JPS5965852A - 光応答性積層体 - Google Patents

光応答性積層体

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JPS5965852A
JPS5965852A JP58160229A JP16022983A JPS5965852A JP S5965852 A JPS5965852 A JP S5965852A JP 58160229 A JP58160229 A JP 58160229A JP 16022983 A JP16022983 A JP 16022983A JP S5965852 A JPS5965852 A JP S5965852A
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/043Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
    • G03G5/0436Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure combining organic and inorganic layers

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
発明の分野 本発明Vま一般に改善された層状光応答性積層体(1a
yerea photoresporlsive de
vice )に関する:特に、本発明は感度を変更また
は向上せしめて可視光やレーザー記録に必要な赤外光に
応答可能にした改善された層状光応答性積層体に関する
。本発明の重要な態様においては、積層体の光発生層と
正孔輸送層との間にまたは光発生層と支持体との間に光
導電性組成物が配置されておシ、この組成物は主として
スペクトルの赤外光および/または可視光領域で光発生
層の固有特性を向上まだは低下せしめるために応答し得
るので、この積層体を可視光および/または赤外光の波
長に対して感光性にする。 静電的手段によって光導電性配合の像形成表面」二に静
電潜像を形成しそして現像することは周知であり、かか
る方法は感光板(光受容体とも称す)表面上での静電潜
像の形成を包含する0この光受容体は一般に導電性支持
体およびその表面上の光導電性組成物からなり、多くの
場合、支持体からの電荷注入(これは画質に悪影響を与
える)を防止するために支持体と光導電層との間に薄い
バリヤ層が設けられている。 種々のゼログラフィツク光導電性配合が多数知られてお
り、例えば無定形セレンのような単一材料の同質層のも
のもあるし、光導電性組成物の分散物を含有する腹合層
状体(composite 1ayer13(1dev
ice )もある。ゼログラフィー用複合光導電性部拐
の例は例えば米国特許第5,121,006号に記載さ
れており、その特許には電気絶縁性有機樹脂結合剤中に
分散された光導電性無機化合物の微細粒子が開示されて
いる。市販の形態では、樹脂結合剤中に均一に分散され
た酸化亜鉛粒子を含有する結合剤層が紙支持体上に塗布
されている。 この特許に開示されている結合剤の月料は光導電性粒子
から発生し注入された電荷担体を十分な距離で輸送する
ことかできない拐料である。従って、サイクル操作に必
要な電荷消去を可能にするためには、光導電性粒子が層
中で実質的に連続した粒子−粒子接触状態になければな
らない。従って、その特W[に記載されている光導11
L性粒子の均一分散物は通常、迅速放t(f、のため十
分な光導電体粒子−粒子接触を得るため比較的高容置濃
度の光導電体材料、約50容量チ、を必要とする0この
高い光導電性配合は樹脂の物理的連続性をそこなう結果
になるので、結合剤層の機械的性質をかなり低下させる
。その特許に開示されている結合剤の具体例はポリカー
ボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等で
ある。 電荷担体発生と電荷担体輸送の機能を別々の隣接層によ
って行う、その他の無機または有機制料からなる光受容
体も公知である。また、積層光受容体も従来開示されて
おシ、その中にd:電気絶縁性高分子材料のオーバーコ
ート層も含まれる0しかしながら、ゼログラフィーかよ
まだまだ発展を続けており、性能基準を高めるだめ及び
高品質の画像を得るために複写機はもつと厳しい徴求を
満足性積層体も必要とされている。 最近、米国特許第4,265,990号に開示されてい
るような発生層と輸送層を有するもの、また、正孔注入
層、その上の輸送層、さらにその上の光発生層および絶
縁性有機樹脂の表面層を有する積層光応答性材料(米国
!1ヲ許第4,251,612号参照)も開示されてい
る。これ等特許に開示されている発生層の例は三方晶系
セレンや7タロシアニンであシ、そして使用可能な輸送
層の例はここに開示されているような特定ジアミンから
なる。これ等特許、即ち米国特許第4,265,990
号および第4,251,612号のそれぞれの開示は全
体的に本願においても参考になる。 その他の多数特許には発生材料を含有する層状体も包含
する種々の光応答性積層体が記述されている:例えば米
国特許第3,041,167号は導電性支持体、光導電
層、および電気絶縁性重合体材料の表面被覆層を有する
オーバーコート像形成部相を開示している。この部材は
電子写真複写方法に使用され、例えは、この部拐をまず
第1極性の静電荷で帯電し、像様に露光して静電潜像を
形成の第2極性の静電荷で帯電することができる0部材
を介して第2極性の正味電界を生成せしめるように第2
極性の十分な追加電荷を力える。同時に、導電性支持体
に電圧を印加するような手段によって光導電層中に?8
1極性の移動性電荷を発生させる。可視像に現像すべき
像電位は光導電層と表面被覆層を介して存在する。 ベルギー/IT=許第763,540号には、少なくと
も2層の電気作用層を有する電子写真部材が開示されて
おり、その第1層は電荷担体を光発生しそしてその電荷
を連続活性層(電荷担体輸送性有機旧料含有)中に注入
することができる光導電層からなり、輸送拐料は使用ス
ペクトル範囲で実質的に非吸収性であるが光導電層から
の光発生正孔の注入を可能にしそしてその正孔が活性層
中を輸送されることに対して活性である。さらに、米国
特許第3,041,116号には、支持体」二の無定形
セレン層上に被覆された透明プラスチック月料を有する
光導電性材料が開示されている。 さらに、米国特許第4,232,102号および第4,
233,383号には、炭酸ナトリウム−亜セレン酸ナ
トリウム混合物、および炭酸バリウム−亜セレン酸バリ
ウム混合物がドープされた三方晶系セレンからなる光応
答性画像形成部材が開示されている。 層状光応答性積層体を開示するその他の代表的特許は米
国特許3(j 4,115,116号、第4,047,
949号および第4,081,274号である。 上記光応答性積層体はその目的に適するが、さらに改善
されたもの、特に、許容できる画像を形成するばかりで
かくマシーン環境または周囲条件による劣化無しで多数
の像形成サイクルに繰シ返し使用できる積層体の開発は
依然必要とされている。また、応答性層剤に選択される
材料がかかる装置の使用者に対して実質的に有害でなく
、同時に像形成部月として作用し得る改善させた積層像
形成部材も依然として必要とされている。さらに、支持
体に対する光発生層の接着のように層間の接着を!1¥
別の接λ−を剤の必要無しで達成できると同時に砕木普
通紙のような他の層に対する耐引掻性を改善しそして結
合剤タイプの発生層の強度を改善する像形成部材が必要
とされている。まだ、広範囲の波長に感する、特に赤外
光および可視光に感するため多くの像形成および記録シ
ステムに利用できる表面被覆された光応答性イ責層体も
要求されている。さらに、最低数の処理工程で製造でき
、しかも繰シ返し像形成および記録システムに連続使用
できるように層相互の付着性が十分な、改善された光応
答性積層体も要求されている。 発明の概要 本発明の目的は上記欠点を克服した改善された光応答性
部材を提供することである。 本発明の別の目的は汎色性の、従って可視光にも赤外光
にも感する改善された光応答性積層体を提供することで
ある。 さらに本発明の特別の目的は正孔輸送層と光発生層の間
に設けられた光導電性組成物層を有する改善されたオー
バーコートされた光応答性積層体を提供することである
。 さらに本発明の別の目的はかかる積層体の光発生層と支
持体層の間に設けられた光導電性組成物層を有する改善
されたオーバーコート光応答性積層体を提供することで
ある。 本発明の別の目的は正孔輸送層と光発生層の間に設けら
れた光導電性組成物層を有し、赤外光と可視光に同時に
感応性であり、そして改善された付着性を有うる、改善
されたオーバーコート光応答性積層体を提供することで
ある。 さらに本発明の別の目的は本発明の改善されたオーバー
コート光応答性積層体を使用する像形成方法および記録
方法を提供するものである。 本発明のこれ等およびその他の目的は光発生層と正孔輸
送層の間に、又は光発生層と支持体の間に設けられた光
導電性組成物の層を有する改善された光応答性積層体の
提供によって達成される。 このように本発明の改善された光応答性積層体は光発生
層の固自−特性をスペクトルの赤外および/まだは可視
範囲において向上まだは低下せしめる光導電性組成物を
含有している0 本発明の一態様は、(1)支持体、(2)正孔ブロッキ
ング層、(3)任意の接箔−剤中間層、(4)無機光発
生層、(5)光発生層の固有特性を向上または低下させ
ることができる光導電性組成物層、該組成物は有機光導
電性相別、電荷移動錯体材料、および増感剤からなる群
から選択される、および(6)正孔輸送層の順に構成さ
れた改善された光応答性積層体である。 本発明の一つの重要な具体的態様における光応答性積層
体は導電性支持体、それと接触しだ正孔ブロッキング金
属酸化物層、接着剤層、この接着層上に設けられた無機
光導電性光発生利料層、スペクトルの赤外および/また
は可視域において光発生層の固有特性を向上まだは低下
せしめることisできる光導電性組成物(この組成物は
有機光導電性物質、’ilt荷移動錯体、増感剤、また
はそわ7等温合物を含有する光導電性材料からなる)の
層、および最上面層としての樹脂マl−IJラックス中
分散された特定ジアミンからなる正札輸送層からなる0
正孔輸送層に接触した光導電性組成物層は光発生層で発
生しだ正孔を輸送せしめることが可能でなければならな
いので発生した正孔を捕獲するものであってはならない
。さらに、光導電性組成物R4は光透過性を有する材料
即ち光発生層中で電子−正孔対を生成するために必要な
光の透過を可能にする材料から41°・1成されねばな
らない。また、光導電層は特定波長の光を光発生層へ透
光せしめる選択フィルターとしても作用し得る。 本発明の別の重要な態様は、光発生層の固有特性を向上
または低下せしめることができる光導電性組成物が光発
生層と支持体との間に位置する以外は、上記と同じ改善
された光応答性積層体である。従って、この光応答性積
層体は順に(a)支持体、(b)正孔ブロッキング層、
(C)任意の接着剤層又は接着界面層、(d)光発生層
の固有特性をスペクトルの赤外および/または可視領域
において向上または低下せしめることが可能な光導電性
組成物層(該組成物は有機光導電性材料、電荷移動錯体
材料、増感剤、またはそれ等混合物からなる)、(5)
無機光発生層、および(6)正孔輸送層からなる。 本発明の光応答性積層体の露光および消去は表面側から
、裏面側から、または両方から行うことができる。 本発明の改善された光応答性積層体は多数の公知の方法
で製造できるが、そのブローヒス因子並びに層の被覆順
序は必要とされる積層体に応じて変動する0従って、例
えば、本発明の改19された一X応答性積層体は正孔ブ
ロッキング層および任意の接ノ?1−剤層を有する導電
性支持体を用意し、そして溶剤塗布法、ラミネート法、
またはその他方法によってその上に光発生層、スペクト
ル び/または1り祝領域において光発生層の固有特性を向
上まだは低下せしめることかできる有機光導電性物質物
層、および正孔輸送Jのを設りることによって製造でき
る。 本発明の改善された光応答性積層体は第1ハ々の像形成
システムに導入でき、そして特に重要であるが可視光お
よび/または赤外光を使用する像形J戊システムと記録
システムに同時に使用できる。従って、本発明の改善さ
れた光応答性積層体は負に帯電し、順次にまたは同時に
波長領域約400〜約1 0 0 Qnmの光で露光す
ることができる二次いで得られた像は現像され、そして
ペーノ々−に転写される。上記サイクルは多数回繰り返
すことができる。 好ましい態様の説明 本発明およびその特徴をさらによく理解するためには、
次に示す種々の好ましい態様の説明が参考になろう:そ
の場合、 第1図および第2図は本発明の改善された光応答性積層
体の部分的概略断面図である。 第6図は本発明の好ましい光応答性積層体の部分的概略
断面図である。 第4図は本発明の光応答性積層体の別の好ましい態様を
示す。 85図は本発明の光応答性積層体の別の好ましい態様を
示す。 第6図は本発明の光応答性積層体の別の好ましい態様を
示す。 第7図は実施例5の光応答性積層体をS er祿2で露
光した場合の暗現像電位(vDDP) −800vから
の放電率(鉤を波長400〜1000 nmでの光露光
の函数として表わしたものである。この積層体は赤外感
度を有さない。 第8図は実施例乙の光応答性積層体を50rg1cm2
で露光した場合の暗現像電位(■DゎP)−800vか
らの放電率((6)を、波長400〜1000 nmで
の光露光の函数として、表わしたものである。この図は
この積層体が赤色および赤外感度を有するが竹色および
緑色感度が悪いと云うことを示していを5θrg/cm
2で露光した場合の暗現像電位(vDDP ) −80
0vからの放電率(ト)を、波長400〜1000 n
mでの光露光の函数として、表わしたものである。この
図は本発明の積/1体が可視および赤外感度を有するこ
とを示している。 図に表わした放電率(%)は次のように定義される:■
DDp(−800V ) 但し、vL、DPは暗現像電位であり、そしてv5er
g/cIn2 は波長域400〜11000nの′光5
 erg/cm”で露光した後の光受容体上の表面電位
(V)である。 例として、vDDPが−aoovであシ、そして例えば
800 nmでの5 erg々1露光後の表面電位が一
400vである場合、この積層体の放電率(至)Fi5
0%となる。 第1図には本発明の改善された光応答性積層体(概括的
に10で表わされている)が示されでおり、それは支持
体3、正孔ブロッキング金属酸化物層5、任意の接着剤
層6、無機材料の電荷担体光発生層7、スペクトルの赤
外およびまたは可視域で光発生層7の固有特性を向上ま
たは低下せしめることができる有機光導電性組成物層9
、および電荷担体即ち正孔輸送層11からなる。 第2図には第1図に示されたものと本質的に同じような
ものが示されているが、但し、光導電層9は無機光導電
層7と支持体3の間に設けられておシ、特にこの態様に
おける光導電層9は任意の接着剤層と電荷担体無機光発
生層との間に在る。 支持体層3は不透明であっても又は実質的に透明であっ
てもよいので、欠くことのできない機械的性質を有する
適当な材料から構成できる。このように、支持体は無機
または有機重合体拐料のような絶縁性材料の層;インジ
ウム錫酸化物のような半導電性表面層を有する有機また
は無機材料の層;または導電性材料例えばアルミニウム
、クロム、ニッケル、黄銅等から構成されていてもよい
。 支持体は可撓性であっても又は硬質であってもよく、そ
して多数の様々な構造例えばプレート、円筒rラム、ス
クロール、可撓性無帯ベルト等をとシ得る。好ましくは
、支持体は可撓性無帯ベルトの形態である。成る場合に
は、特に支持体が有機沖合体旧料である場合には支持体
の裏側にカール防止層例えばマクロロン(Makrol
on )の名で市J&δれでいる71?リカーボネート
利料を塗布することが望ましい。 支持体層の厚さは経済的条件も含め多数の因子に依存す
るので、この層はかなシの厚さ例えば100ミル以上で
あってもよいし又はシステムに悪影響を与えない限υ最
低の厚さであってもよい。 好ましい一態様におけるこの層の厚δは約6ミル〜約1
0ミルである。 正孔ブロッキング金属酸化物層5は酸化アルミニウム等
も含む種々の適当な公知材料から4’lt成できる。好
ましい金属酸化物層は酸化アルミニウムである。この層
の第1の目的は正孔ブロッキングを行うこと即ち帯電中
または帯電後に支持体からの正孔注入を阻止することで
ある。代表的には、この層の厚さは50A以下である。 接着剤層6は代表的には重合体材料であシ、ポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、】」セリビニルピロリドン
等も含まれる。代表的には、この層の厚さは約0.3ミ
クロン以下である。 無機光発生層7は可視光に感する公知の光尋電性電荷相
体発生材料、例えば、非晶質セレン、非晶質セレン合金
、ハロrンドーゾ非晶(ltセレン、ハロゲンドープ非
晶質セレン合金、三方晶系セレン、IA族およびIIA
族元素の亜セレン酸塩および炭酸塩と三方晶系セレンと
の混合物(米国特許第4,232,102号および第4
,233,283号参照)、硫化カドミウム、セレン化
カドミウム、テルル化カドミウム、セレン化カドミウム
硫黄、テルル化カドミウム硫黄、セレノテルル化カドミ
ウム、銅や塩素をドープした硫化カドミウムやセレン北
方1ミウムやセレン化カドミウム硫黄、等々から4f’
7成できる。本発明の範囲に包含されるセレン合金の例
はセレンテルル合金、セレンヒ素合金、セレンテルル合
金合金であシ、塩素のようなハロゲン材料を約50〜約
200 ppHの量で含有しているかかる合金が好まし
い。 層7は代表的には約0.05〜約10ミクロンまだはそ
れ以上、好ましくは約0.4〜約6ミクロンの厚さを有
するが、この層の厚さは主に光等電性容量負荷(5〜1
00容量チで変Dib可能)に依存する。一般に、この
層は像様露光即ち記録用露光工程で導光される入射光の
約90%以上を吸収するに十分な厚さにすることが望ま
しい。この層の上限厚は主として機械的条件例えば光応
答性デバイスが可撓性である必要があるかどうかと云う
ような条件に依存する。 本発明の光応答性デバイスの非常に重要なJetは光導
電層9であシ、これは多数の有機光導電性物質、電荷移
動錯体、スクェアリリウム(squary−11um 
)顔料、各鍾増感剤、それ等混合物、等々から構成でき
る。この層に有効な材料の具体例は7タロシアニン、無
金属7タロシアニン、バナジルフタロシアニン、米国特
許第3,816.11 a号(その開示は全体的に本願
でも参考になる)に開示されているような公知のその他
フタロシアニン、スクエアIJ リウム顔料、電荷移動
錯体材料例えばポリビニルカルバゾール−トリニトロフ
ルオロノン、特にポリビニルカルバゾール−2,4,7
−トリニトロフルオロノン、および各種赤外増感剤例え
ばシアニン顔料(K、ペンカタラマン編集のケミストリ
ー・オプ・シンセテイツク・ダイズ、第2巻および第4
巻、1971年、アカデミツク・ゾレスに記載されてい
る)である。 層9用に選択できるスクェアリリウム顔料の特殊な具体
例は例えば次式のものである:式中のRは水素、メチル
のようなアルキル基、またはヒPロキシ(OH)基であ
る。 層9(第1図参照)用に選択される拐料は電荷担体輸送
層11と電気的に適合し得るものでなければならない:
それは光励起された電荷担体が輸送層中に注入できるよ
うに、また、電荷担体が光導電層9と電荷輸送層11と
の界面を両方向に移動できるようにするためである。と
れ等の機能を達成できる好ましい層9用材料の一つはバ
ナジルフタロシアニンである:その主な理由は、容易に
入手できること、およびスペクトルの赤外域約700〜
約920 nmで光発生層の固有特性を必俄なレベルに
向上できることである0 層7の無機光発生材料、または層9の光導電性材料はそ
の層の100%を構成することも可能であるし、又は約
5〜約95容量−の量で、好ましとも可能である。選択
可能な高分子結合剤の樹脂状材料の具体例は例えば米国
特許第3,121,006号(その開示は全体的に本願
でも参考になる)に開示されているもの、ポリエステル
、ポリビニルブチラール、ホルムパル(Formvar
 )■、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾー
ル、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、特に、市販されて
いるポリ(ヒドロキシエーテル)樹脂である。 本発明の一態様において、電荷担体輸送分子例えば後記
のジアミンを層7および/またはkfj 9の中に例え
ば約U〜60容−;1シ裂の111−で添加してもよい
。 一般に、層9の厚さは他の層の厚さやこの層中に含有さ
れている光導電性制料の混合割合等々多数の因子に依存
する。従ってこの層の厚さはバナジルフタロシアニンの
ような光導電性組成物が約5〜約100容量チの量で存
在する場合約0.05〜約10ミクロンであシ、バナジ
ルフタロシアニンのよう外光導電性組成物がこの層中に
約60容山;係のJfセで存在するとき好ましくはこの
層の厚さは約0.25〜約1ミクロンである○この層の
上限厚は主として機械的条件例えば可撓性光応答性デバ
イスを要求されているかどうかと云うような因子に依存
する。 電荷担体輸送ノ※11は正孔を輸送できる多数の適当な
利料から構成でき、この層は一般に約5〜約50ミクロ
ン、好ましくは約20〜約40ミクロンの厚さを有する
。好ましい態様において、この輸送層は高絶縁性の透明
な樹脂結合剤中に分散された次式の分子からなる: 式中のXは0−0H3、m−OH3、p−0H3、o 
−CJ、、m−CL、p−(Jからなる群から選択され
る。 不当な暗減衰を防止するため少なくとも1012Ω−釧
の抵抗を有する高絶縁性樹脂は必ずしも光発生層からの
正孔の注入をツーボートできない、また、材料全体にわ
たって正孔を搬送できない。しかしながら、この樹脂は
上記式の置換N 、 N 、 N’、N’−テトラフェ
ニル[1、1’−ビフェニル:]−]4.4’−シアミ
を約10〜75i量係含有すると、電気的に活性になる
。 上記式の化合物の例はN 、 N’−ジフェニル−N 
、 N’−ビス(アルキルフェニル)−[1,1−ビフ
ェニル] −4、4’−ジアミン(但し、アルキルは2
−メチル、6−メチル、および4−メチルのようなメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル等からなる群
から選らばれる)である。 クロロ置換の場合、この化合物はN 、 N’−ジフェ
ニル−N 、 N’−ビス(ハロフェニル)−[1,1
’−ビフェニル] −4、4’−シアミン(但シ、ハロ
原子は2−クロロ、6−クロロ、または4−クロロであ
る)と称される。 その他の電気的に活性な小分子も電気的に不活性な樹脂
中に分散して正孔輸送層を構成できるが、そのような分
子の例はビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェニ
ル)フェニルメタy;4’、4“−ビス(ジエチルアミ
ン) −2’ 、 2“−ジメチルトリフェニルメタン
;ビス−4(ジエチルアミノフェニル)フェニルメタン
;およヒ4,4′−ビス(ジエチルアミノ) −2、2
’−ジメチルトリフェニルメタンである。 本発明の対象物が得られる限り、他の電荷担体輸送分子
を層11用に選択してもよい。 層11用の高絶縁性透明樹脂状材料寸たは不活性結合剤
樹脂状材料としては米国特許 第3,121,006号(その開示は全体的に本願でも
参考になる)中に記載されているものも包含される。有
機樹脂状材料の具体例はポリカーボネート、アクリレー
トポリマー、ビニル71セリマー、セルロースポリマー
、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウ
レタンおよびエポキシド、並びにそれ等のブロック、ラ
ンダムまたは文互共重合体である。好ましい電気不活性
結合剤材料は約20,000〜約100,000の分子
量、特に好ましくは約50,000〜約100,000
の範囲の分子量を有するポリカーボネート樹脂である。 一般に、樹脂結合剤は上記式の活性物質約10−・約7
5重量%、好ましくは約65〜約50重量%を含有する
。 第6図には本発明の好ましい光応答性積層体が示されて
おυ、図中の支持体15は厚さ約10OAで光透過率2
0%のアルミニウム層を有する6ミル厚のマイラーから
なシ、金属酸化物層17は厚さ約2[)Aの酸化アルミ
ニウムからなシ、層18はE、■、デュポンから49,
000ポリエステルの名で市販されているポリエステル
接着剤中間層(厚さ約0.05ミクロン)であシ、無機
光発生三方晶系セフタ重量型量係からなシ、光導電層2
1は厚さが約0.5ミクロンであシ、ポリエステル結合
剤70容量チ中に分散されたバナジル7タロシアニン6
0容量係からなり、セして正孔輸送層23は厚さが約2
5ミクロンであシ、ポリカーボネート樹脂結合剤中に分
散されたN 、 N’−ジフェニル−N 、 Nl−ビ
ス(6−メチルフェニル)−〔1,1−ビフェニル)−
4,4’−シアミツ50重量係からなる。 第4図に口1本発明のもう一つの好ましい光応答性積層
体が示されており、図中の層25.27.28.29お
よび33は第6図の層15.17゜18.19および2
3と同じである。M4図中の光導電層はバナジルフタロ
シアニンではなく、モンザント・ケミカル社からホルム
パル■の名で市販されている樹脂結合剤側斜70容量チ
中に分散されたヒドロキシスクェアリリウム約60容量
係からなる。 第5図には本発明の光応答性積層体の別の態様が示され
ておシ、図中の支持体35は20%透過性アルミニウム
の約100重層を有する厚さ6ミルのマイラーからなシ
、金属酸化物正孔ゾロソキングM37は厚さ約2OAの
酸化アルミニウムであり、任意の接着剤層38はE、■
、デュポン社からデュポン49,000の名で市販され
ているポリエステルであり、厚さ約0.05ミクロンを
有し、光発生層39はアライド・ケミカル社からポリ(
ヒドロキシエーテル)ベークライトの名で市販されてい
るフェノキシ樹脂結合剤中に分散された三方晶系セレン
66容量チからなシ、厚さ0.4μを有し、光導電層4
1はポリエステル結合剤中に分散されたバナジルフタロ
シアニン30 容量%からなり、厚さ約0.5μであシ
、そして正孔輸送層43は厚さ25μであり、ポリカー
ボネート樹脂結合剤中に分散されだN 、 N’−ジフ
ェニル−N。 N′−ビス(6−メチルフェニル)−CI、1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミン50重R%からなる。 第6図には本発明の別の好ましい光応答性積層体が示さ
れておシ、図中の層47.49.51.53および57
は第5図の層35.37.38.39および43と同じ
である。第6図中の光導電層55は樹脂結合剤ホルムパ
ル■中に分散されたヒドロキシスクェアリリウム60容
址チからなる。 先に述べたように、第7.8および9図は種々の光応答
性8を屠体の感度を波長の函数としてプロットしたスペ
クトル応答曲線であるO 第7図は実施例5で製造した光応答性積層体に関する曲
線である:この積層体ば6ミル厚q)マイラ支持体、約
1ooX厚の20重%透過性アルミ=ウム層、約2OA
厚の酸化アルミニウムの正孔ブロッキング層、約0.0
5μ厚のrl?リエステル利゛I)(E、■、デュポン
からデュポン49,000の名で市販されている)の接
着剤層、0.4μ厚の発生層〔アライド・ケミカル社か
らボ1)(ヒドロキシエーテル)として市販されている
フェノキシ樹Jl旨結合剤中に分散された三方晶系セレ
ン36容量係を含有〕、および25μ厚の輸送層[I 
7]? IJカー11テネート樹脂結合剤中に分散され
だN、N’−ジフェニル−n、N’−ヒス(5−メf)
ジフェニル)−[1、1’−ビフェニル] −4、4’
−ジアミンり0重蛍チからなる〕を有する0この積層体
は赤夕を感度を本質的に有さす、約700 nmの波長
における放電率は実質的にUであるO 第8図は実施例6で製造した光応答性積層体に関する曲
線である:この積層体は6ミル厚のマイラ支持体、約l
0DA厚の20チ透過アルミニウロッキング層、約0.
05μ厚のポリエステル材料(デュポン49.D 00
として市販されている)の接着剤層、その上に塗布され
た約0.5pの元発生層(ポリエステル樹脂結合剤中に
分散されたバナジルフタロシアニンろ0容量チからなる
)、およびその上に透面された25μ厚の輸送層〔ポリ
カーボネート樹脂結合剤中に分散されたN、N’−ジフ
ェニル−N、lq’−ヒス(3−、)’ チルノエニル
) −[1、1’−ビフェニル] −4、4’−ジアミ
ン50 M gllに係からなる〕を有する。この積層
体は例えば550 nm未満の波長で放電率が6D%未
満であることから明らかなように可視青色および緑色感
度が悪かった0 第9図は実施例10で製造した本発明の光応答性積層体
に関する曲線である:この積層体は5ミル厚の支持体、
約10(3′;、厚の20チ透過アルミニウムの正孔ブ
ロッキング層、約0.05μ厚のポリエステル(デュポ
ン49,000として市販されている)の接着剤層、0
.4μ厚の発生層〔三方晶系セレン30容量チをフェノ
キシ4’lt4脂結合剤即ちアライド・ケミカル社製ポ
リ(ヒドロキシエーテル)ベークライト中に分散したも
の〕、その上に塗布された約0.5μ厚の光導電層(ポ
リエステル樹脂結合剤中に分散されたバナジル7タロシ
アニン50 ′8−fiiH係からなる)または約1.
0μ厚の光導電層(ポリエステル樹脂結合剤中に分散さ
れたバナジルフタロシアニン60容垣チからなる)、お
よび25μJ7の輸送層〔ポリカーボネート樹脂結合剤
中に分散されたN 、 N’−ジフェニル−N。 N′−ビス(6−メチルフェニル)−[1,1’−ビフ
ェニル、l] −4、4’−ジアミン50重i%からな
る〕ケ有する。この積層体はスペクトルの可視域即ち波
長約400〜約700 nmおよび赤外域即ち約700
〜約950 nmの両方に感度を有する。 ところで、本発明をその特定の好ましい態様について詳
細に説明するが、これ等実施例は単に説明するためにあ
るのであって、本発明をそこに示された旧材、条件、ま
たはプロセスパラメーターに限定するものでQj:ない
。別に指定しない限シ部またはチは重量による。 実施例1 N、N’−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチ
ルフエニ#)−〔1,1’−ビフェニル〕−4゜4′−
ジアミンの合成 機械的攪拌器を具備しアルゴンでガスシールさレタ50
00ml</)50丸底フラスコ中に、N、N”ジフェ
ニル[1,1’−ビフェニル:] −4、4’ −ジア
ミン336.!/(1モル)、m−ヨードトルエン55
0 、!i! (2,5モル)、炭酸カリウム(無水)
b50g(4モル)、青銅触媒50g、およびジメチル
スルホキシド(無水)1500InJ!を装入する。こ
の不拘り′1混合物を6日間還流する0混合物を冷却し
、そしてベンゼン200m1を添加する0それから、こ
のダークスラリをろ過する0ろ液を水で4回抽出する。 それから、ろ液を硫酸マグネシウムで乾燥し、そしてろ
過する。減圧下でべ/ゼンを除去する。黒色生成物をウ
オウルム(Woθ1m)中性アルミナのカラムクロマト
グラフィーにかける。生成物をn−オクタンから再結晶
化することによって表題のジアミン生成物の無色結晶が
得られる。融点は167〜169℃である0収量は36
0、!i!(65チ)である。 038H32N2の分析計算値: 0 、88.34 
:H、6,24:  N 、 5.37 実fllll値: c 、 88,58 ; H、6,
21; N 、 5.37実施例2 1J 、 1.1 ’−ゾフェニルーN、N’−ビス(
4−メチルフェニル)−[1,1’−ビフェニル〕−4
゜4′−シアミンの合成 磁気攪拌器を具備しアルゴンでパージした500m1 
(r) 丸底フラスコ中に、p、p−ジョードビノエニ
ル20 g(0,05モル)、p−)リルノエニルアミ
ン18.3 、@ (0,1モル)、炭酸カリウム(無
水) 20.7.5J (Ll、15モル)、ぐ141
粉6.OIおよびスルホラン(テトラヒドロチオノエン
−1,1−ジオキシP)50m/を装入する。この混合
物を220℃〜225℃で24時間加熱し、約150℃
に冷却し、そして脱イオン水300 mlを添加する。 この不均質混合物を激しく攪拌しながら加熱還流する0
フラスコ内に淡褐色の油状沈殿物が生ずる。それから、
水をデカンテーションする0それから、水300 ml
を加え、そして水相を再びデカンテーションする。メタ
ノール500m1を加え、そしてこの混合物を還流して
未反応の出発物質を溶解する。固形物をろ別し、n−オ
クタン500m1を加え、そして125℃の還流温度に
加熱する。 この溶液を中性ウオウルムアルミナ100&でろ過して
淡黄色のる液を得る。この浴液を再度100yの中性ウ
オウルムアルミナでろ過して無色のる液を生成し、それ
を冷却して無色の結晶を得る0この結晶はrA、p、1
63〜164℃を有する表題の化合物である。 038H32N2の分析計算値:a、88.34;H、
6,24; N 、 5.37 実測値: a ; 8 B、49 ; H、6,44;
 N 、 5.28実施例6 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−11クロロエタン(4
:1容量比)中の0.5重量%デュ>1? ン49,0
00接着剤(E、工、デュポン製ポ1ノエステル)の層
0.5ミル湿潤厚をバード アク01ノケーターによっ
て塗布した。この層を室温で1分間そして強制エアオー
プン内で100℃で10分間乾燥した。得られた層は約
0.05μの乾燥厚を有していた。 それから、この接着剤層上に三方晶系セレン10容J1
1%からなる光発生層を下記のようにして被覆した: 2オンスのアンバー(amber )ボトル中に71!
 IJビニルカルバゾール0.89とテトラヒドロフラ
ン/トルエン(1:1谷量比) 14 m、lを入れた
。そJzからこの溶液に三方晶系セレン0.8 gと/
8″直径のステンレススチール ショク) 100 g
t 添力11した0それから上記混合物を72〜960
与1)、’l =ドールミルにかけた。次いで、得られ
たスラ’)5flを、テトラヒドロフラン/トルエン(
1:1容量比)6.6ml中のポリビニルカルバゾール
0.18gとN 、 x/−ジフェニル−N 、 N’
−ビス(6−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル
−4、4’ −シアミン0,15.9’の溶液に添加し
た。それから、このスラリを10分間振盪機にかけた。 得られたスラリをバードアプリケーターによって上記接
着剤中間層上に湿潤厚0.5ミルで塗布した。それから
この層を強制エアオープン内で160℃で6分間乾燥し
たところ乾燥厚2.0μになった。こうして得た層は三
方晶系セレン10容量チ、ジアミン25容量%およびポ
リビニルカルバゾール65容量チを含有していた。 上記光発生層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
しだ: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(2ルベン〜す゛プ
リケン・バイエルA、 G、製)50重量%とN 、 
N’−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフ
ェニル)−1,1’−ビフェニル−4、4’ −ジアミ
ンりO重量%を混合した0この溶液は塩イヒメチレン1
5則量チ中で混合したものであシ、上記成分全部をアン
バー4クトルに人Jして溶解した。 この混合液をバードアプリケーターによって光発生層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗イ[した0この
塗布工程中の湿度目:15%す、下であった〇 こうして得た上記層全部を有1−る積層体を’Jt f
lilJエアオープン内で135℃で6分間アニールし
た。 実施例4 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミルj9.を月′J意
し、その上に基孔メチレン71,1,2−ト!Jクロロ
エタン(4;1容量比)中の0.5重量係デュポン49
,000接着剤(L工、デユア1?ン製4髪1ノエステ
ル)の層U、5ミル湿潤厚をノ々−ドアプ1ノケーター
によって塗布した。この層を室を品で1分1川そして強
制エアオープン内で100’Gで10分1441 g’
i−燥した。得られた層は約0.L]5/7の玲乞燥)
ソを有していた。 それから、三方晶系セレン60容量%、”、”−ジフェ
ニル−N、N’−ヒス(6−メチル7エ二ル) −1、
1’−ビフェニル−4,4′−ジアミン25容量チおよ
びポリビニルカルバゾール45容h1:%を含有する光
発生層を下記のようにして上記接着剤層に被覆しだ: 2オンスのアンバーボトル中にポリビニルカルバゾール
0,8.!/とテトラヒドロ7ラン/トルエン(1:1
容量比)18m/を装入した。それからこの溶液に三方
晶系セレン2.1gと1/8′直径ステンレススチール
シヨツ)100gを加えた。それから、上記混合物を7
2〜96時間ボールミルにカケテ、スラリ混合物した。 1オンスのアンバーボトル中にN 、 N’−ジフェニ
ル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニル)−1,
1−ビフェニル−4,4′−ジアミン0,04.9とテ
トラヒドロ7ラン/トルエン6.4mlを装入した。こ
の溶液にボールミル処理スラリ2gを加えた。それから
このスラリ混合物を10分間振盪機にかけた。得られた
スラリをバードアプリケーターによって上記49、[J
 00接オ′ず剤層上に湿憫厚0.5ミルで塗布した0
この積層体を6分間165℃の強制エアオーブン内で乾
燥して光発生層の乾燥厚を0.5μにした0 上記光発生層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンサブリケ
ン・バイエルA、 G、製)50重量%とN、N’−ジ
フェニル−N、N’−ビス(6−メチルフェニル)−i
、i’−ビフェニル−4、4’ −シアミン50重量%
を混合した。この溶液は塩化メチレン15重量%中で混
合したものであシ、上記成分全部をアンバーボトルに入
れて溶解した。 この混合液をバードアプリケーターによって光発生層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗
布工程中の湿度は15%以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分間アニールした。 実施例5 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5重置チデュポン4.9,000
接着剤(E、工、デュポ゛ン製ポリエステル)の層0.
5ミル湿潤厚をパードアシリケータ−によって塗布した
。この層を室温で1分間そして強制エアオーブン内で1
00℃で18分間乾燥した。得られた層は約0.05μ
の乾燥厚を有していた。 三方晶系セレン36容量チ、およびフェノキシ樹脂結合
剤ベークライ) PHKK (ユニオンカーバイP社製
)54容量チ中に分散されたN 、 N’ −ジフェニ
ル−N、x’−ヒス(6−メチルフェニル)−1,1’
−ビフェニル−4,4′−ジアミン16容量係を含有す
る光発生層を下記のように作成した: 4オンスのアンバーボトル中に上記フェノキシ樹脂1.
6,9.!:N、N’−ジフェニルーN 、 N/−ビ
ス(3−、+チルフェニル)−1,1’−ビフェニル−
4,47−ジアミン0.4gを、メチルエチルケトン2
1 mlとメトキシエチルアセテート(セルソルブアセ
テ−))7m/中で、装入した。この溶液に、三方晶系
セレン6.2gと/8 直径のステンレススチールショ
ツ) 200 、S’ ヲ添jJII L7’j。それ
から上記混合物を72〜96時間ボールミルにかけた。 それからこのスラリをバードアプリケーターによって上
記デュポン49,000接着剤層上に湿潤環0.5 ミ
ルで塗布した。それから、この積層体を強制エアオープ
ン内で165℃で6分間乾燥した。この光発生層の乾燥
厚は0.5μであった0上記光発生層上に、下記のよう
にして電荷輸送層を被覆しだ: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルヘンサプリケ
ン・バイエルA、G、製)50重量%とN 、 N’−
ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニル
)−1,1’−ビフェニル−4、4’ −シアミン5’
O重量係を混合した。この溶液は塩化メチレン15ii
%中で混合したものであり、上記成分全部をアンバーボ
トルeヒ入れて溶解したOこの混合液をバードアプリケ
ーターによって光発生層の表面上に乾i:’A厚25μ
層になるように塗布した。この塗布工程中の湿度は15
%以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分間アニールした。 実施例6 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5重[+t、 %デュポン49,
000接着剤の層をバードアプリケーターによって塗布
した。この層を室温で1分間そして強制エアオーブン内
で100’Cで10分間乾燥した。得られた層は約0.
05μの乾燥厚を有していた。 それから、バナジルフタロシアニン30 ’J +t 
%含有光導′11も層を下記のように作成しだ:2オン
スのアンバーボトル中に塩化メチレン16m1中のデュ
ポン49,000ポリエステル0.769を装入した。 この溶液にバナジルフタロシアニン0,3.6 、!i
+ ト1/B ” 直径ステンレススチールショツ)1
00gを加えた。上記混合物を24時間11クールミル
にかけた。このスラIJ 5 、’@に塩化メチレン1
0m1!を添加した。このスラリをl々−1ζアブ17
ケーターによって上記ポリエステル接着剤層上に湿潤厚
0.5ミルで塗布した。この層を5分間自然乾燥しノL
○それから、この積層体を強制エアオーブン内で165
℃で6分間乾燥した。乾燥厚は0.5μであった。 上記光導電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンサブリケ
ン・バイエルA、 G、製)5ON量チとN 、 N’
−ジフェニル−N、N’−ビス(6−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4、4’ −ジアミン50i
量チな混合した。この溶液は塩化メチレン15重量%中
で混合したものであり、上記成分全部をアンバーボトル
に入れて溶解した。 この混合液をバードアプリケーターによって光導電層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗
布工程中の湿度は15%以下であったO こうして得た上記層全部を有するfil(屠体を強制エ
アオーブン内で165°Cで6分間アニールした。 実施例7 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−トリクロロエタン(4
:1容giii比)中の0 、5 fl(61%デュポ
ン49,000ポリ工ステル接着剤の層0.5ミル湿潤
厚をバードアプリケーターによって塗布した。 この層を室温で1分間そして強制エアオープン内で10
0’Cで10分間乾燥した。得られた層は約0.5μの
乾燥)Jノを有していた。 それから、ヒドロキシスクェアリリウム60容量チ含有
光導電層を下記のように作成した:2オンスのアンバー
ボトル中にホルムパル12/85(モンザントケミカル
社製)0.76gとテトラヒドロ7ラン16m1を装入
した。この溶液にヒドロキシスクェアリリウム0.36
 gと/8直径ステンレススチールショット100 、
!i’ 全添加した。上記混合物を24時間ボールミル
にかけた0このスラリ5IにテトラヒドロンランI Q
 ml f 添加した。それから、とのスラリをバート
アプリケーターによって上記接着剤層上に湿濶厚U、5
 ミルで塗布した。得られた層を5分間自然乾燥した。 それから、この積層体を強制エアオープン内で135℃
で6分間乾燥した。この光導電層の乾燥11ノは0.5
μであった。 上記光J)電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被
覆した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンサブリケ
ン・バイエルA、G、製)50重1fit %とN 、
 N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,1’−ピフェニル−4、4’ −ジアミン
50重量%を混合した。この溶液は塩化メチレン15重
量%中で混合したものであり、これ等成分全部をアンバ
ーボトルに入れて溶解した。 この混合液をバードアプリケーターによって光導電層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗
布工程中の湿度は’15%以下であった。 こうして得た上記層全部を有するff層屠体強制エアオ
ープン内で135℃で6分間アニールした。 実施例8 アルミニウム蒸着マイラ支持体3ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5 Mj: 屈: %デュポン4
9,000接着剤の層0.5 ミル湿潤厚をバードアプ
リケーターによって塗布した。この層を室温で1分間そ
して強制エアオーブン内で100”C;で10分間乾燥
した。得られた層は約0.05μの乾燥厚を有していた
。 それから、三方晶系セレン10容景% 、N 、 N 
/ −ジフェニル−N 、 N/ −ヒス(3−メチル
フェニル)−1,1’−ビフエ皐ルー4,4′−シアミ
ン25容:11t %およびポリビニルカルバゾール6
5容量チを含有する光発生層を下記のように作成した=
2オンスのアンバーボトル中にポリビニルカルバゾール
0.8gとテトラヒドロ7ラン/トルエン(1:1容量
比)14mlを加えた。それからこの溶液に三方晶系セ
レン0.8gと1/8′直径のステンレススチールショ
ツ) 100 g全添加シタ。それから上記混合物を7
2〜96時間ボールミルかけた。次いで、?4)られた
スラIJ 5 gを、テトラヒドロ7ラン/トルエン6
、3 me 中のポリビニルカルバゾール0.18gと
N,N’−ジフェニル−N。 N′−ビス(6−メチルフェニル)−1.1’−ビフェ
ニル−4.4フージアミン0.15gの溶液ニ添加した
。それから、この混合物を10分間振盪機にかけた。得
られたスラリをバードアプリケーターによって上記接着
剤中間層上に湿飼厚0.5ミルで塗布した。それからこ
の層を強制エアオープン内で165℃で6分間乾燥した
ところ乾燥厚2、0μになった。 一t− しから、バナジルフタロシアニン30容f+t
%含有光i!’fi ’+tt層を下記のように作成し
た:2オンスのアンバーボトルに塩化メチレン16ml
中のデュ;]t’y49,000  (J,76gを装
入した。 この溶液にバナジルフタロシアニン0.3 6 F ト
1/8“直径ステンレススチールショットioo,yを
加えた。上記混合物を24時間ボールミルにがけた0こ
のスラリ5gに塩化メチレン10m/を添加した0それ
からこのスラリをバードアプリケーターによって上記光
発生層上に湿詐厚0.5ミルで塗布した。この層を1〜
5分間自然乾燥して乾燥J@0.5μにした0それから
、この積層体を強制エアオーブン内で165℃で6分間
乾燥した。 上記光導電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約り 0.0 0 0〜約ioo,o
o。 のポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンザブリ
ケン・バイエルA.G,製)50重量%とN 、 N’
−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニ
ル)−1.1’−ビフェニル〜4 、 4’ −ジアミ
ンb O M′M%を混合した。この溶液は塩化メチレ
ン1 5 N 、11g:%中で混合したものであシ、
これ等成分全部をアンバーボトルに入れて溶解した。 この混合液をバー1アプリケーターによって光導電層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗
布工程中の湿度は15チ以下であったOこうして得た上
記層全部を有する積R□i体を強制エアオープン内で1
35℃で6分間アニールしたO実施例9 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5重)it%テュボ′ン4 9,
0 0 0ボ′リ工ステル接着剤の)60.5ミル湿d
ν1厚をバードアプリケーターによって塗布した0この
層を室温で1分間そして強制エアオーブン内−c 1 
0 0℃で10分間乾燥した。可ト≠耐献給曇痒書併冬 三方晶系セレン6U容W %およびN 、 N’−ジフ
ェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニル)−
1、1′−ビフェニル−4.4′−ジアミン25容量チ
を含有する光発生層を下記のように作成した:2オンス
のアンバーボトル中11Lポリビニルカルバゾール0,
8 iとテトラヒドロ7ラン/トルエン(1:1容址比
)18mlを装入した0それからこの溶液に三方晶系セ
レン2.11と1/8′直径ステンレススチ一ルシヨツ
ト100gを加えた。それから、上記混合物を72〜9
6時間ボールミルにかけた。1オンスのアンバーボトル
中K N 、 N’ −ジフェニル−N 、 N/ −
ビス(3−メチルフェニル)−1,1−ビフェニル−4
,47−ジアミン0.04gとテトラヒドロンラン/ト
ルエン6.4mlを装入した。この溶液にボールミル処
理スラリ2gを加えた。それからこの混合物を10分間
振盪機にかけた。得られたスラリをバードアプリクータ
ーによって上記49,000接着剤層上に?、W 、Y
l、IJ厚0.5ミルで塗布した。この積j?り体を5
分間自然乾燥して光発生層の乾燥厚を0.5μにした。 この層を165℃で6分間乾燥した。 それから、バナジルフタロシアニン60容量チ含有光導
電層を下記のように作成した:2オンスのアンバーボト
ルに塩化メチレン161c中のデュポン49,000ボ
リエ、X テ# 0.76flを装入した。この溶液に
バナジルフタロシアニン0.36 g、!: /8if
f径ステンレススチールショツ) 100gを加えた。 上記混合物を24時間ボールミルにかけた。得られたス
ラl75gに塩化メチレン10mrを添加した。それか
ら、とのスジ1ノをバードアプリケーターによって上記
光発生層上に湿潤厚0.5ミルで塗布した。この層を5
分間自然乾燥して乾燥JlpU、5μにした。得られた
層を強制エアオーブン内で135℃で6分間乾燥した。 上記光導電層上に、下記のようにして’Qi、荷輸送層
を被覆した: 輸送Mi用K 分子:)is:約50.OU O〜約I
 CI O,000のポリカーボネート樹脂マクロロン
■(ラルベンサプリケン・バイエルA、G、製) 50
重Ji%とN。 N′−ジフェニル−N 、 N/−ビス(3−メチルフ
ェニル)−i、i’−ビフェニル−4,47−ジアミン
b O1,(f :l筐チを混合したOこの浴液は塩化
メチレン15重量%中で混合して得たものであり、これ
等成分全部をアンバーボトルに入れで溶解した。 この混合液をパードアシリケータ−によって光導電層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗布しだ0この塗
布工程中の湿度は15%以下でおつた0 こうしてイ(#た上記層全部を有する積層体を強制エア
オープン内で165℃で6分間アニールした。 実施例10 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意′ し、
その−ヒに塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタ
ン(4:1容、11]比)中の0.5重Jrtチデュポ
ン49,000接着剤の層0.5 ミル湿潤厚をバード
アプリケーターによって塗布した。この層を室温で1分
間そして強制エアオープン内で100℃で10分間乾燥
した。得られた層は約0.05 pの乾燥厚を有してい
た。 三方晶系セレン66容fIt % 、およびフェノキシ
樹脂結合剤54容量チ中に分散されたN 、 N’−ジ
フェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニル)
−1、1’−ビフェニル−4,47−ジアミン13容量
チを含Mしている光発生層を下記のように作成した: 4オンスのアンバーボトル中にフェノキシjllj脂ベ
ークライト(ユニオンカーバイPi)1.6g、メチル
エチルケトン21 mlおよびメトキシエチルアセテー
ト(セルンルブアセテー))7mlを装入した。この溶
液に、三方晶系セレン6.2gと/8直径のステンレス
スチールショツ)200gをi加した0それから上記混
合物を72〜96時間ボールミルにかけた。得られたス
ラリを/々−ドアプリケーターによって上記接着剤層上
に湿潤厚[J、5制“エアオーブン内で165℃で6分
間乾燥しだ0それから、バナジルフタロシアニン30容
11′L%含有光導電層を下記のように作成した:2オ
ンスのアンバーボトルに塩化メチレン16m1中のデュ
ポン49,000ポリエステル0,76 、!l/を装
入した。この溶液にバナジルフタロシアニン0.36.
Vと/B  直径ステンレススチールショツ100gを
加えたO上記混合物を24時間ボールミルにかけた。こ
のスラリ5Iに塩化メチレン10m1を添加した0この
スラリをバードアプリケーターによって上記光発生層上
に湿潤厚0.5ミルで塗布した。この層を5分間自然乾
燥しだ0それから、この積層体を強制エアオーブン内で
1ろ5°Cで6分間乾燥した。乾燥厚は0.5.!であ
った。 上記光導電層上に、下記のようにして電荷輸送ノドjを
被覆した: 輸送;
【ν用に分子量約50.[100〜約100,0
00のポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンザ
ブリケン・バイエルA、G、’JJ)50fi量チとN
、N’−ゾフェニルーN、N’−ビス(6−メチルフェ
ニル)−1,1’−ビフェニル−4、4’ −一ジアミ
ン50重i71%を混合した。この溶液は塩化メチレン
15iJi%中で混合したものであシ、それ等成分全部
をアンバーボトルに入7′シて溶解1〜だ。この混合液
をバードアプリケーターによって光導電層の表面上に乾
燥厚25μ層になるように塗布した。この塗布工程中の
湿度は15チ以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
ブン内で165℃で6分間アニールしだ0光導電層の厚
さが1.uμであること以外は上記の方法を繰り返しで
光応答性積層体を製造した。 実施例11 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5重qht %デュポン49,0
00接着剤の層0.5ミル湿潤厚をバードアプリケータ
ーによって塗布した。この層を室温で1分間そして強制
エアオーブン内で100℃で10分間乾燥した。得られ
た層は約0.U 5 pの乾燥厚を有していた。 それから、三方晶系セレン10容量係、N、N′−ジフ
ェニルーN 、 N’−ビス(3−メチルフェニル)−
1,ぜ−ビフェ容量−4,4′−ジアミン25容量チお
よびポリビニルカルバゾール65容jIj %を含有す
る光発生層を下記のように作成した:2オンスのアンバ
ーボトル中にポリビニルカルバゾール(1,8gとテト
ラヒドロンラン/トルエン(1:1容量比)14mlを
加えた。それからこの溶液に三方晶系セレン咀8gと/
8 直径のステンレススチールショット100 g ’
tr: 添/Jll L fc。それから上記混合物を
72〜96時間ボールミルにかけた。次いで、得られた
スラリ5Iを、テトラヒドロフラン/トルエン(1: 
1 容f汁比) 6.6m/中のポリビニルカルバゾー
ル0.119とN、N’−ジフェニル−N 、 N’ 
−ヒス< 3− メチルフェニル) −1、1’−ビフ
ェニル−4,4′−ジアミン0.15gの溶液に添加し
た。それから、このスラリを10分間振盪機にかけた。 得られたスラリをバードアプリケーターによって上肖己
中間層上に湿■厚0.5ミルで塗布した。それからこの
層を強制エアオーブン内で165℃で6分間乾燥したと
ころ乾燥厚2.0μになった。 それから、ヒ10キシスクェアリリウム60容量係含有
光心′11L層を下記のように作成した:2オンスのア
ンバーボトル中にホルムパル12/8.(モンツーント
ケミカル社製) 0.76 gとテトラヒドロフラン1
6m1を装入した。この溶液にヒドロキシスクェアリリ
ウム0,36 、@と1/8′直径ステンレススチール
シヨツ) I D Og全添加した。上記混合物を24
時間ボールミルにかけた。 このスラリ5!1に追加溶剤10m1を添加した○それ
から、このスラリをパートアプリケーターによって上記
光発生層上に湿潤環O05ミルで塗布した。 それから、この 積層体を強制エアオーブン内で1′5
5℃で6分間乾燥しだ0この光導電層の乾燥厚はり、5
μであった。 上記光導電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した; 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂7り。ユン■(ラルペンサゾリケ
ン・バイエルA、G。製)50重員係とN、N’−ジフ
ェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニル)−
1,1’−ビフェニル−4、4’ −ジアミン50重量
係を混合した。この溶液は塩化メチレン15重量%中で
混合したものであシ、それ等成分全部をアンバーボトル
に入れて溶がrした。 この混合液をバードアプリケーターによって光導電層の
表面上に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗
布工程中の湿度は15チ以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分間アニールした。 実施例12 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
」二に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(
4:1容量比)中の0.5爪山;:チデュンl?ン49
,000接着剤の層0.5ミル湿潤jIノをパードアシ
リケータ−によって塗布した。この層を室温で1分間そ
して強制エアオープン内で100℃で10分間乾燥した
。得られた層は約0.05μの乾燥厚を有していた。 三方晶系セレン60容量%、N、”−ジフェニル−N 
、 N’−ビス(6−メチルフェニル)−1,1′−ビ
フェニル−4,47−ジアミン25容量襲およびポリビ
ニルカルバゾール45容量チを含有する光発生層を下記
のように作成した:2オンスのアンバーボトル中にポリ
ビニルカルバソール0.8 !1とテトラ上102ラン
/トルエン(1:1容量比)18meを装入した0それ
からこの溶液に三方晶系セレン2.1gと1/8″直径
ステンレススチ一ルシヨツ1100gを加えだ0それか
ら、上記混合物を72〜96時間ボールミルにカケrc
 o 1オンスのアンバーボトル中にN、lゼーシフェ
ニルーN 、 N’−ビス(6−メチルフェニル)−1
,1−ビフェニル−4,4′−ジアミン0.049とテ
トラヒドロ7ラン/トルエン(1:1容g13f比)6
.4mj!を装入した。この溶液にボールミル処理スラ
U2fiを加えた。それからこのスラリを10分間振盪
機にかけた。得られたスラリをバードアプリケーターに
よって上記49,000接着削層上に湿潤厚0.5ミル
で塗布した。この積層体を1〜5分自然乾燥して光発生
層の乾燥厚をO05μにしだ。得られた積層体をそれか
ら強制エアオーブン内で165℃で6分間乾燥した。 それカラ、ヒドロキシスクェアリリウム60答邦チ含有
光導電層を下記のように作成した=2オンスのアンバー
ボトル中にホルムパル12/8.0.76 gとテトラ
ヒトo7う:y16mlを装入した。この溶液にヒrロ
キシスクエアリリウム1   〃 0.36gと/8 直径ステンレススチールショツ)1
00gを添加した。上記混合物を24時間ボールミルに
かけた。このスラリ5gにテトラヒドロ7ラン1cJm
lを添加した。それから、このスラリをバードアプリケ
ーターによって上記光発生層上に湿潤厚0.5ミルで塗
布した。得られた積層体を強制エアオーブン内で165
℃で6分間乾燥した。この光導電層の乾燥厚は0.5μ
であった。 上記光尋電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンサデリケ
ン・バイエル、A、G、製)50重量係とN 、 N’
−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニ
ル)−1,1’−ビフェニル−4、4’ −シアミン5
0血址%を混合した。この溶液は塩化メチフッ15重量
渠中で混合して得たものであシ、これ等成分全部をアン
バーボトルに入れて溶解した。この混合液をバードアプ
リケーターによってブ(、導電層の表面上に乾燥厚25
μ層になるように塗布した。この塗布工程中の湿度は1
5チ以下であった0 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
ブン内で155℃で6分間アニールした。 実施例16 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の(J、5i量%デュポン49,000
接着剤(E、工、デュポン製ポリエステル)の層咀5ミ
ル湿潤厚をバードアプリケ−クーによって塗布した。こ
の層を室温で1分間そして強制エアオーブン内で100
°Cで10分間乾燥した。得られた層は約0.05μの
乾燥厚を有していた。 三方晶系セレン63容最チ、およびフェノキシ樹脂結合
剤ベークライ) PHKK (ユニオンカーバイド社製
)54容量チ中のN 、 N/−ジフェニル−N、N’
−ビス(6−メチルフェニル) −1、i’−ビフェニ
ル−4,47−ジアミン13容J’i41% 金含有し
ている光発生層を下記のように作成した:4オンスのア
ンバーボトル中に」二七己フェノキシ樹脂1,6.p、
メチルエチルケトン21 ml!およびメトキシエチル
アセテート(セルソルブアセテート)7 mlを装入し
た。この溶液に、三方晶系セレン1   〃 3.29ど/8jY:L径のステンレススチールショッ
ト200gを添加した。それから上記混合物を72〜9
6時間ボールミルにかけた。それからこのスラリをバー
ドアプリケーターによつで−に記デユア1(ン49,0
00接着剤層上に湿潤片0.5 ミルで塗布した。それ
から、この積層体を強制エアオープン内で165℃で6
分間乾燥した0この光発生層の乾燥厚は0.5μでおっ
だ0 それから、ヒドロキシスクェアリリウム60容量チ含有
光導屯層を下記のように作成した=2オンスのアンバー
がトル中にホルムパル12/85(モンサントケミカル
社!i:tlo、76.9とテトラヒドロフラン16m
/を装入した。この溶液にヒドロキシスクェアリリウム
0.36 gと/8 直径ステンレススチールショット
100 g’t 添加した。上記混合物を24時間ボー
ルミルにかけたOこのスラリ5gに追加溶剤10m1を
添加した。それから、このスラリをパート6アプリケー
ターによって上記光発生層上に湿潤片0.5ミルで塗布
した。 得られた積層体を強制エアオープン内で165℃で6分
間乾燥した。この光導電層の乾燥厚は0.5μであった
。 上記光導電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約ion、000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンザブリケ
ン・バイエルA、G、製)50重量%とN 、 N’−
シフーLニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニ
ル) −1、1’−ビフェニル−4、4’ −シアミン
50重量%を混合した。この溶fj、は塩化メチレンt
b M 量%中で混合して得たものであり、それ等成分
全部をアンバーボトルに入れて溶解した。この混合液を
バードアプリケーターによって光導電層の表面上に乾燥
厚25μ層になるように塗布した。この塗布工程中の湿
度は15チ以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で135℃で6分間アニールした〇実施例14 アルミニウム蒸着マイラ支持体3ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−トリクロロエタン(4
:1容量比)中の0.577j 1ii、 %デュポン
49,000接着剤の層0.5ミル湿11X′、l厚を
バードアプリケーターによって塗布した。この層を室温
で1分間そして強制エアオープン内で100℃で10分
間乾燥した。得られた層は約U、05μの乾燥厚を有し
ていた。 それから、上記接着剤層上に0.5μ厚の三セレン化ヒ
素層を公知の真空蒸着方法によって被覆した。 それから、バナジルフタロシアニン6iJ容量%含有光
導11工層を下記のように作成した:2オンスのアンバ
ーボトルに塩化メチレン16m1中のデュボy 49,
000ポリエステル0.76、@を装入した。この溶液
にバナジル7タロシアニン[)、36.9と/B  直
径ステンレススチールショッ)100j7を加えた。上
記混合物を24時間ボールミルにかけた。このス>り5
.!7に塩化メチレン10ゴを添加した。このスラリを
バードアプリケーターによって上記光発生層上に湿潤片
0.5ミルで塗布した。この層を5分間自然乾燥した。 それから、この積層体を強制エアオープン内で1′55
℃で6分間乾燥した。この光導電層の乾燥厚は0.5μ
であった。 上記光導電層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約i o o、o 
o 。 のポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルペンサデリ
ケン・バイエルA、G、製)50重量%とN 、 N’
−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニ
ル) −1、1’−ビフェニル−4、4’ −シアミン
50重量%を混合した。この溶液は塩化メチレン15重
量%中で混合したものであシ、これ等成分全部をアンバ
ーボトルに入れて溶解した0この混合液をバードアプリ
ケーターによって光導電層の表面上に乾燥厚25μ層に
なるように塗布した。この塗布工程中の湿度は15%以
下であった。 こうして得た−に記層全部を有する積層体を強制エアオ
ーブン内で165℃で6分間アニールした。 実施例15 アルミニウムx ’;J’、G着マイラ支持休5ミ支持
を用意し、その」二に塩化メチレン/1,1.2−トリ
クロロエタン(4:1容量比)中の0.5重量%デュポ
ン49,000接着剤(E、工、デュポン製ポリエステ
ル)の層0.5ミル湿潤厚をバード“アプリケーターに
よって塗布した。この層を室温で1分間そして強制エア
オーブン内で100°Cで10分間乾燥した01↓1ら
れた層は約ILD、5μの乾燥厚を有していた。 それから、この接着剤49,000の層−ヒに0.51
1厚の三セレン化ヒ素を公知の真空蒸着法によって被覆
した0 それから、ヒドロキシスクェアリリウム30811i:
 %含有光導電層を下記のように作成した;2オンスの
アンバーボトル中にホルムノ々ル12/850.76g
とテトラヒドロ7ラン16rnl!ヲ装入した。この溶
液にヒドロキシスクェアリリウム100.7を添加した
。上記混合物を24時間ボールミルにかけた。このスラ
IJ 5 gに追加溶剤10m/を添加した。それから
、このスラリをバードアプリケーターによって上記光発
生層上に湿潤厚0.5ミルで塗布した。得られた層を5
分間自然乾燥1だ。それから、この積層体を強制エアオ
ーブン内で165℃で6分間乾燥した。この光>5電層
の乾燥厚は0.5μであった。 上記光21゛ス屯層上に、下記のようにしてtb、荷輸
送層を被包した: 輸送層用に分子量約50,000〜約1 (J [3,
00[1のポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベ
ンーリ°ブリケン・バイエルA、u、製)50重R%と
N 、 N’−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−
メチルフェニル) −1、1’−ビフェニル−4,4’
 −ジアミン50重量%を混合した0この浴液は塩化メ
チレン15重量%中で混合したもので、そhヤト成分全
部奮アンバーボトルに入れて溶解した。この混合液をパ
ードアノリケータ−によって光導’+ii;層の表面上
に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗布工程
中の湿度は15チ以下であつ魁こうして得た上記層全部
を有する積層体を強制エアオーブン内で165℃で6分
間アニールした。 実施例16 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−1リクロロエタン(4
:1容量比)中の〔]、55重量%デュポン49,00
0接着剤の層0.5ミル湿潤厚をパードアシリケータ−
によって塗布した。この層を室温で1分間そして強制エ
アオーブン内で100°Cで10分間乾燥した。得られ
た層は約[,1,05μの乾燥厚を有していた。 それから、バナジルフタロシアニン60容量チ含有光導
電層を下記のように作成した:2オンスのアンバーボト
ルに塩化メチレン16m1!中のデュボy49,000
ポリエステル00.76 、li+を装入した。この溶
液にバナジルフタ1」シアニン0.36.9と/8 i
f径ステンレススチールショツ)100gを加えた0上
記混合物を24時間ボールミルにかけた。このスラリ5
gに塩化メチレン10m/を添加した。このスラリをバ
ードアプリケーターによって上記ポリエステル層上に湿
潤厚0.5ミルで塗布した。この層を5分間自然乾燥し
た。それから、この積層体を強制エアオーブン内で16
5℃で6分間乾燥した0この光導41i層の乾燥厚は0
.5μであった。 それから、三方晶系セレン10容−トt、チ、N、N’
−ゾフェニルーN、N′−ヒス(3−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4,4′−シアミン25容量
チおよびポリビニルカルバゾール55容At %を含有
する光発生層を下記のように作成した=2オンスのアン
バーボトル中にンJ(リビニル力ルバゾール0.8 p
とテトラヒドロフラン/トルエン(1:1容量比)14
m/=i加えた。それからこの溶液に三方晶系セレンu
、a gと/8 直径のステンレススチールショツ) 
100 j! 全添加したoそれから上記混合物を72
〜96時間ボールミルにかけた。次いで、得られたスラ
リ5gを、テトラヒドロ72ン/トルエン6.5 ml
 中のポリビニルカルバゾール0,18.!/とN 、
 N’−ジフェニル−N。 N′−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェ
ニル−4,4′−ジアミン0.15.SFの溶液に添加
した。それから、このスラリを10分間振盪機にかけた
。得られたスラリをパードアシリケータ−によって上記
光導電層上に湿潤厚0.5ミルで塗布した。それからこ
の層を強制エアオープン内で165℃で6分間乾燥した
ところ乾燥厚2.0μになった○ 上記光発生層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100.0 ()
 0のボ′リカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベン
ザブリケン・バイエルA、 G、製)50重−1−に俤
と50重fik %を混合した。この溶液は塩化メチレ
ン15 i J3J:%中で混合したもので、それ等成
分全部をアンバーボトルに入れて溶解した。この混合液
をバードアプリケーターによって光発生層の表面度は1
5チ以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分1141アニールした0実施例
17 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中のo、bM量チデュポン49,000ポ
リ工ステル接着剤の層0.5ミル湿潤Vをバードアプリ
ケーターC(よって塗布しだ0この層を室温で1分間そ
して強制エアオープン内で100゛″Cで10分間乾燥
しだ0得られた層は約0.05μの乾燥厚を有していた
。 それから、バナジルフタロシアニン60容量飴含有光導
電層を下記のように作成した:2オンスのアンバーボト
ルに塩化メチフッ16me中のデュポン49,000,
0,76 jJを装入した。 この溶液にバナジルフタロシアニン0.36+gと1/
8tt直径ステンレススチ一ルシヨツトioogを加え
た。上記混合物を24時間ボールミルにかけた0このス
ラリ5gに塩化メチレン10rnI!を添加した。この
スラリをバードアプリケーターによって上記接着剤中間
ノー上に湿潤厚0.5 ミルで塗布した。この層を5分
間自然乾燥した。それから、この積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分間乾燥した。この光導電層の乾
燥厚は0.5μであ つ ゾこ 。 それから、三方晶系セレン66容量チ、およびフェノキ
シ樹脂結合剤54容量チ中のN 、 N’ −ジフェニ
ル−N 、 N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,
1/−ビフェニル−4,4′−ジアミン16容量チを含
有している光発生層を下記のように作成した: 4オンスのアンバーボトル中に上記ノエノキシ樹脂1.
6g、メチルエチルケトン21 tnlおよびメトキシ
エチルアセテート(セルソルブアセテート〕7 mlを
装入した。この溶液に、三方晶糸セレン3.2 g ト
/8  ’+fNf、のステンレススチールショッ)2
00.S+を添加した。それから上記混合物を72〜9
6時間ボールミルにかけた。それからこのスラリをパー
ドアシリケーターによって上記光導電層上に湿潤厚0.
5ミルで塗布した。得られた積層体を2〜5分間自然乾
燥した。この光発生層の乾燥厚は0.5μであった。そ
れから、この積層体層を強制エアオープン内で165℃
で6分間乾燥した。 上記光発生層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100,000の
ポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンサブリケ
ン・バイエルA、a、f)50重量係とN 、 N’−
ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェニル
)−1,1’−ビフェニル−4、4’ −ジアミン50
重M%を混合した。との浴液は塩化メチレン15M′I
fi:%中で混合したもので、それ等成分全部をアンバ
ーボトルに入れて溶解した。この混合液をパードアシリ
ケータ−によって光発生層の表面上に乾燥厚25μ層に
なるように塗布した。この塗布工程中の湿度は15チ以
下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
ブン内で135℃で6分間アニールした。 実施例18 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1.2−)リクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5jlj量チデユポン49,00
0接着剤(g、■、デュポン製ポリエステル)の層0.
5ミル湿か1」厚をバードアプリケーターによって塗布
した。この層を室温で1分間そして強制エアオープン内
で100’Cで10分間乾燥した。得られた層Qよ約0
.05μの乾燥厚を有していた。 それから、ヒドロキシスクェアリリウム30容量多含有
光導f(f、層を下記のように作成した:2オンスのア
ンバーボトル中にホルムパル12/8.(センサントケ
ミカル社製)0.76gとテトラヒドロフラン16m/
を装入した。この溶液にヒドロキシスクェアリリウム0
.36 gと/8 直径ステンレススチールショット1
 [10g全添加した。上記混合物を24時間ボールミ
ルにかけた。 このスラリ5gに追加溶剤10m1を添加した0それか
ら、このスラリをバードアプリケーターによって上記接
着剤中間層上に湿潤片0.5ミルで塗布した。得られた
積層体を強制エアオーブン内で165℃で6分間乾燥し
た。この光導電層の乾燥厚は0.5μであった。 それから、三方晶系セレン10容景% 、N 、 N′
−ジフェニル−N、N’−ヒス(6−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4,4′−シアミン25容−
i′it%およびボ゛リビニル力ルバゾール65容量チ
を含有する光発生層を下記のように作成した二2オンス
のアンバーボトル中にポリビニルカルバソール0.8 
gトチトラヒドロフラン/トルエン(1:1答ト1i:
比)14mlを加えた。それからこの溶液に三方晶系セ
レン0.8Iと1/8′直径のステンレススチールショ
ット1 (J Oji f: 添加L 7’r−8それ
から上記混合物を72〜96時間ボールミルにかけた0
1オンスのアンバーボトル中にN、N’−ジノエニルー
N、N’−ヒス(6−メチルフェニル)−1,1−ビフ
ェニル−4,4′−ジアミン0.159 X;1′:リ
ビニルカルパゾールo、isgお上びテトラヒドロンラ
ン/トルエン(1:1容量比)6.6mlを装入した。 この溶液にボールミル処理スラリ2.!7を加えた。そ
れから、このスラリを1゜分間振く11機にかけた。イ
(すられたスラリをバー−アプリケーターによって上記
光導電J◎上に湿潤片0.5ミルで塗布した。それから
、この層を強制エアオープン内で165℃で6分間乾燥
し、発生層の乾燥厚2.0μを得た。 上記光発生層」二に、下記のように′−荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50.tJ00〜約ioo、oo。 のポリカーボネート樹脂マクロロン■(ラルベンザブリ
ケン・バイエルA、G、製)50重iib二%とN 、
 N’−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メチル
フェニル) −i 、 i’−ビフェニル−4、4’ 
−シフ6フ50重量係を混合した。この溶液は塩化メチ
レン157ij量チ中にで混合したもので、それ等成分
全部をアンバーボトルに入れて7c・i MLだ。 この混合液をバードアプリケーターによって光発生層の
表面」二に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この
塗布工程中の湿度は15%以下であった。 こうして得だ上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分間アニールした。 実施例19 アルミニウム蒸着マイラ支持体6ミル厚を用意し、その
上に塩化メチレン/1,1゜2−トリクロロエタン(4
:1容量比)中の0.5重量多デュ)】セン49,00
0接着剤(魁工、デュポン製71’−: l)エステル
)の層0.5ミル湿憫厚をバードアプリケーターによっ
て塗布した。この層を室温で1分間そして強制エアオー
プン内で100℃で10分間乾燥した。得られた層は約
0.05/lの乾燥j9を有していた。 それから、ヒISロキシスクエアリリウム60各量チ含
有光導電層を下記のように作成した二2オンスのアンバ
ーボトル中にホルムパル12/8.(センサンドケミカ
ル社製)0.767とテトラヒドロ7ラン16m1を装
入した。この溶液にヒドロキシスクェアリリウム[,1
,36jJと/8 直仔ステンレススチールショッ) 
1009を添加した。−ヒH己混合物を24時間ボール
ミルにかけた。 このスラリ5,9に追加溶剤10mffを添加した。そ
れから、このスラリをバードアプリケ・−ターによって
上記接着剤11′E上に湿潤厚0.5 ミルで塗布した
。 イ(Iられた積J四体を強制エアオープン内で165℃
で6分間乾燥した。この光導電層の乾燥厚は0.5μで
あった。 三方晶系セレン36容吊、係、およびベークライトフェ
ノキシ結合剤中のN 、 N’−ジフェニル−N、N’
−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル
−4,47−ジアミン13容Jtt%を含有している光
発生層を下記のように作成した:4オンスのアンバーボ
トル中に上記フェノキシ樹脂1.6g、メチルエチルケ
トン21m/およびメトキシエチルアセテート7mlを
装入した。この溶液1c 、三方晶系セレン6.2Iと
1/8′直径のステンレススチールショソ)200.!
vを添加した。それから上記混合物を72〜96時間ボ
ールミルにかけた。それからこのスラリをバードアプリ
ケーターによって上記光導電層上に湿間tri、 []
、5 ミルで塗布し/こ。それから、この積層体を2〜
5分間自然乾燥し、次いで強制エアオープン内で165
℃で6分間乾燥した。この光発生層の乾燥厚は0.5μ
であった。 上記光発生層上に、下記のようにして電荷輸送層を被覆
した: 輸送層用に分子量約50,000〜約100.000の
ポリカーボネート樹脂マクロ日ン■(ラルベンサプリケ
ン・バイエルA、 Cj製)50重fr’s、 %とN
 、 N’−ジフェニル−N 、 N’−ビス(6−メ
チルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4、4’ −
ジアミン50.fiiit%を混合した。この溶液は塩
化メチレン15重jrk %中で混入したもので、これ
等成分全部をアンバーボトルに入れて溶解した。この混
合液をバードアプリケーターによって光発生層の表面上
に乾燥厚25μ層になるように塗布した。この塗布工程
中の湿度は15%以下であった。 こうして得た上記層全部を有する積層体を強制エアオー
プン内で165℃で6分冊アニールした〇光発生層とし
て、8075重量%と1025重量%を含有するセレン
デルル合金、またはse 99.99゜M JA %と
A日0.1M量チを含有するセレンヒ素合金を選んだ以
外は上記実施例の手法を繰9返して多数のその他の光応
答性積層体を製造した。   。 それから、上記fi’、I’を周体の各々についCスペ
クトルの可視および赤外域での感光性をテストした:ま
ず、コロナによって積層体を−aoovに負帯電し、次
いで各積層体を約400〜約1000 nmの波長域の
単色光に同時に露出した。所定波長に露出後、電気プロ
ーブによって各積Jfj体の表面電位を測定した。それ
から、先に記載したように、各積層体の放電襲を算出し
た。放電チは光応答性の指標となる。 実施例6.4および5の光応答性積層体は約400〜6
75 nmの波長にのみ応答した(可視光感光性である
)。実施例6および7は約580〜950 nmの波長
に応答したがスペクトルの青色および緑色波長域での応
答が悪かった。 実施例8〜19で製造された積層体は約400〜約95
0 nmの波長域で優れた応答性を有した(これ等rR
M体は可視光および赤外光の両方に感光性である)。 以上、本発明1d:特定の好ましいp(1様を参考に説
明してきだが、本発明はそれ等に限定されるものでしL
なく、当業者であれば本発明の範囲内でいろいろ変19
L1できると云うことを認%H’X’、できる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第61i21 t−J、本発明の光応答性に’
lt層体の部分的概略断面図である。 第1図〜第6図は各種光応答tL積層体の光感度を波長
の函数としてプロットしたスペクトルレスポンス曲線で
あZン。 代理人 浅  村   皓

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)支持体、正孔ブロッキング層、任意の接着剤層、
    無機光発生層、赤外感光性有機光導電層、および最上面
    の正孔輸送層からなる改善された光応答性積層体。 (2)  (a)支持体、(b)金属酸化物の正孔ブロ
    ッキング層、(C)接着剤層、(d)無機光発生層、(
    θ)スペクトルの赤外および/または可視領域におい゛
    C光発生層の固有特性を向上または低下せしめることが
    できる光導電性組成物、該組成物は有機光導電性組成物
    、電荷移動錯体組成物、増感剤、またはそれ等混合物か
    らなる群から選らばれる、および(f)正孔輸送層の順
    にA’t’j成された特許Nf’J求の範囲第1項の改
    善された光応答性積層体。 C:3)  (a)支持体、(b)金JIf4CI化物
    の正孔ブロッキング層、(C)接着剤層、(d)スペク
    トルの赤外および/または可視領域において光発生層の
    固有特性を向上または低下せしめることができる9し導
    電性糸吐成1勿、該組成物は有機光導電性組成1勿、電
    荷移重す錯体系性成物、増感剤、およびそれ等?昆冶−
    !1勿t1らなる!圧力\ら選らばれる、(e)無機光
    発生層、および(f)止子L ’I’m送層の順に構成
    された特許請求の範囲第1項の改善された光応答性積層
    体0 (4)支持体が導電性であシ、金属酸イヒ’1IIIJ
    lr:酸イヒアルミニウムであシ、そして接着斉II 
    屋i力玉、1e ’Jエステル樹脂からなる、特許請求
    の11ri囲@2項または第6項の改善された光応答性
    積層体。 (5)光導電層が赤外光導電性羽°許F力1らなる、(
    f9許Hj″j求の範囲第2項または第6項の改善さi
    tだう“CJU答性積層体0 (6) 光導電性材料がフタロシアニン角1半’)であ
    る、11♀許請求の範囲第2項まだは第6項の改善され
    た光応答性積層体0 (7)光導電性材料が7々ナジルフタロシアニンである
    、特許請求の範囲第6項の改善さt′t、た−)’t、
     L5答杓ミ積層体0 (8)光導電性材#lが無金属フタロシアニンである、
    特許請求の範囲第6項の改善された光応答性積層体。 (9)光導電性材料がり目ロアルミニウム7タロシアニ
    ンクロリFである、特許請求の範囲第6項の改善された
    光応答性積層体。 00)光導電性材料がクロロガリウムフタロシアニンク
    ロリドである、特許請求の範囲第6項の改善された光応
    答性積層体。 0])光dfi電性電性餌料 〔式中、Rは水素、アルキル基、またはヒドロキシ(O
    H)基である〕 のスクェアリリウム組成物である、特許請求の範囲第2
    項まだは第6項の改善された光応答性積層体0 す4 スクェアリリウム組成物がヒドロキシスクェアリ
    リウムまたはメチルスクェアリリウムである、特許請求
    の範囲第11項の改善された光応答性積層体。 α1 増感剤が赤外領域で増感を起すシアニン染料増感
    剤の種類から誘導される、特許請求の範[jl’l第2
    項または第6項の改善された光応答性積層体。 θ→ 光B 生IN カセレン、・・ロダンドープセレ
    ン物質、セレン合金、またはハロrンドープセレン合金
    からなる、特許請求の範囲第2項または第6項の改善さ
    れた光応答性積層体0 09  セレン合金がセレンヒ素、およびセレンテルル
    からなる、特許請求の範囲第14項の改善された光応答
    性積層体O QQ  セレン合金が塩素を約50ppm〜約2[JO
    p+罰の量でドープされている、特許請求の範囲第15
    項の改善された光応答性積層体0 07)  光発生層が三方晶系セレンである、特許請求
    の範囲の第2項または第6項の光応答性積層体0015
      光発生層が炭酸ナトリウム、および亜セレン酸ナト
    リウムをドー70された三方晶系セレンである、特許請
    求の範囲第2項または第6項の改善された光応答性積層
    体。 θつ 接着剤層の厚さは約0.01〜約0.6ミクロン
    であシ、光発生層の厚さは約0.1〜約10ミクロンで
    あシ、その時の光発生層は光発生顔料約5〜約100容
    量チを含有しておυ、そして光導電層の厚さは約0.1
    〜約10ミクロンであり、その時の光導電性組成物は光
    導電性顔料約5〜約100容、ttt q6を含有して
    いる、特許請求の範囲第2項または第6項の改善された
    光応答性積層体。 い烏 光発生層が樹脂結合剤中に分散された無機光導電
    性組成物からな9、そして光導電層が樹脂結合剤中に分
    散された有機光導電性組成物からなる、特許請求の範囲
    第2項または第6項の改善された光応答性積層体。 Qυ 光発生層剤樹脂結合剤がポリ(ヒドロキシエーテ
    ル)である、特許請求の範囲第20項の改善された光応
    答性積層体O Q′4  光発生層剤樹脂結合剤がポリビニルカルバゾ
    ールである、特許請求の範囲第20項の改善された光応
    答性積層体0 に)光導電層用結合剤がポリカーボネートである、特許
    請求の範囲第20項の改善された光重ち容性積層体。 (ハ)光導電層用結合剤がポリエステルである、特許請
    求の範囲第19項の改善された光応答性積層体0 (ハ) 光導電層用結合剤がポリビニルカルノ々ソゝ−
    ルである、特許請求の範囲第19項の改善された光応答
    性積層体。 ψ9 電荷輸送層が高絶縁性透明有機樹脂材料中に分散
    された式 (式中、Xはo−0H3、m−0H3、p−0H3、o
    −CJ。 m−Cハ p−czからなる群から選択される)の分子
    からなる、特許請求の範囲第2項または第6項の改善さ
    れた光応答性積層体。 (財)輸送層がN 、 N’−ジフェニル−N 、 N
    ’−ビス(3−jfルフェニル)−[1,1−ビフェニ
    ル] −4、4’−ジアミンからなる、特許請求の範囲
    第26項の改善された光応答性積層体。 (ハ)樹脂結合剤が約20,000〜約100,000
    の分子量を有するポリカーボネートである、特許請求の
    範囲第19項の改善された光応答性積層体。 (ハ)樹脂結合剤がジアミン化合物約10〜約75重量
    係を含有し、そして電荷輸送層の厚さが約5〜約50ミ
    クロンである、特許請求の範囲第26項の改善された光
    応答性積層体。 (イ)支持体がインジウム錫酸化物からなる、特許請求
    の範1t11第2項または第6項の改善された光応答性
    積層体。
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