JPH05100424A - 感光性樹脂組成物及び現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 現像時間が短く、現像裕度が広い感光性樹脂
組成物を提供する。 【構成】 （Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位
を有するポリアミド酸、 （Ｒ₁は４価の芳香族基、Ｒ₂は２価の有機基） （Ｂ）一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される
重合性不飽和化合物、 （Ｒ₃〜Ｒ₅及びＲ₈〜Ｒ₁₀はＨ又はアルキル基、Ｒ₆、Ｒ
₇、Ｒ₁₂及びＲ₁₃は２価の炭化水素基、Ｒ₁₁及びＲ₁₄は
４価の有機基、Ｙ₁〜Ｙ₆はＨ及びエチレン性不飽和基を
有する１価の有機基からなる群より選択された少なくと
も１つの基、Ｙ₁〜Ｙ₃及びＹ₄〜Ｙ₆のうち、それぞれに
少なくとも１つはエチレン性不飽和基を有する１価の有
機基） （Ｃ）光開始剤及び （Ｄ）有機溶媒 を含有してなる感光性樹脂組成物及び現像方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規な感光性樹脂組成物
及び現像方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体工業にあっては、従来より
無機材料を用いて行われていた層間絶縁材料として、主
にポリイミド樹脂等のように耐熱性に優れた有機物が、
その特性を生かして使用されてきている。ところで、半
導体集積回路やプリント基板上の回路のパターン形成
は、基材表面へのレジスト材の造膜、所定箇所への露
光、エッチング等により不要箇所の除去、基材表面の清
浄作業等煩雑で多岐に亘る工程を経てパターン形成が行
われることから、露光、現像によってパターン形成後も
必要な部分のレジスト材料を、絶縁材料としてそのまま
残して用いることができる耐熱性感光材料の開発が望ま
れている。

【０００３】これらの材料として、例えば感光性ポリイ
ミド、環化ポリブタジエン等をベースポリマとした耐熱
感光材料が提案されており、特に、感光性ポリイミド
は、その耐熱性が優れていることや不純物の排除が容易
であることなどの点から特に注目されている。

【０００４】このような感光性ポリイミドとして、例え
ば、特公昭５５−３０２０７号公報によりポリイミド前
駆体に感光基をエステル結合で導入した感光性ポリイミ
ド前駆体が提案されているが、この材料は、感光性ポリ
イミド前駆体の合成に際して、酸クロライド基を利用す
るため、最終的に得られる感光性樹脂組成物が塩化物汚
染され易い問題がある。また、高分子量のものが得られ
にくく、膜強度に劣る。

【０００５】また、他の例として、特開昭５７−１６８
９４２号公報により、ポリアミド酸と光活性な官能基を
有するアミンとの混合物を主成分とする感光性組成物が
提案されている。しかしながら、この感光性組成物は、
ポリアミド酸と感光基との結合力が比較的弱いため、現
像裕度が狭い問題がある。

【０００６】一方、特開昭５４−９５６９７号公報によ
り、ポリアミド酸と光活性な官能基を有する重合性不飽
和化合物との混合物を主成分とする感光性組成物が提案
されている。しかしながら、この感光性組成物は短時間
の現像を行うと現像裕度が狭くなり、現像裕度を広くし
ようとすると長時間の現像が必要となるなど現像性に問
題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、特に
現像性に優れるとともに、膜強度、耐熱性及び接着性を
合わせ持ったレリーフパターンを形成し得る感光性樹脂
組成物及び現像方法を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）一般式
（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸、

【化６】 （式中、Ｒ₁は４価の芳香族基、Ｒ₂は２価の有機基を表
す） （Ｂ）一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される
重合性不飽和化合物、

【化７】

【化８】 （式中、Ｒ₃〜Ｒ₅及びＲ₈〜Ｒ₁₀はそれぞれ独立に水素
原子またはアルキル基を表わし、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₂及びＲ
₁₃は２価の炭化水素基、Ｒ₁₁及びＲ₁₄は４価の有機基を
表わし、Ｙ₁〜Ｙ₆はそれぞれ独立に水素原子及びエチレ
ン性不飽和基を有する１価の有機基からなる群より選択
された少なくとも１つの基であり、Ｙ₁〜Ｙ₃及びＹ₄〜
Ｙ₆のうち、それぞれに少なくとも１つはエチレン性不
飽和基を有する１価の有機基である） （Ｃ）光開始剤及び （Ｄ）有機溶媒 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。

【０００９】本発明における上記の一般式（Ｉ）で表さ
れる繰り返し単位を有するポリアミド酸は、芳香族テト
ラカルボン酸二無水物とアミン化合物を出発材料として
公知の方法により得られる。

【００１０】芳香族テトラカルボン酸二無水物として
は、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，
４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二
無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン
酸二無水物、４，４′−スルホニルジフタル酸二無水
物、ｍ−ターフェニル−３，３″，４，４″−テトラカ
ルボン酸二無水物、ｐ−ターフェニル−３，３″，４，
４″−テトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジ
フタル酸無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロ−２，２−ビス（２，３−又は３，４−ジカルボキ
シフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３
−又は３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水
物、２，２−ビス〔４，（２，３−又は３，４−ジカル
ボキシフェノキシ）フェニル〕プロパン二無水物、１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス
〔４−（２，３−又は３，４−ジカルボキシフェノキ
シ）フェニル〕プロパン二無水物、下記一般式（ＩＶ）

【化９】 （Ｒ₁₅及びＲ₁₆は一価の炭化水素基を示し、それぞれ同
一でも異なってもよく、ｎは０又は１以上の整数であ
る）で表されるテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ
る。これらの芳香族テトラカルボン酸二無水物は、単独
でも２種類以上を組み合わせても使用することができ
る。

【００１１】（Ａ）ポリアミド酸は、現像液として用い
る有機溶媒及び／又はアルカリ水溶液に溶解しない（性
質１）が、（Ｂ）重合性不飽和化合物の存在下では、現
像液として用いる有機溶媒及び／又はアルカリ水溶液に
溶解する（性質２）性質を有するものであることが現像
時間、現像裕度の点から好ましい。

【００１２】ポリアミド酸の現像液として用いる有機溶
媒及び／又はアルカリ水溶液に対する溶解性は、ポリア
ミド酸及び現像液のそれぞれの組成によって変化するも
のであり、これらそれぞれの組成、使用量を調整するこ
とによって、ポリアミド酸に上記の性質１を付与するこ
とができる。

【００１３】重合性不飽和化合物の存在下におけるポリ
アミド酸の現像液として用いる有機溶媒及び／又はアル
カリ水溶液に対する溶解性は、ポリアミド酸、重合性不
飽和化合物及び現像液のそれぞれの組成によって変化す
るものであり、これらそれぞれの組成、使用量を調整す
ることによって、上記の性質２を付与することができ
る。

【００１４】アルカリ水溶液に対する溶解性は、例え
ば、ポリアミド酸中のカルボキシル基濃度に依存し、カ
ルボキシル基濃度を高くすればアルカリ水溶液への溶解
性を増大させることができる。また、有機溶媒に対する
溶解度は、例えば、ポリアミド酸中の繰り返し単位の化
学構造や繰り返し単位の分子量に依存し、屈曲性の大き
い化学構造を採用すれば、又は繰り返し単位の分子量を
大きくすれば、有機溶媒への溶解性を増大させることが
できる。また、重合性不飽和化合物で尿素結合、エチレ
ンオキシド結合等の化学構造を有する化合物を採用すれ
ばアルカリ水溶液への溶解性を増大させることができ
る。重合性不飽和化合物の使用量を多くすればさらに溶
解性を増大できる。

【００１５】上記した一般式（Ｉ）のＲ₁のうち、２〜
５０モル％が

【化１０】 〔一般式（ＩＶ）で表される芳香族テトラカルボン酸二
無水物（Ｒ₁₅及びＲ₁₆はメチル基で、ｎ＝１）の残基〕
であることが光透過性、溶解性、接着性等の点から好ま
しい。

【００１６】もちろん、これらの芳香族テトラカルボン
酸二無水物のベンゼン環がアルキル基等の置換基で置換
されていてもよい。また、これらの芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物のほかに、耐熱性および機械特性を低下さ
せぬ程度に脂肪族（脂環式）テトラカルボン酸二無水物
を用いてもよい。

【００１７】上記のテトラカルボン酸二無水物と反応し
て一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリイ
ミド前駆体を与えるアミン化合物としては、例えば、ｐ
−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−
キシリレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、１，５
−ジアミノナフタレン、３，３′−ジメチルベンジジ
ン、３，３′−ジメトキシベンジジン、４，４′−（又
は３，４′−、３，３′−、２，４′−、２，２′−）
ジアミノジフェニルメタン、４，４′−（又は３，４′
−、３，３′−、２，４′−）ジアミノジフェニルエー
テル、４，４′−（又は３，４′−、３，３′−、２，
４′−、２，２′−）ジアミノジフェニルスルホン、
４，４′−（又は３，４′−、３，３′−、２，４′
−、２，２′−）ジアミノジフェニルスルフィド、４，
４′ベンゾフェノンジアミン、４，４′−ジ（４−アミ
ノフェノキシ）フェニルスルホン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル〕プロパン、３，３′−ジメチル−
４，４′−ジアミノジフェニルメタン、３，３′，５，
５′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメ
タン、４，４′−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニル
スルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、
２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、下記一
般式（Ｖ）

【化１１】 （Ｒ₁₇及びＲ₁₈は二価の炭化水素基、Ｒ₁₉及びＲ₂₀は一
価の炭化水素基を示し、Ｒ₁₇及びＲ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ₂₀と
はそれぞれ同一でも異なってもよく、ｍは１以上の整数
である）で表されるジアミン等が挙げられる。

【００１８】また、この他に一般式（ＶＩ）で表される
ジアミノアミド化合物も用いることができる。

【化１２】 （Ａｒは芳香族基、ＹはＳＯ₂又はＣＯを示し、１個の
アミノ基とＹ−ＮＨ₂とは互いにオルト位に位置する）

【００１９】一般式（ＶＩ）で表される化合物として
は、例えば、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル−
３−スルホンアミド、３，４′−ジアミノジフェニルエ
ーテル−４−スルホンアミド、３，４′−ジアミノジフ
ェニルエーテル−３′−スルホンアミド、３，３′−ジ
アミノジフェニルエーテル−４−スルホンアミド、４，
４′−ジアミノジフェニルメタン−３−スルホンアミ
ド、３，４′−ジアミノジフェニルメタン−４−スルホ
ンアミド、３，４′−ジアミノジフェニルメタン−３′
−スルホンアミド、３，３′−ジアミノジフェニルメタ
ン−４−スルホンアミド、４，４′−ジアミノジフェニ
ルスルホン−３−スルホンアミド、３，４′−ジアミノ
ジフェニルスルホン−４−スルホンアミド、３，４′−
ジアミノジフェニルスルホン−３′−スルホンアミド、
３，３′−ジアミノジフェニルスルホン−４−スルホン
アミド、４，４′−ジアミノジフェニルサルファイド−
３−スルホンアミド、３，４′−ジアミノジフェニルサ
ルファイド−４−スルホンアミド、３，３′−ジアミノ
ジフェニルサルファイド−４−スルホンアミド、３，
４′−ジアミノジフェニルサルファイド−３′−スルホ
ンアミド、１，４−ジアミノベンゼン−２−スルホンア
ミド、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル−３−カ
ルボンアミド、３，４′−ジアミノジフェニルエーテル
−４−カルボンアミド、３，４′−ジアミノジフェニル
エーテル−３′−カルボンアミド、３，３′−ジアミノ
ジフェニルエーテル−４−カルボンアミド、４，４′−
ジアミノジフェニルメタン−３−カルボンアミド、３，
４′−ジアミノジフェニルメタン−４−カルボンアミ
ド、３，４′−ジアミノジフェニルメタン−３′−カル
ボンアミド、３，３′−ジアミノジフェニルメタン−４
−カルボンアミド、４，４′−ジアミノジフェニルスル
ホン−３−カルボンアミド、３，４′−ジアミノジフェ
ニルスルホン−４−カルボンアミド、３，４′−ジアミ
ノジフェニルスルホン−３′−カルボンアミド、３，
３′−ジアミノジフェニルスルホン−４−カルボンアミ
ド、４，４′−ジアミノジフェニルサルファイド−３−
カルボンアミド、３，４′−ジアミノジフェニルサルフ
ァイド−４−カルボンアミド、３，３′−ジアミノジフ
ェニルサルファイド−４−カルボンアミド、３，４′−
ジアミノジフェニルサルファイド−３′−スルホンアミ
ド、１，４−ジアミノベンゼン−２−カルボンアミド等
が挙げられる。

【００２０】また、一般式（ＶＩＩ）で表されるジアミ
ノジアミド化合物も用いることができる。

【化１３】 （Ａｒは芳香族基、ＹはＳＯ₂又はＣＯを示し、１個の
アミノ基と１個のＹ−ＮＨ₂基が対として互いにオルト
位に位置する）

【００２１】この化合物としては、例えば、４，４′−
ジアミノジフェニルエーテル−３，３′−スルホンアミ
ド、３，４′−ジアミノジフェニルエーテル−４，５′
−カルボンアミド、３，３′−ジアミノジフェニルエー
テル−４，４′−スルホンアミド、４，４′−ジアミノ
ジフェニルメタン−３，３′−カルボンアミド、３，
４′−ジアミノジフェニルメタン−４，５′−スルホン
アミド等が挙げられる。これらのアミン化合物は、単独
でも２種類以上を組み合わせても使用することができ
る。

【００２２】耐熱性、機械的性質及びコストを考慮する
と、４，４′−ジアミノジフェニルエーテルを用いるこ
とが好ましい。なお、脂肪族（脂環式）テトラカルボン
酸二無水物、一般式（ＶＩ）で表されるジアミノアミド
化合物および一般式（ＶＩＩ）で表されるジアミノアミ
ド化合物を使用した場合には、ポリアミド酸は一般式
（Ｉ）で表される繰り返し単位と異なる繰り返し単位を
含むことができる。

【００２３】上記の芳香族テトラカルボン酸二無水物と
上記のアミン化合物との反応は、通常不活性な有機溶媒
中で０〜１００℃、好ましくは５〜６０℃の温度で行わ
れ、ポリアミド酸の有機溶媒液として得ることができ
る。これらのテトラカルボン酸二無水物とアミン化合物
は、前者／後者が０．８／１〜１．２／１（モル比）の
割合で使用するのが好ましく、等モルで使用するのがよ
り好ましい。

【００２４】また、上記反応に用いる有機溶媒として
は、生成するポリイミド前駆体を完全に溶解する極性溶
媒が一般に好ましく、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリ
ドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル
尿素、ヘキサメチルリン酸トリアミド、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。その他、この極性溶媒以外に、一
般的有機溶媒であるケトン類、エステル類、ラクトン
類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、
例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチ
ル。酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、ジエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロルエタン、１，４−ジクロルブタ
ン、トリクロルエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロル
ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等も使用することができる。

【００２５】本発明においては、一般式（Ｉ）で表され
る繰り返し単位を有するポリアミド酸に上記の（Ｂ）一
般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される重合性不
飽和化合物が添加、混合される。このような一般式（Ｉ
Ｉ）及び（ＩＩＩ）で表される重合性不飽和化合物とし
ては、代表的には相当する重合性不飽和基を有するモノ
イソシアナートと水との反応によって得られるものが用
いられる。

【化１４】 ２Ｑ−ＮＣＯ＋Ｈ₂Ｏ→Ｑ−ＮＨＣＯＨＮ−Ｑ＋ＣＯ₂ （ここで、Ｑは重合性不飽和基を示す）

【００２６】水との反応によって一般式（ＩＩ）で表さ
れる重合性不飽和化合物を生成することのできる重合性
不飽和基を有するモノイソシアナート化合物としては、
例えば、イソシアナートエチルアクリレート、イソシア
ナートプロピルアクリレート、イソシアナートブチルア
クリレート、イソシアナートペンチルアクリレート、イ
ソシアナートヘキシルアクリレート、イソシアナートオ
クチルアクリレート、イソシアナートデシルアクリレー
ト、イソシアナートオクタデシルアクリレート、イソシ
アナートエチルメタクリレート、イソシアナートプロピ
ルメタクリレート、イソシアナートブチルメタクリレー
ト、イソシアナートペンチルメタクリレート、イソシア
ナートヘキシルメタクリレート、イソシアナートオクチ
ルメタクリレート、イソシアナートデシルメタクリレー
ト、イソシアナートオクタデシルメタクリレート、イソ
シアナートエチルクロトネート、イソシアナートプロピ
ルクロトネート、イソシアナートヘキシルクロトネート
等が挙げられる。

【００２７】また、水との反応によって一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される重合体不飽和化合物を生成することので
きる重合性不飽和基を有するモノイソシアナート化合物
としては、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有す
るヒドロキシ化合物と、イソシアナート化合物を出発材
料として合成される。少なくとも１つのエチレン性不飽
和基を有するヒドロキシ化合物としては、例えばトリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パンジメタクリレート、トリメチロールエタンジアクリ
レート、トリメチロールエタンジメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロピルメタクリレート、アリルアルコール、グリセリ
ンジアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリル
エーテル、トリメチロールエタンジアリルエーテル、ペ
ンタエリスリトールジアリルエーテル、エチレングリコ
ールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノア
リルエーテル、ジクリセロールトリアリルエーテル、ク
ロチルアルコール、ビニルフェノール、シンナミルアル
コール、アリルフェノール、ｏ−シンナミルフェノー
ル、

【化１５】 （ｌは２〜３０の整数、ＲはＨ又はＣＨ₃を表す）

【化１６】 （ａは３〜３０の整数、ＲはＨ又はＣＨ₃を表す）

【化１７】 （ＲはＨ又はＣＨ₃を表す）

【化１８】 （ＲはＨ又はＣＨ₃を表す）等が挙げられる。これらの
ヒドロキシ化合物は、単独でも２種類以上を組み合わせ
ても使用することができる。

【００２８】また、このヒドロキシ化合物と反応して分
子内に炭素−炭素二重結合およびウレタン結合を有する
モノイソシアネート化合物を与えるジイソシアナート化
合物としては、例えば、４，４′−ジフェニルメタンジ
イソシアナート、ジアニシジイソシアナート、トリデン
ジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、
２，４−トリレンジイソシアナート、２，６−トリレン
ジイソシアナート、１，５−ナフタレンジイソシアナー
ト、トランスビニレンジイソシアナート、２，２，４−
トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、２，４，
４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、３−
イソシアナートメチル−３，５，５−トリメチル−シク
ロヘキシルイソシアナート、

【化１９】

【化２０】

【化２１】 等が挙げられる。さらに、これらのジイソシアナート化
合物は、単独でも２種類以上を組み合わせても使用する
ことができる。

【００２９】分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽
和基を有するヒドロキシ化合物とジイソシアナート化合
物との反応は、無溶媒あるいは不活性な有機溶媒中で、
通常０〜１００℃、好ましくは２０〜７０℃の温度で行
われ、その配合は前者／後者が０．８／１〜１．２／１
（モル比）の割合とするのが好ましく、等モルで使用す
るのが特に好ましい。

【００３０】分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽
和基を有するヒドロキシ化合物とジイソシアナート化合
物との反応は、トリエチルアミン、１，４−ジアゾビシ
クロ［２，２，２］オクタンのようなアミンまたはジブ
チルスズジラウレート、あるいはジブチルスズジアセテ
ートのようなスズ化合物を触媒的に用いると容易とな
る。上記の触媒的に用いる化合物は、ジイソシアナート
化合物に対して０．０１〜５重量％の範囲で用いること
ができる。

【００３１】一般式（ＩＩ）で表される重合性不飽和化
合物が、

【化２２】 であることが特に好ましい。この重合性不飽和化合物は
現像液として用いる有機溶媒及び／又はアルカリ水溶液
に対するポリアミド酸の溶解性を著しく向上させること
ができるので、現像時間を大幅に短縮できる。また、現
像裕度も大幅に広くできる。また、低分子量であるので
加熱硬化時に分解、揮散し易く、最終的に得られる硬化
膜の耐熱性（主に重量減少で評価）を向上できる。

【００３２】本発明においては、必要に応じて一般式
（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表されるもの以外の重
合性不飽和化合物を用いることができる。そのような重
合性不飽和化合物としては、各種のものがあるが、アク
リル酸系の化合物あるいはメタクリル酸系の化合物等が
実用的である。

【００３３】アクリル酸系化合物としては、例えば、ア
クリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレー
ト、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、カルビトールアクリレート、メトキシエチルアクリ
レート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチル
アクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロ
キシプロピルアクリレート、ブチレングリコールモノア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、グリ
シジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、トリメ
チロールプロパンモノアクリレート、アリルアクリレー
ト、１，３−プロピレングリコールジアクリレート、
１，４−ブチレングリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアク
リレート、２，２−ビス−（４−アクリロキシジエトキ
シフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−アクリロ
キシプロピルキシフェニル）プロパン、トリメチロール
プロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリアクリル
ホルマール、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
ト、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸の
アクリル酸エステル、

【化２３】 （ｂは１〜３０の整数を表す）

【化２４】 （ｃ、ｄはｃ＋ｄが２〜３０となるように選ばれる整数
を表す）

【化２５】 等を挙げることができる。

【００３４】また、メタクリル酸系化合物としては、例
えば、メタクリル酸、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピル
メタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメ
タクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、オクチルメタクリレート、エチルヘ
キシルメタクリレート、メトキシエチルメタクリレー
ト、エトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルメ
タクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタ
クリレート、ヒドロキシペンチルメタクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アミノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、テ
トラヒドロフルフリルメタクリレート、メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、アリルメタクリレート、
トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエ
リスリトールモノメタクリレート、１，３−ブチレング
リコールジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコー
ルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、２，２−ビス−（４−メタクリロキシジエト
キシフェニル）プロパン、トリメチロールプロパンジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、テトラメチロール
メタンテトラメタクリレート、トリス（２−ヒドロキシ
エチル）イソシアヌル酸のメタクリル酸エステル、

【化２６】 （ｅは１〜３０の整数を表す）

【化２７】 （ｆ、ｇはｆ＋ｇが１〜３０となるように選ばれる整数
を表す）

【化２８】

【００３５】また、クロトン酸ブチル、グリセリンモノ
クロネート、ビニルブチレート、ビニルトリメチルアセ
テート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテー
ト、ビニルラクテート、安息香酸ビニル、ジビニルサク
シネート、ジビニルフタレート、メタクリルアミド、Ｎ
−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミ
ド、Ｎ−アリールメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、
Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ
−ブトキシメチルアクリルアミド、ダイアセトンアクリ
ルアミド、ヘキシルビニルエーテル、エチルヘキシルビ
ニルエーテル、ビニルトリルエーテル、多価アルコール
のポリビニルエーテル、オルト位およびパラ位にアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン、カルボキシル基、アリ
ル基などの置換基を有するスチレン誘導体、ジビニルベ
ンゼン、アリルオキシエタノール、ジカルボン酸のジア
リルエステル、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニル
イミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカル
バゾール等の化合物を用いることもできる。これらの化
合物は単独で使用しても２種類以上を併用しても良い。

【００３６】必要に応じて用いる一般式（ＩＩ）又は
（ＩＩＩ）で表されるもの以外の重合性不飽和化合物と
しては、下式の化合物（但し、式中のｂは２〜９であ
る）が好ましく用いられる。この化合物は光硬化性、熱
分解性に優れている。

【化２９】

【００３７】必要に応じて用いる一般式（ＩＩ）又は
（ＩＩＩ）で表されるもの以外の重合性不飽和化合物の
使用量は一般式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で表される重合
性不飽和化合物１００重量部に対して９００重量部以下
で用いることが好ましい。９００重量部を越えると現像
時間が長くなる不都合を生じる。

【００３８】重合性不飽和化合物の使用量は、組成物の
現像液に対する溶解性、光硬化度および塗膜の耐熱性の
点からポリアミド酸１００重量部に対して２〜５００重
量部とされることが好ましく、１０〜２００重量部の範
囲とされることがより好ましい。２重量部未満は現像時
間が長くなるばかりではなく、像形成性そのものが得に
くくなる傾向がある。また５００重量部を越えるとこの
重合性不飽和化合物が十分に熱分解、揮散せずに最終硬
化膜中に残存し易くなるため、硬化膜の耐熱性を低下さ
せる傾向があり、また、組成物中に占める体積が増加す
るため厚膜を形成しにくくなる傾向がある。

【００３９】本発明で用いられる（Ｃ）光開始剤として
は、例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾイン、２−メチ
ルベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインブチルエーテル、２−ｔ−ブチルアントラキノ
ン、１，２−ベンゾ−９，１０−アントラキノン、アン
トラキノン、メチルアントラキノン、４，４′−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、アセトフェノン、
ベンゾフェノン、チオキサントン、１，５−アセナフテ
ン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２
−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
フォリノ−１−プロパノン、ジアセチル、ベンジル、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、
ジフェニルジスルフィド、アントラセン、フェナンスレ
ンキノン、リボフラビンテトラブチレート、アクリルオ
レンジ、エリスロシン、フェナンスレンキノン、２−イ
ソプロピルチオキサントン、２，６−ビス（ｐ−ジエチ
ルアミノベンジリデン）−４−メチル−４−アザシクロ
ヘキサノン、６−ビス（ｐ−ジメチルアミノベンジリデ
ン）−シクロペンタノン、２，６−ビス（ｐ−ジエチル
アミノベンジリデン）−４−フェニルシクロヘキサノ
ン、下記の式で表されるアミノスチリルケトン等を挙げ
ることができる。

【化３０】 これらの光開始剤は、単独でも２種類以上を組み合わせ
ても使用することができる。

【００４０】これらの光開始剤の使用量は、感光性樹脂
組成物の感度および塗膜の耐熱性の点から、ポリアミド
酸１００重量部またはポリアミド酸と重合性不飽和化合
物１００重量部に対して、０．０１〜３０重量部用いる
ことが好ましく、０．１〜１０重量部用いることがより
好ましい。

【００４１】さらに、これらの光開始剤に、光開始助剤
としてアミン類やアミノ酸を併用することもできる。ア
ミン類としては、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ｐ−
ジメチルアミノベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアン
トラニル酸エチル等を挙げることができる。

【００４２】アミノ酸としては、例えば、Ｎ−メチル−
Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−フェニルグ
リシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリ
シン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロフェニ
ル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ブロモフェニ
ル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−ブロモフェニ
ル）グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）グリシン、
Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−ブロ
モフェニル）グリシン等を挙げることができる。

【００４３】本発明の感光性樹脂組成物は、（Ｄ）有機
溶媒を含むが、この有機溶媒はポリアミド酸を完全に溶
解する極性溶媒が一般に好ましく、例えば、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ド、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。その他、この
極性溶媒以外に、一般的有機溶媒であるケトン類、エス
テル類、ラクトン類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素
類、炭化水素類、例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、
マロン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ジエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジクロロメタン、１，２−ジクロルエタン、１，４−ジ
クロルブタン、トリクロルエタン、クロルベンゼン、ｏ
−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等も使用することができ
る。

【００４４】これらの有機溶媒の使用量は、有機溶媒が
感光性樹脂組成物の４０〜９５重量％となるように用い
ることが好ましく、６０〜８５重量％となるように用い
ることがより好ましい。４０重量％未満では組成物が高
粘度となり基板への塗布性が劣る傾向がある。９５重量
％を越えると低粘度となり、塗布性に劣る傾向があり、
樹脂分濃度が低くなるため厚膜を形成しにくくなる傾向
がある。

【００４５】また、感光性樹脂組成物の熱的な安定性を
向上させるために、公知の熱重合禁止剤を共存させるこ
とができる。熱重合禁止剤としては、例えば、ｐ−メト
キシフェノール、ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコー
ル、ピロガロール、フェノ−チアジン、クロラニール、
ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、ｐ
−トルイジン、メチレンブルー、２，２−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′
−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）等が挙げられ、その使用量は、感光性樹脂組成物か
ら重合禁止剤、有機溶媒および光開始剤を除いた成分１
００重量部に対して、０．００１〜１０重量部用いるこ
とが好ましい。

【００４６】本発明になる感光性樹脂組成物は、上記の
各種成分を含むが、これらの混合順序、混合方法等には
特に制限はなく、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷
法、スピンナー塗布法などによって銅貼り積層版、シリ
コンウエハー等の基材に塗布され乾燥し塗膜することが
できる。また、感光性樹脂組成物を可撓性の基体上、例
えばポリエステルフィルム上に塗布・乾燥して積層し、
この上にポリエチレン等のカバーシートを設けてサンド
イッチ構造のドライフィルムを予め作成し、このドライ
フィルムのカバーシートを剥がして被覆すべき基材上に
塗膜を形成することも可能である。カバーシートは必ず
しも用いなくてもよい。この塗膜上に、所望のパターン
を描いたマスク上から活性光線を照射することにより、
照射部（露光部）において重合が起こり、この照射部は
非照射部（未露光部）に対して溶解性が大きく低下す
る。

【００４７】上記活性光線は、通常紫外光が用いられる
が場合により、電子線、放射線のような電離性放射線を
照射することによっても塗膜に対して同様の効果を与え
ることができる。上記のように処理された塗膜上に、適
当な現像液で処理すれば、高い溶解性を保持している非
照射部は現像除去されるとともに、活性光線の照射によ
り溶解性が低下せしめられた照射部は残り、所望の樹脂
パターンを得ることができる。

【００４８】本発明で使用される現像液としては、有機
溶媒および／又はアルカリ水溶液が用いられる。有機溶
媒としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−アセ
チル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチレンホスホリツクトリアミド、γ−ブ
チロラクトン等の極性溶媒が挙げられる。あるいは、こ
れらにメタノール、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
化合物、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メ
チル等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル等の一般的有機溶媒及び水を混合して用い
てもよい。

【００４９】アルカリ水溶液とは、塩基性化合物を水に
溶解した溶液である。塩基性化合物としては、例えば、
アルカリ金属、４級アンモニウムの水酸化物、炭酸塩、
重炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、酢酸
塩、アミン類等が用いられる。これらの具体例として
は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニ
ウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、ケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、ピロリン
酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が挙
げられる。その使用量は、水１００重量部に対して通常
０．０００１〜５０重量部、好ましくは、０．００１〜
３０重量部であ。この使用量が少なすぎると現像性が低
下する傾向があり、多すぎると塩基性化合物が完全に溶
解せず不均一な溶液となったり、現像液の粘度が高くな
りすぎ、現像性が低下する傾向がある。現像液は、有機
溶媒とアルカリ水溶液をそれぞれ単独で用いてもよい
し、混合して用いてもよい。有機溶媒とアルカリ水溶液
を混合して用いる場合は、有機溶媒の使用量は、アルカ
リ水溶液１００重量部に対して通常０．１〜１００重量
部、好ましくは５〜５０重量部である。現像液として
は、人体に対してより安全であって、安価なアルカリ水
溶液を用いることが好ましい。いずれにしても、用いた
感光性樹脂組成物中の（Ａ）ポリアミド酸を溶解しない
が、（Ｂ）重合性不飽和化合物の存在下では、（Ａ）ポ
リアミド酸を溶解するものを使用する必要がある。ここ
で、溶解とは、ポリアミド酸（及び重合性不飽和化合
物）の塗膜をシリコンウエハ基板上に１０〜１５μｍ厚
に設け（乾燥１００℃で１００秒）これを現像液に浸漬
し揺動した場合、２４０秒以内に完全に溶けることをい
う。

【００５０】ついで、現像により形成されたレリーフパ
ターンを、リンス液により洗浄し現像溶液を除去する。
得られたパターンは、まず５０〜２５０℃で予備乾燥し
た後、３００〜４００℃で加熱すなわちポストキュアし
て、耐熱性を有する半導体、多層印刷配線板などの層間
絶縁膜などに変換し得るもので、本発明の感光性樹脂組
成物は、主として前述のような微細加工の分野において
非常に有用である。

【００５１】

【実施例】次に、本発明を実施例１〜７および比較例１
〜４により説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【００５２】合成例１ かく拌機、温度計、熱電対及び窒素ガス導入管を装備し
た１ｌのフラスコに４，４′−ジアミノジフェニルエー
テル４０．０５ｇ（０．２モル）及びＮ−メチル−２−
ピロリドン２５７ｇを加え、窒素ガス流通下の室温で撹
拌した。この溶液に３，３′，４，４′−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物４８．３３ｇ（０．１５モ
ル）及び１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン二無
水物２１．３３ｇ（０．０５モル）を加え、室温で４時
間撹拌した後、７０℃に昇温し、同温度で８時間加熱し
て粘稠なポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶
液をＰＩ−１と命名した。

【００５３】合成例２ ２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン二無水物２２．２ｇ（０．０５モ
ル）、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）
−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン二無水物
２１．３ｇ（０．０５モル）及び３，３′，４，４′−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３２．２ｇ
（０．１モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン２５０ｍ
ｌに溶解し、その後、４，４′−ジアミノジフェニルエ
ーテル４０．０ｇ（０．２モル）を加えて室温で４時間
撹拌した後、７０℃で７，５時間加熱して粘稠なポリア
ミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液をＰＩ−２と
命名した。

【００５４】合成例３ ２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン二無水物１３．３ｇ（０．０３モル）
及び３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物２２．６ｇ（０．０７モル）をＮ−メチル
−２−ピロリドン１１３ｇに溶解し、その後、４，４′
−ジアミノジフェニルエーテル２０．０ｇ（０．１モ
ル）を加えて室温で４時間撹拌した後、５５℃で３０時
間加熱して粘稠なポリアミド酸溶液を得た。このポリア
ミド酸溶液をＰＩ−３と命名した。

【００５５】合成例４ 実施例及び比較例で用いる、下式に示す重合性不飽和化
合物（ＩＭＵ）は以下の方法で合成したものを用いた。

【化３１】 かく拌機、温度計、熱電対及び空気導入管及びシリカゲ
ル乾燥管を装備した１ｌのフラスコに２−イソシアナー
トエチルメタクリレート６０ｇ（０．３９モル）、イオ
ン交換水５２８ｇ、アセトン１３２ｇ及び２，５−ジフ
ェニル−ｐ−ベンゾキノン１２ｍｇを乾燥空気３００ｍ
ｌ／ｍｉｎを通しながら加え、かく拌下４０℃に昇温
し、同温度で６時間反応させた。放冷によって室温まで
冷却し、析出した白色の針状粗結晶を露別した。この粗
結晶をジエチルエーテルで再結晶して、精製した結晶４
６ｇを得た。生成物の¹ＨＮＭＲスペクトル（溶媒：Ｄ
ＭＳＯ−ｄ₆、室温測定）には６．１１ｐｐｍに−ＮＨ
ＣＯＮＨ−のシグナルが、３．３４ｐｐｍに−ＣＨ₂Ｎ
ＨＣＯＮＨＣＨ₂−のメチレンプロトンのシグナルが、
５．６７〜６．０５ｐｐｍに＞Ｃ＝ＣＨ₂のシグナルが
認められた。また、生成物のＦＴ−ＩＲスペクトルに
は、１５２０ｃｍ^-1に尿素基の−ＮＨ−変角振動による
吸収が、１７００ｃｍ^-1に尿素基の−ＣＯ−伸縮振動に
よる吸収が認められた。

【００５６】実施例１〜７ 合成例１と２で得られたポリアミド酸溶液ＰＩ−１とＰ
Ｉ−２各々１０ｇに対して、合成例４で得られた重合性
不飽和化合物及び表１に示した重合性不飽和化合物、光
開始剤を加え、撹拌混合して実施例１〜７に供する均一
な感光性樹脂組成物の溶液を得た。

【００５７】比較例１〜４ 合成例２と３で得られたポリアミド酸溶液ＰＩ−２とＰ
Ｉ−３各々１０ｇに対して、合成例４で得られた重合性
不飽和化合物及び表１に示した重合性不飽和化合物、光
開始剤を加え、撹拌混合して比較例１〜４に供する感光
性樹脂組成物の溶液を得た。ここで、得られた溶液のう
ち、比較例３の溶液は白濁くしており、ポリアミド酸溶
液と重合性不飽和化合物との相溶性が不十分なものであ
った。

【００５８】この各溶液をフィルタ濾過し、これをシリ
コンウエハ上に滴下し、最終硬化膜厚が５μｍとなるよ
うにスピンコートした。次いでホットプレート上、１０
０℃で１００秒加熱した後、塗膜面をパターンマスク
し、超高圧水銀灯（３ｍＷ／ｃｍ²）で２００秒間露光
した。第１表に示した所定の現像液で浸漬現像した後、
イオン交換水でリンスした。これを１００℃で１５分、
２００℃で６０分、窒素雰囲気下３５０℃で６０分加熱
してポリイミドのレリーフパターンを得た。なお、実施
例２については、超高圧水銀灯で２００秒間露光した
後、１２０℃で３０秒間アフターベークしてから現像を
行った。

【００５９】ポリアミド酸の溶解性、現像時間、現像裕
度、露光部の表面のこり、引張強度、重量減少開始温度
及び接着性は以下の方法によって評価した。

【００６０】ポリアミド酸の溶解性はポリアミド酸溶液
ＰＩ−１〜ＰＩ−３をシリコンウエハ上に最終硬化膜厚
が５μｍとなるようにスピンコートし、ついでホットプ
レート上、１００℃で１００秒間加熱して得た塗膜につ
いて、所定の現像液に３６０秒間浸漬した後の塗膜の残
膜率の程度で表わした。残膜率が７０％以上のものを不
溶、７０％未満のものを溶解と評価した。

【００６１】現像時間は感光性樹脂組成物の塗膜の未露
光部について、未露光部が現像液に浸漬されてから現像
液に完全に溶解するまでの時間として評価した。

【００６２】現像裕度は感光性樹脂組成物の塗膜の露光
部について、露光部が現像液に浸漬されてから現像液に
よって膜はく離を生じるまでの時間から、現像時間を差
し引いた値として評価した。

【００６３】引張強度は感光性樹脂組成物をガラス基板
上に塗布し、１００℃で１５分間、２００℃で６０分、
窒素雰囲気下３５０℃で６０分加熱して得たフィルム
（膜厚：２５μｍ）について、引張試験機（オリエンテ
ック社製テンシロン万能試験機ＵＣＴ−５Ｔ型）を用い
て測定した。試験片の寸法は幅１ｃｍ、長さ１０ｃｍと
した。

【００６４】重量減少開始温度は引張強度試験に用いた
フィルムについて、セイコー電子社製高温型示差熱熱重
量同時測定装置ＴＧ／ＤＴＡ３２０型を用いて測定し
た。試料重量１０ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、雰囲
気空気で行った。

【００６５】接着性は感光性樹脂組成物をシリコンウエ
ハ上に塗布し、１００℃で１５分間、２００℃で６０
分、窒素雰囲気下３５０℃で６０分加熱して得た塗膜
（膜厚：５μｍ）について、プレッシャクッカー試験
（条件：１２１℃、２気圧、１００時間）を行った後の
碁盤目試験で評価した。

【００６６】碁盤目試験はカッタナイフで１ｍｍ角で１
００個のます目ができるように碁盤目状の切り傷をつ
け、これをＪＩＳに規定された（ＪＩＳ Ｋ５４００）
セロテープではく離し、１００個のます目に対する残存
したます目の個数で表わす方法である。上記の方法で評
価した結果を表１に示す。

【００６７】

【表１】

【００６８】

【表２】

【００６９】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は短時間の現
像ができるとともに現像裕度が広く、優れた現像性を示
す。しかも本発明の現像法によれば、現像液として通常
使われているＮ−メチル−２−ピロリドンなどに比べ
て、より扱いが簡単で安全で安価なアルカリ水溶液を使
用できるので作業性、コスト面に優れる。また、得られ
た硬化膜は従来の非感光性ポリイミドに匹敵する膜強
度、耐熱性及び接着性を有し、膜特性に優れる。さら
に、ポリアミド酸に感光基をエステル結合で導入した共
有結合型感光性ポリイミドに比べて塩化物汚染がなく、
膜強度に優れる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/075 ５１１ 7124−2Ｈ 7/30 7124−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027 (72)発明者 鈴木 健司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し
   単位を有するポリアミド酸、 【化１】 （式中、Ｒ₁は４価の芳香族基、Ｒ₂は２価の有機基を表
   す） （Ｂ）一般式（ＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ）で表される
   重合性不飽和化合物、 【化２】 【化３】 （式中、Ｒ₃〜Ｒ₅及びＲ₈〜Ｒ₁₀はそれぞれ独立に水素
   原子またはアルキル基を表わし、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₂及びＲ
   ₁₃は２価の炭化水素基、Ｒ₁₁及びＲ₁₄は４価の有機基を
   表わし、Ｙ₁〜Ｙ₆はそれぞれ独立に水素原子及びエチレ
   ン性不法和基を有する１価の有機基からなる群より選択
   された少なくとも１つの基であり、Ｙ₁〜Ｙ₃及びＹ₄〜
   Ｙ₆のうち、それぞれに少なくとも１つはエチレン性不
   飽和基を有する１価の有機基である） （Ｃ）光開始剤及び （Ｄ）有機溶媒 を含有してなる感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （Ａ）ポリアミド酸が現像液として用い
   る有機溶媒及び／又はアルカリ水溶液に溶解しないが、
   （Ｂ）重合性不飽和化合物の存在下では、現像液として
   用いる有機溶媒及び／又はアルカリ水溶液に溶解する性
   質を有するものである請求項１記載の感光性樹脂組成
   物。
3. 【請求項３】 一般式（Ｉ）のＲ₁のうち、５０モル％
   未満が 【化４】 である請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 （Ｂ）一般式（ＩＩ）で表される重合性
   不飽和化合物が、 【化５】 である請求項１、２又は３記載の感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 請求項１、２、３又は４記載の感光性樹
   脂組成物を塗布乾燥して得られる感光層をパターン状に
   露光した後、（Ａ）ポリアミド酸を溶解しないが、
   （Ｂ）重合性不飽和化合物の存在下では（Ａ）ポリアミ
   ド酸を溶解する現像液で現像することを特徴とする現像
   方法。