JPH055349B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は一般に新規なスクアライン
(squaraine)化合物、および該化合物を利用する
積層式感光装置に関する。一つの実施態様におい
て、本発明は積層式感光装置、特にホール(正
孔)移送層(移動層)を含む積層式感光装置中の
有機光導電性材料として新規なスクアライン化合
物の使用を包含する。さらに詳しくは、、本発明
によれば、光導電性層として新規なフツ素化スク
アラインを含む感光装置が提供される。このよう
な積層式感光装置は感光性を変化または高揚させ
て、これら装置をしてレーザー印刷に必要な可視
光線および赤外線照射に対して応答可能にする。
従つて、本発明の新規なフツ素化スクアライン化
合物を含む感光装置はその中に含まれる電荷キヤ
リヤー光発生材料の特性の赤外および/または可
視スペクトル領域内で高めまたは減じるように機
能し、それによつてこれらの装置を可視光線およ
び/または赤外線波長に感応性にする。
(squaraine)化合物、および該化合物を利用する
積層式感光装置に関する。一つの実施態様におい
て、本発明は積層式感光装置、特にホール(正
孔)移送層(移動層)を含む積層式感光装置中の
有機光導電性材料として新規なスクアライン化合
物の使用を包含する。さらに詳しくは、、本発明
によれば、光導電性層として新規なフツ素化スク
アラインを含む感光装置が提供される。このよう
な積層式感光装置は感光性を変化または高揚させ
て、これら装置をしてレーザー印刷に必要な可視
光線および赤外線照射に対して応答可能にする。
従つて、本発明の新規なフツ素化スクアライン化
合物を含む感光装置はその中に含まれる電荷キヤ
リヤー光発生材料の特性の赤外および/または可
視スペクトル領域内で高めまたは減じるように機
能し、それによつてこれらの装置を可視光線およ
び/または赤外線波長に感応性にする。
数多くの種々の静電複写光導電性部材は公知で
あり、例えば、ガラス質セレンのような単一材料
の均質層または光導電性組成物の分散体を含む複
合積層装置がある。ある種の複合静電複写光導電
性部材の例は、例えば、米国特許第3121006号に
記載されており、該特許には電気的に絶縁性の有
機樹脂バインダー中に分散させた光導電性無機化
合物の微細分割粒子が開示されている。これらの
部材は、例えば、紙支持体上にコーテイングされ
た、均一に分散した酸化亜鉛から成るバインダー
層を含む。この特許に示されているバインダー材
料は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹
脂、、ポリアミド樹脂あるいはその他のような材
料からなり、光導電性粒子により発生した注入電
荷キヤリヤーを任意の有意の距離で移送できない
材料である。従つて、光導電性粒子は、静電写真
装置を繰り返して操作するのに必要な電荷の消散
を可能にする目的では、粒子全体を通じて実質的
に隣接した粒子−粒子が接触した状態でなければ
ならない。即ち、上記の光導電性粒子の均一分散
体にあつては、比較的高濃濃度(おゝよそ50容量
%)の光導電性材料が急速放電のための十分な光
導電体粒子−粒子接触を得るのに通常必要であ
る。このように光導電体添加量が高いと、樹脂バ
インダーの物理的接続性を破壊する結果となり、
その機械的性質を著しく減少させることになる。
あり、例えば、ガラス質セレンのような単一材料
の均質層または光導電性組成物の分散体を含む複
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性部材の例は、例えば、米国特許第3121006号に
記載されており、該特許には電気的に絶縁性の有
機樹脂バインダー中に分散させた光導電性無機化
合物の微細分割粒子が開示されている。これらの
部材は、例えば、紙支持体上にコーテイングされ
た、均一に分散した酸化亜鉛から成るバインダー
層を含む。この特許に示されているバインダー材
料は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹
脂、、ポリアミド樹脂あるいはその他のような材
料からなり、光導電性粒子により発生した注入電
荷キヤリヤーを任意の有意の距離で移送できない
材料である。従つて、光導電性粒子は、静電写真
装置を繰り返して操作するのに必要な電荷の消散
を可能にする目的では、粒子全体を通じて実質的
に隣接した粒子−粒子が接触した状態でなければ
ならない。即ち、上記の光導電性粒子の均一分散
体にあつては、比較的高濃濃度(おゝよそ50容量
%)の光導電性材料が急速放電のための十分な光
導電体粒子−粒子接触を得るのに通常必要であ
る。このように光導電体添加量が高いと、樹脂バ
インダーの物理的接続性を破壊する結果となり、
その機械的性質を著しく減少させることになる。
また、電荷キヤリヤー発生機能および電荷キヤ
リヤー移動機能が独立の隣接した各層により達成
される無機または有機材料からなる感光体も公知
である。さらに電気絶縁性の重合体のオーバコー
テイング層を含む積層式感光材料も従来技術によ
り開示されている。しかしながら、静電複写技術
は進歩し続けておりより厳格な要求が、性能基準
を増大しかつより高品質の像を得るために複写装
置になされている。また、レーザー印刷に必要な
可視光線および/または赤外線照射に応答するよ
うな積層式感光装置が所望されている。
リヤー移動機能が独立の隣接した各層により達成
される無機または有機材料からなる感光体も公知
である。さらに電気絶縁性の重合体のオーバコー
テイング層を含む積層式感光材料も従来技術によ
り開示されている。しかしながら、静電複写技術
は進歩し続けておりより厳格な要求が、性能基準
を増大しかつより高品質の像を得るために複写装
置になされている。また、レーザー印刷に必要な
可視光線および/または赤外線照射に応答するよ
うな積層式感光装置が所望されている。
最近、他の積層式感光装置、すなわち、発生
層、移動層(例えば、米国特許第4265990号に記
載されたような層)、および、ホール注入層
(hole injecting layer)を含む被覆感光性材料か
ら成る感光装置が開示されている。ここで、ホー
ル注入層を含む感光性材料は、ホール移動層でコ
ーテイングされ、次いで光発生層でコーテイング
され、更に、絶縁性有機樹脂で最上層がコーテイ
ングされている。(米国特許第4251612号)。これ
らの特許に開示されている光発生層の例は、三方
晶セレンおよびフタロシアニン類を包含し、移動
層の例は本明細書で述べるある種のアミン類を包
含する。これらの特許、即ち、米国特許第
4265990号および第4251612号のそれぞれの記載は
参考として本明細書において引用する。
層、移動層(例えば、米国特許第4265990号に記
載されたような層)、および、ホール注入層
(hole injecting layer)を含む被覆感光性材料か
ら成る感光装置が開示されている。ここで、ホー
ル注入層を含む感光性材料は、ホール移動層でコ
ーテイングされ、次いで光発生層でコーテイング
され、更に、絶縁性有機樹脂で最上層がコーテイ
ングされている。(米国特許第4251612号)。これ
らの特許に開示されている光発生層の例は、三方
晶セレンおよびフタロシアニン類を包含し、移動
層の例は本明細書で述べるある種のアミン類を包
含する。これらの特許、即ち、米国特許第
4265990号および第4251612号のそれぞれの記載は
参考として本明細書において引用する。
光発生性物質を含む積層装置から成る感光装置
を記載している多くの他の特許が存在し、例え
ば、米国特許第3041167号は導電性基質、光導電
性層、および電気的に絶縁性の重合体材料のオー
バーコーテイング層を含むオーバーコート型像形
成部材を開示する。この部材は、例えば、最初、
この材料を第一の極性の静電荷で帯電させ、像形
状に対応して露出して静電潜像を形成する(その
後、現像して可視像を形成できる)ことにより電
子写真複写方法に用いる。各引続く像形成サイク
ルの前に、上記像形成部材は上記第一の極性とは
極性的に反対の第二の極性の静電荷で荷電するこ
とができる。この第二極性の十分な追加の荷電を
像形成部材を横切つて第二極性の網状電場を生ず
るように施す。同時に、上記第一極性のモービル
電荷を、上記導電性物質に電位を施すことにより
上記光導電性層に生ぜしめる。発生して可視像を
形成するこの像形成電位は上記光導電性層とオー
バーコーテイング層を横切つて存在する。
を記載している多くの他の特許が存在し、例え
ば、米国特許第3041167号は導電性基質、光導電
性層、および電気的に絶縁性の重合体材料のオー
バーコーテイング層を含むオーバーコート型像形
成部材を開示する。この部材は、例えば、最初、
この材料を第一の極性の静電荷で帯電させ、像形
状に対応して露出して静電潜像を形成する(その
後、現像して可視像を形成できる)ことにより電
子写真複写方法に用いる。各引続く像形成サイク
ルの前に、上記像形成部材は上記第一の極性とは
極性的に反対の第二の極性の静電荷で荷電するこ
とができる。この第二極性の十分な追加の荷電を
像形成部材を横切つて第二極性の網状電場を生ず
るように施す。同時に、上記第一極性のモービル
電荷を、上記導電性物質に電位を施すことにより
上記光導電性層に生ぜしめる。発生して可視像を
形成するこの像形成電位は上記光導電性層とオー
バーコーテイング層を横切つて存在する。
また、ベルギー特許第763540号には、少なくと
も2つの電気的に作動する層を有する電子写真部
材も開示されており、その第一の層は電荷キヤリ
ヤーを光発生させ、該キヤリヤーを有機移動材料
を含む連続活性層に注入することのできる光導電
性層からなり、上記有機移動性材料は意図する用
途のスペクトル領域で実質的に非吸収性である
が、光導電性層からの光発生したホールの注入を
可能にしかつこれらのホールを上記活性層を通し
て移動せしめる点で活性である。さらに、米国特
許第3041116号には、基質上に含まれるガラス質
セレン層上にオーバーコートした透明プラスチツ
ク材料を含む光導電性材料を開示している。
も2つの電気的に作動する層を有する電子写真部
材も開示されており、その第一の層は電荷キヤリ
ヤーを光発生させ、該キヤリヤーを有機移動材料
を含む連続活性層に注入することのできる光導電
性層からなり、上記有機移動性材料は意図する用
途のスペクトル領域で実質的に非吸収性である
が、光導電性層からの光発生したホールの注入を
可能にしかつこれらのホールを上記活性層を通し
て移動せしめる点で活性である。さらに、米国特
許第3041116号には、基質上に含まれるガラス質
セレン層上にオーバーコートした透明プラスチツ
ク材料を含む光導電性材料を開示している。
さらにまた、米国第4232102号および第4233383
号には、炭酸ナトリウム、セレン酸ナトリウムで
ドーピングした三方晶セレンおよび炭酸バリウ
ム、セレン酸バリウムまたはその混合物でドーピ
ングした三方晶セレンから成る感光性像形成性部
材が開示されている。さらに、米国特許第
3824099号には、ある種の光感応性ヒドロキシス
クライン化合物が開示されている。この特許の記
載によれば、そのスクアライン化合物は通常の静
電写真像形成系においても光感応性である。
号には、炭酸ナトリウム、セレン酸ナトリウムで
ドーピングした三方晶セレンおよび炭酸バリウ
ム、セレン酸バリウムまたはその混合物でドーピ
ングした三方晶セレンから成る感光性像形成性部
材が開示されている。さらに、米国特許第
3824099号には、ある種の光感応性ヒドロキシス
クライン化合物が開示されている。この特許の記
載によれば、そのスクアライン化合物は通常の静
電写真像形成系においても光感応性である。
また、赤外線感応性応答性装置中の光導電性層
として、ヒドロキシスクアラインのような公知の
スクアラインの使用は同時係属の出願中に開示さ
れている。さらに詳しくは、この出願には、基
質、ホールブロツキング層、接着界面層(任意構
成分)、無機光発生層、該光発生層の本質的な性
質を高揚するかあるいは減少させることのでき、
光導電性組成物(該組成物はヒドロキシスクアラ
インを含む各種のスクアラインから選ばれる)、
およびホール移動層とを含む改良された感光性装
置が開示されている。
として、ヒドロキシスクアラインのような公知の
スクアラインの使用は同時係属の出願中に開示さ
れている。さらに詳しくは、この出願には、基
質、ホールブロツキング層、接着界面層(任意構
成分)、無機光発生層、該光発生層の本質的な性
質を高揚するかあるいは減少させることのでき、
光導電性組成物(該組成物はヒドロキシスクアラ
インを含む各種のスクアラインから選ばれる)、
およびホール移動層とを含む改良された感光性装
置が開示されている。
さらに、同時係属中の別出願には、ビス−9−
(8−ヒドロキシジユロリジニル)スクアライン
のような新規ジユロリジニルスクアライン化合物
を、赤外線および/または可視光線照射に感光性
である光応答性装置中の光導電性物質として使用
することが開示されている。この同時係属中の出
願に記載されている感光装置は、支持基質、ホー
ルブロツキング層、任意構成成分の接着界面層、
無機光発生層、該光発生層の本質的性質を高揚あ
るいは減少させることができこの米国出願に記載
された新規ジユロリジニルスクアライン物質から
ななる光導電性組成物層、およびホール移動層と
からなる。
(8−ヒドロキシジユロリジニル)スクアライン
のような新規ジユロリジニルスクアライン化合物
を、赤外線および/または可視光線照射に感光性
である光応答性装置中の光導電性物質として使用
することが開示されている。この同時係属中の出
願に記載されている感光装置は、支持基質、ホー
ルブロツキング層、任意構成成分の接着界面層、
無機光発生層、該光発生層の本質的性質を高揚あ
るいは減少させることができこの米国出願に記載
された新規ジユロリジニルスクアライン物質から
ななる光導電性組成物層、およびホール移動層と
からなる。
スクアラインは公知であるけれども、新規のス
クアライン化合物特にすぐれた光感光性を有する
スクアライン化合物を含む積層装置の開発が要求
され続けている。さらに、所望の感応性、低暗減
衰、高電荷受容値を有する新規なスクアライン光
発生性材料であつて、そのようなスクアラインを
含む装置が静電複写像形成装置での多数回の像形
成サイクルに使用できる材料の開発が要求され続
けている。さらにまた、積層感光像形成装置に用
いたとき、許容できる像の発生を可能にし、かつ
かかる装置を機械環境または周囲条件からの劣下
なしに多数回の像形成サイクルで繰返し使用でき
る新規なスクアライン化合物が要求されている。
さらに、各層に用いた材料がそのような装置の使
用者に実質的に影響を与えないうな積層像形成性
部材が要求されている。さらにまた、広範囲の波
長に対して感応性を有し、特に、赤外線および可
視線に感応性であり、それによりそのような装置
を像形成および印刷系での使用を可能にするオー
バーコート式感光装置が要求されている。
クアライン化合物特にすぐれた光感光性を有する
スクアライン化合物を含む積層装置の開発が要求
され続けている。さらに、所望の感応性、低暗減
衰、高電荷受容値を有する新規なスクアライン光
発生性材料であつて、そのようなスクアラインを
含む装置が静電複写像形成装置での多数回の像形
成サイクルに使用できる材料の開発が要求され続
けている。さらにまた、積層感光像形成装置に用
いたとき、許容できる像の発生を可能にし、かつ
かかる装置を機械環境または周囲条件からの劣下
なしに多数回の像形成サイクルで繰返し使用でき
る新規なスクアライン化合物が要求されている。
さらに、各層に用いた材料がそのような装置の使
用者に実質的に影響を与えないうな積層像形成性
部材が要求されている。さらにまた、広範囲の波
長に対して感応性を有し、特に、赤外線および可
視線に感応性であり、それによりそのような装置
を像形成および印刷系での使用を可能にするオー
バーコート式感光装置が要求されている。
発明の要約
本発明の目的は、新規なフツ素化スクアライン
化合物およびそのような化合物の製造方法を提供
することである。
化合物およびそのような化合物の製造方法を提供
することである。
本発明の他の目的は新規なフツ素化スクアライ
ン化合物を含有する改良された感光性像形成部材
を提供することである。
ン化合物を含有する改良された感光性像形成部材
を提供することである。
本発明のさらに別の目的は可視光線および赤外
線に対して感応性有するパンクロマテイクな感光
装置を提供することである。
線に対して感応性有するパンクロマテイクな感光
装置を提供することである。
本発明のさらに特別な目的は、新規なスクアラ
イン感光性顔料とホール移動層とからなる光導電
性層を含む改良されたオーバーコート式感光装置
を提供することである。
イン感光性顔料とホール移動層とからなる光導電
性層を含む改良されたオーバーコート式感光装置
を提供することである。
本発明のさらに別の目的はホール移動層とその
上にコーテイングした新規なフツ素化スクアライ
ン組成物を含む光導電性層とから成るオーバーコ
ート式感光装置を提供することである。
上にコーテイングした新規なフツ素化スクアライ
ン組成物を含む光導電性層とから成るオーバーコ
ート式感光装置を提供することである。
本発明の他の目的においては、ホール移動層と
光発生性層との間の新規なフツ素化スクアライン
化合物からなる光導電性組成物が存在する感光装
置を提供する。
光発生性層との間の新規なフツ素化スクアライン
化合物からなる光導電性組成物が存在する感光装
置を提供する。
本発明の他の目的は光発生性層と支持基質との
間に新規なスクアライン光導電性化合物を含む改
良された積層オーバーコート感光装置を提供する
ことである。
間に新規なスクアライン光導電性化合物を含む改
良された積層オーバーコート感光装置を提供する
ことである。
本発明の他の目的はホール移動層と新規なスク
アライン化合物からなる光導電性層との間に置か
れた光発生性組成物を含む改良されたオーバーコ
ート感光装置であつて赤外線および可視光線に同
時に応答する装置を提供することにある。
アライン化合物からなる光導電性層との間に置か
れた光発生性組成物を含む改良されたオーバーコ
ート感光装置であつて赤外線および可視光線に同
時に応答する装置を提供することにある。
本発明のさらに別の目的はホール移動層と光発
生体の層との間に置かれた上述の新規スクアライ
ン化合物からなる光導電性層を含む改良されたオ
ーバーコート感光装置であつて赤外線および可視
光線に対して同時に応答する装置を提供すること
にある。
生体の層との間に置かれた上述の新規スクアライ
ン化合物からなる光導電性層を含む改良されたオ
ーバーコート感光装置であつて赤外線および可視
光線に対して同時に応答する装置を提供すること
にある。
本発明のさらに別の実施態様においては、本明
細書で述べる改良されたオーバーコート感光装置
を用いた像形成方法および印刷方法が提供され
る。
細書で述べる改良されたオーバーコート感光装置
を用いた像形成方法および印刷方法が提供され
る。
本発明の別の目的は、上記のような新規なフツ
素化スクアライン化合物を高収率で製造する方法
を提供することにある。
素化スクアライン化合物を高収率で製造する方法
を提供することにある。
本発明のこれらの目的および他の目的は、次の
一般式を有する新規なフツ素化スクアライン化合
物を提供することによつて達成される。
一般式を有する新規なフツ素化スクアライン化合
物を提供することによつて達成される。
ここで、R1、R2、R3およびR4は、1〜20の炭
素原子有するアルキル基から互いに独立して選ば
れるものである。アルキル基の例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、デシル、ペンタデシル
等が挙げられ、メチル、エチル、プロピルおよび
ブチルが好ましい。本発明の特に好ましい実施態
様においては、アルキル基はメチルである。
素原子有するアルキル基から互いに独立して選ば
れるものである。アルキル基の例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、デシル、ペンタデシル
等が挙げられ、メチル、エチル、プロピルおよび
ブチルが好ましい。本発明の特に好ましい実施態
様においては、アルキル基はメチルである。
本発明に属する新規なフツ素化スクアラインの
好ましい例としては、ビス(4−ジメチルアミノ
−2−フルオロフエニル)スクアライン、ビス
(4−〔N,N−ジエチルアミノ−2−フルオロフ
エニル〕)スクアライン、ビス(4−〔N−メチル
−N−エチル−2−フルオロアニリン〕)スクア
ライン、ビス(4−〔N,N−ジベンジル−2−
フルオロアニリン)〕スクアライン、ビス(4−
〔N−メチル−N−ベンジル−2−フルオロアニ
リン〕)スクアライン、ビス(4−〔N−エチル−
N−ベンジル−2−フルオロアニリン〕)スクア
ライン等が挙げられる。他の有用なフツ素化スク
アライン化合物としては、ビス(4−〔N,N−
ジ(4−クロロフエニルメチル)2−フルオロフ
エニル〕)スクアライン、ビス(4−〔N−メチル
−N−(4−クロロフエニルメチル)−2−フルオ
ロフエニル〕スクアライン、ビス(4−〔N−エ
チル−N−(4−クロロフエニルメチル)−2−フ
ルオロフエニル〕)スクアラインおよびビス(4
−〔N−ベンジル−N−(4−クロロフエニルメチ
ル)−2−フルオロフエニル〕)スクアラインがあ
る。
好ましい例としては、ビス(4−ジメチルアミノ
−2−フルオロフエニル)スクアライン、ビス
(4−〔N,N−ジエチルアミノ−2−フルオロフ
エニル〕)スクアライン、ビス(4−〔N−メチル
−N−エチル−2−フルオロアニリン〕)スクア
ライン、ビス(4−〔N,N−ジベンジル−2−
フルオロアニリン)〕スクアライン、ビス(4−
〔N−メチル−N−ベンジル−2−フルオロアニ
リン〕)スクアライン、ビス(4−〔N−エチル−
N−ベンジル−2−フルオロアニリン〕)スクア
ライン等が挙げられる。他の有用なフツ素化スク
アライン化合物としては、ビス(4−〔N,N−
ジ(4−クロロフエニルメチル)2−フルオロフ
エニル〕)スクアライン、ビス(4−〔N−メチル
−N−(4−クロロフエニルメチル)−2−フルオ
ロフエニル〕スクアライン、ビス(4−〔N−エ
チル−N−(4−クロロフエニルメチル)−2−フ
ルオロフエニル〕)スクアラインおよびビス(4
−〔N−ベンジル−N−(4−クロロフエニルメチ
ル)−2−フルオロフエニル〕)スクアラインがあ
る。
本発明に従い上述の式に含まれる好ましいスク
アライン化合物は、ビス(4−〔ジメチルアミノ
−2−フルオロフエニル〕)スクアラインである。
アライン化合物は、ビス(4−〔ジメチルアミノ
−2−フルオロフエニル〕)スクアラインである。
本明細書によつて開示される新規なスクアライ
ン化合物は、一般に、脂肪族アルコールの存在下
に(共沸溶媒を含むこともある)、芳香族アミン
とスクアリン酸(squaric acid)とを約3:1か
ら約2:1、好ましくは約2:1のモル比で反応
させることによつて調製される。0.1モルのスク
アリン酸に対して約400mlのアルコールが用いら
れるが、0.1モルのスクアリン酸に対して1000ml
までのアルコールを用いてもよい。反応は、通常
約75℃から約130℃、好ましくは95〜105℃の温度
下において、撹拌を行ないながら反応が完了する
まで行なわれる。次いで、濾過のような既知の手
法によつて所望の生成物を単離し、NMRおよび
分光法等の分析装置によつて該生成物を同定す
る。さらに、得られた生成物の同定を確実にする
ため、炭素、水素、フツ素、窒素、および酸素に
ついて元素分析を行なう。
ン化合物は、一般に、脂肪族アルコールの存在下
に(共沸溶媒を含むこともある)、芳香族アミン
とスクアリン酸(squaric acid)とを約3:1か
ら約2:1、好ましくは約2:1のモル比で反応
させることによつて調製される。0.1モルのスク
アリン酸に対して約400mlのアルコールが用いら
れるが、0.1モルのスクアリン酸に対して1000ml
までのアルコールを用いてもよい。反応は、通常
約75℃から約130℃、好ましくは95〜105℃の温度
下において、撹拌を行ないながら反応が完了する
まで行なわれる。次いで、濾過のような既知の手
法によつて所望の生成物を単離し、NMRおよび
分光法等の分析装置によつて該生成物を同定す
る。さらに、得られた生成物の同定を確実にする
ため、炭素、水素、フツ素、窒素、および酸素に
ついて元素分析を行なう。
本発明の新規なスクアラインを調製するのに選
ばれる反応体であるアミンの例として、N,N−
ジメチルアミノ−3−フルオロベンゼン、N−メ
チル−N−エチル−3−フルオロアニリン、N,
N−ジエチル−3−フルオロアニリン、N,N−
ジベンジル−3−フルオロアニタン、N−メチル
−N−ベンジル−3−フルオロアニリン、N,N
−ジ(4−クロロフエニルメチル)−3−フルオ
ロアニリン等が挙げられる。好ましいアミン反応
体の例は、N−N−ジメチル−3−フルオロアニ
リンである。
ばれる反応体であるアミンの例として、N,N−
ジメチルアミノ−3−フルオロベンゼン、N−メ
チル−N−エチル−3−フルオロアニリン、N,
N−ジエチル−3−フルオロアニリン、N,N−
ジベンジル−3−フルオロアニタン、N−メチル
−N−ベンジル−3−フルオロアニリン、N,N
−ジ(4−クロロフエニルメチル)−3−フルオ
ロアニリン等が挙げられる。好ましいアミン反応
体の例は、N−N−ジメチル−3−フルオロアニ
リンである。
本発明のフツ素化スクアラインを調製するのに
選ばれる脂肪族アルコールの例としては、1−ブ
タノール、1−ペンタノール、ヘキサノールおよ
びペンタノールが選ばれる。また、使用できる共
沸物質の例としては、ベンゼン、トルエンおよび
キシレンのような芳香族化合物がある。
選ばれる脂肪族アルコールの例としては、1−ブ
タノール、1−ペンタノール、ヘキサノールおよ
びペンタノールが選ばれる。また、使用できる共
沸物質の例としては、ベンゼン、トルエンおよび
キシレンのような芳香族化合物がある。
本発明のスクアライン化合物は、また、同時に
係属している別の出願に記載されているように、
触媒および脂肪族アルコールの存在下にジアルキ
ルスクアレート(dialkyl squarate)と適当なア
ニリンを反応させることによつても調製される。
詳述すると、該出願に記載されている方法は、酸
触媒およびアルコールの存在下に、約60℃から約
160℃の温度においてジアルキルスクアレートを
ジアルキルアニリンに反応させることから成る。
該出願に開示されているジアルキルスクアレート
反応体の例としては、ジメチルスクアレート、ジ
プロピルスクアレート、ジエチルスクアレート、
ジブチルスクアレート、ジペンチルスクアレー
ト、ジヘキシルスクアレート、ジヘブチルスクア
レート、ジオクチルスクアレート等であり、ジメ
チルスクアレート、ジエチルスクアレート、ジプ
ロピルスクアレートおよびジブチルスクアレート
が好ましい。該出願に開示されているアニリン反
応体の例としては、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジプロピル
アニリン、N,N−ジブチルアニリン、N,N−
ジペンチルアニリン、N,N−ジヘキシルアニリ
ン、3−メチル−N,N−ジメチルアニリン、3
−ヒドロキシ−N,N−ジメチルアニリン、3−
フルオロ−N,N−ジメチルアニリン、3−ヒド
ロキシ−N,N−ジエチルアニリン、3−エチル
−N,N−ジメチルアニリン等である。
係属している別の出願に記載されているように、
触媒および脂肪族アルコールの存在下にジアルキ
ルスクアレート(dialkyl squarate)と適当なア
ニリンを反応させることによつても調製される。
詳述すると、該出願に記載されている方法は、酸
触媒およびアルコールの存在下に、約60℃から約
160℃の温度においてジアルキルスクアレートを
ジアルキルアニリンに反応させることから成る。
該出願に開示されているジアルキルスクアレート
反応体の例としては、ジメチルスクアレート、ジ
プロピルスクアレート、ジエチルスクアレート、
ジブチルスクアレート、ジペンチルスクアレー
ト、ジヘキシルスクアレート、ジヘブチルスクア
レート、ジオクチルスクアレート等であり、ジメ
チルスクアレート、ジエチルスクアレート、ジプ
ロピルスクアレートおよびジブチルスクアレート
が好ましい。該出願に開示されているアニリン反
応体の例としては、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジプロピル
アニリン、N,N−ジブチルアニリン、N,N−
ジペンチルアニリン、N,N−ジヘキシルアニリ
ン、3−メチル−N,N−ジメチルアニリン、3
−ヒドロキシ−N,N−ジメチルアニリン、3−
フルオロ−N,N−ジメチルアニリン、3−ヒド
ロキシ−N,N−ジエチルアニリン、3−エチル
−N,N−ジメチルアニリン等である。
この反応は酸触媒の存在下に行なわれるが、該
酸触媒の例としては、各種の無機酸および有機酸
があり、例えば、硫酸、三塩化酢酸、シユウ酸、
トルエンスルホン酸等が挙げられ、硫酸および三
塩化酢酸が好ましい。
酸触媒の例としては、各種の無機酸および有機酸
があり、例えば、硫酸、三塩化酢酸、シユウ酸、
トルエンスルホン酸等が挙げられ、硫酸および三
塩化酢酸が好ましい。
スクアレートと酸触媒から成る溶液を調製する
ためには、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール(特に水によつて飽和された1−
ブタノール)、アミルアルコール等によつて例示
される脂肪族アルコールのごとき既知の溶媒が用
いられる。本発明の目的を達成することができれ
ば他の溶媒を用いることできる。すなわち、例え
ば、用いられる溶媒は、ジアルキルスクアレート
と酸触媒から成る均質な溶液を生成することがで
きるようなものである。
ためには、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール(特に水によつて飽和された1−
ブタノール)、アミルアルコール等によつて例示
される脂肪族アルコールのごとき既知の溶媒が用
いられる。本発明の目的を達成することができれ
ば他の溶媒を用いることできる。すなわち、例え
ば、用いられる溶媒は、ジアルキルスクアレート
と酸触媒から成る均質な溶液を生成することがで
きるようなものである。
反応温度は、広範囲にわたつて変わることがで
きるが、一般に、選ばれた反応体および他の類似
する因子に依存する。一般的に言えば、脂肪族ア
ルコールが蒸発する温度において反応が行なわれ
る。例えば、反応温度は一般に約60℃から約160
℃、好ましくは約98℃から約140℃の温度であり、
このような温度範囲は、用いる脂肪族アルコール
が約3個から約5個の炭素原子からなる炭素鎖を
含有する場合に特にあてはまる。
きるが、一般に、選ばれた反応体および他の類似
する因子に依存する。一般的に言えば、脂肪族ア
ルコールが蒸発する温度において反応が行なわれ
る。例えば、反応温度は一般に約60℃から約160
℃、好ましくは約98℃から約140℃の温度であり、
このような温度範囲は、用いる脂肪族アルコール
が約3個から約5個の炭素原子からなる炭素鎖を
含有する場合に特にあてはまる。
反応体および触媒の量は、反応体の種類および
反応温度のような多くの因子に依存する。しかし
ながら、一般的には、約5ミリモルから約50ミリ
モルのジアルキルスクアレートに対して、約10ミ
リモルから約100ミリモルのアニリンおよび約10
mlから約50mlの脂肪族アルコールが用いられる。
そして、約4ミリモルから約40ミリモルのプロト
ンが酸触媒に含有されている。
反応温度のような多くの因子に依存する。しかし
ながら、一般的には、約5ミリモルから約50ミリ
モルのジアルキルスクアレートに対して、約10ミ
リモルから約100ミリモルのアニリンおよび約10
mlから約50mlの脂肪族アルコールが用いられる。
そして、約4ミリモルから約40ミリモルのプロト
ンが酸触媒に含有されている。
濾過のような既知の手法により反応混合物から
単離された生成物は、主として融点測定、赤外線
分析および可視吸収分光法により同定した。さら
に、これらの方法によつて得られたデータは、前
述したようなスクアリン酸を用いる方法によつて
調製された同じ化合物についてのデータと比較さ
れた。また、炭素、水酸、窒素およびフツ素のご
とき各構成分について元素分析を行なつた。
単離された生成物は、主として融点測定、赤外線
分析および可視吸収分光法により同定した。さら
に、これらの方法によつて得られたデータは、前
述したようなスクアリン酸を用いる方法によつて
調製された同じ化合物についてのデータと比較さ
れた。また、炭素、水酸、窒素およびフツ素のご
とき各構成分について元素分析を行なつた。
本発明に従う積層式感光装置は、その一態様に
おいて、支持基体とホール(正孔)移動層とを含
み、この支持基体ホール移送層との間に配置され
る光導電性層として上述したような本発明の新規
なフツ素化スクアライン化合物が用いられる。ま
た、積層式感光装置の他の態様としては、支持基
体と、本発明の新規なフツ素スクアライン化合物
から成る光導電性層とを含み、この支持基体と光
導電性層との間にホール移送層が配置される。さ
らに、本発明に従えば、印字システムに有用な感
光装置であつて、光発生層(photogenerating
layer)とホール移送層との間に光導電性化合物
の層が配置されるか、または、光発生層と支持基
体との間に光導電性化合物が配置されるように
し、該光導電性化合物として本発明の新規なフツ
素化スクアラインを用いる装置が提供される。こ
の最後に述べた装置においては、光導電性層は、
赤外線および/または可視スペクトル領域におい
て光発生層の特性を向上させたりまたは減少させ
るように機能する。
おいて、支持基体とホール(正孔)移動層とを含
み、この支持基体ホール移送層との間に配置され
る光導電性層として上述したような本発明の新規
なフツ素化スクアライン化合物が用いられる。ま
た、積層式感光装置の他の態様としては、支持基
体と、本発明の新規なフツ素スクアライン化合物
から成る光導電性層とを含み、この支持基体と光
導電性層との間にホール移送層が配置される。さ
らに、本発明に従えば、印字システムに有用な感
光装置であつて、光発生層(photogenerating
layer)とホール移送層との間に光導電性化合物
の層が配置されるか、または、光発生層と支持基
体との間に光導電性化合物が配置されるように
し、該光導電性化合物として本発明の新規なフツ
素化スクアラインを用いる装置が提供される。こ
の最後に述べた装置においては、光導電性層は、
赤外線および/または可視スペクトル領域におい
て光発生層の特性を向上させたりまたは減少させ
るように機能する。
一つの特別の実施態様においては、本発明の改
良感光装置は、(1)支持基体、(2)ホールブロキング
層、(3)任意構成成分としての接着剤界面層、(4)無
機光発生層、(5)該光発生層の本質的性質を向上あ
るは減少させ得、本発明の新規なスクアライン化
合物からなる光導電性混合物層、および(6)ホール
移動層の順序で構成される。特に、一つの重要な
実施態様においては、本発明の感光装置は、導電
性支持基体、これと接触したホールブロツキング
金属酸化物層、接着剤層、この接着剤層上にオー
バーコートした無機光発生材料、赤外および/ま
たは可視スペクトル領域で光発生層の本質的性質
を高揚または減少させることができ、本発明の新
規なスクアライン化合物からなる光導電性化合
物、およびトツプ層としての樹脂マトリツクス内
に分散せしめたある種のジアミンからなるホール
移動層からなる。光導電性層の化合物は、ホール
移動層と接触したとき、光発生層により発生した
ホールを移動せしめることができる。さらに、光
導電性層内は光発生層内で発生したホールを実質
的に捕捉しない。また、スクアライン化合物から
成る光導電性層は特定の波長の光線を光発生層に
浸透せしめる選択性フイルターとして機能するこ
とができる。
良感光装置は、(1)支持基体、(2)ホールブロキング
層、(3)任意構成成分としての接着剤界面層、(4)無
機光発生層、(5)該光発生層の本質的性質を向上あ
るは減少させ得、本発明の新規なスクアライン化
合物からなる光導電性混合物層、および(6)ホール
移動層の順序で構成される。特に、一つの重要な
実施態様においては、本発明の感光装置は、導電
性支持基体、これと接触したホールブロツキング
金属酸化物層、接着剤層、この接着剤層上にオー
バーコートした無機光発生材料、赤外および/ま
たは可視スペクトル領域で光発生層の本質的性質
を高揚または減少させることができ、本発明の新
規なスクアライン化合物からなる光導電性化合
物、およびトツプ層としての樹脂マトリツクス内
に分散せしめたある種のジアミンからなるホール
移動層からなる。光導電性層の化合物は、ホール
移動層と接触したとき、光発生層により発生した
ホールを移動せしめることができる。さらに、光
導電性層内は光発生層内で発生したホールを実質
的に捕捉しない。また、スクアライン化合物から
成る光導電性層は特定の波長の光線を光発生層に
浸透せしめる選択性フイルターとして機能するこ
とができる。
別の重要な実施態様において、本発明はこれま
で述べて来たような改良された感光装置に関する
が、だだし、光発生層の本質的性質を高揚あるい
は減少させ得る光導電性化合物は光発生層と装置
内に含まれる支持基体との間に配置される。すな
わち、この変形においては、本発明の感光装置は
(1)支持基体、(2)ホールブロツキング層、(3)任意構
成成分としての接着剤または接着性界面層、(4)赤
外および/または可視スペクトル領域で光発生層
の本質的性質を高揚または減少させ得、本発明の
新規なスクアライン化合物よりなる光導電性組成
物、(5)無機光発生層および(6)ホール移動層の順序
からなる。
で述べて来たような改良された感光装置に関する
が、だだし、光発生層の本質的性質を高揚あるい
は減少させ得る光導電性化合物は光発生層と装置
内に含まれる支持基体との間に配置される。すな
わち、この変形においては、本発明の感光装置は
(1)支持基体、(2)ホールブロツキング層、(3)任意構
成成分としての接着剤または接着性界面層、(4)赤
外および/または可視スペクトル領域で光発生層
の本質的性質を高揚または減少させ得、本発明の
新規なスクアライン化合物よりなる光導電性組成
物、(5)無機光発生層および(6)ホール移動層の順序
からなる。
本発明の積層式感光装置の光露出および消去は
前側、後側またはその両方から行い得る。
前側、後側またはその両方から行い得る。
本発明の改良感光装置は、多くの公知の方法で
製造でき、製造条件や各層の被覆順序は所望する
装置に依存する。即ち、例えば、3層感光装置
は、支持基体上へ光導電性層を真空昇華により付
着し、次いで、溶液被覆によりホール移動層を付
着することによつて製造することができる。別法
として、ホールブロツキング層を含有し任意構成
要素として接着剤層を含有する導電性基体を調製
し、これに、溶剤被覆法、ラミネート法その他の
方法により、光発生層、本発明の新規なスクアラ
インから成る光導電性化合物(このスクアライン
は、赤外および可視スペクトル領域において光発
生層の特性を向上または低下させることができる
ものである)、およびスクアライン移動層を付着
させることによつて積層式感光装置を製造するこ
ともできる。
製造でき、製造条件や各層の被覆順序は所望する
装置に依存する。即ち、例えば、3層感光装置
は、支持基体上へ光導電性層を真空昇華により付
着し、次いで、溶液被覆によりホール移動層を付
着することによつて製造することができる。別法
として、ホールブロツキング層を含有し任意構成
要素として接着剤層を含有する導電性基体を調製
し、これに、溶剤被覆法、ラミネート法その他の
方法により、光発生層、本発明の新規なスクアラ
インから成る光導電性化合物(このスクアライン
は、赤外および可視スペクトル領域において光発
生層の特性を向上または低下させることができる
ものである)、およびスクアライン移動層を付着
させることによつて積層式感光装置を製造するこ
ともできる。
また、他の別の製造法においては、透過率20パ
ーセントのアルミニウム蒸着マイラー(Mylar)
から成る基体(厚さ約3ミル)を準備し、これ
に、トリクロロエチレン/トリクロロエタン溶媒
に含有させた接着剤(例えば、E.l.dupont社製か
ら49000として入取できる接着剤)を約100℃にお
いて1.5ミルのバード(Bird)アプリケータを用
いて被覆する。次いで、この接着剤層に、やはり
バードアプリケータを用い135℃に加熱して、本
発明のフツ素化スクアラインから成る光導電性層
を塗着し、その後、アミンから成る移動層(移送
層)を塗着する。このアミンの移動層の塗着は、
既知の溶液塗布法により5ミルのバードアプリケ
ータを用い135℃に加熱して行なわれ、ここで、
アミンから成る移送分子の含有量は50重量%、ま
た、バインダ用樹脂(例えば、ポリカーボネー
ト)の含有量は50重量%である。
ーセントのアルミニウム蒸着マイラー(Mylar)
から成る基体(厚さ約3ミル)を準備し、これ
に、トリクロロエチレン/トリクロロエタン溶媒
に含有させた接着剤(例えば、E.l.dupont社製か
ら49000として入取できる接着剤)を約100℃にお
いて1.5ミルのバード(Bird)アプリケータを用
いて被覆する。次いで、この接着剤層に、やはり
バードアプリケータを用い135℃に加熱して、本
発明のフツ素化スクアラインから成る光導電性層
を塗着し、その後、アミンから成る移動層(移送
層)を塗着する。このアミンの移動層の塗着は、
既知の溶液塗布法により5ミルのバードアプリケ
ータを用い135℃に加熱して行なわれ、ここで、
アミンから成る移送分子の含有量は50重量%、ま
た、バインダ用樹脂(例えば、ポリカーボネー
ト)の含有量は50重量%である。
本発明に従う感光装置は、ゼログラフ像形成シ
ステムとして知られているような各種の像形成シ
ステムに用いられることができる。さらに、無機
光発生層、および、本発明の新規スクアラインか
ら成る光導電性層を感光装置は、可視光線およ
び/または赤外線を用いて像形成システムおよび
印字システムにおいて同時に機能することができ
る。この態様においては、本発明の感光装置は、
負に帯電させられ、約400から約1000ナノメータ
の波長の光に露光させられ(遂次的または同時
に)、次いで、得られた像が現像され、紙に転写
されるというような工程が採られる。しかして、
このような工程を多数回繰り返すことができる。
ステムとして知られているような各種の像形成シ
ステムに用いられることができる。さらに、無機
光発生層、および、本発明の新規スクアラインか
ら成る光導電性層を感光装置は、可視光線およ
び/または赤外線を用いて像形成システムおよび
印字システムにおいて同時に機能することができ
る。この態様においては、本発明の感光装置は、
負に帯電させられ、約400から約1000ナノメータ
の波長の光に露光させられ(遂次的または同時
に)、次いで、得られた像が現像され、紙に転写
されるというような工程が採られる。しかして、
このような工程を多数回繰り返すことができる。
発明の好ましい実施態様の説明
本発明の特徴が一層理解できるように、以下に
各種の好ましい実施態様に沿つて説明する。添付
図面には本発明に従う新規なフツ素化スクアライ
ン化合物を含有する特定の感光装置が示されてい
るが、図に用いられているのを均等な化合物もま
た本発明に包含されるものである。
各種の好ましい実施態様に沿つて説明する。添付
図面には本発明に従う新規なフツ素化スクアライ
ン化合物を含有する特定の感光装置が示されてい
るが、図に用いられているのを均等な化合物もま
た本発明に包含されるものである。
第1図に図示される本発明の感光装置は、基体
1、光導電性層3、および、不活性樹脂バインダ
6に分散されている電荷キヤリヤホール移送層5
から成り、光導電性層3は本発明によつて開示さ
れた新規な化合物、特に、ビス(4−ジメチルア
ミノ−2−フルオロフエニル)スクアラインから
成り、樹脂バインダ4に分散されていてもよい。
1、光導電性層3、および、不活性樹脂バインダ
6に分散されている電荷キヤリヤホール移送層5
から成り、光導電性層3は本発明によつて開示さ
れた新規な化合物、特に、ビス(4−ジメチルア
ミノ−2−フルオロフエニル)スクアラインから
成り、樹脂バインダ4に分散されていてもよい。
第2図は第1図のものと本質的には同じ装置を
示すが、ホール移送層が支持基体と光導電性層と
の間に配置されている点が異なる。すなわち、こ
の図に図示されている感光装置は、支持基体15
と、ホール移送層17(不活性樹脂バインダ18
に分散されたホール移送物質18から成る)と、
光導電性層18とから構成され、該光導電性層1
8は本発明の新規なスクアライン化合物から成
り、この化合物は樹脂質バインダ20に分散され
ていてもよい。
示すが、ホール移送層が支持基体と光導電性層と
の間に配置されている点が異なる。すなわち、こ
の図に図示されている感光装置は、支持基体15
と、ホール移送層17(不活性樹脂バインダ18
に分散されたホール移送物質18から成る)と、
光導電性層18とから構成され、該光導電性層1
8は本発明の新規なスクアライン化合物から成
り、この化合物は樹脂質バインダ20に分散され
ていてもよい。
第3図に示されている本発明に従う改良感光装
置は、基体8と、ホールブロツキング用金属酸化
物層9と、接着剤層10(但し、任意)と、電荷
キヤリヤ光発生用無機物質層11と、有機物質か
ら成る光導電性層12と、電荷キヤリヤないしは
ホールの移送層14とから構成され、光導電性層
12が、新規なスクアライン化合物から成り、赤
外および/または紫外スペクトル領域において光
発生層11の特性を高めたり低下させることがで
きるものである。
置は、基体8と、ホールブロツキング用金属酸化
物層9と、接着剤層10(但し、任意)と、電荷
キヤリヤ光発生用無機物質層11と、有機物質か
ら成る光導電性層12と、電荷キヤリヤないしは
ホールの移送層14とから構成され、光導電性層
12が、新規なスクアライン化合物から成り、赤
外および/または紫外スペクトル領域において光
発生層11の特性を高めたり低下させることがで
きるものである。
第3図および第4図〜第8図には特に図示して
いないが、無機光発生層、有機光導電性層、およ
び電荷キヤリヤホール移送層は、一般に、それぞ
れの構成成分が樹脂バインダ4,6に分散されて
いるものである。例えば、無機光発生層は、図示
しているような無機光発生物質が不活性樹脂バイ
ンダに分散されているように構成される。
いないが、無機光発生層、有機光導電性層、およ
び電荷キヤリヤホール移送層は、一般に、それぞ
れの構成成分が樹脂バインダ4,6に分散されて
いるものである。例えば、無機光発生層は、図示
しているような無機光発生物質が不活性樹脂バイ
ンダに分散されているように構成される。
第4図に図示されているのは第3図の装置と本
質的に同じであるが、光導電性層12は、無機光
発生層11と基体8との間に位置している。更に
詳しく言えば、この図の態様における光導電性層
12は、任意構成要素である接着剤層10と無機
光発生層11との間に配置されている。
質的に同じであるが、光導電性層12は、無機光
発生層11と基体8との間に位置している。更に
詳しく言えば、この図の態様における光導電性層
12は、任意構成要素である接着剤層10と無機
光発生層11との間に配置されている。
第5図に示されている本発明の好ましい感光装
置は、厚さ約100オングストロームで透過率20パ
ーセントのアルミニウムを含有するマイラー(厚
さ3ミル)から成る基体15;厚さ約20オングス
トロームの酸化アルミニウムから成る金属酸化物
層17;厚さ0.5ミクロンのポリエステル接着剤
層18(このポリエステルはE.I.duPont社から
49000ポリエステルとして入取できるものであ
る);約2.0ミクロンの厚さを有しポリビニルカル
バゾールバインダ(90体積パーセント)中に
Na2SeO3およびNa2CO3ドープ三方晶セレン(10
体積パーセント)を存在させた無機光発生層1
9;約0.5ミクロンの厚さを有し樹脂バインダで
あるFormar(Monsant化学社から入取できるも
の)70体積%に分散されたビス(4−ジメチルア
ミノ−2−フルオロフエニル)スクアライン30体
積%から成る光導電性層21;および、約25ミク
ロンの厚さを有し樹脂バインダとしてのポリカー
ボネートに分散されたN,N′−ジフエニル−N,
N′−ビス(3−メチルフエニル)−〔1,1′−ビフ
エニル〕−4,4′−ジアミン50重量パーセントか
ら成るホール移送層から構成される。
置は、厚さ約100オングストロームで透過率20パ
ーセントのアルミニウムを含有するマイラー(厚
さ3ミル)から成る基体15;厚さ約20オングス
トロームの酸化アルミニウムから成る金属酸化物
層17;厚さ0.5ミクロンのポリエステル接着剤
層18(このポリエステルはE.I.duPont社から
49000ポリエステルとして入取できるものであ
る);約2.0ミクロンの厚さを有しポリビニルカル
バゾールバインダ(90体積パーセント)中に
Na2SeO3およびNa2CO3ドープ三方晶セレン(10
体積パーセント)を存在させた無機光発生層1
9;約0.5ミクロンの厚さを有し樹脂バインダで
あるFormar(Monsant化学社から入取できるも
の)70体積%に分散されたビス(4−ジメチルア
ミノ−2−フルオロフエニル)スクアライン30体
積%から成る光導電性層21;および、約25ミク
ロンの厚さを有し樹脂バインダとしてのポリカー
ボネートに分散されたN,N′−ジフエニル−N,
N′−ビス(3−メチルフエニル)−〔1,1′−ビフ
エニル〕−4,4′−ジアミン50重量パーセントか
ら成るホール移送層から構成される。
第6図に示される本発明の別の好ましい感光装
置においては、層25,27,28,29および
33は、第5図に関連して説明した層15,1
7,18,19および23と本質的に同じであ
る。但し、第6図においては、光導電性層31
は、ビス(4−ジメチルアミノ−2−フルオロフ
エニル)スクアラインではなく、ビス(4−ジエ
チルアミノ−2−フルオロフエニル)スクアライ
ンであり、これが樹脂質バインダFormar
(Monsant化学社の商品名)70体積パーセントに
分散されている。
置においては、層25,27,28,29および
33は、第5図に関連して説明した層15,1
7,18,19および23と本質的に同じであ
る。但し、第6図においては、光導電性層31
は、ビス(4−ジメチルアミノ−2−フルオロフ
エニル)スクアラインではなく、ビス(4−ジエ
チルアミノ−2−フルオロフエニル)スクアライ
ンであり、これが樹脂質バインダFormar
(Monsant化学社の商品名)70体積パーセントに
分散されている。
第7図には、本発明に従う感光装置の別の実施
態様が示されている。この態様においては、基体
35は、透過率20パーセントのアルミニウム層
(約100オングストローム)を含有し3ミルの厚さ
のマイラー(Mylar)から成り;金属酸化物から
成るホールブロツキング層37は厚さ約20オング
ストロームの酸化アルミニウムであり;任意構成
要素である接着剤層38は、0.5ミクロンの厚さ
を有し、E.I.dupont社から49000ポリエステルと
して入取できるポリエステル系材料であり;光発
生層39は、0.4ミクロンの厚さを有し、フエノ
キキシ樹脂バインダ(Allied Chemical社からポ
リ(ヒドロキシエーテル)Bakeliteとして入取で
きるもの)に分散された三方晶セレン30体積パー
セントから成り、;光導電性層41は、約0.5ミク
ロンの厚さを有し、70体積パーセントの樹脂バイ
ンダ(Monsant Chemical社から商品名Formar
として入取できるもの)に分散されたビス(4−
ジメチルアミノ−2−フルオロフエニル)スクア
ライン30体積パーセントから成り;ホール移送層
43は、厚さ約25ミクロンであり、ポリカーボネ
ート樹脂バインダ50重量パーセントに分散された
N,N′−ジフエニル−N,N′−ビス(3−メチ
ルフエニル)−〔1,1′−ビフエニル〕−4,4′−
ジアミン50重量パーセントから成る。
態様が示されている。この態様においては、基体
35は、透過率20パーセントのアルミニウム層
(約100オングストローム)を含有し3ミルの厚さ
のマイラー(Mylar)から成り;金属酸化物から
成るホールブロツキング層37は厚さ約20オング
ストロームの酸化アルミニウムであり;任意構成
要素である接着剤層38は、0.5ミクロンの厚さ
を有し、E.I.dupont社から49000ポリエステルと
して入取できるポリエステル系材料であり;光発
生層39は、0.4ミクロンの厚さを有し、フエノ
キキシ樹脂バインダ(Allied Chemical社からポ
リ(ヒドロキシエーテル)Bakeliteとして入取で
きるもの)に分散された三方晶セレン30体積パー
セントから成り、;光導電性層41は、約0.5ミク
ロンの厚さを有し、70体積パーセントの樹脂バイ
ンダ(Monsant Chemical社から商品名Formar
として入取できるもの)に分散されたビス(4−
ジメチルアミノ−2−フルオロフエニル)スクア
ライン30体積パーセントから成り;ホール移送層
43は、厚さ約25ミクロンであり、ポリカーボネ
ート樹脂バインダ50重量パーセントに分散された
N,N′−ジフエニル−N,N′−ビス(3−メチ
ルフエニル)−〔1,1′−ビフエニル〕−4,4′−
ジアミン50重量パーセントから成る。
更に、第8図には本発明の別の好ましい感光装
置が示されており、ここで、層47,49,5
1,53および57は第7図における層35,3
7,38,39および43と同一である。ただ
し、第8図においては、光導電性層55は、70体
積パーセントの樹脂バインダFormar(商品名)
に分散されたビス(4−ジメチルアミノ−2−フ
ルオロアニリン)スクアライン30体積パーセント
から成る。
置が示されており、ここで、層47,49,5
1,53および57は第7図における層35,3
7,38,39および43と同一である。ただ
し、第8図においては、光導電性層55は、70体
積パーセントの樹脂バインダFormar(商品名)
に分散されたビス(4−ジメチルアミノ−2−フ
ルオロアニリン)スクアライン30体積パーセント
から成る。
第1図〜第8図、特に第3図〜第8図におい
て、基体となる層は、不透明であつてもよく実質
的に透明であつてもよく、また、所望の物理的性
質を有する任意の材料から構成され得る。すなわ
ち、無機または有機のポリマー物質(例えば、
Mylarとして入取できるポリマー)のごとき絶縁
性物質の層、インジウム−スズ酸化物のごとき半
導電性表面層を有したりアルミニウムが表面に配
設されているような有機または無機物質の層、ま
たは、アルミニウム、クロム、ニツケル、黄銅等
の導電性物質によつて基体を構成することができ
る。また、基体は、可撓性してもよければ剛性で
もよく、さらに、各種の形状を有することができ
る。例えば、基体は、平板状、円筒状ドラム、渦
状、無端可撓性ベルト等の形状を呈するが、無端
可撓性ベルトの形状にするのが好ましい。場合に
よつては、基体の背面に反カール(anti−curl)
層、例えばMakrolonとして市販されているよう
なポリカーボネートを被覆することが好ましく、
特に、基体が有機のポリマーである場合にはこの
ような被覆を設けることが好ましい。
て、基体となる層は、不透明であつてもよく実質
的に透明であつてもよく、また、所望の物理的性
質を有する任意の材料から構成され得る。すなわ
ち、無機または有機のポリマー物質(例えば、
Mylarとして入取できるポリマー)のごとき絶縁
性物質の層、インジウム−スズ酸化物のごとき半
導電性表面層を有したりアルミニウムが表面に配
設されているような有機または無機物質の層、ま
たは、アルミニウム、クロム、ニツケル、黄銅等
の導電性物質によつて基体を構成することができ
る。また、基体は、可撓性してもよければ剛性で
もよく、さらに、各種の形状を有することができ
る。例えば、基体は、平板状、円筒状ドラム、渦
状、無端可撓性ベルト等の形状を呈するが、無端
可撓性ベルトの形状にするのが好ましい。場合に
よつては、基体の背面に反カール(anti−curl)
層、例えばMakrolonとして市販されているよう
なポリカーボネートを被覆することが好ましく、
特に、基体が有機のポリマーである場合にはこの
ような被覆を設けることが好ましい。
基体の厚さは、経済的な因子を含む多くの因子
に依存する。すなわち、システムに悪影響を与え
なければ、基体は、例えば100ミルを超えるよう
な厚さを有することもあれば、できるだけ小さい
厚さにすることもある。一つの好ましい態様にお
いては、基体層の厚さは約3ミルから約10ミルで
ある。
に依存する。すなわち、システムに悪影響を与え
なければ、基体は、例えば100ミルを超えるよう
な厚さを有することもあれば、できるだけ小さい
厚さにすることもある。一つの好ましい態様にお
いては、基体層の厚さは約3ミルから約10ミルで
ある。
金属酸化物から成るホールブロツキング層は、
酸化アルミニウム等の各種の既知の材料から構成
される。好ましい金属酸化物層は酸化アルミニウ
ムである。この層の主要な目的は、ホールブロツ
キングを与えること、すなわち、帯電の前後にお
いて基体からホールが注入されるのを防止するこ
とにある。一般的に、この層は50オングストロー
ムよりも小さい厚さを有する。
酸化アルミニウム等の各種の既知の材料から構成
される。好ましい金属酸化物層は酸化アルミニウ
ムである。この層の主要な目的は、ホールブロツ
キングを与えること、すなわち、帯電の前後にお
いて基体からホールが注入されるのを防止するこ
とにある。一般的に、この層は50オングストロー
ムよりも小さい厚さを有する。
接着層(接着剤層)は、一般に、ポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリド
ン等のようなポリマー物質から構成される。一般
に、この層は約0.3ミクロンよりも小さい厚さを
有する。
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリド
ン等のようなポリマー物質から構成される。一般
に、この層は約0.3ミクロンよりも小さい厚さを
有する。
無機系の光発生層は、可視光に感光し光導電性
で電荷キヤリヤを発生する既知の材料によつて構
成されることができる。そのような材料として
は、無定形(アモルフアス)セレン、無定形セレ
ン合金、ハロゲンがドープされた無定形セレン、
ハロゲンがドープされた無定形セレン合金、三方
晶セレン、同期律表第A族および第A族元素
の混合物、三方晶セレンを含有するセレン化合物
および炭酸化物(これらの材料については、米国
特許第4232102号および第4233283号を参照された
い)、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、テ
ルル化カドミウム、セレン化カドミウム・イオ
ウ、テルル化カドミウム・イオウ、テルル化カド
ミカム・セレン、銅、塩素がドープされた硫化カ
ドミウム、セレン化カドミウム、および、セレン
化カドミウム・イオウ等が挙げられる。本発明に
用いられるセレン合金としては、セレン・テルル
合金、セレン・ヒ素合金、セレン・テルル・ヒ素
合金等があり、そして、それらの合金は、塩素の
ごときハロゲン物質を約50〜約200ppmの量で含
有するのが好ましい。
で電荷キヤリヤを発生する既知の材料によつて構
成されることができる。そのような材料として
は、無定形(アモルフアス)セレン、無定形セレ
ン合金、ハロゲンがドープされた無定形セレン、
ハロゲンがドープされた無定形セレン合金、三方
晶セレン、同期律表第A族および第A族元素
の混合物、三方晶セレンを含有するセレン化合物
および炭酸化物(これらの材料については、米国
特許第4232102号および第4233283号を参照された
い)、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、テ
ルル化カドミウム、セレン化カドミウム・イオ
ウ、テルル化カドミウム・イオウ、テルル化カド
ミカム・セレン、銅、塩素がドープされた硫化カ
ドミウム、セレン化カドミウム、および、セレン
化カドミウム・イオウ等が挙げられる。本発明に
用いられるセレン合金としては、セレン・テルル
合金、セレン・ヒ素合金、セレン・テルル・ヒ素
合金等があり、そして、それらの合金は、塩素の
ごときハロゲン物質を約50〜約200ppmの量で含
有するのが好ましい。
光発生層は、また、金属フタロシアニン、無金
属フタロシアニン、バナジルフタロシアニン等の
有機材料を含有することもできる。これらのフタ
ロシアニンの例は、米国特許第4265990号に開示
されているので該特許を参照されたい。光発生層
に用いられるのに好ましい有機材料としては、バ
ナジルフタロシアニンおよびX形無金属フタロシ
アニンが挙げられる。
属フタロシアニン、バナジルフタロシアニン等の
有機材料を含有することもできる。これらのフタ
ロシアニンの例は、米国特許第4265990号に開示
されているので該特許を参照されたい。光発生層
に用いられるのに好ましい有機材料としては、バ
ナジルフタロシアニンおよびX形無金属フタロシ
アニンが挙げられる。
この層は、一般に、約0.05ミクロンから約10ミ
クロンまたはそれ以上の厚さ、好ましくは約0.4
ミクロンから約3ミクロンの厚さを有する。しか
しながら、この層の厚さは、主として、充填する
光導電性物質の体積(5〜100体積パーセントの
範囲で変化する)に依存する。一般的に言えば、
この層は、像形成または印写露光工程において照
射される輻射線の約90パーセントまたはそれ以上
を吸収するのに充分な厚さにすることが望まれ
る。この層の最大厚さは、物理的要求(例えば、
可撓性の装置が所望されるかということ)のごと
き幾つかの因子に依存する。
クロンまたはそれ以上の厚さ、好ましくは約0.4
ミクロンから約3ミクロンの厚さを有する。しか
しながら、この層の厚さは、主として、充填する
光導電性物質の体積(5〜100体積パーセントの
範囲で変化する)に依存する。一般的に言えば、
この層は、像形成または印写露光工程において照
射される輻射線の約90パーセントまたはそれ以上
を吸収するのに充分な厚さにすることが望まれ
る。この層の最大厚さは、物理的要求(例えば、
可撓性の装置が所望されるかということ)のごと
き幾つかの因子に依存する。
本発明の感光装置のきわめて重要な特徴は、本
明細書に開示されている新規なスクアライン化合
物から成る光導電性層にある。該化合物は一般に
電荷キヤリヤ移動層と電子的に適合するものであ
り、光励起された電荷キヤリヤを移動層に注入す
ることができ、且つ、光導電性層と電荷キヤリヤ
移動層との間の界面を横切り電荷キヤリヤを両方
向に移動させることができる。
明細書に開示されている新規なスクアライン化合
物から成る光導電性層にある。該化合物は一般に
電荷キヤリヤ移動層と電子的に適合するものであ
り、光励起された電荷キヤリヤを移動層に注入す
ることができ、且つ、光導電性層と電荷キヤリヤ
移動層との間の界面を横切り電荷キヤリヤを両方
向に移動させることができる。
一般に、光導電性層の厚さは、他の層の厚さ、
光導電性層中に含有されている光導電性物質の濃
度などの多くの因子に依存する。すなわち、光導
電性スクアライン化合物が約5〜約100体積パー
セントの量で存在する場合には、この層は約0.05
ミクロンから約10ミクロンの範囲で変化し得る厚
さを有する。しかして、この層の好ましい範囲の
厚さは約0.25ミクロンから約1ミクロンであり、
このとき、光導電性スクアライン化合物は該層に
30体積パーセントの量で存在する。この層の最大
厚さは物理的要求(例えば、可撓性の感光装置が
所望されているか否かということ)を含む諸因子
によつて定められる。
光導電性層中に含有されている光導電性物質の濃
度などの多くの因子に依存する。すなわち、光導
電性スクアライン化合物が約5〜約100体積パー
セントの量で存在する場合には、この層は約0.05
ミクロンから約10ミクロンの範囲で変化し得る厚
さを有する。しかして、この層の好ましい範囲の
厚さは約0.25ミクロンから約1ミクロンであり、
このとき、光導電性スクアライン化合物は該層に
30体積パーセントの量で存在する。この層の最大
厚さは物理的要求(例えば、可撓性の感光装置が
所望されているか否かということ)を含む諸因子
によつて定められる。
無機の光発生材料または光導電性材料は、それ
ぞれの層に100%存在することができ、また、各
種の好適な無機質バインダまたは樹脂質ポリマー
バインダ中に分散されることもでき、後者の場
合、約5〜95体積パーセントの量、好ましくは約
25〜約75体積パーセントの量で存在することがで
きる。使用できるポリマーバインダの例として
は、米国特許第3121006号に開示されているよう
なものが含まれ、ポリエステル、ポリビニルブチ
ラール、Formar(商品名)、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルカルバゾール、エポキシ樹脂、フ
エノキシ樹脂(特に、商業的に入取できるポリヒ
ドロキシエーテル樹脂)等がある。
ぞれの層に100%存在することができ、また、各
種の好適な無機質バインダまたは樹脂質ポリマー
バインダ中に分散されることもでき、後者の場
合、約5〜95体積パーセントの量、好ましくは約
25〜約75体積パーセントの量で存在することがで
きる。使用できるポリマーバインダの例として
は、米国特許第3121006号に開示されているよう
なものが含まれ、ポリエステル、ポリビニルブチ
ラール、Formar(商品名)、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルカルバゾール、エポキシ樹脂、フ
エノキシ樹脂(特に、商業的に入取できるポリヒ
ドロキシエーテル樹脂)等がある。
本発明の一実施態様においては、後述するジア
ミンのごとき電荷キヤリヤ移動材料を光発生層中
または光導電性層中に混和させてもよく、この場
合の量は、例えば、0〜60体積パーセントの範囲
にある。
ミンのごとき電荷キヤリヤ移動材料を光発生層中
または光導電性層中に混和させてもよく、この場
合の量は、例えば、0〜60体積パーセントの範囲
にある。
層14のごとき電荷キヤリヤ移動層は、ホール
を輪送することのできる多くの好適な材料から構
成することができ、ここで、該層の厚さは、一般
的に約5ミクロンから約50ミクロン、好ましくは
約20ミクロンから約40ミクロンの範囲にある。
を輪送することのできる多くの好適な材料から構
成することができ、ここで、該層の厚さは、一般
的に約5ミクロンから約50ミクロン、好ましくは
約20ミクロンから約40ミクロンの範囲にある。
好ましい実施態様に従えば、この層が次式
(式中、Xは、オルト−CH3、メタ−CH3、パ
ラ−CH3、オルト−Cl、メタ−Cl、およびパラ−
Clから成る群より選ばれる)を有し、高絶縁性で
輪送性の有機樹脂で分散されている。高絶縁性の
樹脂(少なくとも1012オーム・cmの抵抗を有して
好ましくない暗減衰を防止する)は、光発生層か
らのホールの注入を支持することができることを
必ずしも要しない物質であり、また、そのような
ホールを輪送することができない物質である。し
かしながら、該樹脂は、上記の式に含まれる置換
N,N,N′,N′−テトラフエニル〔1,1−ビ
フエニル〕4,4−ジアミンを約10〜75重量パー
セント含有するときには、電気的に活性になる。
ラ−CH3、オルト−Cl、メタ−Cl、およびパラ−
Clから成る群より選ばれる)を有し、高絶縁性で
輪送性の有機樹脂で分散されている。高絶縁性の
樹脂(少なくとも1012オーム・cmの抵抗を有して
好ましくない暗減衰を防止する)は、光発生層か
らのホールの注入を支持することができることを
必ずしも要しない物質であり、また、そのような
ホールを輪送することができない物質である。し
かしながら、該樹脂は、上記の式に含まれる置換
N,N,N′,N′−テトラフエニル〔1,1−ビ
フエニル〕4,4−ジアミンを約10〜75重量パー
セント含有するときには、電気的に活性になる。
上記の式に含まれる化合物の例としては、N,
N′−ジフエニル−N,N′−ビス(アルキルフエ
ニル)−〔1,1−ビフエニル〕−4,4′−ジアミ
ンがあり、この場合、アルキルは、メチル(例え
ば、2−メチル、3−メチル、4−メチル)、エ
チル、プロピル、ブチル、ヘキシル等から成る群
より選ばれる。塩素置換したものとして、N,
N′−ジフエニル−N,N′−ビス(ハロゲンフエ
ニル)−〔1,1′−ビフエニル〕4,4′−ジアミン
であり、この場合、ハロゲンは2−クロロ、3−
クロロまたは4−クロロである。
N′−ジフエニル−N,N′−ビス(アルキルフエ
ニル)−〔1,1−ビフエニル〕−4,4′−ジアミ
ンがあり、この場合、アルキルは、メチル(例え
ば、2−メチル、3−メチル、4−メチル)、エ
チル、プロピル、ブチル、ヘキシル等から成る群
より選ばれる。塩素置換したものとして、N,
N′−ジフエニル−N,N′−ビス(ハロゲンフエ
ニル)−〔1,1′−ビフエニル〕4,4′−ジアミン
であり、この場合、ハロゲンは2−クロロ、3−
クロロまたは4−クロロである。
電気的に不活性な樹脂に分散されたホールを輪
送する層を形成することのできる他の電気的に活
性な小分子としては、ビス(4−ジエチルアミン
−2−メチルフエニル)フエニルメタン;4′,
4″−ビス(ジエチルアミノ)−2′,2″−ジメチル
トリフエニルメタン;ビス−4(ジエチルアミノ
フエニル)フエニルメタン;および4,4′−ビス
(ジエチルアミノ)−2,2′−ジメチルトリフエニ
ルメタンがある。
送する層を形成することのできる他の電気的に活
性な小分子としては、ビス(4−ジエチルアミン
−2−メチルフエニル)フエニルメタン;4′,
4″−ビス(ジエチルアミノ)−2′,2″−ジメチル
トリフエニルメタン;ビス−4(ジエチルアミノ
フエニル)フエニルメタン;および4,4′−ビス
(ジエチルアミノ)−2,2′−ジメチルトリフエニ
ルメタンがある。
本発明の目的を達成することができれば、他の
電荷キヤリヤ移動性分子を用いて本発明の光導電
性装置を得ることもできる。
電荷キヤリヤ移動性分子を用いて本発明の光導電
性装置を得ることもできる。
移動層に用いられ、高絶縁性で輪送性樹脂材料
もしくは不活性バインダ樹脂は、例えば米国特許
第3121006号に記載されているものであり、該特
許を参考のために引用する。有機樹脂材料の例と
しては、ポリカーボネート、アクリレートポリマ
ー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリ
エステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウ
レタンおよびエポキシが挙げられ、それらのブロ
ツク、ランダム、または交互共重合体も含まれ
る。電気的に不活性な樹脂材料として好ましいの
は、分子量(Mw)が約20000〜約100000、好ま
しくは約50000〜約100000のポリカーボネート樹
脂である。一般的には、樹脂バインダは前記の式
で表わされる活性材料を約10〜約75重量パーセン
ト含有し、約35〜約50パーセント含有することが
好ましい。
もしくは不活性バインダ樹脂は、例えば米国特許
第3121006号に記載されているものであり、該特
許を参考のために引用する。有機樹脂材料の例と
しては、ポリカーボネート、アクリレートポリマ
ー、ビニルポリマー、セルロースポリマー、ポリ
エステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウ
レタンおよびエポキシが挙げられ、それらのブロ
ツク、ランダム、または交互共重合体も含まれ
る。電気的に不活性な樹脂材料として好ましいの
は、分子量(Mw)が約20000〜約100000、好ま
しくは約50000〜約100000のポリカーボネート樹
脂である。一般的には、樹脂バインダは前記の式
で表わされる活性材料を約10〜約75重量パーセン
ト含有し、約35〜約50パーセント含有することが
好ましい。
第1図および第2図に示される積層装置におい
て、支持基体、ホール移動層、光導電性層および
樹脂バインダの種類や厚さについても前述のこと
があてはまる。すなわち、例えば、支持基体は、
不透明または実質的に透明であることができ、ま
た、所望の物理的諸性質を有する適当な材料から
構成される。例えば、この基体は、無機または有
機のポリマー材料のような絶縁性材料の層、導電
性表面層を有する有機または無機材料の層、また
は、アルミニウム、クロム、ニツケル、インジウ
ム、酸化スズ、黄銅等の導電性材料から構成され
る。さらに、基体に、任意層として、既知のホー
ルブロツキング層、例えば、酸化アルミニウムま
たは接着性材料(例えば、Goodyear Chmical社
によつて市販されているポリエステル樹脂)を被
覆することもできる。また、基体は可撓性であつ
ても剛性であつてもよく、さらに、各種の形状を
有することができる。例えば、基体は、プレート
状、円筒状ドラム、渦巻状、無端可撓性ベルト等
の形状を呈することができるが、無端可撓性ベル
トの形状を有することが好ましい。ベルト状を呈
する場合、例えば、第1図の装置において、基体
に、ホールブロツキング層(例えば、酸化アルミ
ニウム)を施した後に、接着剤層を施すことが好
ましいことがある。
て、支持基体、ホール移動層、光導電性層および
樹脂バインダの種類や厚さについても前述のこと
があてはまる。すなわち、例えば、支持基体は、
不透明または実質的に透明であることができ、ま
た、所望の物理的諸性質を有する適当な材料から
構成される。例えば、この基体は、無機または有
機のポリマー材料のような絶縁性材料の層、導電
性表面層を有する有機または無機材料の層、また
は、アルミニウム、クロム、ニツケル、インジウ
ム、酸化スズ、黄銅等の導電性材料から構成され
る。さらに、基体に、任意層として、既知のホー
ルブロツキング層、例えば、酸化アルミニウムま
たは接着性材料(例えば、Goodyear Chmical社
によつて市販されているポリエステル樹脂)を被
覆することもできる。また、基体は可撓性であつ
ても剛性であつてもよく、さらに、各種の形状を
有することができる。例えば、基体は、プレート
状、円筒状ドラム、渦巻状、無端可撓性ベルト等
の形状を呈することができるが、無端可撓性ベル
トの形状を有することが好ましい。ベルト状を呈
する場合、例えば、第1図の装置において、基体
に、ホールブロツキング層(例えば、酸化アルミ
ニウム)を施した後に、接着剤層を施すことが好
ましいことがある。
光導電性層3および9は、本発明に従う新規な
フツ素化スクアライン化合物から構成され、特
に、ビス(4−ジメチルアミノ−2−フルオロフ
エニル)スクアラインから構成されることが好ま
しく、このようなスクアラインは樹脂バインダ4
および20に分散されてもよい。これらのスクア
ラインは、電荷移動層と電気的に適合するもので
あり、したがつて、光励起された電荷キヤリヤを
該移動層に注入し、且つ、電荷移動層と光発生層
との間の界面を横切つて電荷キヤリヤを両方向に
移動させることができる。
フツ素化スクアライン化合物から構成され、特
に、ビス(4−ジメチルアミノ−2−フルオロフ
エニル)スクアラインから構成されることが好ま
しく、このようなスクアラインは樹脂バインダ4
および20に分散されてもよい。これらのスクア
ラインは、電荷移動層と電気的に適合するもので
あり、したがつて、光励起された電荷キヤリヤを
該移動層に注入し、且つ、電荷移動層と光発生層
との間の界面を横切つて電荷キヤリヤを両方向に
移動させることができる。
本発明に従う光導電性スクアライン顔料は一般
に、樹脂バインダ4または20(各種の好適な無
機または有機のバインダである)に、約5〜95体
積パーセント、好ましくは約25〜75体積パーセン
トの量で分散される。そのようなポリマー樹脂バ
インダの例は、米国特許第3121006号に記載され
ているので該特許を引用しておく。すなわち、ポ
リエステル、ポリビニルブチラール、Formar
(商品名)、ポリカーボネート樹脂(特に、
Makrolonとして市販されているもの)、ポリビ
ニカルバゾール、エポキシ樹脂、フエノキシ樹
脂、ポリヒドロキシエーテルとして市販されてい
るもの等が挙げられる。
に、樹脂バインダ4または20(各種の好適な無
機または有機のバインダである)に、約5〜95体
積パーセント、好ましくは約25〜75体積パーセン
トの量で分散される。そのようなポリマー樹脂バ
インダの例は、米国特許第3121006号に記載され
ているので該特許を引用しておく。すなわち、ポ
リエステル、ポリビニルブチラール、Formar
(商品名)、ポリカーボネート樹脂(特に、
Makrolonとして市販されているもの)、ポリビ
ニカルバゾール、エポキシ樹脂、フエノキシ樹
脂、ポリヒドロキシエーテルとして市販されてい
るもの等が挙げられる。
ホール移動層5および17については、第3図
〜第8図に関連して説明したとおりである。
〜第8図に関連して説明したとおりである。
さらに、本発明に従えば、前述した感光装置を
用いる像形成方法が提供される。この像形成方法
は、一般に、像形成部材上に静電潜像を形成し、
次いで、該像を既知の現像剤で現像し、その後、
この像を適当な基体に転写し該基体に恒久的に定
着する工程を含む。感光装置が印写システムに用
いられる場合にも工程を含むが、但し、広範囲の
スペクトルを有する白色光源の代わりにレーザ装
置ないしはイメージバーを用いて露光が行われ
る。この場合、赤外線照射に感応するような感光
装置が用いられる。
用いる像形成方法が提供される。この像形成方法
は、一般に、像形成部材上に静電潜像を形成し、
次いで、該像を既知の現像剤で現像し、その後、
この像を適当な基体に転写し該基体に恒久的に定
着する工程を含む。感光装置が印写システムに用
いられる場合にも工程を含むが、但し、広範囲の
スペクトルを有する白色光源の代わりにレーザ装
置ないしはイメージバーを用いて露光が行われ
る。この場合、赤外線照射に感応するような感光
装置が用いられる。
次に本発明を特定の好ましい実施例に沿つて説
明するが、これらの実施例は、例示の目的のため
のものにすぎない。本発明は該実施例に記載され
ているような材料、処理条件等に限定されるもの
ではなく、特にことわらない限り、部またはパー
セントは重量によるものである。
明するが、これらの実施例は、例示の目的のため
のものにすぎない。本発明は該実施例に記載され
ているような材料、処理条件等に限定されるもの
ではなく、特にことわらない限り、部またはパー
セントは重量によるものである。
実施例
磁気撹拌装置、温度計、デイーン・スターク
(Dean Stark)トラツプおよび凝縮器を備え、ア
ルゴンを充てんした1000mlの三つ口丸底フラスコ
に、5.7g(0.05モル)のスクアリン酸、13.7g
(0.1モル)の3−フルオロ−N,N−ジメチルア
ニリン、200mlのベンゼンおよび400mlのn−ブタ
ノールを添加した。この混合物を24時間還流条件
下に放置し、得られた不均一相生成物を室温まで
冷却した。
(Dean Stark)トラツプおよび凝縮器を備え、ア
ルゴンを充てんした1000mlの三つ口丸底フラスコ
に、5.7g(0.05モル)のスクアリン酸、13.7g
(0.1モル)の3−フルオロ−N,N−ジメチルア
ニリン、200mlのベンゼンおよび400mlのn−ブタ
ノールを添加した。この混合物を24時間還流条件
下に放置し、得られた不均一相生成物を室温まで
冷却した。
ろ過すると青色の結晶であるビス(4−ジメチ
ルアミノ−2−フルオロフエニルスクアラインが
生成し、これをフリツトガラスロートに集め、次
いで、このスクアライン化合物を100mlのアセト
ンで洗い、1.0gの生成物を得た。
ルアミノ−2−フルオロフエニルスクアラインが
生成し、これをフリツトガラスロートに集め、次
いで、このスクアライン化合物を100mlのアセト
ンで洗い、1.0gの生成物を得た。
次いで、このスクアラインを標準的な元素分析
に供したところ、次の結果を得た。
に供したところ、次の結果を得た。
計算値:C67.4;H5.1;N7.9;F10.7
実測値:C67.4;H5.1;N7.9;F10.5
また、赤外線分析は次のとおりであつた。
(IR)(KBr):1595cm-1
実施例
磁気撹拌装置、温度計、デイーン・スタークト
ヨツプおよび凝縮器を備え、アルゴン充てんした
1000mlの三つ口丸底フラスコに、5.7g(0.05モ
ル)のスクアリン酸、230mlのトルエンおよび230
mlのn−ブタノールを添加した。この混合物を45
分間還流条件下に放置し、スクアライン酸のすべ
てを混合溶媒に溶解させた。次いで、この加熱溶
液に13.7gの3−フルオロ−N,N−ジメチルア
ミンを添加したところ、ただちに、青色の溶液が
得られた。その後、反応混合物を24時間還流し、
ついでこの不均一相生成物を室温まで冷却した。
ヨツプおよび凝縮器を備え、アルゴン充てんした
1000mlの三つ口丸底フラスコに、5.7g(0.05モ
ル)のスクアリン酸、230mlのトルエンおよび230
mlのn−ブタノールを添加した。この混合物を45
分間還流条件下に放置し、スクアライン酸のすべ
てを混合溶媒に溶解させた。次いで、この加熱溶
液に13.7gの3−フルオロ−N,N−ジメチルア
ミンを添加したところ、ただちに、青色の溶液が
得られた。その後、反応混合物を24時間還流し、
ついでこの不均一相生成物を室温まで冷却した。
実施例の手法によりビス(4−ジメチルアミ
ノ−2−フルオロフエニル)スクアラインと同定
されたこの青色結晶顔料をフリツトガラスロート
上に集め、エチルアセテートで洗い、0.7gの生
成物を得た。
ノ−2−フルオロフエニル)スクアラインと同定
されたこの青色結晶顔料をフリツトガラスロート
上に集め、エチルアセテートで洗い、0.7gの生
成物を得た。
実施例により調製されたスクアラインを光導
電性材料とし、また、樹脂バインダにアミンを分
散させたものを電荷移動層として含有する感光装
置を作つた。すなわち、ボール粉砕されて得たア
ルミニウム基体(厚さ150ミクロン)を準備し、
これに、フイルムアプリケータ(多段クリアラン
ス式)を用いて、エタノールに溶かした(体積比
1:20)N−メチル−3−アミノプロピルトリメ
トキシシラン(米国フロリダ州のPCR Research
Chemicalによつて市販されているもの)を湿潤
時の厚さが0.5ミルとなるように塗布した。次い
で、この層を5分間室温で乾燥した後、強制送風
炉中で110℃で10分間乾燥した。
電性材料とし、また、樹脂バインダにアミンを分
散させたものを電荷移動層として含有する感光装
置を作つた。すなわち、ボール粉砕されて得たア
ルミニウム基体(厚さ150ミクロン)を準備し、
これに、フイルムアプリケータ(多段クリアラン
ス式)を用いて、エタノールに溶かした(体積比
1:20)N−メチル−3−アミノプロピルトリメ
トキシシラン(米国フロリダ州のPCR Research
Chemicalによつて市販されているもの)を湿潤
時の厚さが0.5ミルとなるように塗布した。次い
で、この層を5分間室温で乾燥した後、強制送風
炉中で110℃で10分間乾燥した。
次に、以下のように、30重量パーセントのビス
(4−ジメチルアミノ−2−フルオロフエニル)
スクアラインを含有する光導電性層を調製した。
(4−ジメチルアミノ−2−フルオロフエニル)
スクアラインを含有する光導電性層を調製した。
2オンスのコハクびんのそれぞれに、0.33gの
前記スクアライン、0.75gのVitel PE−200
(Goodyear社製ポリエステルの商品名)、85gの
1/8インチステンレス鋼シヨツト、および20mlの
エチルケトン・トルエン混合溶剤(体積比4:
1)を添加した。次いで、得られたスラリを、多
段クリアランス式フイルムアプリケートを用いて
湿潤時の厚さが1ミリとなるようにアルミニウム
製基体に被覆した。次に、得られた装置を強制送
風炉内で135℃において6分間乾燥したところ、
乾燥後のスクアライン層の厚さは1ミクロンであ
つた。
前記スクアライン、0.75gのVitel PE−200
(Goodyear社製ポリエステルの商品名)、85gの
1/8インチステンレス鋼シヨツト、および20mlの
エチルケトン・トルエン混合溶剤(体積比4:
1)を添加した。次いで、得られたスラリを、多
段クリアランス式フイルムアプリケートを用いて
湿潤時の厚さが1ミリとなるようにアルミニウム
製基体に被覆した。次に、得られた装置を強制送
風炉内で135℃において6分間乾燥したところ、
乾燥後のスクアライン層の厚さは1ミクロンであ
つた。
次いで、このようにして得られた光導電性層に
電荷移動層を被覆した。その手法は次のとおりで
ある。
電荷移動層を被覆した。その手法は次のとおりで
ある。
移動層の構成成分として、50重量パーセントの
Makrolon(Larbensabricken Bayer A.G.製ポリ
カーボネート樹脂の商品名)を50重量パーセント
のN,N′−ビス(3−メチルフエニル)−1,
1′−ビフエニル−4,4′−ジアミンと混合した。
該溶液は塩化メチレン中の9重量パーセント溶液
となるようにした。これらの成分をコハクびん中
に放置して溶解させた。多段クリアランス式フイ
ルムアプリケータ(湿潤時ギヤツプ:15ミル)を
用いて、この混合物を前述のスクアラインから成
る光導電性層の上に被覆して、乾燥時の厚さが30
ミクロンになるようにした。次いで、得られた装
置を室温下に20分間空気乾燥した後、強制送風炉
内で135℃において6分間乾燥した。
Makrolon(Larbensabricken Bayer A.G.製ポリ
カーボネート樹脂の商品名)を50重量パーセント
のN,N′−ビス(3−メチルフエニル)−1,
1′−ビフエニル−4,4′−ジアミンと混合した。
該溶液は塩化メチレン中の9重量パーセント溶液
となるようにした。これらの成分をコハクびん中
に放置して溶解させた。多段クリアランス式フイ
ルムアプリケータ(湿潤時ギヤツプ:15ミル)を
用いて、この混合物を前述のスクアラインから成
る光導電性層の上に被覆して、乾燥時の厚さが30
ミクロンになるようにした。次いで、得られた装
置を室温下に20分間空気乾燥した後、強制送風炉
内で135℃において6分間乾燥した。
上記のように調製した感光体装置をゼログラフ
像形成テスト装置に導入し、スチレン/n−ブチ
ルメタアクリレート樹脂を含有するトナー粒子で
現像したところ、優れた解像力を有する高品質の
コピーが得られた。
像形成テスト装置に導入し、スチレン/n−ブチ
ルメタアクリレート樹脂を含有するトナー粒子で
現像したところ、優れた解像力を有する高品質の
コピーが得られた。
実施例
アルミニウム含有マイラー(Mylar)から基体
(厚さ3ミル)に、0.5重量パーセントのdupont
(dupont49000社製ポリエステル)を塩化メチレ
ンおよび1,1,2−トリクロロエタン(体積比
4:1)に溶かした溶液バード(Bird)アプリ
ケータを用いて湿潤時の厚さが0.5ミルとなるよ
うに塗布した。得られた層を室温で1分間乾燥
し、さらに、強制送風炉内で100℃において10分
間乾燥したところ、乾燥時の厚さが0.05ミクロン
の層が得られた。
(厚さ3ミル)に、0.5重量パーセントのdupont
(dupont49000社製ポリエステル)を塩化メチレ
ンおよび1,1,2−トリクロロエタン(体積比
4:1)に溶かした溶液バード(Bird)アプリ
ケータを用いて湿潤時の厚さが0.5ミルとなるよ
うに塗布した。得られた層を室温で1分間乾燥
し、さらに、強制送風炉内で100℃において10分
間乾燥したところ、乾燥時の厚さが0.05ミクロン
の層が得られた。
次に、10体積パーセントの三方晶セレン、25体
積パーセントのN,N′−ジフエニル−N,N′−
ビス(3−メチルフエニル)1,1′−ビフエニル
−4,4′−ジアミン、および65体積パーセントの
ポリビニルカルバゾールを含有する光発生層を次
のように調製した。
積パーセントのN,N′−ジフエニル−N,N′−
ビス(3−メチルフエニル)1,1′−ビフエニル
−4,4′−ジアミン、および65体積パーセントの
ポリビニルカルバゾールを含有する光発生層を次
のように調製した。
2オンスのコハクびんに0.8gのポリビニルカ
ルバゾールおよび14mlのテトラヒドロフラン/ト
ルエン混合溶媒(体積比1:1)を添加した。得
られた溶液に、、ついで、3.8gの三方晶セレンお
よび100gの1/8インチステンレス製シヨツトを添
加した。得られた混合物を72〜96時間ボールミル
操作に供した。次いで、得られたスラリー5g
を、6.3mlのテトラヒドロフラン/トルエン(体
積比1:1)に溶かしたポリビニルカルバゾール
(0.18g)およびN,N′−ジフエニル−N,N′−
ビス(3−メチルフエニル)1,1′−ビフエニル
−4,4′−ジアミン(0.15g)の溶液に添加し
た。次にこのようにして得られたスラリをシエカ
ーに5分間供した。次いで、このスラリを、バー
ドアプリケータを用い前記のポリエステル製界面
上に被覆して、湿潤時の厚さが0.5ミルとなるよ
うにし、その後、強制送風炉内で135℃において
6分間乾燥したところ、乾燥時の厚さは2.0ミク
ロンであつた。
ルバゾールおよび14mlのテトラヒドロフラン/ト
ルエン混合溶媒(体積比1:1)を添加した。得
られた溶液に、、ついで、3.8gの三方晶セレンお
よび100gの1/8インチステンレス製シヨツトを添
加した。得られた混合物を72〜96時間ボールミル
操作に供した。次いで、得られたスラリー5g
を、6.3mlのテトラヒドロフラン/トルエン(体
積比1:1)に溶かしたポリビニルカルバゾール
(0.18g)およびN,N′−ジフエニル−N,N′−
ビス(3−メチルフエニル)1,1′−ビフエニル
−4,4′−ジアミン(0.15g)の溶液に添加し
た。次にこのようにして得られたスラリをシエカ
ーに5分間供した。次いで、このスラリを、バー
ドアプリケータを用い前記のポリエステル製界面
上に被覆して、湿潤時の厚さが0.5ミルとなるよ
うにし、その後、強制送風炉内で135℃において
6分間乾燥したところ、乾燥時の厚さは2.0ミク
ロンであつた。
さらに、実施例の手法を繰り返すことにより
30重量パーセントのビス(4−ジメチルアミノ−
2−フルオロフエニル)スクアラインを含有する
光導電性層を調製し、この層を前述のように得ら
れた光発生層上にバードアプリケータを用いて被
覆した。
30重量パーセントのビス(4−ジメチルアミノ−
2−フルオロフエニル)スクアラインを含有する
光導電性層を調製し、この層を前述のように得ら
れた光発生層上にバードアプリケータを用いて被
覆した。
次いで、このようにして得られた光導電性層に
電荷移動層を被覆した。その手法は次のとおりで
ある。
電荷移動層を被覆した。その手法は次のとおりで
ある。
移動層の構成成分として、50重量パーセントの
Makrolon(Larbensabricken Bayer A.G.製ポリ
カーボネート樹脂の商品名)を50重量パーセント
のN,N′−ビス(3−メチルフエニル)1,1′−
ビフエニル−4,4′−ジアミンと混合した。溶液
は塩化メチレン中の9重量パーセント溶液となる
ようにした。これらの成分をコハクびん中に放置
して溶解させた。多段クリアランス式フイルムア
プリケータ(湿潤時ギヤツプ15ミル)を用いてこ
の混合物を前述のスクアラインから成る光導電性
層の上に被覆して、乾燥時の厚さが30ミクロンに
なるようにした。次いで、得られた装置を室温下
に20分間空気乾燥した後、強制送風列内で135℃
において6分間乾燥した。
Makrolon(Larbensabricken Bayer A.G.製ポリ
カーボネート樹脂の商品名)を50重量パーセント
のN,N′−ビス(3−メチルフエニル)1,1′−
ビフエニル−4,4′−ジアミンと混合した。溶液
は塩化メチレン中の9重量パーセント溶液となる
ようにした。これらの成分をコハクびん中に放置
して溶解させた。多段クリアランス式フイルムア
プリケータ(湿潤時ギヤツプ15ミル)を用いてこ
の混合物を前述のスクアラインから成る光導電性
層の上に被覆して、乾燥時の厚さが30ミクロンに
なるようにした。次いで、得られた装置を室温下
に20分間空気乾燥した後、強制送風列内で135℃
において6分間乾燥した。
かくして、アルミニウム含有マイラーから成る
基体、三方晶セレンから成る光発生層、ビス(4
−ジメチルアミノ−2−フルオロフエニル)スク
アラインから成る光導電性層、および、最上層と
して前記のアミンから成る電荷移動層を含有する
感光装置が得られた。
基体、三方晶セレンから成る光発生層、ビス(4
−ジメチルアミノ−2−フルオロフエニル)スク
アラインから成る光導電性層、および、最上層と
して前記のアミンから成る電荷移動層を含有する
感光装置が得られた。
実施例および実施例の手法を繰り返すこと
により更に別の感光装置を調製した。但し、この
場合には、光発生層として、75重量パーセントの
セレンと25重量パーセントのテルルから成るセレ
ン・テルル合金、または、99.99重量パーセント
のセレンと0.1重量パーセントのヒ素から成るヒ
素・セレン合金を用いた。
により更に別の感光装置を調製した。但し、この
場合には、光発生層として、75重量パーセントの
セレンと25重量パーセントのテルルから成るセレ
ン・テルル合金、または、99.99重量パーセント
のセレンと0.1重量パーセントのヒ素から成るヒ
素・セレン合金を用いた。
次に、実施例およびの各感光装置について
可視および赤外スペクトル領域中での感光性につ
いて調べた。すなわち、それらの装置を−800ボ
ルトに負にコロナ帯電させ、次いで各装置を約
400〜約1000ナノメーターの波長領域の単色光に
同時に露出することにより試験した。実施例の
感光装置は主として400から700ナノメーターの波
長領域の光に感応し、可視光感応性を有すること
が示された。他方、実施例の装置は、約400か
ら約950ナノメーターの波長領域の光に優れた感
応性を有し、可視および赤外の両領域において感
応性を有することが示された。
可視および赤外スペクトル領域中での感光性につ
いて調べた。すなわち、それらの装置を−800ボ
ルトに負にコロナ帯電させ、次いで各装置を約
400〜約1000ナノメーターの波長領域の単色光に
同時に露出することにより試験した。実施例の
感光装置は主として400から700ナノメーターの波
長領域の光に感応し、可視光感応性を有すること
が示された。他方、実施例の装置は、約400か
ら約950ナノメーターの波長領域の光に優れた感
応性を有し、可視および赤外の両領域において感
応性を有することが示された。
さらに、実施例およびに従つて調製した感
光体装置をゼログラフ像形成テスト装置に導入
し、スチレン/n−ブチルメタアクリレート樹脂
を含有するトナー粒子で現像したところ、優れた
解像力を有する高品質のコピーが得られた。
光体装置をゼログラフ像形成テスト装置に導入
し、スチレン/n−ブチルメタアクリレート樹脂
を含有するトナー粒子で現像したところ、優れた
解像力を有する高品質のコピーが得られた。
実施例
磁気撹拌装置を備えた窒素が導入された100ml
の三つ口フラスコにおいて、0.1mlの濃硫酸を含
有し水で飽和された5mlの1−ブタノールに、
1.13g(5ミリモル)のジ−n−ブチルスクアレ
ート(squarate)を溶解させた。該三つくびフラ
スコを有する油浴を120℃から130℃に維持しなが
ら、前記混合物を撹拌し不活性雰囲気下に還流さ
せた。次に均圧ロートを用い、この反応混合物に
約7時間から約8時間かけて(30分当り2滴)
1.40gの3−フルオロ−N,N−ジメチルアニリ
ンを添加した。該時間の終りには、溶液が明縁色
に変色した。約24時間還流を継続し、次いで、反
応混合物を室温に冷却し、このとき、2mlのトリ
エチルアミンおよび30mlのエーテル/メタノール
混合物(1:1)を添加した。半焼結ガラス製ロ
ートを用いて濾過することにより、反応混合物か
ら沈澱生成物を単離した後、ろ液が明青色になる
までエーテル/メタノール溶液(1:1)を用い
て洗つた。0.34gのビス(4−ジメチルアミノ−
2−フルオロフエニル)スクアラインが得られた
(収率19%)。生成物の分析は、元素分析(炭素、
水素、窒素およびフツ素)、吸収分光法、赤外線
分析、および質量スペクトル分析を用いて行なわ
れた。また、この物質の融点は273℃であつた。
の三つ口フラスコにおいて、0.1mlの濃硫酸を含
有し水で飽和された5mlの1−ブタノールに、
1.13g(5ミリモル)のジ−n−ブチルスクアレ
ート(squarate)を溶解させた。該三つくびフラ
スコを有する油浴を120℃から130℃に維持しなが
ら、前記混合物を撹拌し不活性雰囲気下に還流さ
せた。次に均圧ロートを用い、この反応混合物に
約7時間から約8時間かけて(30分当り2滴)
1.40gの3−フルオロ−N,N−ジメチルアニリ
ンを添加した。該時間の終りには、溶液が明縁色
に変色した。約24時間還流を継続し、次いで、反
応混合物を室温に冷却し、このとき、2mlのトリ
エチルアミンおよび30mlのエーテル/メタノール
混合物(1:1)を添加した。半焼結ガラス製ロ
ートを用いて濾過することにより、反応混合物か
ら沈澱生成物を単離した後、ろ液が明青色になる
までエーテル/メタノール溶液(1:1)を用い
て洗つた。0.34gのビス(4−ジメチルアミノ−
2−フルオロフエニル)スクアラインが得られた
(収率19%)。生成物の分析は、元素分析(炭素、
水素、窒素およびフツ素)、吸収分光法、赤外線
分析、および質量スペクトル分析を用いて行なわ
れた。また、この物質の融点は273℃であつた。
計算値(C20H18N2O2Fとして):
C67.44;H5.09;N7.87;F10.67
実測値:C67.58;H5.35;N7.79;F10.81
なお、本発明は、特定の好ましい態様に沿つて
説明されたが、それに限定されるものではなく、
当業者に自明の種々の変形や修正も本発明に含ま
れることは勿論である。
説明されたが、それに限定されるものではなく、
当業者に自明の種々の変形や修正も本発明に含ま
れることは勿論である。
第1図は、本発明の感光装置の一部断面略図で
ある。第2図は、本発明の感光装置の一部断面略
図である。第3および4図は、本発明に包含され
る感光装置の一部断面略図である。第5図は、本
発明の感光装置の一部断面略図である。第6図
は、本発明の感光装置の別の実施態様を示す。第
7図は、本発明の感光装置の別の実施態様を示
す。第8図は、本発明の感光装置の更に別の実施
態様の一部を概示する断面図である。
ある。第2図は、本発明の感光装置の一部断面略
図である。第3および4図は、本発明に包含され
る感光装置の一部断面略図である。第5図は、本
発明の感光装置の一部断面略図である。第6図
は、本発明の感光装置の別の実施態様を示す。第
7図は、本発明の感光装置の別の実施態様を示
す。第8図は、本発明の感光装置の更に別の実施
態様の一部を概示する断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持基体と、 一般式 (但し、R1、R2、R3およびR4は、1〜20の炭
素原子を有するアルキル基から選ばれる)を有す
るフツ素化スクアライン化合物を含む光導電性層
と、ジアミンから成るホール移動層とを、この順
序で有することを特徴とする感光応答性装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/558,224 US4486520A (en) | 1983-12-05 | 1983-12-05 | Photoconductive devices containing novel squaraine compositions |
US558224 | 1983-12-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60136542A JPS60136542A (ja) | 1985-07-20 |
JPH055349B2 true JPH055349B2 (ja) | 1993-01-22 |
Family
ID=24228678
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59251480A Granted JPS60136542A (ja) | 1983-12-05 | 1984-11-28 | 新規なスクアライン化合物を含有する感光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4486520A (ja) |
EP (1) | EP0145400B1 (ja) |
JP (1) | JPS60136542A (ja) |
CA (1) | CA1235709A (ja) |
DE (1) | DE3484646D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019131430A1 (ja) | 2017-12-26 | 2019-07-04 | 旭有機材株式会社 | バタフライバルブの配管用調芯機構 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4606986A (en) * | 1983-12-05 | 1986-08-19 | Xerox Corporation | Electrophotographic elements containing unsymmetrical squaraines |
US4644082A (en) * | 1983-12-05 | 1987-02-17 | Xerox Corporation | Photoconductive devices containing novel benzyl fluorinated squaraine compositions |
US4626485A (en) * | 1984-05-11 | 1986-12-02 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Substituted squarium compounds, process for preparing the same and electrophotographic photoreceptors containing the same |
US4559286A (en) * | 1984-09-13 | 1985-12-17 | Xerox Corporation | Mixed squaraine photoconductive compositions |
JPH067268B2 (ja) * | 1984-10-26 | 1994-01-26 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真用感光体 |
US4585895A (en) * | 1985-02-20 | 1986-04-29 | Xerox Corporation | Processes for the preparation of mixed squaraine compositions |
US4746756A (en) * | 1985-06-24 | 1988-05-24 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with novel fluorinated squaraine compounds |
JPS63113465A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPS63113468A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPH0727245B2 (ja) * | 1986-11-25 | 1995-03-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体 |
JP2871181B2 (ja) * | 1991-07-09 | 1999-03-17 | ブラザー工業株式会社 | 光硬化型組成物 |
JP3141517B2 (ja) | 1992-05-14 | 2001-03-05 | ブラザー工業株式会社 | 光硬化型組成物 |
JP3362745B2 (ja) * | 1993-07-28 | 2003-01-07 | ブラザー工業株式会社 | 感光性マイクロカプセル型トナー |
JP4935079B2 (ja) * | 2005-01-12 | 2012-05-23 | 住友化学株式会社 | オキソカーボン類を含有する高分子組成物及びその用途 |
US9484123B2 (en) | 2011-09-16 | 2016-11-01 | Prc-Desoto International, Inc. | Conductive sealant compositions |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1772688A1 (de) * | 1968-06-20 | 1971-05-27 | Agfa Gevaert Ag | Sinsibilisierte photoleitfaehige Schichten |
US3824099A (en) * | 1973-01-15 | 1974-07-16 | Ibm | Sensitive electrophotographic plates |
US4123270A (en) * | 1975-09-15 | 1978-10-31 | International Business Machines Corporation | Method of making electrophotographic imaging element |
US4150987A (en) * | 1977-10-17 | 1979-04-24 | International Business Machines Corporation | Hydrazone containing charge transport element and photoconductive process of using same |
US4353971A (en) * | 1980-12-08 | 1982-10-12 | Pitney Bowes Inc. | Squarylium dye and diane blue dye charge generating layer mixture for electrophotographic light sensitive elements and processes |
-
1983
- 1983-12-05 US US06/558,224 patent/US4486520A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-11-20 CA CA000468189A patent/CA1235709A/en not_active Expired
- 1984-11-27 DE DE8484308206T patent/DE3484646D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-11-27 EP EP84308206A patent/EP0145400B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-11-28 JP JP59251480A patent/JPS60136542A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019131430A1 (ja) | 2017-12-26 | 2019-07-04 | 旭有機材株式会社 | バタフライバルブの配管用調芯機構 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0145400A2 (en) | 1985-06-19 |
JPS60136542A (ja) | 1985-07-20 |
CA1235709A (en) | 1988-04-26 |
EP0145400A3 (en) | 1986-04-23 |
US4486520A (en) | 1984-12-04 |
EP0145400B1 (en) | 1991-05-29 |
DE3484646D1 (de) | 1991-07-04 |
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