、２，４−ジアミノベンジ
ルメタクリレートなどのベンジルアクリレート類などを
あげることができる。

また、もう一つのジアミン成分である前記一般式（［＋
）で表される芳香族ジアミン化合物としては、具体的に
はｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キノリレンジアミンな
どをあげることができる。

ｉｉＩ記一般式（＋）で表される芳香族ジアミン化合物
は、必要に応じ２種以上併用しても良く、又これに併用
される前記一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジアミン化
合物も、必要に応じ２種以上併用することが可能である
。

また、本発明の感光性ポリイミドは、前記２種（ｎの芳
香族ジアニン化合物と共に、第３のジアミン成分として
、ベラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、
２．４−ジアミノトルエン、４．４”−ジアミノジフェ
ニルエーテル、４．４−ノアミノジフェニルメタン、０
−トルイジン、１．４−ビス（４−アミノフェノキノ）
ベンゼン、２．２−ビス（４−アミノフェノキシフェニ
ル）プロパン、０−トルイジンスルホンなどの芳香族ジ
アミン°化合物を共ｊｌｋ縮合させることができる。

これらの芳香族ジアミン化合物の使用量は、全ジアミン
成分に対して約２０モル％以下とするのが適当である。

本発明の感光性ポリイミドは、ポリイミド０゜５　［／
Ｎ−メチル−２−とロリドン１００ｍ１の濃度の溶液と
して３０℃において測定した対数粘度が０．１〜１．５
特に０．２〜１．０の範囲内にあるものが好゛ましい。

本発明の感光性ポリイミドの製造について更に詳述する
と、前記共重縮合物を合成する際の前記芳香族テトラカ
ルボン酸成分と前記２つの芳香族ジアミン化合物からな
るジアミン成分との使用割合は略等モルであり、又、前
記一般式（＋）で表される芳香族シアミツ化合物と前記
一般式（■）で表される芳香族ジアミン化合物との使用
９１合は、前者が４０〜９０モル％で後者が６０−１０
モル％である。そして、それらの合成反応は、比較的低
温下に、先ず重合反応を行わせ、次いでイミド化反応を
行わせる二段階反応によるのが好ましい。

即ち、先ず、有機溶媒中で１００℃以下、好ましくは８
０℃以下の反応温度で１〜４８時間重合反応を行い、次
いで、この重合反応によって得られるポリアミックｆｉ
ｉ溶液を有機溶媒で希釈した後、１００℃以下、好まし
くは８０℃以下の反応温度で無水酢酸、ピリジン、第３
級アミンなどのイミド化剤を加えて０．５〜５時間イミ
ド化反応を行うのが好ましく、その結果前記共重縮合物
が合成され本発明のポリイミドが得られる。

上記重合反応及び上記イミド化反応におけるを機溶媒と
しては、例えばＮ、Ｎ−ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ、　Ｎ−ジエチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサ
メチレンホスホアミドなどが用いられる。

尚、本発明においては、前記共ｍ縮合物は、前記芳香族
テトラカルボン酸成分と前記芳香族ジアミン化合物成分
とを有機溶媒中で１００℃以上の同７Ｈにおいて一段階
で重合・イミド化反応を行うことによっても合成するこ
とができるが、前述の如（、二段階で行うことにより、
安定した生成物を得ることができる。

本発明のポリイミドの製造に用いられる前記一般式（＋
）で表される芳香族ジアミン化合物において、ジアミノ
安息香酸エステル類及びジアミノベンジルアクリレート
類は、新規化合物であり、その合成法には制限されない
が、その好ましい合成法としては次のような方法をあげ
ることことができる。

ｆｌ＋ジアミノ安息香酸エステル類の合成法ジニトロ安
息香酸クロリドと、ヒドロキシエチルメタクリレートな
どとを反応させ、次いで反応物を還元することによって
目的とする芳香族シア９ミン化合物を合成する方法をあ
げることができる。

（２）ジアミノベンジルアクリレート類の合成法ジニト
ロベンジルアルコ−ル ロリドなどとを反応させ、次いで反応物を還元すること
によって目的とする芳香族ジアミン化合物を合成する方
法をあげることができる。

而して、本発明の感光性ポリイミドは、レリーフパター
ンの形成材料として使用する場合、有機溶媒に溶解され
た溶液として用いられる．この有機溶媒としては、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ．　Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホ
キシド チレンホスホアミドなどをあげることができ、更に、キ
シレン、エチルセロソルブ、ジグライム、ジオキサンな
どと前記溶媒との混合溶媒を用いることもできる．上記
感光性ポリイミド溶液の好ましい濃度は３〜３０％であ
る。

また、上記の感光性ポリイミド溶液に、必要に応じ、増
感剤及び光重合開始剤を添加することができる。

上記増感剤及び光重合開始剤としては、ミヒラーズケト
ン、ヘンジイン、ベンゾインエチルエーテル、２−ｔ−
ブチルアントラキノン、４．４。

−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェ
ノン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベン
ジルなどをあげることができ、またその添加量は感光性
ポリイミド１００重量部に対して０．１−１０重量部、
特に０．２〜６重量部とするのが好ましい．これらの増
感剤及び光重合開始剤の添加量が０．１重量部より少な
いと添加効果が充分にみられず、また１０ｗＬｆ！部よ
り多くしてもポリイミド溶液の感度上昇がみられない。

また、上記の感光性ポリイミド溶液に、更にその増感効
果を高めるために、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エ
チルやＮ，Ｎ−ジメチルアミノアントラニル酸メチルな
どの増感助剤を添加することが好ましい。

また、上記の感光性ポリイミド溶液に、必要に応じ、エ
チレン性不飽和基を有する光により重合可能な化合物を
添加することができる。

上記エチレン性不飽和基を有する光により重合可能な化
合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレート、
テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、
Ｎ、Ｎ’　　−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、
ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、１．３．
５−トリアクリロイルへキサヒドロ−８−トリアジン、
トリス（ヒドロキシエチルアクリロイル）イソシアヌレ
ートなどをあげることができる。

また、上記の感光性ポリイミド溶液は、そのままでも安
定であるが、更にその安定性を向上させるために、熱重
合禁止剤を添加することができる。

上記熱重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、
ハイドロキノン七ツメチルエーテル、２゜６−ジーｔ−
ブチル−ｐ−クレゾールなどをあげることができる。

また、上記の感光性ポリイミド溶液に、支持基板との接
着性を向上させるために、適宜、接着助剤を添加するこ
とができる。

上記接着助剤としては、例えば、ｒ−メタクリルオキシ
プロピルトリメトキシシラン、Ｔ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、Ｔ−グリシドキンプロピルトリメトキ
シシラン、ｒ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメ
チルジメトキシシランなどをあげることができる。

本発明の感光性ポリイミドによれば、上記の如く感光性
ポリイミド溶液をｔｉ＊することにより次のようにして
レリーフパターンを形成することができる。

即ち、先ず、上記の感光性ポリイミド溶液を基板に塗布
し、これを乾燥して有機溶媒を除去する。

基板への塗布は、例えば回転塗布機で行うことができる
。塗布膜の乾燥は１５０℃以下、好ましくは１００℃以
下で行う、この際減圧はしてもしなくてもよい、乾燥後
、塗布膜にネガ型のフォトマスクチャートを置き、紫外
線、可視光線、電子線、Ｘ線などの活性光線を照射する
６次いで未露光の部分を現像液で洗い流すことによりポ
リイミドのレリーフパターｌを得る。上記の現像液とし
ては、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン、ヘキサメチレンホスホアミドなどの４
剤又は該溶剤とメタノール、エタノールなどとの混合系
を用いることができる。

〔実施例〕

以下に、本発明の感光性ポリイミドの製造に用いられる
芳香族ジアミン化合物の合成例、本発明の感光性ポリイ
ミドの製造を示す実施例及び本発明の感光性ポリイミド
の効果を示す種々の物性試験及びその結果を、比較例と
共に挙げる。

合成例１ 第一工程 ２−ヒドロキシエチルメタクリレ−）　２９．６　ｇと
ピリジン１８．１　ｇをＴＨＦ　（テトラヒドロフラン
）２００ｍｌにＩ８解した溶液に、３．５−ジニトロ安
、！２香酸クロリド５０ｇをＴＨＦ１５０＋＊ｌに溶解
した溶液を滴下ロートから５〜６℃で滴下して１時間で
加えた０滴下後、更に１０−１５℃で１時間攪拌した。

その後、プフナーロートを用いて析出したピリジン塩酸
塩を濾別し、吐液を濃縮した後、水中に注ぎ込み白黄色
の沈澱物を析出させた。

得られた沈澱物をデカンテーシ讐ンにより数回洗浄後、
真空中で乾燥し、３．５−ジニトロ安息香酸エチルメタ
クリル酸エステル６０ｇを得た。

第二工程 第一工程で得られた３、５−ジニトロ安息香酸エチルメ
タクリル酸エステル５ｇを酢酸３５＋＊ｌに熔解した溶
液を、鉄粉２７ｇを水１５ｍ１／酢ｒ１１３５ｍｌにＹ
！、濁させた溶液に反応温度が２５℃±３℃に保持され
るように攪拌しながら２〜４ｍｌずつ加えた。約２０分
間で添加を終え、更に１０分間攪拌した。

その後、プフナーロートを用いて、過剰の鉄分を分節１
した范液に水を入れて約θ℃とした後、アンモニア水で
ｐＨを８付近にし、酢酸エチルを用いて抽出し、水洗乾
燥後、酢酸エチルを除去し、粗目的物２．７５ｇ（収率
６７．５％）を得た。この粗目的物の精製はカラムクロ
マトグラフィーにより行った０部ち、６５ｍ＋ｗφのカ
ラムにワコーゲル（Ｃ−２００）２００ｇを充填し、酢
酸エチルとベンゼンの１：１の混合溶媒を展開溶媒とし
て分離し、目的物１．８ｇを得た。

融点　　　　　８８〜８９℃ 元素分析値　　（Ｃ，３１１１ｓＮ２０令として）ＨＮ 実測値（％）　　５９．３６　　　Ｂ、０８　１０．’
４９計算値（％）　　５９．０Ｂ　　　６．１０　１０
．６０又、上記目的物について、赤外吸収スペクトル及
びＨ−ＮＭＲスペクトルを測定し、目的物であることを
確認した。

合成例２ 第一工程 ３．５−ジニトロベンジルアルコール４０ｇをＴＨＦ４
００ｍｌに溶解した溶液に、トリエチルアミン４０．４
　ｇを加え、更にこの溶液に攪拌しながら３〜４℃でア
クリル酸クロリド２０ｇのＴＨＦ２００＋ｓｌ溶液を４
０分間で滴下して加えた。？Ｎ下終了後、更に１時間攪
拌した。その後、このｆ４液をブフナーロートを用いて
濾過し、ｔｌ、？ｌＩｔをエバポレータで減圧下ＴＨＦ
を除き、濃縮液を２．５ｉの水中に注ぎ込み生成物を析
出させ、これを濾葉し、乾燥し、粗ジニトロ化物４６ｇ
を得た。

得られた粗ジニトロ化物をカラムクロマトグラフィー（
カラム６５＋ｍ＋＊φ、ワコーゲルＣ−２００３００ｇ
、展開溶媒ベンゼン／酢酸エチル−１ｖ。

／１ｖｏｌ）によりｆｉ製し、薄黄白色結晶の３．５−
ジニトロベンジルアクリレート４２．８ｇ（収率８４％
）を得た。

第二工程 ３．５−ジニトロベンジルアクミレー　の゛・−−第一
工程で得られた３、５−ジニトロベンジルアクリレート
２０ｇを酢酸１４０ｇに溶解した溶液を、鉄粉１４０ｇ
を酢酸７０ｇ／水７０ｇに懸ｌ蜀させたｌ容ｌ皮に攪多
牢しながら２０〜２５℃で少量ずつ加え反応させた。

反応後、濾過し、過剰の鉄粉を除去した後、酸液をアン
モニア水で中和し、酢酸エチル２．３１で抽出した。抽
出液を無水硫酸ナトリウムで一夜乾燥した後、酢酸エチ
ル層を２０〜４０ｍ１に！！縮した。得られた濃縮液を
カラムクロマトグラフィー（カラム５０ｍｍφ、シリカ
ゲル　ワコーゲルＣ−２００１５０ｇ、ＩＩ開溶媒ベン
ゼン／酢酸エチ−３ｖｏｌ　／　２ｖｏｌ　）により精
製し、白色結晶の目的物１０．５ｇ（収率６８．９％）
を得た。

元素分析値　　（Ｃ１＠ＩＩＩＩＮＩ　０１として）Ｈ
Ｎ 実測値（％）　　６２．２４　　６．４６　１４．５８
計算値（％）　　６５．４９　　６．２９　１４．５７
又、上記目的物について、赤外吸収スペクトル及びＨ−
ＮＭＲスペクトルを測定し、目的物であることを確認し
た。

実施例Ｉ Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）３１．３ｍｌに
２．３，３“、４”−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物６．０６７ｇと合成ｔｅ１１で合成した３、５−ジ
アミノ安息香酸エチルメタクリル酸エステル３．８４２
ｇとｍ−キシリレンジアミン０．８４３ｇを加え、２０
℃で２４時間攪拌して反応させポリアミック酸を得た。

次に、このボリアミンク酸にＮＭＰ　Ｉ　５３．７＋ｗ
ｌを加え希釈したのち、無水酢ｆｆ１４１．１２ｇ、ピ
リジン１５．９３ｇ及びベンゼン３０．１ｍｌを加え、
４０　’Ｃで４時間反応させポリイミド化物を得た。

このポリイミド化物ｙｗ液中にメタノールを滴下して加
え、ポリイミドを析出させ濾別して、白色のポリイミド
粉末（本発明のポリイミド）を得た。

実Ｊｔ６ｆ＃ｌｔ２及び３、並びに比較例１〜３実施例
１における、ポリアミック酸の合成及び該ポリアミック
酸のイミド化の条件を、それぞれ下記表−１に示す条件
に代えた以外は実施例１と同様にしてそれぞれ下記表−
１に示す性状のポリイミドを得た。

物性試験例１ 上記実施例１〜３及び比較例１〜３で得たポリイミドに
ついて下記（１）〜（６）の物性試験を行い下記表−２
に示す結果を得た。

（１）ポリイミドの粘度 ポリイミド０．５ｇ／ＮＭＰ　１００１１１１の濃度の
ポリイミド溶液を３０℃で対数粘度を測定した。

（２）ポリイミドのＮＭＰに対する溶解性常温において
ＮＭＰに対するポリイミドの溶解度（ｗｔ％）を測定し
た。

（３）ポリイミドの光透過性 ポリイミド５０ｍｇ／ＮＭＰ　１００繭ｌの濃度のポリ
イミド溶液を、日立３３０型自記分光光度計により、ｌ
ｃ＋ｉ厚さの石英セルを用いて測定した。

（４）ポリイミド溶液の貯蔵安定性 ポリイミドのＮＭＰＩＯ％溶液を、５℃で１週間密閉し
て保管した時の状態を観察した。

（５）熱分解開始温度 理学電気潤製差動熱天秤ＴＯ−ＤＳＣにより、重量減の
開始温度を測定した。

（６）光硬化特性 ポリイミドのＮＭＰ１６％溶液に、ポリイミドに対し、
３％の２−クロルチオキサントン及び４％のＮ、Ｎ−ジ
メチルアミノアントラニル酸メチルを添加して開型した
感光性ポリイミド溶液をガラス板上に回転塗布機（１０
００〜２０００ｒｐｍ　）を用いて塗布し、９０℃で２
０分間乾燥して数μ鋼の厚さく下記表−２参照）の薄膜
を作成し、この薄膜について下記の光感度及び解像力の
試験に供した。

■光感度 上記ＭＷＩＩＱを、超高圧水銀灯（ジェットライト２ｋ
Ｗ）を用いて、照度７．２ｍＷ　／ｃｄ　（３５０ｍμ
）で照射して光硬化させ、光硬化する迄の光照射量（Ｊ
　／ｃ＋４）を測定した。

■解像力 上記薄膜についてテストチャートとして凸版印刷■墾ネ
ガ型テストチャート（トフパンテストチャートＮ％最小
線巾０，９８±０．２５μ）を用いてレリーフパターン
を形成し、パターンの良否を判定した。

物性試験例２ 実施例１で得たポリイミドを用い、前記光硬化特性と同
樺な条件で薄膜を作成しく白化せず平滑な膜が得られた
）、パターン形成後、窒素雰凹気下４００℃で３０分間
熱処理したところ、パターン膜は厚さ２μｍで淡黄色透
明であった。

［発明の効果］ 本発明の感光性ポリイミドは、高分子鎖中に感光基（光
重合可能な基）を有し、且つ酸成分が芳香族テトラカル
ボン酸、その二無水物などで、ジアミン成分が前記一般
式Ｎ）で表される芳香族ジアミン化合物と前記一般式（
ＩＩ）で表される芳香族ジアミン化合物である共重縮合
物であり、光透過性及び光硬化性に優れ、高い感光性と
充分な耐熱性を有すると共に有Ｍｌｌｔ８媒に対する熔
解性が優れ且つ有機溶媒に溶解した場合に充分な貯蔵安
定性を有しており、そのため、蕎い湿度雰囲気下でも白
化し難く、光化学的手段によってレリーフパターンを容
易に形成することができ、且つレリーフパターンを形成
する場合、従来の非感光性ポリイミドのように、ｉｉ！
ｉ像形成用の別の光硬化性物質を特に必要とせず、また
、光重合開始剤や増感剤を添加した場合にも、感光性ポ
リイミドの有機溶媒溶液を基板に車重後、有機溶媒を蒸
発させた時、光ｍ合間始剤やｔｈＩｉｉ惑剤がブリード
することなく、均一な膜を得ることができ、更に、感光
性ポリアミックａ（ポリイミド前駆体）のように画像形
成後イミド化工程を必要としないため、工程の簡略化の
みならず、素子への熟的影響や収縮による歪や応力を与
えることがないなどの多くの優れた効果がある。しかも
、本発明の感光性ポリイミドにより形成したレリーフパ
ターンは、耐熱性、電気的及び機械的性質に優れたもの
であり、半導体工業における固体素子の絶縁体膜やバソ
シベーシッン膜として有効であるばかりでなく、ハイブ
リッド回路やプリント回路の多層配線構造の絶縁膜φソ
ルダーレジストとして用いることができる。

また、本発明の感光性ポリイミドは、無色で透明性に（
憂れたものであるため、画像素子などの用途に無色透明
な保護膜を形成することができる。更に、本発明の感光
性ポリイミドは、光透過性及び光硬化性に優れているた
めに厚みのある腹を形成することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 芳香族テトラカルボン酸成分と、下記一般式（ I ）で
   表される芳香族ジアミン化合物４０〜９０モル％及び下
   記一般式（II）で表される芳香族ジアミン化合物６０〜
   １０モル％との、共重縮合物からなる、有機溶媒可溶性
   の感光性ポリイミド。 Ｈ＿２Ｎ−Ａｒ＿１−ＮＨ＿２　（ I ） （但し、上式中、Ａｒ＿１は感光基を含有する芳香族残
   基を示す。） Ｈ＿２ＮＣＨ＿２−Ａｒ＿２−ＣＨ＿２ＮＨ＿２（II）
   （但し、上式中、Ａｒ＿２は芳香族残基を示す。）