JPS5941994B2 - ペニシラン酸誘導体とその製造方法 - Google Patents

ペニシラン酸誘導体とその製造方法

Info

Publication number
JPS5941994B2
JPS5941994B2 JP55065859A JP6585980A JPS5941994B2 JP S5941994 B2 JPS5941994 B2 JP S5941994B2 JP 55065859 A JP55065859 A JP 55065859A JP 6585980 A JP6585980 A JP 6585980A JP S5941994 B2 JPS5941994 B2 JP S5941994B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
ester
general formula
trifluoromethylsulfonyloxypenicillanic
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55065859A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS55157588A (en
Inventor
ジヨン・エドワ−ド・グリン・ケンプ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pfizer Corp Belgium
Original Assignee
Pfizer Corp Belgium
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pfizer Corp Belgium filed Critical Pfizer Corp Belgium
Publication of JPS55157588A publication Critical patent/JPS55157588A/ja
Publication of JPS5941994B2 publication Critical patent/JPS5941994B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D499/00Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D499/21Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a nitrogen atom directly attached in position 6 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
    • C07D499/28Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a nitrogen atom directly attached in position 6 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with modified 2-carboxyl group
    • C07D499/32Esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D499/00Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D499/00Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D499/04Preparation
    • C07D499/10Modification of an amino radical directly attached in position 6
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はペニシリン類、特に生物学的に活性な6一置換
ペニシラン酸の製造における有用な中間体である新規な
6−ペルハロアルキルスルホニルオキシペニシラン酸誘
導体に関する。
多数の6−β一置換ペニシラン酸誘導体が抗生物質およ
びβ−ラクタマーゼ阻害剤として関心をもたれている。
たとえば米国特許出願番号17809(1979年3月
5日出願)は、6β−ハロペニシラン酸およびその生物
不安定性エステルを、強力なβ−ラクタマーゼ阻害剤と
して開示している。
本発明者らは、6−α−ペルハロアルキルスルホニルオ
キシペニシラン酸エステルがC−6位置で求核置換反応
を受けて、6−β一置換誘導体を生ずることを見出した
このようなペニシリンのC−6位置でのSN2型置換反
応については既に10年以上も研究が行なわれてきてい
るが、成果が得られず、最も近い先行技術でも6−ジア
ゾペニシリンを経て非常に限られた範囲の6一置換化合
物が製造されるにすぎなかつた。したがつて上記のよう
な化合物は、多様な6−β一置換ペニシリン誘導体の製
造における有用な中間体となる。対応する6−β−ペル
ハロアルキルスルホニルオキシペニシラン酸類も6−α
一置換ペニシラン酸誘導体の製造に使用できる。すなわ
ち、本発明により、下記一般式(1)の6−αおよび6
−β一置換ペニシラン酸誘導体が提供される。
式中、RはHまたは慣用のペニシリンカルボキシ保護基
または生体内で易加水分解性のエステル形成残基であり
:R1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であつて、
該ハロゲン原子はフツ素または塩素である。
「生体内で易加水分解性のエステル形成残基」とは、人
または動物に投与されると、胃、血液または組織のいず
れかにおいて容易に開裂されて遊離酸を生ずる毒性のな
いエステル基を意味する。
このようなR基の例は周知であつて、当業者により容易
に確認される。例をあげると、低級アルカノイルオキシ
メチル、1−(低級アルカノイルオキシ)エチル、1−
メチル−1−(低級アルカノイルオキシ)エチル、低級
アルコキシカルボニルオキシメチル、1−(低級アルコ
キシカルボニルオキシ)エチルおよび1−メチル−1−
(低級アルコキシカルボニルオキシ)エチル基がある。
具体例は、ピバロイルオキシメチル、アセトキシメチル
、1−エトキシカルボニルオキシエチル、3フタリジル
、4−クロトノラクトニルおよびγブチロラクトン−4
−イル基である。慣用のペニシリンカルボキシ保護基に
は、ペニシリンのカルボキシル基の保護に対して有用で
あることが当該分野で公知である基が含まれ、このよう
な基はペニシリン核に影響を及ぼさずに温和な条件下で
導入および脱離できる。
代表的なカルボキシ保護基はベンジルおよび置換ベンジ
ル(例、p−メトキシベンジルおよびp−ニトロベンジ
ル)、ベンズヒドリル、トリメチルシリル、テトラヒド
ロペラニル、トリクロロエチル、フエナシルおよびトリ
メチルシリルエチルである。ペルハロアルキル基R1は
フツ素または塩素原子或いは塩素原子とフツ素原子の混
合物を含有しうる。
ペルハロアルキル基の例には、トリフルオロメチル、ト
リクロロメチル、およびノナフルオロブチル基がある。
一般にトリフルオロメチルおよびノナフルオロブチル基
が好ましい。アルキル、アルコキシまたはアルカノイル
基に冠せられた「低級」とは、その基の炭素数が6以下
であることを意味する。
このような基は直鎖または分岐鎖でよい。一般式におい
て、破線はその置換基が該二環式核の面より下側にくる
ことを示す。
このような置換基はα一配置であると言われる。逆に置
換基のくさび状Q結合はβ一配置、すなわちこれがペニ
シリン核の面より上側にくることを示す。一般式(1)
の6−αおよび6−β−ペルハロアルキルスルホニルオ
キシペニシラン酸誘導体の製造は、一般式()(式中、
Rは上記定義のとおり)の6−ヒドロキシペニシラン酸
またはエステルから、これをペルハロアルキルスルホニ
ルハロゲン化物または無水物と反応させ;場合により、
カルボキシ保護基を脱離させてRが水素である一般式(
1)の化合物を得;また、場合によりRが水素である一
般式(1)の化合物を慣用のペニシリンカルボキシ保護
基で保護することにより実施できる。
この反応を実施するには、一般に、不活性有機溶媒(例
、クロロホルムまたは酢酸エチル)中の一般式()の化
合物の溶液にスルホニルハロゲン化物または無水物を添
加する。
やや過剰(例、10%過剰)のスルホニルハロゲン化物
または無水物を一般に使用し、これを好都合には一般式
′品\^′LAILLl.−[Jl7斗CC]1L01
岡、ψ、劣欠七由の溶液状態で添加する。トリフルオロ
メタンスルホニルクロリドが好ましいスルホニルハロゲ
ン化物である。有機塩基(例、トリエチルアミン)を添
加して反応を助長し、遊離してきた酸を中和するのが有
利である。反応は−20℃から溶媒の還流温度までの温
度で実施できるが、副生物の生成を避けるためにO℃に
冷却しながら反応を行なうのが好ましい。このような条
件下で反応は一般に15〜30分後に終了するので、そ
の後、生成物を常法、たとえば水による希釈、溶媒抽出
および溶媒の蒸発により処理する。所望により、生成物
をさらに常法、たとえばシリカでのカラムクロマトグラ
フイ一により精製する。生成物からエステル保護基を脱
離させることによるRが水素である一般式(1)の化合
物の生成はその保護基に応じた方法を使用して行なわれ
、このような方法とその実施条件は当業者には周知であ
ろう。
使用する媒質は無水でも水性でもよく、場合によつては
各種強度の酸性または塩基性媒質でもよい。たとえば、
Rが2・2・2−トリクロロエチル基である場合には、
酢酸中において亜鉛で処理することによりこれを脱離さ
せることができ、またRが4−メトキシベンジルの場合
にはトリフルオロ酢酸との反応により除去できる。いず
れの場合も、生成した遊離酸を単離した後、所望により
これを常法(例、シリカでのカラムクロマトグラフイ一
)によりさらに精製してもよい。遊離酸は所望によりさ
らにエステル化してもよい。たとえば、遊離酸をトリメ
チルシリル化剤たとえばビス(トリメチルシリル)アセ
トアミドと反応させてトリメチルシリルエステルを製造
してもよく、この生成物は単離するか、または後述のよ
うにそのままその場で反応させて、6一置換誘導体を生
成させる。一般式()の化合物は一部は既知化合物であ
りまたこれらの化合物は類似方法により製造できる。
たとえば、J.C.Sheehanetal,.J.O
rg.Chem.l974、?上、1444には、ベン
ズヒドリルエステル(ただし、この化合物は6一β−ヒ
ドロキシエステルであると誤記されているが)を含む6
−α−ヒドロキシペニシラン酸の多数のエステルの製造
について記載されている。Rがエステルまたはカルボキ
シ保護基である一般式()の化合物は、既知の6−α−
ヒドロキシペニシラン酸を使用した慣用のエステル化法
によつても製造できる(D.HauserとH.P.S
igglHelv.Chim.Actall967、V
磨 1327)6−β−ペルハロアルキルスルホニルォ
キシペニシラン酸誘導体も、まつたく同じ方法で、ただ
し当然のことながら相当する6−β−ヒドロキシペニシ
ラン酸またはエステルから出発して製造することができ
る。6−β−ヒドロキシペニシラン酸のエステルもやは
り一部は既知化合物であり或いは類似方法により製造で
きる。
たとえば、6β−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオ
キシメチルエステルは、既知の6−アミノペニシラン酸
エステルから、ジアゾ化反応後、トリフエニルホスフイ
ンおよび亜硝酸と反応させて6−オキソペニシラン酸エ
ステルとし、これを水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことにより製造できる(W.V.Daehneetal
..J.Med.Chem.l97O、V』、607)
。同様に、6−β−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2
−トリクロロエチルエステルも、既知の6−オキソエス
テルの水素化ホウ素ナトリウムによる還元によつて得る
ことができる(J.C.Sheehanetal、J.
Org.Chem.、1977、↓Zl4O45)。一
般式(1)の化合物は、多様な求核試薬による置換反応
を受けて、C−6位置の立体配置の逆転を伴なつて6一
置換ペニシラン酸誘導体を形成する。
好適な求核試薬には、ハロゲンイオン、アジ化物イオン
ならびに含イオウ求核試薬、たとえば芳香族、複素環も
しくは脂肪族チオール、チオ酸から誘導される陰イオン
もしくはチオシアン酸イオンがある。場合によつては(
特に含イオウおよび含セレン求核試薬の場合)、過剰の
求核試薬と長い反応時間とが最初に生成したβ一生成物
のエピ化を引起して、熱力学的により安定なα一異性体
を生ずることがある。
しかし、化学量論量よりやや少量の求核試薬を使用すれ
ば、一般に純粋なβ一誘導体を得ることができる。本発
明のこの側面による特に有用な方法は、一般式(1)の
6−α−ペルハロアルキルスルホニルオキシペニシラン
酸誘導体のヨウ素、塩素、臭素またはアジ化物イオンに
よる置換によつて、相当する6−β一置換誘導体を得る
ことである。
すなわち、本発明は、一般式(1)の6−α置換化合物
を金属臭化物、塩化物、ヨウ化物またはアジ化物と反応
させ、Rがカルボキシ保護基である場合にはこの保護基
を除去し、生成した下記一般式()の化合物を単離する
ことからなる。一般式()(式中、Xは臭素、塩素、ヨ
ウ素またはアジドであり;R2は水素または生体内で易
加水分解性のエステル形成残基である)の6−β−置換
ペニシラン酸誘導体の製造方法も提供する。
この方法は一般に反応に不活性な有機溶媒(例、アセト
ン、テトラヒドロフランまたはN−N−ジメチルホルム
アミド)に溶解した一般式(1)の化合物を使用して行
なわれ、金属ハロゲン化物またはアジ化物(例、ヨウ化
ナトリウム)を過剰に加える。
反応混合物を好都合には室温で1〜2日間攪拌し、反応
が実質的に完結したら(薄層クロマトグラフィ一により
示される)、反応混合物を常法、たとえば水による希釈
、溶媒抽出および溶媒の蒸発により処理する。所望によ
り、特にRが生体内で易和水分解性のエステル形成残基
である一般式(1)の化合物を使用した場合、生成物を
さらに精製して、目的生成物としてR2が生体内で易加
水分解性の同じエステル形成残基である一般式()の化
合物を得てもよい。或いは、生成物をそのまま次の反応
段階に使用することもできる。Rが慣用のペニシリンカ
ルボキシ保護基である一般式(1)の化合物の反応から
得られた生成物からエステル保護基を脱離させるには、
前述のようにその保護基に応じた方法を使用して行なう
一般式()の化合物に対する特に好ましい保護基はベン
ズヒドリルおよび4−メトキシベンジル基であり、これ
らは、たとえばトリフルオロ酢酸を使用した酸性条件下
で脱離できる。すなわち、このような場合、金属ハロゲ
ン化物またはアジ化物との反応に続いて、この方法の第
1段階から得られた生成物を反応に不活性な有機溶媒(
例、ジクロロメタン)に溶解し、トリフルオロ酢酸を加
える。完全な保護基脱離を確保するのに通常は室温で3
0分間の反応時間で十分であり、生成物をその後一般に
溶媒の除去により単離し、所望により常法(例、シリカ
でのカラムクロマトグラフイ一)によりさらに精製して
もよ(・。この方法に対する別の好ましい保護基はトリ
メチルシリルエステルであり、これは水との接触により
脱離するので、別に脱保護工程を実施する必要はなく、
生成物の水性処理過程で一般に失なわれる。
さらに別の好ましい保護基は4−ニトロベンジルエステ
ルであり、これは亜二チオン酸ナトリウムによる処理で
脱離される。本発明のこの態様による特に有用な方法は
、Xがヨウ素で、Rが水素である一般式()の化合物の
製造方法である。
この点に関して、R1がトリフルオロメチルであり、R
がベンズヒドリル、4−メトキシベンジル、4−ニトロ
ベンジルまたはトリメチルシリルである一般式(1)の
化合物と金属ヨウ化物との反応が特に有用である。本発
明を下記の実施例により例示する。実施例1〜7、15
および16は一般式(1)の新規化合物の製造例であり
、実施例8〜14はこれらを使用した一般式()の化合
物の製造法の例である。一般式()のいくつかの出発物
質の製造は製造例1〜5に示されている。実施例 1 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ベンズヒドリルエステルクロロホルム(13mの中
の6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエス
テル(383rf1y)とトリエチルアミン(125η
)との混合物に、クロロホルム(2m1)中のトリフル
オロメタンスルホニルクロリド(190η)の溶液を0
℃で加え、得られた混合物を30分間攪拌した。
この溶液を砕いた氷(10f)上に投じ、クロロホルム
でくり返し抽出゛した。クロロホルム抽出液を合わせて
水洗し、乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸発させて、淡
黄色のゴム状物を得た。これをシリカでクロマトグラフ
処理し、酢酸エチルと石油エーテル(B.p.6O〜8
0℃)の1:9混合物で溶離した。適当な画分を集めて
蒸発させることにより、6−α一トリフルオロメチルス
ルホニルオキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(
422m9、82%)を淡黄色ゴム状物として得た。実
施例 2 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸4−メトキシペンシルエステルクロロホルム(50
m0に6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−メトキシベ
ンジルエステル(0.937)とトリエチルアミン(0
.557)をとかした溶液を氷冷しながら攪拌し、これ
にクロロホルム(2m0中のトリフルオロメタンスルホ
ニルクロリド(0.70f)の溶液を滴下した。
15分後、溶液を水(50m1)で洗浄し、乾燥し(M
gSO4)、蒸発乾固した。
生成物をシリカでクロマトグラフし、ジクロロメタンの
含有量を漸増させたペンタンで溶離した。適当な画分を
集めて蒸発すると、6−α一トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル
(0.707)、M.p.69〜71℃が得られた。実
施例 3 6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸2・2・2−トリクロロエチルエステノレジクロロ
メタン(10m0中で6−β−ヒドロキシペニシラン酸
2・2・2−トリクロロエチル(0.24y)をO℃に
冷却して攪拌しながら、これにトリフルオロメタンスル
ホニルクロリド(0.167)と次にジクロロメタン(
1m1)中のトリエチルアミン(0.085y)を滴下
した。
0℃での攪拌をさらに1.25時間続けた後、溶液を水
洗し、乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸発させて、6−
β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラン酸
2・2・2−トリクロロエチルエステル(0.29y)
を淡黄色油状で得た。
実施例 4 6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ピバロイルオキシメチルエステルこの化合物は、実
施例3の一般的方法により、ただし6−β−ヒドロキシ
ペニシラン酸ピバロイルオキシメチルエステルを出発物
質として使用して製造された。
実施例 5 6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸2・2・2−トリクロロエチルエステル(20
0r1z(!)を90%酢酸水溶液に溶解し、活性亜鉛
(65ワ)を添加した。
混合物を室温で1時間攪拌した後、追加の亜鉛(30η
)を加え、混合物をさらに1時間攪拌した。混合物を沢
過し沢液を蒸発乾固し、残渣を酢酸エチルで抽出し、溶
媒を蒸発させた。得られた粗生成物をシリカでの調製用
Tlc(5%酢酸/酢酸エチルで溶離)により精製して
、6−β一トリフルオロメチルスルホニルォキシペニシ
ラン酸(23η)を得た。IR(フイルム):1815
cTrL−1 (β−ラクタムカルボニル)実施例 6 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸4−メトキシベンジル(100η)をトリフル
オロ酢酸(1m0に溶解し、15秒後に蒸発乾固した。
残渣をシリカでカラムクロマトグラフイ一処理し、酢酸
エチルの含有量を漸増させたガソリンで溶離して、62
ηの粗生成物を得た。これをジイソプロピールエーテル
と共に摩砕し、5%酢酸/酢酸エチルを用いたシリカで
の調製用Tlcで精製して、純粋な6−α一トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシペニシラン酸(17η)を得
た。実施例 7 6−α−ノナフルオロブチルスルホニルォキシラペニシ
ラン酸ベンズヒドリルエステル クロロホルム(19m0中の6−α−ヒドロキシペニシ
ラン酸ベンズヒドリル(・1.917)をトリエチルア
ミン(505ワ)とノナフルオロブチルスルホニルフル
オリド(1.57)とで順に処理した。
反応は20分後に完了した。反応混合物の処理を、溶媒
の蒸発およびシリカでのクロマトグラフイ一(塩化メチ
レンを漸増する量で含有するガソリンで溶離)により行
なつて、6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(1.87)、M
.p。74〜76℃を得た。
カルボニル)、1738CTIL−1 (エステルカル
ボニル)実施例 8 6−β−ヨードペニシラン酸 (A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル(57)、
ヨウ化ナトリウム(12.57)およびアセトン(10
0m0からなる混合物を室温で46時間攪拌した。
得られた混合物を10m1に濃縮し、水(200m0で
希釈し、エーテル(200mので抽出した。エーテル抽
出液をMgSO4上で乾燥し、蒸発させて、6−β−ヨ
ードペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル(4.
8V)を油状で得た。(B)上記(4)で得た生成物(
0.387)をジクロロメタン(20m0にとかした溶
液にトリフルオ口酢酸(2m1)を加えた。
この溶液を室温で30分間攪拌した後、真空蒸発し、残
渣をシリカのカラムでクロマトグラフ処理し、酢酸エチ
ルと石油エーテル(B.p.6O〜80℃)の1:3混
合物で溶離した。生成物を含有する適当な画分を合わせ
て、少量になるまで蒸発させた。析出した結晶性沈殿を
▲別し、ジクロロメタンとペンタンの1:1混合物で洗
浄し、乾燥して、6−β−ヨードペニシラン酸(27r
f11!)、M.p.l2O℃(分解)を得た。この生
成物は、分光学およびクロマトグラフイ一のデータが参
照試料と同一であつた。
実施例 9 (A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルォキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステルを使用して実施例
8(A)の方法をくり返すことにより、6−β−ヨード
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステルを得た。
86−β−ヨードペニシラン酸ベンズヒドリルエステル
(80ワ)をジクロロメタン(1m1)に溶解し、トリ
フルオロ酢酸(0.5m0を加えた。
この溶液を室温で30分間攪拌した後、蒸発乾固して、
76ヮの生成物を得た。これはTlc、赤外スペクトル
およびNMRにより、少量のベンズヒドリル誘導副生物
を不純物として含んだ6−β−ヨードペニシラン酸であ
ると同定された。定施例 10 6−β−プロモペニシラン酸 〜 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸ベンズヒドリルエステル(400η)をN・N
−ジメチルホルムアミド(3m0にとかした溶液に、臭
化リチウム(68η)を添加し、この混合物を室温で1
7時間攪拌した。
溶媒を蒸発させ、残渣をシリカでクロマトグラフ処理し
、塩化メチレンの含有量を漸増させたヘキサンで溶離し
て、6−βプロモペニシラン酸ベンズヒドリルエステル
(73m9)を得た。ト) 6−β−フロモペニシラン
酸ベンズヒドリルを実施例98に記載のようにトリフル
オロ酢酸で処理して、参照試料と同一の6−β−プロモ
ペニシラン酸を得た。
辷施例 11 6−β−アジドペニシラン酸 A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペ
ニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(485η)を
N−N−ジメチルホルムアミド(5m0にとかした溶液
に、アジ化リチウム(50ワ)を添加し、゛この混合物
を室温に2週間保持した。
次いで混合物をクロロホルムと水の間で分配し、有機相
を分離し、蒸発させ、残渣をシリカでクロマトグラフ処
理し、塩化メチレンを含有するガソリンで溶離して、6
−βアジドペニシラン酸4−ニトロベンジル(160ワ
)を得た。
NMR(CDCl3)δ:1.43(S、3H)、(B
) 6−β−アジドペニシラン酸4−ニトロベンジル(
150mク)をアセトニトリル(10m1にとかした溶
液を、水(5m1)と亜二チオン酸ナトリウム(150
ワ)で処理した。
混合物を室温で15分間撹拌した後、酢酸エチルと水の
間で分配した。水相をPH2.5に酸性化してから、有
機相を分離し、蒸発させた。残渣をシリカでクロマトグ
ラフ処理し、まずペンタンで、次にエタノールを5%含
有する酢酸エチルで溶離して、6−β−アジドペニシラ
ン酸(22η)を油状で得た。これは静置すると徐々に
固化した。実施例 126−β−アジドペニシラン酸 (A) 6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(21it)を実
施例11(A)に記載のようにアジ化リチウム 30で
処理して、6−β−アジドペニシラン酸ベンズヒドリル
(0.97)を得た。
(B)上記6の生成物を、実施例9(B)の方法を利用
して保護基脱離処理して、6−β−アジドペニシラン酸
を得た。
これは実施例11(B)の生成物と同一であつた。実施
例 13 6−β−ヨードペニシラン酸ナトリウム (4)アセトン(50m1)中の6−α一トリフルオロ
メチルスルホニルオキシペニシラン酸(57143ミリ
モル)の溶液に、ビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド(3.197、157ミリモル)を加え、この溶液を
35〜40゜Cで30分間攪拌した。
得られた6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸トリメチルシリルエステルの溶液にヨウ化
ナトリウム(2.35y、157ミリモル)を加え、混
合物を60〜65℃で30分間攪拌した。溶媒を真空蒸
発させて、6−β−ヨードペニシラン酸トリメチルシリ
ルエステルを粘稠な赤色油状で得た。B)上記6の生成
物を酢酸エチル(50m1)および水(50TLI)と
共に攪拌し、有機相を分離し水(2×25m1)で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
得られた遊離酸のアセトン溶液に2−エチルヘキサン酸
ナトリウム(3.57y1215ミリモル)の溶液を添
加し、混合物を室温で30分間攪拌した。
析出した結晶性沈殿を沢別し、酢酸エチルとエーテルで
洗浄し、乾燥して、6−β−ヨードペニシラン酸ナトリ
ウム(3.37、66%)を得た。これは参照試料と同
一であつた。辷施例 14 6−β−クロロペニシラン酸 υ N−N−ジメチルホルムアミド(2m1)中の6−
α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラン酸
ベンズヒドリルエステル(550ヮ)の溶液に塩化リチ
ウム(50η)を加え、混合物を室温で17時間攪拌し
た。
溶媒を蒸発させ残渣をシリカでクロマトグラフ処理し、
塩化メチレンの含有量を漸増させたペンタンで溶離して
、6−β−クロロペニシラン酸ベンズヒドリル(162
牧)、RfO.35(CH2Cl2/SiO2)を白色
フオーム状で得た。[有]) 6−β−クロロペニシラ
ン酸ベンズヒドリルを実施例903)に記載のようにト
リフルオロ酢酸で処理して、6−β−クロロペニシラン
酸を得た〜 実施例 15 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ベンズヒドリルエステルクロロホルム(100m1
)に6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエ
ステル(10.07)をとかした溶液に、0℃でトリエ
チルアミン(2.637)と無水トリフルオロメタンス
ルホン酸(8.07)を加えた。
反応混合物を室温で2時間攪拌した後、水(2×100
m1)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて、
黒ずんだゴム状物を得た。シリカでクロマトグラフ処理
し、ヘキサンとジクロロメタンの混合物で溶離して、実
施例2の生成物と同一の生成物(47)を得た。実施例
166−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペ
ニシラン酸4−ニトロベンジルエステル6−α−ヒドロ
キシペニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(1.9
7)を実施例2に記載のようにトリフルオロメタンスル
ホニルクロリドで処理した。
生成物を実施例2に記載のようにクロマトグラフ処理お
よび溶離して、6−α一トリフルオロメチルスルホニル
オキシペニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(1.
37)を赤色油状で得た。製造例 1 6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステ
ノレ塩化メチレン(13m1)とメタノール(4m0の
混合溶媒中の6−α−ヒドロキシペニシラン酸(1?)
の溶液にジフエニルジアゾメタン(1y)を加えた。
追加分のジフエニルジアゾメタンを4時間後(0.57
)と6時間後(0.257)にも加えた。混合物を室温
で1晩放置し、溶媒を真空除去した。残渣をシリカでク
ロマトグラフ処理し、酢酸エチルと石油エーテル(B.
p.6O〜80℃)の1:3混合物で溶離した。生成物
を含有する画分を合わせて蒸発させることにより、6−
α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(
0.67)を黄色フオーム状で得た。NMRとIRのデ
ータは文献(J.C.Sheehan.Y.S.LOJ
J.LOligerおよびC.POdewell.J.
Org.Chem.l974、39、1444)の値と
一致した。製造例 2 6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−メトキシベンジル
エステルトリエチルアミン(577)を含有するN−N
ジメチルホルムアミド(540m0に6−αヒドロキシ
ペニシラン酸(717)をとかした溶液に、塩化アニシ
ル(50.67)を攪拌下に加えた。
混合物を室温で17時間攪拌した後、水(11)と酢酸
エチル(11)の間で分配した。有機相を分離し、水(
2×500m0、飽和重炭酸ナトリウム溶液(500m
1)および食塩水(500m0で順に洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。溶媒蒸発後に残つた油状物をシ
リカでクロマトグラフ処理し、石油エーテル(B.p。
6O〜80℃)で溶離して、6−α−ヒドロキシペニシ
ラン酸4−メトキシベンジルエステル(15y113%
)を油状で得た。
製造例 3 6−β−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2トリクロロ
エチルエステル50%エタノ△ル水溶液(250m1に
とかした6−オキソペニシラン酸2・2・2−トリクロ
ロエチルエステル(2.87)の溶液に、0℃で50%
エタノール水溶液(350m0中の水素化ホウ素ナトリ
ウム(0.237)の溶液を攪拌しながら加えた。
2分後、反応混合物を20%リン酸(90Tn1)でP
H2に酸性化し、ジクロロメタン(2X100m0で抽
出した。
有機抽出液を合わせて、5%重炭酸ナトリウム水溶液(
100m0と水(100m0で洗浄し、乾燥し(Na2
SO4)、蒸発して、橙色油状物を得た。これをシリカ
でクロマトグラフイ一処理し、ジエチルエーテルの含有
量を漸増させたジクロロメタンで傾斜溶離して、6−β
−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2−トリクロロエチ
ルエステル(0.54y)を得た。NMR(CDCl3
)δ:1.59(Sl3H)、1,70(Sl3H)、
4.61(SllH)、4.81(Sl2H)、5.2
1(Bs..D2Oでdに変化、J−4Hz、1H)、
5.58(D.J一4Hz11H)、また3.53(B
dllH)に0H0IR(フイルム):1760〜17
80cTrL−1製造例 4 6−β−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオキシメチ
ルエステルジクロロメタン(360m1)と水(400
m)の混合溶媒にp−トルエンスルホン酸(2.0y)
と亜硝酸ナトリウム(8.87)をとかした溶液を冷却
して攪拌しながら、これにジクロロメタン(40m0中
の6−アミノペニシラン酸ピバロィルオキシメチルエス
テルp−トルエンスルホン酸塩(4.07)の溶液を滴
下した。
混合物をO℃で30分間、さらに室温で1時間攪拌した
。有機層を分離し、乾燥し(Na2SO4)、150m
1の量に濃縮した。この溶液を氷浴で冷却し、攪拌しな
がらこれにトリフエニルホスフイン(2.17f)を加
え、続いてトリフルオロ酢酸(3.25m1)とジメチ
ルスルホキシド(110m0とに亜硝酸ナトリウム(2
.717)をとかした溶液を滴下した。混合物をO℃で
さらに2時間攪拌した後、水、5%重炭酸ナトリウム水
溶液および水で順に洗浄した。この溶液を乾燥し(Na
2SO4)、溶媒を真空蒸発させた。得られた粗製6−
オキソ生成物を直ちにメタノール(62.5m0とエタ
ノール(62.5m1)の混合物中に溶解させ、この溶
液を氷浴で冷却して攪拌しながら、これに水(62.5
m1)とエタノール(62.5m1)の混合物中の水素
化ホウ素ナトリウム(0.177)の溶液を加えた。2
.5時間後混合物を20%リン酸でPH2に酸性化し、
ジクロロメタン(2×100m1)で抽出した。
合わせた有機抽出液を5%重炭酸ナトリウム水溶液と水
で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、溶媒を真空蒸発し
て、粗生成物を得た。これをシリカでジエチルエーテル
の含有量を漸増させたジクロロメタンでの傾斜溶離によ
りクロマトグラフ処理して精製することにより、6−β
−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオキシメチルエス
テル(0.95f)を得た。NMR(CDCl3)δ:
1.20(Sl9H)、1.52(Sl3H)、1.6
3(Sl3H)、4.46(SllH)、5.22(m
1またはD2O後にdに変化、J−4Hz11H)、5
.69(D.J=4Hz、2H)、5.83(d、J−
6Hz11H)、5.87(D,.J−6Hz11H)
IR(フイルム・):1800C7rL−1 (β−ラ
クタムカルボニル)製造例 5 6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−ニトロベンジルエ
ステルN−N−ジメチルアミド(50m0に6−αーヒ
ドロキシペニシラン酸(5.07)とトリエチルアミン
(2.37)をとかして得た攪拌された溶液に、臭化4
−ニトロベンジル(5.07)を加えた。
反応混合物を室温で1晩攪拌した後、水(100m1)
と酢酸エチル(100mのを加えた。
有機層を分離し、水希重炭酸ナトリウム水溶液および食
塩水で順に洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて
、赤色ゴム状物を得た。シリカで酢酸エチルとジクロロ
メタンの混合物を溶離剤としてクロマトグラフを行ない
、生成物(2.52y)を得た。NMR(CDCl3)
δ:1.41(Sl3H)、1.55(Sl3H)、4
.52(SllH)、4.80(BsllH)、5.2
0−5.32(Ml3H)、7.54(D.J=8.5
Hz、2H)、8.19(D.J−8.5Hz、2H)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式の6−α又は6−β−置換ペニシラン酸
    誘導体:▲数式、化学式、表等があります▼・・・(
    I )式中、RはHまたは慣用のペニシリンカルボキシ保
    護基または生体内で易加水分解性のエステル形成残基で
    あり、R^1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であ
    つて、ここで該ハロゲン原子はフッ素または塩素である
    。 2 該慣用のペニシリンカルボキシ保護基がベンジル、
    p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズヒ
    ドリル、トリメチルシリル、テトラヒドロピラニル、ト
    リクロロエチル、フェナシルまたはトリメチルシリルエ
    チル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 生体内で易加水分解性の該エステル形成残基がピバ
    ロイルオキシメチル、アセトキシメチル、1−エトキシ
    カルボニルオキシエチル、3−フタリジル、4−クロト
    ノラクトニル、またはγ−ブチロラクトン−4−イル基
    である特許請求の範囲第1項又は第2項記載の化合物。 4 該ペルハロアルキル基がトリフルオロメチルまたは
    ノナフルオロブチル基である特許請求の範囲第1項ない
    し第3項のいずれかに記載の化合物。 5 6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
    シラン酸ベンズヒドリルエステル;6−α−トリフルオ
    ロメチルスルホニルオキシペニシラン酸4−メトキシベ
    ンジルエステル;6−β−トリフルオロメチルスルホニ
    ルオキシペニシラン酸2・2・2−トリクロロエチルエ
    ステル;6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
    ペニシラン酸;6−β−トリフルオロメチルスルホニル
    オキシペニシラン酸;6−α−トリフルオロメチルスル
    ホニルオキシペニシラン酸トリメチルシリルエステル;
    または6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシペ
    ニシラン酸ベンズヒドリルエステルである特許請求の範
    囲第1項記載の一般式( I )の化合物。 6 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I )(式
    中、RはHまたは慣用のペニシリンカルボキシ保護基ま
    たは生体内で易加水分解性のエステル形成残基であり、
    R^1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であつて、
    ここで該ハロゲン原子はフッ素または塩素である)の6
    −αまたは6−β−置換ペニシラン酸誘導体の製造方法
    であつて:一般式(II)▲数式、化学式、表等がありま
    す▼・・・(II)(式中、Rは上記定義のとおり)の6
    −αまたは6−β−ヒドロキシペニシラン酸またはエス
    テルをペルハロアルキルスルホニルハロゲン化物または
    無水物と反応させ;所望によりカルボキシ保護基を除去
    させて一般式( I )でRがHである化合物を得;また
    、場合により、一般式( I )でRがHである化合物を
    慣用のペニシリンカルボキシ保護基で保護する、ことか
    らなる方法。 7 ペルハロアルキルスルホニルハロゲン化物がトリフ
    ルオロメチルスルホニルクロリドである特許請求の範囲
    第6項記載の方法。
JP55065859A 1979-05-19 1980-05-17 ペニシラン酸誘導体とその製造方法 Expired JPS5941994B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB7917505 1979-05-19
GB7917505 1979-05-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55157588A JPS55157588A (en) 1980-12-08
JPS5941994B2 true JPS5941994B2 (ja) 1984-10-11

Family

ID=10505288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55065859A Expired JPS5941994B2 (ja) 1979-05-19 1980-05-17 ペニシラン酸誘導体とその製造方法

Country Status (28)

Country Link
US (1) US4356122A (ja)
JP (1) JPS5941994B2 (ja)
KR (1) KR840000079B1 (ja)
AR (1) AR225038A1 (ja)
AT (1) AT366694B (ja)
AU (1) AU517488B2 (ja)
BE (1) BE883319A (ja)
CA (1) CA1140916A (ja)
CH (1) CH650262A5 (ja)
CS (1) CS214756B2 (ja)
DD (1) DD151310A5 (ja)
DE (1) DE3018847C2 (ja)
DK (1) DK155180A (ja)
ES (1) ES491612A0 (ja)
FI (1) FI71562C (ja)
FR (1) FR2457293A1 (ja)
GR (1) GR68461B (ja)
IE (1) IE49804B1 (ja)
IL (1) IL60097A (ja)
IT (1) IT1140946B (ja)
LU (1) LU82458A1 (ja)
NL (1) NL180937C (ja)
NO (1) NO801473L (ja)
PH (1) PH15033A (ja)
PL (1) PL224188A1 (ja)
PT (1) PT71253A (ja)
SE (1) SE449995B (ja)
ZA (1) ZA802908B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA803742B (en) * 1979-07-02 1981-06-24 Beecham Group Ltd Penicillanic acid derivatives, their preparation and use
JPS6034969A (ja) * 1983-08-08 1985-02-22 Toyama Chem Co Ltd 新規なペニシラン酸誘導体およびその塩類
US20180282375A1 (en) * 2017-03-23 2018-10-04 Trucode Gene Repair, Inc. Peptide nucleic acid (pna) monomers with an orthogonally protected ester moiety

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5749555B2 (ja) * 1973-04-04 1982-10-22
US4282149A (en) * 1977-03-21 1981-08-04 Massachusetts Institute Of Technology Carbon and oxygen analogs of penicillin
US4265882A (en) * 1977-10-03 1981-05-05 Massachusetts Institute Of Technology Sulphur analogs of penicillins having a nucleophile substituted in the 6 and 7 position, respectively

Also Published As

Publication number Publication date
CS214756B2 (en) 1982-05-28
IL60097A (en) 1983-02-23
IT8022104A0 (it) 1980-05-16
PT71253A (en) 1980-06-01
ES8105737A1 (es) 1981-05-16
DD151310A5 (de) 1981-10-14
NL180937C (nl) 1987-05-18
DE3018847A1 (de) 1980-12-11
PH15033A (en) 1982-05-20
NL180937B (nl) 1986-12-16
US4356122A (en) 1982-10-26
NL8002843A (nl) 1980-11-21
FI801581A7 (fi) 1980-11-20
AR225038A1 (es) 1982-02-15
CH650262A5 (de) 1985-07-15
DE3018847C2 (de) 1982-09-30
SE8003676L (sv) 1980-11-20
NO801473L (no) 1980-11-20
FR2457293B1 (ja) 1983-05-20
CA1140916A (en) 1983-02-08
ZA802908B (en) 1981-05-27
FI71562C (fi) 1987-01-19
JPS55157588A (en) 1980-12-08
AU5846880A (en) 1980-11-27
DK155180A (da) 1980-11-20
IT1140946B (it) 1986-10-10
AU517488B2 (en) 1981-08-06
IE49804B1 (en) 1985-12-25
GR68461B (ja) 1981-12-30
ES491612A0 (es) 1981-05-16
AT366694B (de) 1982-04-26
IL60097A0 (en) 1980-07-31
KR840000079B1 (ko) 1984-02-08
PL224188A1 (ja) 1981-02-13
FR2457293A1 (fr) 1980-12-19
FI71562B (fi) 1986-10-10
ATA259780A (de) 1981-09-15
BE883319A (fr) 1980-11-14
LU82458A1 (fr) 1980-10-08
IE801024L (en) 1980-11-19
SE449995B (sv) 1987-06-01
KR830002769A (ko) 1983-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3843641A (en) Process for preparing penicillin and cephalosporin compounds
JPH01110668A (ja) β−ラクタム抗生物質中間体
MC1921A1 (fr) Derives acyles
EP0037592A2 (en) Beta-lactam compounds
Gordon et al. Sulfenyl transfer rearrangement of sulfenimines (thiooximes). A novel synthesis of 7. alpha.-methoxycephalosporins and 6. alpha.-methoxypenicillins
JPS60120885A (ja) ペネム類の製造方法
US4296236A (en) 7-(or 6-) Substituted-7-(or 6-)acylimino cephalosporin (or penicillin) compounds
JP3743823B2 (ja) ペニシリン結晶及びその製造法
KR900009138B1 (ko) 2α-메틸-2β-(1,2,3-트리아졸-1-일)메틸펜암-3α-카르복실산 유도체의 제조방법
JPS5941994B2 (ja) ペニシラン酸誘導体とその製造方法
NO159796B (no) Fremgangsmaate ved fremstilling av terapeutisk aktive 2- (fluoralkylthio)substituerte penemer.
EP0112481A1 (en) Beta-lactam compound
DE2619243C2 (de) Verfahren zur Herstellung von 3-Acyloxymethyl-cephem-Verbindungen
EP0122002B1 (en) Process for preparing azetidinone derivatives
EP0397212A1 (en) Process for preparing cephalosporin compounds
GB2051055A (en) 6-Haloalkysulphonyloxy Penicillanic Acid Derivatives and Reactions Thereof
JP2602669B2 (ja) 2β−ハロゲノ置換メチルペニシリン誘導体の製造法
JPH039115B2 (ja)
EP0120094B1 (en) Azetidinone compounds
JPS63211289A (ja) スルタミシリン及び同族体製造用中間体
SU1170972A3 (ru) Способ получени производных 1,1-диоксида 6-аминоалкилпенициллановой кислоты или их аддитивных солей с @ -толуолсульфокислотой
GB2125035A (en) 6 beta -Halopenicillanic acid derivatives
JPS6019786A (ja) 8−フルオロ−3−ニトロメチル−カルバペネム誘導体
JPS58109490A (ja) ペニシリン誘導体
JPS6010038B2 (ja) 7β−アミノ−セフエム−4−カルボン酸化合物の製法