JPH0344107B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な感光性樹脂組成物に係り、更に
詳しくは溶液状態での安定性及び溶解性に優れ、
感光性塗膜形成時に白化による露光障害がなく、
実用性の高い耐熱性、感光能等を付与しうる脂肪
族ポリイミド系の感光性樹脂組成物及びその製造
法に関するものである。

近年、電子機器の高密度化、高信頼度化、小型
軽量化等において新しい変革が見られる。これら
に大きく寄与する機能性材料として回路形成用フ
オトレジスト材料があり、いわゆる微細加工を実
現している。更にIC、LSIの分野においてはかか
る微細加工に加えて、従来無機物で行なわれてい
た層間絶縁に有機物の特性を活かした使い方が普
及してきており、主としてポリイミド樹脂の如き
耐熱性に優れた材料が使用されるようになつてき
た。しかしながら、この材料はスルーホール等の
パターン加工はやはりフオトレジストを必要と
し、このフオトレジスト工程が長く、煩雑な工程
を要するため、露光、現像によつて回路を形成し
た後もレジストをそのまま残し、絶縁材料として
用いうるような耐熱性のフオトレジストの出現が
強く望まれている。

これらの材料としては感光性ポリイミド、環化
ポリブタジエンをベースにした耐熱性フオトレジ
スト等が提案されており、就中特に感光性ポリイ
ミドはそのポリイミド骨格が特性面において優れ
ていること、不純物排除が容易であること等のた
めに注目されている。感光性ポリイミド類は通常
のポリイミドの場合と同様に、前駆体（ポリアミ
ド酸）の形で加工に供せられ、ポストキユアーに
よりイミド化が図られる。

感光性ポリイミドとしては、ポリイミド前駆体
と重クロム酸塩からなる系が最初に提案されたが
（特公昭49−17374号）、この感光性組成物は可使
時間が著しく短かいという致命的な欠点の他、現
像工程が複雑で且つ長い、ポリイミド膜中にクロ
ムイオンが残存するなどの欠点もあり、実用に至
らなかつた。また、他の例として、ポリイミド前
駆体に感光性基をエステル結合で導入した感光性
ポリイミド前駆体が提案されているが（特公昭55
−30207号）、これも感光性基を導入する際に脱塩
酸反応を含むため塩素イオンが溶液中に残り、こ
の除去が問題となる。

このような不純物等の問題を回避すべく、ポリ
イミド前駆体に感光性化合物を混合する方法やポ
リイミド系化合物の前駆体の官能基と感光基を有
する化合物の官能基とを選択して反応させ感光基
を導入する方法も開発されている。更に感光基を
有する単量体を用いて感光性ポリイミド前駆体を
得る方法も知られている。

しかしながら、これらの感光性ポリイミドはそ
の耐熱性重視の観点から、例えばピロメリツト酸
二無水物と４・4′−ジアミノジフエニルエーテル
から合成される芳香族ポリイミド前駆体が幹ポリ
マーとして用いられているが、これら一連の感光
性ポリイミドは通常の芳香族ポリイミド前駆体の
有する欠点を包含している。即ち、上記前駆体を
含む溶液は、溶解性に本質的な問題があり、また
保存時に一部イミド化による不溶化が起る等の溶
液としての安定性にも実用上の大きな欠陥を有し
ており、その改善が望まれている。

この溶解性の問題は、例えば感光性ポリイミド
として芳香族ポリイミド前駆体と感光基を有する
化合物とを均一に溶解した溶液を調整した場合で
も、この溶液から塗膜を形成する乾燥工程におい
ては大部分の良溶媒が揮発し、乾燥塗膜は該前駆
体と感光基を有する化合物から構成されることに
なる。このような感光基を有する化合物は、一般
に該前駆体に対しては貧溶媒であつて、前駆体の
不溶化による白化現象が乾燥塗膜に起生し、露光
工程に供することが困難となつてしまう。また本
発明者の観察によれば、乾燥塗膜の形成時に感光
基を有する化合物が溶媒と同時に揮散し、塗膜白
化の現象はないが感光能を喪失する奇異な現象も
見出されている。従つて、使用し得る感光基を有
する化合物は溶解性或は相溶性の点から特殊なも
の（例えば高価な或は悪臭を有する化合物）に限
定されるのが現状である。

かかる状況から、本発明者は溶液状態での安定
性及び溶解性に優れ、感光性塗膜の形成時に白化
等による露光障害がなく、実用性の高い耐熱性、
感光能を付与しうる感光性樹脂組成物を開発すべ
く鋭意検討の結果、本発明に至つたものである。

即ち本発明は、 式 （式中、Ｒは脂肪族テトラカルボン酸残基、
R′は２価の有機基を示す）で表わされる繰返し
単位あるいは部分的にこの単位がイミド閉環した
繰返し単位からなり、約700以上の分子量を有す
るポリイミド前駆体を含む溶液に重合性不飽和化
合物及び光重合開始剤が配合されており、且つ乾
燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容し活性な感
光能を与える新規な感光性樹脂組成物を提供する
ものである。

本発明のポリイミド前駆体は脂肪族テトラカル
ボン酸二無水物及びジアミンを出発原料とし、こ
れらに対して実質的に不活性な有機溶媒中で反応
させることにより容易に得られる。

本発明において脂肪族テトラカルボン酸二無水
物としては、ブタン−、ペンタン−、ヘキサン
−、シクロペンタン−、ビシクロヘキセン−等の
テトラカルボン酸二無水物、３−メチル−５−無
水コハクニル−３−シクロヘキセン−１・２−ジ
カルボン酸二無水物、ビシクロ−（２・２・２）−
オクタン−２・３・５・６−テトラカルボン酸二
無水物が挙げられる。勿論これらのテトラカルボ
ン酸の骨格がアルキル基等の置換基で置換されて
いてもよいし、一部脂肪族ジカルボン酸あるいは
トリカルボン酸あるいはその無水物等の併用も可
能である。

これらの脂肪族テトラカルボン酸二無水物と反
応させるジアミンとしては、一般式H₂N−R′−
NH₂で示されるジアミンであつてR′は２価の有
機基であり、芳香族、脂肪族、脂環族、ヘテロ環
族などの基であるか、或いはこれらの組合せ、又
はこれらが酸素、窒素、硫黄、リン、硅素などで
結合されたような基であることが出来る。この場
合R′にアミノ基または酸無水物基と反応条件下
では定量的には反応しない置換基を持つていても
よい。これらの基は生成前駆体の溶解性、加工
性、あるいは接着性などの好ましい性質を付与す
ることができるからである。また通常用いられる
トリアミンあるいはテトラアミンを併用すること
も可能である。

ジアミンとしては芳香族系ジアミンが望ましい
が、本発明に用いられるジアミン類の具体例とし
ては、メタフエニレンジアミン、パラフエニレン
ジアミン、４・4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、４・4′−ジアミノジフエニルエタン、４・
4′−ジアミノジフエニルメタン、ベンジジン、
４・4′−ジアミノジフエニルスルフイド、４・
4′−ジアミノジフエニルスルホン、３・3′−ジア
ミノジフエニルスルホン、パラ−ビス−（４−ア
ミノフエノキシ）ベンゼン、メタ−ビス−（４−
アミノフエノキシ）ベンゼン、４・4′−ジアミノ
ジフエニルエーテル、１・５−ジアミノナフタレ
ン、３・3′−ジメチル−４・4′−ジアミノビフエ
ニル、３・4′−ジアミノベンズアニリド、４−
（パラ−アミノフエノキシ）−４−アミノベンズア
ニリド、３・4′−ジアミノジフエニルエーテル、
３・3′ジメトキンベンジン、２・４−ビス（ベー
タアミノ−第３ブチル）トルエン、ビス（パラ−
ベータアミノ−第３ブチルフエニル）エーテル、
メタキシリレンジアミン、パラキシリレンジアミ
ン、ジ（パラ−アミノ−シクロヘキシル）メタ
ン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジ
アミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、４・４−ジメチルヘプタメチレンジア
ミン、３−メトキシ−ヘプタメチレンジアミン、
２・11−ジアミノドデカン、１・４−ジアミノシ
クロヘキサン、２・2′−ジアミノジエチルエーテ
ル、２・2′−ジアミノジエチルチオエーテル、
３・3′−ジアミノジプロポキシエタン、２・６−
ジアミノピリジン、グアナミン、２・５−ジアミ
ノ−１・３・４−オキサジアゾール、２−（3′−
アミノフエニル）−５−アミノベンツオキサゾー
ル、ビス−（４−アミノフエニルホスフインオキ
シド、ビス−（４−アミノ−フエニル）ジエチル
シランなどであり、これらは単独ないし混合物と
して使用され得る。

本発明における脂肪族テトラカルボン酸二無水
物とジアミンとの反応は通常有機溶媒中で行なわ
れる。本反応は発熱反応であり、反応時は何らか
の冷却手段により好ましく反応温度の制御が出来
る。この時両成分は一方を有機溶媒中に添加し、
適当量づつもう一方の成分を添加するのが好まし
い。反応を充分に制御しうるならば両成分共存で
も支障はない。通常０〜100℃の反応温度でポリ
イミド前駆体のポリアミド酸を得る事が出来る。
こゝで更に厳しい条件、例えば80℃以上、溶媒の
沸点までの温度条件を採用すればイミド閉環反応
も併発し、部分的にイミド閉環した繰返し単位を
有するポリアミド酸−イミドからなるポリイミド
前駆体が得られる。これは本発明の幹ポリマーが
脂肪族テトラカルボン酸骨格からなり、溶解性に
優れている為、繰返し単位が部分的にイミド閉環
してもポリイミド前駆体として使用することが出
来るもので、イミド閉環した繰返し単位は全繰返
し単位の80％まで許容されうる。更に両成分の比
率はモル比で１：１を選ぶことによつて最も高分
子量のものを得る事ができ、本発明においては分
子量約700以上のポリイミド前駆体が使用される。
その分子量が約700以下のものは露光、現像後の
樹脂パターンの焼付け時に発泡による塗膜欠陥を
生じ易く、また焼付けにより得られる塗膜の機械
的強度に劣るため、使用を避けるべきである。

この脂肪族テトラカルボン酸二無水物とジアミ
ンとの反応で使用される溶媒としてはＮ・Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ・Ｎ−ジエチルホルムア
ミド、Ｎ・Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタ
ム、ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスル
ホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホア
ミド、ピリジン、キノリン、γ−ブチルラクト
ン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、フエノー
ル、クレゾール類、グリコール類、セロソルブ
類、カルビトール類等が挙げられる。この有機溶
媒の使用量は反応系の20〜95重量％であるが、場
合によつては重合性不飽和化合物、開始剤の共存
下にて反応を行なう事も可能であつて、従つて実
用の粘度を示す濃度となるように適宜その使用量
を決定すればよい。

本発明の組成物における重合性不飽和化合物と
しては各種のものがあるが、アクリル酸系化合
物、メタクリル酸系化合物或はアリル基を有する
化合物等が実用的である。具体的なアクリル酸系
化合物としてはアクリル酸、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルア
クリレート、イソブチルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、ベンジルアクリレート、２
−エチルヘキシルアクリレート、カルビトールア
クリレート、メトキシエチルアクリレート、エト
キシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ブチレングリコール
モノアクリレート、Ｎ・Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、Ｎ・Ｎ−ジエチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、アリルアクリレ
ート、１・３−ブチレングリコールジアクリレー
ト、１・４−ブチレングリコールジアクリレー
ト、１・６−ヘキサングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジ
プロピレングリコールジアクリレート、２・２−
ビス−（４−アクリロキシジエトキシフエニル）
プロパン、２・２−ビス−（４−アクリロキシプ
ロピロキシフエニル）プロパン、トリメチロール
プロパンジアクリレート、ペンタエリスリトール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、トリアクリルホルマール、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレートなど、またメタクリ
ル酸系化合物としてはメタクリル酸、メチルメタ
クリレート、エチルメタクリレート、プロピルメ
タクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、イソブチルメタクリレー
ト、ターシヤリーブチルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、オクチルメタクリレート、エチルヘキシルメ
タクリレート、メトキシエチルメタクリレート、
エトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロ
キシブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチル
メタクリレート、Ｎ・Ｎ−ジメチルアミノメタク
リレート、Ｎ・Ｎ−ジエチルアミノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルメタクリレート、メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アリルメタクリレート、
トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ジ
エチレングリコールモノメタクリレート、ペンタ
エリスリトールモノメタクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、１・３−ブチレング
リコールジメタクリレート、１・６−ヘキサング
リコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジメタクリレート、２・２−ビス−（４−メ
タクリロキシエトキシフエニル）プロパン、２・
２−ビス−（４−メタクリロキシジエトキシフエ
ニル）プロパン、トリメチロールプロパントリメ
タクリレートなど、その他クロトン酸ブチル、グ
リセリンモノクロネート、ビニルブチレート、ビ
ニルトリメチルアセテート、ビニルカプロエー
ト、ビニルクロルアセテート、ビニルラクテー
ト、安息香酸ビニル、ジビニルサクシネート、ジ
ビニルフタレート、メタクリルアミド、Ｎ−メチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミ
ド、Ｎ−アリールメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、アク
リルアミド、Ｎ−ターシヤリーブチルアクリルア
ミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ブト
キシメチルアクリルアミド、Ｎ−イソブトキシメ
チルアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ド、ヘキシルビニルエーテル、エチルヘキシルビ
ニルエーテル、ビニルトリルエーテル、多価アル
コールのポリビニルエーテル、スチレン誘導体と
してたとえばオルトおよび／またはパラ位にアル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン、カルボキシル
基、アリル基などの置換基を持つたスチレン、ジ
ビニルベンゼン、アリルオキシエタノール、ジカ
ルボン酸のジアリルエステル、Ｎ−ビニルオキサ
ゾリドン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾールなどを挙げ
ることができ、これらは単独ないし、混合物とし
て使用されうる。

これらの重合性不飽和化合物の使用量は、ポリ
イミド前駆体の樹脂分100重量部に対して10〜500
重量部、好ましくは20〜200重量部である。10重
量部以下では重合性不飽和化合物の重合による硬
化が不充分となり、また500重量部以上ではポス
トキユアー時の残存の影響により、塗膜の耐熱性
を低下させてしまう。使用量は各重合性不飽和化
合物の活性、また組成物に使用されている溶剤と
の関係即ち乾燥時に残存し、硬化能を発揮しうる
量を考慮して決定するのが望ましい。

これらの重合性不飽和化合物の放射線による重
合開始剤としては一般に紫外線硬化型塗料の開始
剤、増感剤として用いられている各種の光重合開
始剤を使用できる。例えばベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテル、２−メチルベンゾイン、ベンゾフ
エノン、ミヒラーズケトン、ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、
アントラキノン、メチルアントラキノン、ジアセ
チル、アセトフエノン、ジフエニルジスルフイ
ド、アントラセン等を挙げることができる。これ
らの光重合開始剤の使用量は重合性不飽和化合物
100重量部に対して通常0.05〜30重量部、好まし
くは0.1〜10重量部とするのがよい。これら光重
合開始剤にアミン類等の従来公知の増感助剤を少
量併用する事も出来る。また組成物の熱的な安定
性等を向上する為に公知の熱重合防止剤の共存も
有効な場合がある。

熱重合防止剤の具体例としてはパラメトキシフ
エノール、ヒドロキノン、ターシヤリーブチルカ
テコール、ピロガロール、フエノチアジン、クロ
ラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、
２・６−ジ−ターシヤリーブチル−パラクレゾー
ル、ピリジン、ニトロベンゼン、パラ−トルイジ
ン、メチレンブルー、などが挙げられ、その使用
量は重合性不飽和化合物100重量部に対して通常
0.01〜５重量部とするのがよい。

かくして得られた感光性樹脂組成物は適宜の手
段にて塗布を行ない乾燥を行なう。この際本発明
の組成物の骨格である脂肪族テトラカルボン酸二
無水物とジアミンとから得られたテトラカルボン
酸残基が脂肪族テトラカルボン酸残基であるポリ
イミド前駆体は溶解性が非常に良好で、乾燥塗膜
化時の溶媒揮散後の重合性不飽和化合物中でも均
一透明な塗膜を与える。この塗膜上に所望のパタ
ーンを描いたマスク上から活性光線を照射するこ
とにより、照射部は光重合開始剤により、重合性
不飽和化合物の重合が起り、非照射部に対して溶
解性が大きく低下する。場合により電子線、放射
線のような電離性放射線を照射することによつて
も同様な効果を与える。かくしてこれを適当な溶
剤系を選択することにより、現像にて非照射部を
除去することにより所望の樹脂パターンを得る事
が出来る。

得られた樹脂パターンは、その後の焼付け即ち
ポストキユアーにより優れた耐熱性を有する絶縁
層に変換しうるもので、本発明の組成物は主とし
て前述のような微細加工の分野において非常に有
用である。

以下、本発明を実施例、参考例にて説明する。

実施例 １ 温度計、N₂ガス導入口、トラツプ付冷却管及
び撹拌装置を付した500c.c.の四つ口フラスコに
１・２・３・４−ブタンテトラカルボン酸二無水
物39.6ｇ（0.2モル）及びＮ・Ｎ−ジメチルホル
ムアミド185.7ｇを加え、乾燥N₂ガス流通下で氷
浴上にて撹拌する。内容物が約５℃位で４・4′−
ジアミノジフエニルエーテル40.0ｇ（0.2モル）
を発熱の度合を見ながら少量づつ添加する。この
添加に約30分を要し、反応物の温度は15℃にまで
上昇した。添加後氷浴をはずし、室温下、約２時
間撹忰を続け、約3500の分子量を有する粘稠なポ
リアミド酸溶液を得た。

この溶液に２−エチルヘキシルアクリレート
79.6ｇを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651（チバ・ガイギー社製：ベンジルジメチルケタ
ール）を3.98ｇ加え撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して感光性樹脂組成物を得た。

この組成物をガラスプレート上にスピンナーに
て3000r.p.m.の回転数で塗布し、80℃で10分間乾
燥して透明な6.5μ厚の塗膜を得た。この塗膜上に
マスクパターンを設置し、300mJ／cm²の紫外線を
照射した後、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアミド−ベ
ンゼンの混合溶媒にて現象し、ベンゼンにてリン
スを行なつたところ、鮮明な樹脂パターンを得
た。

この樹脂パターンの塗膜は350℃で２時間加熱
焼付けによるポストキユア後、空気中、５℃／分
の昇温速度による熱重量分析で370℃まで顕著な
減量は認められず、良好な耐熱性を有するもので
あつた。

実施例 ２ 実施例１と同様のフラスコに１・２・３・４−
ブタンテトラカルボン酸二無水物39.6ｇ（0.2モ
ル）及びＮ・Ｎ−ジメチルホルムアミド184.8ｇ
を加え、実施例１と同様にして４・4′−ジアミノ
ジフエニルメタン39.6ｇ（0.2モル）を使用して
約3500の分子量を有する粘稠なポリアミド酸溶液
を得た。

この溶液にエチルカルビトールアクリレート
79.2ｇを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を3.96ｇ加え撹拌混合後、1μのフイルターに
てろ過して感光性樹脂組成物を得た。

この組成物をガラスプレート上に実施例１と同
様にして塗布、乾燥して透明な6.0μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ／cm²の照射を行ない、実施
例１と同様にして現象、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明な樹脂パターンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は実施例１記載の評価
で370℃まで顕著な減量は認められず、良好な耐
熱性を有するものであつた。

実施例 ３ 実施例１と同様のフラスコにシクペンタンテト
ラカルボン酸二無水物42.0ｇ（0.2モル）及び
Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアミド191.3ｇを加え、
実施例１と同様にして４・4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル40.0ｇ（0.2モル）を使用して約3000
の分子量を有する粘稠なポリアミド酸溶液を得
た。

この溶液にエチルカルビトールアクリレート
82.0ｇを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.10ｇを加え撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して感光性樹脂組成物を得た。

この組成物をガラスプレート上に実施例１と同
様にして塗布、乾燥して透明な6.8μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ／cm²の照射を行ない、実施
例１と同様にして現象、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明な樹脂パターンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は実施例１記載の評価
で360℃まで顕著な減量は認められず、良好な耐
熱性を有するものであつた。

実施例 ４ 実施例１と同様のフラスコに１・２・３・４−
ブタンテトラカルボン酸二無水物39.6ｇ（0.2モ
ル）及びＮ・Ｎ−ジメチルホルムアミド185.7ｇ
を加え、乾燥N₂ガス流通下で氷浴上にて撹拌す
る。実施例１と同様にして４・4′−ジアミノジフ
エニルエーテル40.0ｇ（0.2モル）を添加した後、
氷浴をはずし、次いで加熱器を取りつけて加熱
し、120℃で約２時間加熱撹拌し、約3200の分子
量を有する粘稠な溶液を得た。この溶液は赤外吸
収スペクトルにおいて1780cm^-1及び1840cm^-1付近
のイミドの特性吸収を有するポリアミド酸−イミ
ドの溶液であり、またその酸価から全繰返し単位
の約70％がイミド閉環した繰返し単位を有するも
のであつた。次いで実施例１と同様にして感光性
樹脂組成物を得た。

この組成物をガラスプレート上に実施例１と同
様にして塗布、乾燥して透明な6.1μ厚の塗膜を得
た。この塗膜に300mJ／cm²の照射を行ない、実施
例１と同様にして現象、リンスを行なつたとこ
ろ、鮮明な樹脂パターンを得た。

この樹脂パターンの塗膜は実施例１記載の評価
で370℃まで顕著な減量は認められず、良好な耐
熱性を有するものであつた。

参考例 実施例１と同様のフラスコにピロメリツト酸二
無水物43.6ｇ（0.2モル）及びＮ・Ｎ−ジメチル
ホルムアミド380.8ｇを加え、実施例１と同様に
して４・4′−ジアミノジフエニルエーテル40.0ｇ
（0.2モル）を使用して粘稠な芳香族ポリアミド酸
溶液を得た。

この溶液に２−エチルヘキシルアクリレート
83.6ｇを加え、更に光遮断下でイルガキユアー
651を4.18ｇを加え撹拌混合後、1μのフイルター
にてろ過して樹脂組成物とした。

この組成物をガラスプレート上に実施例１と同
様にして塗布、乾燥したところ不溶化により白化
した。

また同様にして重合性不飽和化合物としてエチ
ルカルビトールアクリレートを用いた場合は4.0μ
厚の塗膜を得たが、この塗膜は過剰の照射によつ
ても露光パターンは得られず感光能を有さなかつ
た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 （式中、Ｒは脂肪族テトラカルボン酸残基、
   R′は２価の有機基を示す）で表わされる繰返し
   単位あるいは部分的にこの単位がイミド閉環した
   繰返し単位からなり、約700以上の分子量を有す
   るポリイミド前駆体を含む溶液に重合性不飽和化
   合物及び光重合開始剤が配合されており、且つ乾
   燥後の塗膜は実質的に光の透過を許容し活性な感
   光能を与える新規な感光性樹脂組成物。