JPS5947396A - シ−ムレス缶用電気めつきぶりき - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はシームレス缶用７１１：気めっきぶりきに関し
、より詳しくは絞りしごき（ハ■）加工性に優れたシー
ムレス缶用電気めっきぶりきに関する。 従来１）　Ｉ加工によって製缶するだめの金属板素材と
してはＭ板と比較的厚めつきの電気めっきぶりきが一般
に用いられている。また一部Ｃ二鋼板等の金属板表面に
潤滑性のある有ｌａもしくはＳｎ以外の無機被膜を施し
たものもシームレス缶用素材として研究されているがな
お実用θ）段階には至っていない。 これらの素材の内、ＡＱ板は現在多用されてはいるが、
元来精製段階で（１先の電気コーマ・ルギーな必要とす
るのみならず、空缶の土中腐食速度がぶりき等）表面処
理鋼板に比しで極めて遅いのでヌクラップ回収率が１０
０％近くにな　ら　ない限り、環境上の問題に避は難い
のが実状である。 そして、　′ｒ’ｊｉ、気めっきぶりきを用いっ−）更
にコストダウン会・図イ）うと丁れば、商価な８１時）
っきｉ：

【）の削へが最も」二近４ｃ解決法となるが、
同時にＤＩ加工時の混１滑性に間ｈ゛！１が生じる事を
避けられないといつ間ＪｉＩＩ点が、（・、っＩこ。 そこで５本発明り等は、シームレス缶用電気めっきぶり
きにおける化学処理（後処理）を、槌来のグ［１ム酸系
処理からリン酸系処Ｊ１１とする事により、Ｄ　ｌ加工
性を損なう事なくｓＩＩめ−っき′ｉａ、を低減なしイ
１する小を見い出し、種々実験、４察の結果、本発明に
到達し、た。 本発明の目的はｌ）　ｌ加工性の優ハ、たシートレスｒ
＋’＋　／Ｉｌ　’１１’１’、気め−〉久ふり−＼を
提供下／、）にＪＮイ）。 本発明の（ＩＩＩ　（／＋　１−１的けＩ）　ｌ加工性
を卸持し７りっＳｎ目（１’　ＩＩＩを少なくした経済
的なシームレス缶用電気めつ入ぶり八を、　ｔ、Ｉ、二
ｆ共するにある。 本発明により、　：３１１めっき層表面に施された化学
処理被膜中に、Ｐ　：　０．０１−１０．００　ｍＶ’
ｎｔ”を含む事を４′ｌｉ、徴と′１−ろシームレス缶
用′＃ｉ３：気めっきぶりき、及びＳｌｌめつ成層表向
に施された化学処理被膜中にＰ　：　０．０１〜１０．
００１％ｌ／ｍ’及びＩｌ、　：　Ｏ，ｔ）１−１．ｔ
ｌ　Ｏｍｇ）／ｒｎ、″を含む事を特徴とするシームレ
ス缶用電気めつきぶりきが提供される。 以下に本発明の詳細な説明する。 従来のシームレス缶用′屯気めっきぶりきは、１１ｊ・
ｌ　ｉｋ性と塗料密着性向上のため、′嘔気Ｓｎめっき
後リフローをし、もしくはリフローしないでイ夛処理と
して重クロム酸ソーダ等のクロム酸系水溶液中に浸漬乃
至陰極電解処理を行なうのが１■通であった。 ところが、これらクロム酸系処理の結果生じる化学処理
被膜は、１〕［加工、１ｉｉＪ：中Ｉｒｏ旧ｎｇ　（シ
ごき）加工時において潤滑性が劣り、これを補なうため
１：　３ｎ目月ｆｉｔ　’ａ：少なくとも２．８　？／
ｍ”す、」−は確保［７なければならず、従ってそれ以
Ｊ−のコストダウンを図れないという限界があった。 クロム酸系化学処理被膜がしごき潤１１“Ｙ性に劣る理
由は、該被膜下層の金属（Ｊａｒ層及び−に層のクロメ
ート層のいづれもが比較的硬′ｔＱで脆く、シかも一般
に不均質であるために、１）ｉｅ−Ｒｉ口口内内面缶素
材表面との間で局部的な焼付であるかじり現象を生じる
′口によるものと推定される。この「かしり」はｔ、ご
入力量の線状表面疵であっ−Ｃ５ひどい場合には缶胴が
裂け、成形不能と／′、Ｃることがある。 必らず実施さＪ’ＬるＪＪ　Ｉ加工後の１′Ｔ機高分子
塗膜によって主とし°Ｃ保証されるのが今や常識となっ
ているから、そのための塗料密着性と耐酸化黄変性さえ
確保出来れば、特にブロム酸系被膜でなければならない
理由はない。 そこで、本発明音等は、クロム酸系化学処理被膜に比し
ＣＬ、ご〜（潤滑性に冨んだリン酸系化学処理をふり−
＼ｉ！曲にｆ；Ｉ　！ミビ「るｌＸにより、ＤＩｌ加工
性ｒ；、＋２料密看性、ｍｉ、ｌ酸化黄変性及び経済性
を具（ｉｉｔｉ　Ｔるシームレスｊｌ「Ｉｌｌ　７ｉｉ
気め−）−Ｃぶりきが得られる事を予測して諸ｆΦ′Ｊ
こ験不−行なった。 その結果、不究明にかかるリン酸系化学処理液と［７゛
Ｃは、諸ト１旨雪えられたが、浸漬処理と電解処理によ
ってＪ凶市ｒ６　＃）ｉ成が変つＣ来るので以ドに各別
に詳述する。 浸漬処理 本発明１　（特ｈ１請求θ）小口囲弔Ｊ項記・代の発明
、以下同様）の場合、浸漬処理では始んどＰ成分がＳｎ
めつき層表面に付着せず、本発明１のＰ含ｒＴれ１を保
証出来ないのでここでは対９ξどＬ−ｔｒい。（刀で本
発明２（特許請求のｒｌ（α間第４項記戦の発明、以下
同様）の場合には次の様な浴組成が有効である。 先づりん酸の例としては次のものが挙けられる。 丁なわち、オルトりん酸化ｐｏ、及びこれらの塩、例え
はアルカリ金属塩としてＮａ３ＰＯ４，Ｋ３ＰＯ４等。 アルカリ金属θ目水素りん酸塩としてＮ　ｎ　ｚｌ−］
ＪＪ０４゜Ｋ２ＦＩＰ０４１ＪＩＦＩＩ’０４等、同２
水素りん酸１；１．１髪、！−１−でＮ＋’１Ｈ２Ｐ０
４１（１１２ＰＯ４Ｌｉｌ−（□Ｉ’０．等、またりん
酸水素ｒルミニウム塩としてＡＮ　（Ｈ２ＰＯ４）　３
．　Ａμ２（１−ＩｒＯ２）３等、アンモニウム塩とし
て（ＮＨ，）２１１１）０．　（ＮＨ４）Ｈ２１）０４
（Ｎｌ−１４）３ＰＯ４等、マグネシウム塩と［７てＭ
ｇ３（ＰＯ４）２Ｍｇ　（Ｎｌ（、）　ＰＯ４等があｌ
）、またメクりん酸塩とし・てＮａＰＯ，ＫＰＯ，（Ｎ
Ｈ４ＰＯ３）、等かあ（ｊ、ピロりん酸１−（４Ｐ、、
０７　　及びその塩であルＮａ４Ｐ２０．．　Ｋ４Ｐ２
０□。 （ＮＨ４）　４Ｐ２０７Ｃａ２Ｐ２０．　Ｍｇ２Ｐ２０
７ｔ９＝があり、ピロリ／ｌ、、　ｒ＋υｋ　：：’（
ｉ　トｒ、、：　）：　１．、　テＮ＋１２１１２Ｐ２
０．　　Ｋ２１ｔ、Ｐ、０．　等カアＩＪ、「ｌｔｊり
ん１妹１１，１旧０詭びその塩であるＮａ、Ｉ’１１（
、）、　、に２ＰＩｔｙ３（−ａｌ、’１ＴＯａ　　、
’＜’があり、　’Ｊｉ　ニＮ”Ｎｔｉ４［［，１−’
０４等のりん酸塩があＺ）１、 トす：　１−ｏ）１種又−２挿以上に含む７１り溶１（
ｋのみではＳ１１め−）きｉ５？ｉにＰが充分付着［、
）９［いので、用層促進剤、’：　Ｌ　テＡｆｆ２（８
０，）　、、　Ａｌ１　（０１（）、、　’Ｊ　ノＡＰ
、化合物を加えろ。 なお上記りん化合物の１種又は２　＋ｑｆ以上の含有淵
ＩＷは１〜５　ｔ）　Ｏｙ／ｌ）、が適当であり、上記
の付看促：ｌｆ、剤で、イ′、る△ν化合物の含有濃度
は、０．１〜１（ｌ　Ｏ？／νが＋！；’ｊ当であ２）
。 上記０ん化合物ン農凹の限定理由は、Ｉ　ｙ／ｎ未満で
はｉ′効／［Ｐ付ｆ′セ）改がｆ面保出来ず、また５　
００　ｆｌＩＩ。 を、ｔ＜Ｈえろとドラ・ｌグアウド消粍１１（が多くな
って不祥メ斉であるから０本）る。また伺ｒ［（足進剤
については、（１，Ｉ　ｒ／旦［し況１では同（１にｎ
゛効Ｘζ：Ｐ付看歌が確保用−，Ｊ６　ｌＣいか１）で
７ちり、１００　Ｆ／αを超えると沈澱物（（３，、戊
１１泊向が強＜　ｆｃるので望ましくないからである。 そして水浴のＰ　、Ｈ〕西正範囲は１〜６であり、この
調整は上記りん化合′物就中りん＋’＋！：、（／１１
恥・す１１．１）シくはＮａ０１１．　ＫＯｔｌ等の１
ｌｆｉ　１１１１によりイＩ−）ことが出来る。 なおｐ　Ｈの一ド限はｐ　Ｉｔ、　ｌ　　、Ｊ二りも小
さくするには■１３ＰＯ４が余剰に必要であｌＪ、かつ
＆面簡層の暦［１食が著しくなるためである。またｐ　
ｌ−１が（ｉ　ｋ　＋ｌｄえると浴θ）沈殿物形成が著
しくなるために、１−限を６とした。 なお浸漬処理する前に錫めつＡ鋼板はリソ１−ノー処理
されていてもよいし、さｆｔないし鼾でもよい事ｔま云
う迄もない。こλＬは後述する小：１・ｉ’ｇ処理の場
合も同様である。 本処理後通常は水洗乾Ｊ、％する。 この浸漬処理において８１１めつきＩく而にＰが付イ１
ｆ゛するｒＪ、構は、−晒化学めつきＯ）　ｔＪ、ｌｌ
き置１９０文応に（７〈るものとは考えられず、物理的
の１７）、なＬ’）　ｔ’　Ｉヒ学的な眼前現象である
髄に見受けら、１１．る。 電解処理 前記浸漬処理は１）１単であるが、Ｐ　１・Ｊ’　ａ晴
の制θ１ｊが容易でない傾向があるので、電気ぶりき裂
迫ラインの如き高速処理装置において本発明品を製造す
るには「１（解処哩の方が慢λｔている。モして電解処
理のＩｊ、Ｉ、合には、−Ｊ清処理浴の如く付合促進剤
を添加［る必゛３！ｉは！、ｒい。 屯１′１１Ｃ処哩１６のりん化合物成分としては浸漬処
理ｔ（ｉの１１，１合に挙げたすべてのりん４１１合物
の１種乃至２　、ｆ１ｆｉ以上のＫｌ［合せがｏｌ　１
１１Ｍ能である。含有濃度範囲も同（−ｌに１〜５　（
１（Ｊ　ｆｌ、／ＩｔがＪ１冷当である。但し、限定理
由は、＋（ハ下限につい′Ｃはｔ〜の電気′Ｉ−″ＵＴ
、＄ｔＷを確（’＋：　１−るためで、１ｍ、１１．上
限については浸漬処理浴と同じくド→゛ｌゲアウ）　／
１１耗Ｒ，ｌの増大による経済的理由に１１１−ぢく１
、 極性についでは、ぶりきを陽極とする陽極処理が望まし
いが、陰（・１ハ処理でもＰの付着は可能である。 陽極処理ｊ二１、：いて１３１１めっき層表面に不働態
化被＋１１゛へｆ形成すると共に、その不働態化被膜中
にＰを吸１１゛２曳き（ｔた状（Ｑ３が本発明品として
最も望ましい形態でちる。。 ＩＸλ橢処理のＪ：、〜イヤには、８口めつき層表面が
陰極還元夕受けて活性化したところへりん化合物が吸着
されてＰを含む化学処理被１間が形成されるものＯ〕様
である。 し、かじ、完成品であるぶりきの訃ｆｉｔ、、としては
、主として貯蔵中の耐酸化黄変性や耐［１，５付性の点
で陰極処理被１１カの性能は陽極処理被ハ・′Ｊ３に劣
るので、１湯極処理が望ましいのである一１ 処理′屯気１１は、陽極処理において０１〜１（１０ク
ーロン／ｒｌ　ｍ”の範囲が適当であイ）。１１シ気１
誉（が０．１クーロン／ｄｉ”未満で、鶴れば有効なＰ
がイ・１（１仕ず、１００クーロン／（１，１ル”を、
１（１えろと比１１１ゾ＋ｉ′ａ　＋１−ｒ　＜厚い被
膜を形成して外観を悪＜［２、その、ｉ；すを１性ｆ、
しもよくないのでこｆｌ、を上限とした。 以北の手段によってＧ′１４板のＳ　ＩＩ　Ｗ）−）き
層表面に、１：’　：　Ｏ，（）１〜１０．０’　Ｏｍ
９／ｒｎ”、１）シくにこオｔ（二ＩＪ１１えテＡＯ，
：　０．０１〜１．０　（ＩｍｑΔＩｔ”ａ？含む化学
処」ａ＋　’ｔ〕１ノ膜を形成したものが本発明（・↑
ル１．第２）に（イ：　Ｚ＋　ｉ／−ムレス缶用電気め
つ入ぶりきである。 ここに化学処理被膜中υ）Ｐ成分を限定１、たり〕は次
の理由に依る。 ｊスＣわ（）Ｐが（１，ｔｌ　ｌ　１１７Ａ′ｎ”未ｌ
：？５の従来型（７）　’）　ＵＪ　ＩＡ酸系饋学処１
甲イビｔｉｌｌ−！　したぶりきでは、ｆ）　Ｉ加工性
就中１ｒｏｎ目１ｇ加［性に問題があったことは既に述
べた向りは１羽めら第１．　ｉ’（い０）である。 また１″成分がＩ　ｆｌ、　（１（ｌ　ｎ＋ｑ１ｍ”を
超える稈のりん酸系化学処理を施−４″と、化学処理岐
股ＬＪ相人とｆ「って１）　Ｉ加」１性の向１−が認め
られなくなる１頃向があるか　Ｍ、）　　Ｃ，ｉ’＞　
　ンＩ　、。 ／、Ｃお、波１１１で中ｂ’）Ｐの存在形態について考
察すると、ＰけＳｌｌのりん酸塩となってＳｎの酸化物
と共に化学処理（ｌ１２１１＋：：ｊ中に共存している
と考えらＩする。 １．１１１１１１　Ｌ７受け／ｒい部分即ちシームレス
缶底部の・−ナミ料１°ｊ’？−１：ｌ性ト、ｉ、結局
１＋１１　ｉ萌のぶりへのそれであるが、水量１．・°
４５２発明の場合、従来のクロム酸系浸漬処理によるぶ
りきに比して決し、て劣るもので！・まない。これにつ
いては実施例１−おいて示す。 本発明ぶりき０）最￥）重°鼎な性＋７７７であるＤＩ
加」１性は、潤２１′１剤との／、【じみ性及び限冑Ｉ
ｒｏｎｉｎｇ圧力に結ける耐かじり性によって評価さ才
１．るが、これらは実際には第２ごきエネルギ（ジュー
ル）とかじり発生まて０〕製缶川能個数によ−）で１１
之わす１１Ｆが出来る。 第１図は従来のぶりきと本発明ぶり八〇）シごＮＬエネ
ルギ比φ又しｌこグラフである。 第２図は従来のぶりへと本発明ぶりきのかしり発生まで
のｊ）■製缶＋１Ｊ能個数を比較［７たグーラフである
。 クシ１図において横軸は′眠気めつきにＪ、る５１１（
，１″着ｌｉｔを示す。ＪＩＳＧ３３０３によオｔば、
片面２８りＡｒＬ２が付着１１を表示で４Ｉ−２５に相
当するから、付層は表示ではす５〜＃２５の範囲で、し
ごきエネルギを比較している事になる。なおりＩ製缶速
度はすべて２００個／分で、島り、製缶条件も一定であ
る。この様な低８ｎ付石ｈ１領域において届１：　ｌｄ
＋　ｒ１示すしごきエネルギを見ると、本廃明実施イタ
１日まイノｆ米品である比較例に比してその１−どきエ
ネルギが２　（１０〜４００ジユールも少なくて丁み、
その１１．ｒ口ｉ＋Ｊは持に限界的な低Ｓ”　（Ｊ’　
４　Ｉｆ　（例えば０．５６　ｆ、／ｒｒｔ”　）　ニ
おいで汎ろ［７いＪｌ、１カ’＝　ｆｌＪる□Ｈ１＜　
２図に第６いで、１１．ｉｉ軸は；ｊ′Ｊ１図と同様に
Ｓｎ付着１．１ン・示１７、ｊｉイ軸ｌｒかじを）発生
までの製缶＝、Ｔ能個数を示す。製缶（・（；；Ｗは第
１図の場合２同様に２０　（１個／う）で；Ｆ、＋＋　
、その曲の製缶条件も一定とした。 なお＋　ｏ’ｆ１７−ｍｌジ、Ｌ’にり自テするとしご
き」−具（ポンチ及びグ・イリング）が１蒔本［コシて
来るのでクリアランスが太き（４ｒ）ｌ比較困’ｉ！１
￥となるので１０５個り、下で比較した１、従−）で製
缶ｉＪ（能個数が１（）６以」ユと思われるｌｊ５合１
−向きの矢印ケつけてイ１（わし、ている。 ；１５２図Ｑ）・！Ｉノ缶、１＋１・、１１！よ＋Ｊ、
このようｔｌ低Ｓｎ伺青に領域で本ツ１１明実施例は従
来品である比較例よりも著る１、＜優第１．でいる市が
明白であく）４゜すｉｒｃ　ｂちＳ１１付（’ｆ　ｉｉ
）　２．８　ｆＡｎ、”　（’＃’　２５　）　テハ差
カｔ（いが、Ｓｒｒ付ｉ；、　ｉ、ｉが減じるに従−）
で比較例ではかじ１．１　）＋ｉ％牛までの・ＩＬ“ｌ
　：■’ｔ　ｉｊＪ能個数が急ｒ’）ｉｔに減少するσ
）に対し、本発明実Ｊｉｉ＋；　例ではＳｎ付２２　’
ａ　Ｏ，９ｙ、／ｒｎ”　（す８相当）伺返までは製ｒ
１．ｉ　ｏｒ能個敬１０’個以−１−を維持ｌ、てお１
１　、Ｓｎ付眉１４ｔが極めて少ない０．５５　ｒＡ”
（ｆＦＲ相当）になりで初めて製缶可能個数の減少傾向
を示すに過ぎない。 以−ヒ第１図及び第２図についてＪ・トベ１こように本
発明ぶり・〜は従来のぶりきに比［７°Ｃ１）■加工性
が著るしく優れている。 これは既に述べた如く、不つ１１明ぶりきしｔ　Ｐもし
くはＰとＡｕを含む化学処理波膜がしごき潤、ｉｊｉ浦
とのなじみが艮いのみｔｃらず、従来、へ：すｇｔノ）
４１１人比較的硬質で脆いクロム酸処理（Ｉｙ　１１”
％と異なって極？４１Ｓ的な焼付現象であるかじりを生
じ・を准い性１七乞持−）でいるためである。 なお［７ご室温滑油としてりん酸ニスゾール等の−ｒＴ
機【］ん化合物を用いる場合には木１色明ぶり又は従来
ぶりきに比して特に潤滑油との／Ｊ）じみがよく、容易
に油膜切れン生じｌ「い。 但し、しごき潤滑油は現在１）　ＴζＩＪ０）間；買主
１檀に１１１いられているものならばどんｌ、ｒもので
・ｔ〕本冗明効来が期待出来る。 そして］）Ｉ製缶後の洗滌性、塗料密着性についても、
本発明ぶりきは従来品と遜色ない性１１シを侍っている
。 祥−）で不発明ろ・実Ｊ＋１ｌｊ−’ｒる１１）により
、他の性能を犠を円に【／「いで３１１付（＋　”ｌ’
Ｌを減少させる事が可能となり、ｊ、ｌ′：、・ｌｉ’
ｉ−的１．（１，）　（（１′ｒ７２供給するｑ■が出
来る。また低Ｓｌｌ伺Ｉ”、ｆ　１ｌｆｌ’ｌ　Ｉｊ・
い−おいて、同じＳ１１付貴４［１であればｉ＋’＋し
にζ−１Ｊ−ｊす］も少ない１．どきエネルギで、多２
Ｈｐ　（ｎ　Ｉｆ　Ｌ　ｉｌ’＋りかじりの奈生なくよ
り多訃に生産下る巾が出来２）１、 以下に実施（’−）ｌ　Ｓ、：　Ｉｌｌいて不発明を四
に訂述する、〔化学・ミ　（つ１１　１　　〕 （１■１“、’！−１）：日＋　１＋＋２・ｔイフ）冷
！１ｉ１−’４シ１１板をｆ】ｆ性ソーダ溶７〔七（中
で脱脂し、硫酸溶液中で酸洗し、たのち、〕〕１−ノー
ルフルフオンＩ′とＳ１１めつキ浴中で２．８　ｔ／ｍ
’　ＱＩＳ１１ヶ′屯気めＱ　：’ｔ　Ｌ、た。 この重置Ｓ１１め−）き板を２７０−Ｃに力１け１口、
で溶鍋し７、ぶり六）°（：沢を賦１：ｊ、　ｔ、た。 この名：りき板を次Ｑ）条（′１で化学処１１１〜でＩ
Ｒ１品奢作つ−Ｃ比較祠を（ｊｉｌ造した。 処１１！　ｒｒｉ組成　Ｎｎ２Ｃｒ２０７　　　　３０
　ｆ／Ｉｔ〆谷　　　　　　　イＩＩＡ　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　４　５　　℃侵ｌ」
°１処１１４１時間　　　　　　　　　３　ｓｅｃ〔比
較例２〕 比較例１と同様な方法でり、　７　Ｆ、−／ｉ；ｉ、’
の＋ｉｉ、　、’ｙ％　Ｓｎめっきを施し、リフロー処
理］νのＳ・−め−＞　＆、　ｉｌ、１□１１（反に〆
友θ）ようｌｒ築件で化学処３３■ｊ　ｌ、て比帆手４
を；メ゛ｌ造１．た。 処理浴組成　　Ｎｎ２Ｃｒ２０７　　　３　ｔｌ　？／
Ｑ。 沼　　　　　温　　　　　　　　　　　　　　４５’Ｃ
浸ｌｄ処理時間　　　　　　　　　　ｌ５（３Ｃ〔比較
例３〕 ３＋１付看ｒ；１を除いた他の条件は全て比較例１と同
じで　：３ｎ付青ｌのみを１．　］　ｙ／ｍ’と１７だ
。 〔比較例４〕 比較例１と同（イシ４Ｃ）ｊ法で２．８　Ｖｅｎｔ”の
屯＝ｔＳｒ１めっきを施し、リフロー処理後の錫め′）
笑＞ｌｌ’ｌ仮にべのような条件で化学処理して比較相
ろで製造した。 浴　　　　　温　　　　　　　　　　　　　　７５℃浸
漬処理時間　　　　　　　　　５〜ｆｊ　Ｃ〔比較例５
〕 比６例１と同１゛１４な万ｌ夫で’１．８Ｖ／ｍ”　０
−＞　７ｉ（気Ｓｎめつきを施１７たＩＪ　１７　［−
１−処理後のＳｉ２めつ入鋼板Ｃ二、次の、１−うｌ（
１条件で化学処理を施１．て比較用ニー］きをｑｉ　Ｉ
’ｊｉ　　ｌ、　　ｆｃ　　。 γ苛漬処１’ｌ目ｌ゛目１”１１　　　　　　　　　　
　　　　　１　　ｓｅｃ〔比較例０〕 ＪＬ　軸側１　ｔ”：　同ｌｉｔ　ｉ、ｒ　’ｂ法で２
．８　Ｙ／ｉｎ’　０）　’屯％８１１め一７ン４　ｆ
ｙ施しＣ、リーフ　［Ｉ−処］！ｌ！　’＆施さ／、ｃ
Ｌｚ　８ｎ　％）　ツきｔｒｉ板に、化トシ例Ｉと同（
′、１は化学処理を・施して１−ヒ較祠を製ｊ５−１．
ｒ　Ｌ、た。 〔実施（−リＩＪ 比較イ′・ｊｌ　ｌと同１にな方法で２．８ｙ、冷、＋
　１〕）゛電気Ｓ１１めっき　”ａ’　Ｊ、＋ｉｆｊ　
ｌ−タ’Ｊ　　ノＩＪ　　−一処ｉ４１４稔０）　Ｓｎ
　、！！１’）　−）２”ｔ　’７・ｆｌ　Ｊｉ　に　
、　次のＬ　’＞　１：Ｃ’に件で化学処理をｌ１ｉｌ
丸し−Ｃ本う盲１９．１　、ぐ【〕き乞７ユ覧　Ｌ／こ
　。 浴　　　　　温　　　　　　　　　　　　　　　４０’
Ｃ浸酌処理時間　　　　　　　　　１　ｓｅｔ二〔実施
例２〕 Ｓｎ付Ｈｒ４．（１を除く他の条件は全て実施例Ｊと同
じでＳＬ１付着ト１１のみｉ、　７　ｙｏｕ”とした。 〔実施例３〕 Ｓｎ付着１戎を除く他の条件は全て実施１７’１．１　
’Ｉと同じでＳｎ付着駁のみをＬ　Ｊ　ｆ／Ａｎ２トＬ
　タ。 〔実施例４〕 ＳＩ付ｅｆけを除く他の条件は全て実施（５１］と同じ
で５ｎ（ＮＪ’　Ｎ　Ｉｔのみ０．９　ｙ／ｍ”とした
。 〔実施例５〕 比較例１と同様な方法で、　　１．、７　ＷＡｎ’の上
気Ｓ口めっきしたりフロー処理後のＳ１１めつきｆｌｌ
Ｉｎ仮に次のような条件で化学処理を施して本発明ぶ（
」さｆ　；Ｊ造し、た　。 電Ｍ処理極性　ぶりき２・陰（・徂と１〜で処理処理電
気は　　　　　　　１０り刊７／（１７Ｌ″〔’Ｊ、＜
　ｈ’Ｎｊ例０］ ＳｌｌイｌＩ”ｌ’　ｉｊ：ｆ、ビ除い／、−他θ）全
ての条（′口、Ｌ実施例５と同じＴ　、Ｆｊ＋＋イｌ’
　４’ｒ　！＋：のみ１．　Ｉ　ｙ、、Ｉｎ＋、”とし
７た。 〔′１、−　力１１１．イ；１１　７　　］月―輯例１
−’：　ｉｉｌ　１１．／、Ｃ方１１；で２８ｆ／ｍ”
　０）　’％気Ｓ＋＋　メツＡ苓ごし／こ、リーフｌｌ
−欠ロ甲イｆＱ　（１１，）　Ｓｎめっき１（，１□ｉ
（反に次のよう！、ｒ、Ｉ／：（′ｌで化学・’＋Ｑ、
Ｉ２理苓・施して木４１１明ぶりきを製造Ｉ、た。 屯１’ｌ’Ｎ　’／！’＝　、１４１！　（’ｉ＋　ｉ
：ＩＥ　　　フＬｌ　％　’ｘ　陽ＭＲニＬ　Ｙ−処理
部（甲’ｔ１１：気；！１　　　　　　　　　　　　　
　　　　　５　ノ１＝ロン／市ＩＬ”「実施例）３１ ８ｎ　（，１？ｒ　＋・）Ａ−除いた他Ｕ）全ての条件
は実施例７と同じで、８１１１・１石１ｉｊ０）　＋７
）を１．７　？Ｊｔ”とした。 〔実施例０」 Ｓｎｎ付晴晴除いた他（ハ全゛Ｃの条件シＪ実施例７と
同じで　Ｓｎ伺１′置１１−のみを１．１．　ｆ／ｍ”
とし、り。 〔実施例１０〕 Ｓ１１付（’ｌ；　ｔｉ’ｉを除いた他の全ての条件は
実施例７と同じで、Ｓｎ付着量のみをＱ、　９　ｙ／ｍ
”とした７、〔実施例１１〕 比較例１と同様な方法で２．　：３　ｙ、ｙ１ｎ′のＳ
ｌｌめっきＬ〜だ、リフロー処理を施さｌｌｆいＳ１１
めっきコ１１４１仮に、実施例７と同様な条件で化学処
理を施しで本発明ぶりきを製造した。 実施例１〜１０、比較例１〜５で・１ｑ造したぶりきに
ついてθ（に示−［耐酸化黄斐性、１）］成成性を評価
し、た。 （１）　　耐酸化黄変性試験 ５０℃相対湿度９５％の恒温恒湿槽中にぶりへ板を重ね
合せて、包装紙に包み、３０１１間貯蔵した後の表面の
黄変程度を肉眼判定により評価した。 （２１１１１成形性試験 Ｄ１缶θ）製造に於いＣ１製（（′ｒ速度を２　＋１０
個／分とし、他の条件は一定にし、しごきエネルギーと
かじり発生までの製缶ｉ］能個数を求め、Ｉ）　Ｉ成形
性の比較評価７？ｊなった。 （３）　　塗料密着性 Ｊ）Ｉ非加工部及び加工部ともに不発明実ｈ１ｈ例の墜
料密百１゛１．はｆ（：　；ＩＧ品と同号であ−）だ１
．１’ｕ　ｌ−の実Ｊｊｉ！ｉ　１１１１　’ｘ　ｉ’
Ｊ目表にまとめＣ＞３で４−１；１５１表 ＋：ｌｉｌ　１．ｊイＩβｃメＦ　Ｉｌｌ　　　　Ｃ）
　：　（ｌ　　　リ：　１１　　　、＜　：不良第１表
に示すように、本発明実施例の性能は比較例に比較して
Ｉ）　Ｉ成形性が俺オｔでいることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は出１＋［看１１（としごきエネルギー０）関係
を示すグラフであり、弔２図は８１１　イ・ｌｆ’ｌｔ
　！＋ｊとかじり発生までの製缶可能個数の関係をボ丁
グラフである。 第２図 ５．Ｌ付Ａ量ビ ４５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　Ｓｎめ−）き層表面に施さｉｔだ化学処理被
   膜中に、Ｐ　：　０．　（ｌ　ｌ　−１（１，ｆｌ　□
   　ｍｙ／ｌｒｔ”￥含む事を特徴とするシームレス缶１
   １１″ｒ１ｖ気めっきぶり考、。 （２１Ｓ　ｎ　メー戸矢ｉ＋４がリフロー処理されたＳ
   ｎめっき層である′持ｓ：１：　ｎ（’Ｔ求の１ｊｉｊ
   ｊ回第１項記載の電気めっきぶりき。 （３１ｓｎめ−）き層がりフロー処理されないままのＳ
   ｎめ−）入間である′ｌ′ａｒ、ｆ’ｌ’請求の範囲第
   １項記載の電気めっきぶりへ。 （４１Ｓｎめ一つへ１・’ｉ　Ｉｓ面に施さ１また化学
   処理被膜中に、Ｐ　：　０．ｆｌ　１−１０．　（１０
   ｌｎｇＡｎ″及びＡｐ、：０．０１−１、　（１０ｎｙ
   ／））１’　７．含む・１１を特６文とｆるシームレス
   缶用電気めっきふりき。 （５）　　Ｓｏめつキハくがリフロー処（１１１された
   Ｓ１１めっき層であろＱＷ’　ｒｌ請求の範囲第４項記
   載の′電気めつきぶり八。 （６１Ｓｎめつき層がリフロー処１１！さ２ｔないまま
   のＳｎめつき層である特許請求の範囲！、Ｔｚ４項記載
   の電気めっきぶりき。