JPS5941994B2 - ペニシラン酸誘導体とその製造方法 - Google Patents
ペニシラン酸誘導体とその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D499/21—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a nitrogen atom directly attached in position 6 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
- C07D499/28—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a nitrogen atom directly attached in position 6 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with modified 2-carboxyl group
- C07D499/32—Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D499/04—Preparation
- C07D499/10—Modification of an amino radical directly attached in position 6
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はペニシリン類、特に生物学的に活性な6一置換
ペニシラン酸の製造における有用な中間体である新規な
6−ペルハロアルキルスルホニルオキシペニシラン酸誘
導体に関する。
ペニシラン酸の製造における有用な中間体である新規な
6−ペルハロアルキルスルホニルオキシペニシラン酸誘
導体に関する。
多数の6−β一置換ペニシラン酸誘導体が抗生物質およ
びβ−ラクタマーゼ阻害剤として関心をもたれている。
びβ−ラクタマーゼ阻害剤として関心をもたれている。
たとえば米国特許出願番号17809(1979年3月
5日出願)は、6β−ハロペニシラン酸およびその生物
不安定性エステルを、強力なβ−ラクタマーゼ阻害剤と
して開示している。
5日出願)は、6β−ハロペニシラン酸およびその生物
不安定性エステルを、強力なβ−ラクタマーゼ阻害剤と
して開示している。
本発明者らは、6−α−ペルハロアルキルスルホニルオ
キシペニシラン酸エステルがC−6位置で求核置換反応
を受けて、6−β一置換誘導体を生ずることを見出した
。
キシペニシラン酸エステルがC−6位置で求核置換反応
を受けて、6−β一置換誘導体を生ずることを見出した
。
このようなペニシリンのC−6位置でのSN2型置換反
応については既に10年以上も研究が行なわれてきてい
るが、成果が得られず、最も近い先行技術でも6−ジア
ゾペニシリンを経て非常に限られた範囲の6一置換化合
物が製造されるにすぎなかつた。したがつて上記のよう
な化合物は、多様な6−β一置換ペニシリン誘導体の製
造における有用な中間体となる。対応する6−β−ペル
ハロアルキルスルホニルオキシペニシラン酸類も6−α
一置換ペニシラン酸誘導体の製造に使用できる。すなわ
ち、本発明により、下記一般式(1)の6−αおよび6
−β一置換ペニシラン酸誘導体が提供される。
応については既に10年以上も研究が行なわれてきてい
るが、成果が得られず、最も近い先行技術でも6−ジア
ゾペニシリンを経て非常に限られた範囲の6一置換化合
物が製造されるにすぎなかつた。したがつて上記のよう
な化合物は、多様な6−β一置換ペニシリン誘導体の製
造における有用な中間体となる。対応する6−β−ペル
ハロアルキルスルホニルオキシペニシラン酸類も6−α
一置換ペニシラン酸誘導体の製造に使用できる。すなわ
ち、本発明により、下記一般式(1)の6−αおよび6
−β一置換ペニシラン酸誘導体が提供される。
式中、RはHまたは慣用のペニシリンカルボキシ保護基
または生体内で易加水分解性のエステル形成残基であり
:R1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であつて、
該ハロゲン原子はフツ素または塩素である。
または生体内で易加水分解性のエステル形成残基であり
:R1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であつて、
該ハロゲン原子はフツ素または塩素である。
「生体内で易加水分解性のエステル形成残基」とは、人
または動物に投与されると、胃、血液または組織のいず
れかにおいて容易に開裂されて遊離酸を生ずる毒性のな
いエステル基を意味する。
または動物に投与されると、胃、血液または組織のいず
れかにおいて容易に開裂されて遊離酸を生ずる毒性のな
いエステル基を意味する。
このようなR基の例は周知であつて、当業者により容易
に確認される。例をあげると、低級アルカノイルオキシ
メチル、1−(低級アルカノイルオキシ)エチル、1−
メチル−1−(低級アルカノイルオキシ)エチル、低級
アルコキシカルボニルオキシメチル、1−(低級アルコ
キシカルボニルオキシ)エチルおよび1−メチル−1−
(低級アルコキシカルボニルオキシ)エチル基がある。
具体例は、ピバロイルオキシメチル、アセトキシメチル
、1−エトキシカルボニルオキシエチル、3フタリジル
、4−クロトノラクトニルおよびγブチロラクトン−4
−イル基である。慣用のペニシリンカルボキシ保護基に
は、ペニシリンのカルボキシル基の保護に対して有用で
あることが当該分野で公知である基が含まれ、このよう
な基はペニシリン核に影響を及ぼさずに温和な条件下で
導入および脱離できる。
に確認される。例をあげると、低級アルカノイルオキシ
メチル、1−(低級アルカノイルオキシ)エチル、1−
メチル−1−(低級アルカノイルオキシ)エチル、低級
アルコキシカルボニルオキシメチル、1−(低級アルコ
キシカルボニルオキシ)エチルおよび1−メチル−1−
(低級アルコキシカルボニルオキシ)エチル基がある。
具体例は、ピバロイルオキシメチル、アセトキシメチル
、1−エトキシカルボニルオキシエチル、3フタリジル
、4−クロトノラクトニルおよびγブチロラクトン−4
−イル基である。慣用のペニシリンカルボキシ保護基に
は、ペニシリンのカルボキシル基の保護に対して有用で
あることが当該分野で公知である基が含まれ、このよう
な基はペニシリン核に影響を及ぼさずに温和な条件下で
導入および脱離できる。
代表的なカルボキシ保護基はベンジルおよび置換ベンジ
ル(例、p−メトキシベンジルおよびp−ニトロベンジ
ル)、ベンズヒドリル、トリメチルシリル、テトラヒド
ロペラニル、トリクロロエチル、フエナシルおよびトリ
メチルシリルエチルである。ペルハロアルキル基R1は
フツ素または塩素原子或いは塩素原子とフツ素原子の混
合物を含有しうる。
ル(例、p−メトキシベンジルおよびp−ニトロベンジ
ル)、ベンズヒドリル、トリメチルシリル、テトラヒド
ロペラニル、トリクロロエチル、フエナシルおよびトリ
メチルシリルエチルである。ペルハロアルキル基R1は
フツ素または塩素原子或いは塩素原子とフツ素原子の混
合物を含有しうる。
ペルハロアルキル基の例には、トリフルオロメチル、ト
リクロロメチル、およびノナフルオロブチル基がある。
一般にトリフルオロメチルおよびノナフルオロブチル基
が好ましい。アルキル、アルコキシまたはアルカノイル
基に冠せられた「低級」とは、その基の炭素数が6以下
であることを意味する。
リクロロメチル、およびノナフルオロブチル基がある。
一般にトリフルオロメチルおよびノナフルオロブチル基
が好ましい。アルキル、アルコキシまたはアルカノイル
基に冠せられた「低級」とは、その基の炭素数が6以下
であることを意味する。
このような基は直鎖または分岐鎖でよい。一般式におい
て、破線はその置換基が該二環式核の面より下側にくる
ことを示す。
て、破線はその置換基が該二環式核の面より下側にくる
ことを示す。
このような置換基はα一配置であると言われる。逆に置
換基のくさび状Q結合はβ一配置、すなわちこれがペニ
シリン核の面より上側にくることを示す。一般式(1)
の6−αおよび6−β−ペルハロアルキルスルホニルオ
キシペニシラン酸誘導体の製造は、一般式()(式中、
Rは上記定義のとおり)の6−ヒドロキシペニシラン酸
またはエステルから、これをペルハロアルキルスルホニ
ルハロゲン化物または無水物と反応させ;場合により、
カルボキシ保護基を脱離させてRが水素である一般式(
1)の化合物を得;また、場合によりRが水素である一
般式(1)の化合物を慣用のペニシリンカルボキシ保護
基で保護することにより実施できる。
換基のくさび状Q結合はβ一配置、すなわちこれがペニ
シリン核の面より上側にくることを示す。一般式(1)
の6−αおよび6−β−ペルハロアルキルスルホニルオ
キシペニシラン酸誘導体の製造は、一般式()(式中、
Rは上記定義のとおり)の6−ヒドロキシペニシラン酸
またはエステルから、これをペルハロアルキルスルホニ
ルハロゲン化物または無水物と反応させ;場合により、
カルボキシ保護基を脱離させてRが水素である一般式(
1)の化合物を得;また、場合によりRが水素である一
般式(1)の化合物を慣用のペニシリンカルボキシ保護
基で保護することにより実施できる。
この反応を実施するには、一般に、不活性有機溶媒(例
、クロロホルムまたは酢酸エチル)中の一般式()の化
合物の溶液にスルホニルハロゲン化物または無水物を添
加する。
、クロロホルムまたは酢酸エチル)中の一般式()の化
合物の溶液にスルホニルハロゲン化物または無水物を添
加する。
やや過剰(例、10%過剰)のスルホニルハロゲン化物
または無水物を一般に使用し、これを好都合には一般式
′品\^′LAILLl.−[Jl7斗CC]1L01
岡、ψ、劣欠七由の溶液状態で添加する。トリフルオロ
メタンスルホニルクロリドが好ましいスルホニルハロゲ
ン化物である。有機塩基(例、トリエチルアミン)を添
加して反応を助長し、遊離してきた酸を中和するのが有
利である。反応は−20℃から溶媒の還流温度までの温
度で実施できるが、副生物の生成を避けるためにO℃に
冷却しながら反応を行なうのが好ましい。このような条
件下で反応は一般に15〜30分後に終了するので、そ
の後、生成物を常法、たとえば水による希釈、溶媒抽出
および溶媒の蒸発により処理する。所望により、生成物
をさらに常法、たとえばシリカでのカラムクロマトグラ
フイ一により精製する。生成物からエステル保護基を脱
離させることによるRが水素である一般式(1)の化合
物の生成はその保護基に応じた方法を使用して行なわれ
、このような方法とその実施条件は当業者には周知であ
ろう。
または無水物を一般に使用し、これを好都合には一般式
′品\^′LAILLl.−[Jl7斗CC]1L01
岡、ψ、劣欠七由の溶液状態で添加する。トリフルオロ
メタンスルホニルクロリドが好ましいスルホニルハロゲ
ン化物である。有機塩基(例、トリエチルアミン)を添
加して反応を助長し、遊離してきた酸を中和するのが有
利である。反応は−20℃から溶媒の還流温度までの温
度で実施できるが、副生物の生成を避けるためにO℃に
冷却しながら反応を行なうのが好ましい。このような条
件下で反応は一般に15〜30分後に終了するので、そ
の後、生成物を常法、たとえば水による希釈、溶媒抽出
および溶媒の蒸発により処理する。所望により、生成物
をさらに常法、たとえばシリカでのカラムクロマトグラ
フイ一により精製する。生成物からエステル保護基を脱
離させることによるRが水素である一般式(1)の化合
物の生成はその保護基に応じた方法を使用して行なわれ
、このような方法とその実施条件は当業者には周知であ
ろう。
使用する媒質は無水でも水性でもよく、場合によつては
各種強度の酸性または塩基性媒質でもよい。たとえば、
Rが2・2・2−トリクロロエチル基である場合には、
酢酸中において亜鉛で処理することによりこれを脱離さ
せることができ、またRが4−メトキシベンジルの場合
にはトリフルオロ酢酸との反応により除去できる。いず
れの場合も、生成した遊離酸を単離した後、所望により
これを常法(例、シリカでのカラムクロマトグラフイ一
)によりさらに精製してもよい。遊離酸は所望によりさ
らにエステル化してもよい。たとえば、遊離酸をトリメ
チルシリル化剤たとえばビス(トリメチルシリル)アセ
トアミドと反応させてトリメチルシリルエステルを製造
してもよく、この生成物は単離するか、または後述のよ
うにそのままその場で反応させて、6一置換誘導体を生
成させる。一般式()の化合物は一部は既知化合物であ
りまたこれらの化合物は類似方法により製造できる。
各種強度の酸性または塩基性媒質でもよい。たとえば、
Rが2・2・2−トリクロロエチル基である場合には、
酢酸中において亜鉛で処理することによりこれを脱離さ
せることができ、またRが4−メトキシベンジルの場合
にはトリフルオロ酢酸との反応により除去できる。いず
れの場合も、生成した遊離酸を単離した後、所望により
これを常法(例、シリカでのカラムクロマトグラフイ一
)によりさらに精製してもよい。遊離酸は所望によりさ
らにエステル化してもよい。たとえば、遊離酸をトリメ
チルシリル化剤たとえばビス(トリメチルシリル)アセ
トアミドと反応させてトリメチルシリルエステルを製造
してもよく、この生成物は単離するか、または後述のよ
うにそのままその場で反応させて、6一置換誘導体を生
成させる。一般式()の化合物は一部は既知化合物であ
りまたこれらの化合物は類似方法により製造できる。
たとえば、J.C.Sheehanetal,.J.O
rg.Chem.l974、?上、1444には、ベン
ズヒドリルエステル(ただし、この化合物は6一β−ヒ
ドロキシエステルであると誤記されているが)を含む6
−α−ヒドロキシペニシラン酸の多数のエステルの製造
について記載されている。Rがエステルまたはカルボキ
シ保護基である一般式()の化合物は、既知の6−α−
ヒドロキシペニシラン酸を使用した慣用のエステル化法
によつても製造できる(D.HauserとH.P.S
igglHelv.Chim.Actall967、V
磨 1327)6−β−ペルハロアルキルスルホニルォ
キシペニシラン酸誘導体も、まつたく同じ方法で、ただ
し当然のことながら相当する6−β−ヒドロキシペニシ
ラン酸またはエステルから出発して製造することができ
る。6−β−ヒドロキシペニシラン酸のエステルもやは
り一部は既知化合物であり或いは類似方法により製造で
きる。
rg.Chem.l974、?上、1444には、ベン
ズヒドリルエステル(ただし、この化合物は6一β−ヒ
ドロキシエステルであると誤記されているが)を含む6
−α−ヒドロキシペニシラン酸の多数のエステルの製造
について記載されている。Rがエステルまたはカルボキ
シ保護基である一般式()の化合物は、既知の6−α−
ヒドロキシペニシラン酸を使用した慣用のエステル化法
によつても製造できる(D.HauserとH.P.S
igglHelv.Chim.Actall967、V
磨 1327)6−β−ペルハロアルキルスルホニルォ
キシペニシラン酸誘導体も、まつたく同じ方法で、ただ
し当然のことながら相当する6−β−ヒドロキシペニシ
ラン酸またはエステルから出発して製造することができ
る。6−β−ヒドロキシペニシラン酸のエステルもやは
り一部は既知化合物であり或いは類似方法により製造で
きる。
たとえば、6β−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオ
キシメチルエステルは、既知の6−アミノペニシラン酸
エステルから、ジアゾ化反応後、トリフエニルホスフイ
ンおよび亜硝酸と反応させて6−オキソペニシラン酸エ
ステルとし、これを水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことにより製造できる(W.V.Daehneetal
..J.Med.Chem.l97O、V』、607)
。同様に、6−β−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2
−トリクロロエチルエステルも、既知の6−オキソエス
テルの水素化ホウ素ナトリウムによる還元によつて得る
ことができる(J.C.Sheehanetal、J.
Org.Chem.、1977、↓Zl4O45)。一
般式(1)の化合物は、多様な求核試薬による置換反応
を受けて、C−6位置の立体配置の逆転を伴なつて6一
置換ペニシラン酸誘導体を形成する。
キシメチルエステルは、既知の6−アミノペニシラン酸
エステルから、ジアゾ化反応後、トリフエニルホスフイ
ンおよび亜硝酸と反応させて6−オキソペニシラン酸エ
ステルとし、これを水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことにより製造できる(W.V.Daehneetal
..J.Med.Chem.l97O、V』、607)
。同様に、6−β−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2
−トリクロロエチルエステルも、既知の6−オキソエス
テルの水素化ホウ素ナトリウムによる還元によつて得る
ことができる(J.C.Sheehanetal、J.
Org.Chem.、1977、↓Zl4O45)。一
般式(1)の化合物は、多様な求核試薬による置換反応
を受けて、C−6位置の立体配置の逆転を伴なつて6一
置換ペニシラン酸誘導体を形成する。
好適な求核試薬には、ハロゲンイオン、アジ化物イオン
ならびに含イオウ求核試薬、たとえば芳香族、複素環も
しくは脂肪族チオール、チオ酸から誘導される陰イオン
もしくはチオシアン酸イオンがある。場合によつては(
特に含イオウおよび含セレン求核試薬の場合)、過剰の
求核試薬と長い反応時間とが最初に生成したβ一生成物
のエピ化を引起して、熱力学的により安定なα一異性体
を生ずることがある。
ならびに含イオウ求核試薬、たとえば芳香族、複素環も
しくは脂肪族チオール、チオ酸から誘導される陰イオン
もしくはチオシアン酸イオンがある。場合によつては(
特に含イオウおよび含セレン求核試薬の場合)、過剰の
求核試薬と長い反応時間とが最初に生成したβ一生成物
のエピ化を引起して、熱力学的により安定なα一異性体
を生ずることがある。
しかし、化学量論量よりやや少量の求核試薬を使用すれ
ば、一般に純粋なβ一誘導体を得ることができる。本発
明のこの側面による特に有用な方法は、一般式(1)の
6−α−ペルハロアルキルスルホニルオキシペニシラン
酸誘導体のヨウ素、塩素、臭素またはアジ化物イオンに
よる置換によつて、相当する6−β一置換誘導体を得る
ことである。
ば、一般に純粋なβ一誘導体を得ることができる。本発
明のこの側面による特に有用な方法は、一般式(1)の
6−α−ペルハロアルキルスルホニルオキシペニシラン
酸誘導体のヨウ素、塩素、臭素またはアジ化物イオンに
よる置換によつて、相当する6−β一置換誘導体を得る
ことである。
すなわち、本発明は、一般式(1)の6−α置換化合物
を金属臭化物、塩化物、ヨウ化物またはアジ化物と反応
させ、Rがカルボキシ保護基である場合にはこの保護基
を除去し、生成した下記一般式()の化合物を単離する
ことからなる。一般式()(式中、Xは臭素、塩素、ヨ
ウ素またはアジドであり;R2は水素または生体内で易
加水分解性のエステル形成残基である)の6−β−置換
ペニシラン酸誘導体の製造方法も提供する。
を金属臭化物、塩化物、ヨウ化物またはアジ化物と反応
させ、Rがカルボキシ保護基である場合にはこの保護基
を除去し、生成した下記一般式()の化合物を単離する
ことからなる。一般式()(式中、Xは臭素、塩素、ヨ
ウ素またはアジドであり;R2は水素または生体内で易
加水分解性のエステル形成残基である)の6−β−置換
ペニシラン酸誘導体の製造方法も提供する。
この方法は一般に反応に不活性な有機溶媒(例、アセト
ン、テトラヒドロフランまたはN−N−ジメチルホルム
アミド)に溶解した一般式(1)の化合物を使用して行
なわれ、金属ハロゲン化物またはアジ化物(例、ヨウ化
ナトリウム)を過剰に加える。
ン、テトラヒドロフランまたはN−N−ジメチルホルム
アミド)に溶解した一般式(1)の化合物を使用して行
なわれ、金属ハロゲン化物またはアジ化物(例、ヨウ化
ナトリウム)を過剰に加える。
反応混合物を好都合には室温で1〜2日間攪拌し、反応
が実質的に完結したら(薄層クロマトグラフィ一により
示される)、反応混合物を常法、たとえば水による希釈
、溶媒抽出および溶媒の蒸発により処理する。所望によ
り、特にRが生体内で易和水分解性のエステル形成残基
である一般式(1)の化合物を使用した場合、生成物を
さらに精製して、目的生成物としてR2が生体内で易加
水分解性の同じエステル形成残基である一般式()の化
合物を得てもよい。或いは、生成物をそのまま次の反応
段階に使用することもできる。Rが慣用のペニシリンカ
ルボキシ保護基である一般式(1)の化合物の反応から
得られた生成物からエステル保護基を脱離させるには、
前述のようにその保護基に応じた方法を使用して行なう
。
が実質的に完結したら(薄層クロマトグラフィ一により
示される)、反応混合物を常法、たとえば水による希釈
、溶媒抽出および溶媒の蒸発により処理する。所望によ
り、特にRが生体内で易和水分解性のエステル形成残基
である一般式(1)の化合物を使用した場合、生成物を
さらに精製して、目的生成物としてR2が生体内で易加
水分解性の同じエステル形成残基である一般式()の化
合物を得てもよい。或いは、生成物をそのまま次の反応
段階に使用することもできる。Rが慣用のペニシリンカ
ルボキシ保護基である一般式(1)の化合物の反応から
得られた生成物からエステル保護基を脱離させるには、
前述のようにその保護基に応じた方法を使用して行なう
。
一般式()の化合物に対する特に好ましい保護基はベン
ズヒドリルおよび4−メトキシベンジル基であり、これ
らは、たとえばトリフルオロ酢酸を使用した酸性条件下
で脱離できる。すなわち、このような場合、金属ハロゲ
ン化物またはアジ化物との反応に続いて、この方法の第
1段階から得られた生成物を反応に不活性な有機溶媒(
例、ジクロロメタン)に溶解し、トリフルオロ酢酸を加
える。完全な保護基脱離を確保するのに通常は室温で3
0分間の反応時間で十分であり、生成物をその後一般に
溶媒の除去により単離し、所望により常法(例、シリカ
でのカラムクロマトグラフイ一)によりさらに精製して
もよ(・。この方法に対する別の好ましい保護基はトリ
メチルシリルエステルであり、これは水との接触により
脱離するので、別に脱保護工程を実施する必要はなく、
生成物の水性処理過程で一般に失なわれる。
ズヒドリルおよび4−メトキシベンジル基であり、これ
らは、たとえばトリフルオロ酢酸を使用した酸性条件下
で脱離できる。すなわち、このような場合、金属ハロゲ
ン化物またはアジ化物との反応に続いて、この方法の第
1段階から得られた生成物を反応に不活性な有機溶媒(
例、ジクロロメタン)に溶解し、トリフルオロ酢酸を加
える。完全な保護基脱離を確保するのに通常は室温で3
0分間の反応時間で十分であり、生成物をその後一般に
溶媒の除去により単離し、所望により常法(例、シリカ
でのカラムクロマトグラフイ一)によりさらに精製して
もよ(・。この方法に対する別の好ましい保護基はトリ
メチルシリルエステルであり、これは水との接触により
脱離するので、別に脱保護工程を実施する必要はなく、
生成物の水性処理過程で一般に失なわれる。
さらに別の好ましい保護基は4−ニトロベンジルエステ
ルであり、これは亜二チオン酸ナトリウムによる処理で
脱離される。本発明のこの態様による特に有用な方法は
、Xがヨウ素で、Rが水素である一般式()の化合物の
製造方法である。
ルであり、これは亜二チオン酸ナトリウムによる処理で
脱離される。本発明のこの態様による特に有用な方法は
、Xがヨウ素で、Rが水素である一般式()の化合物の
製造方法である。
この点に関して、R1がトリフルオロメチルであり、R
がベンズヒドリル、4−メトキシベンジル、4−ニトロ
ベンジルまたはトリメチルシリルである一般式(1)の
化合物と金属ヨウ化物との反応が特に有用である。本発
明を下記の実施例により例示する。実施例1〜7、15
および16は一般式(1)の新規化合物の製造例であり
、実施例8〜14はこれらを使用した一般式()の化合
物の製造法の例である。一般式()のいくつかの出発物
質の製造は製造例1〜5に示されている。実施例 1 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ベンズヒドリルエステルクロロホルム(13mの中
の6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエス
テル(383rf1y)とトリエチルアミン(125η
)との混合物に、クロロホルム(2m1)中のトリフル
オロメタンスルホニルクロリド(190η)の溶液を0
℃で加え、得られた混合物を30分間攪拌した。
がベンズヒドリル、4−メトキシベンジル、4−ニトロ
ベンジルまたはトリメチルシリルである一般式(1)の
化合物と金属ヨウ化物との反応が特に有用である。本発
明を下記の実施例により例示する。実施例1〜7、15
および16は一般式(1)の新規化合物の製造例であり
、実施例8〜14はこれらを使用した一般式()の化合
物の製造法の例である。一般式()のいくつかの出発物
質の製造は製造例1〜5に示されている。実施例 1 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ベンズヒドリルエステルクロロホルム(13mの中
の6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエス
テル(383rf1y)とトリエチルアミン(125η
)との混合物に、クロロホルム(2m1)中のトリフル
オロメタンスルホニルクロリド(190η)の溶液を0
℃で加え、得られた混合物を30分間攪拌した。
この溶液を砕いた氷(10f)上に投じ、クロロホルム
でくり返し抽出゛した。クロロホルム抽出液を合わせて
水洗し、乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸発させて、淡
黄色のゴム状物を得た。これをシリカでクロマトグラフ
処理し、酢酸エチルと石油エーテル(B.p.6O〜8
0℃)の1:9混合物で溶離した。適当な画分を集めて
蒸発させることにより、6−α一トリフルオロメチルス
ルホニルオキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(
422m9、82%)を淡黄色ゴム状物として得た。実
施例 2 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸4−メトキシペンシルエステルクロロホルム(50
m0に6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−メトキシベ
ンジルエステル(0.937)とトリエチルアミン(0
.557)をとかした溶液を氷冷しながら攪拌し、これ
にクロロホルム(2m0中のトリフルオロメタンスルホ
ニルクロリド(0.70f)の溶液を滴下した。
でくり返し抽出゛した。クロロホルム抽出液を合わせて
水洗し、乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸発させて、淡
黄色のゴム状物を得た。これをシリカでクロマトグラフ
処理し、酢酸エチルと石油エーテル(B.p.6O〜8
0℃)の1:9混合物で溶離した。適当な画分を集めて
蒸発させることにより、6−α一トリフルオロメチルス
ルホニルオキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(
422m9、82%)を淡黄色ゴム状物として得た。実
施例 2 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸4−メトキシペンシルエステルクロロホルム(50
m0に6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−メトキシベ
ンジルエステル(0.937)とトリエチルアミン(0
.557)をとかした溶液を氷冷しながら攪拌し、これ
にクロロホルム(2m0中のトリフルオロメタンスルホ
ニルクロリド(0.70f)の溶液を滴下した。
15分後、溶液を水(50m1)で洗浄し、乾燥し(M
gSO4)、蒸発乾固した。
gSO4)、蒸発乾固した。
生成物をシリカでクロマトグラフし、ジクロロメタンの
含有量を漸増させたペンタンで溶離した。適当な画分を
集めて蒸発すると、6−α一トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル
(0.707)、M.p.69〜71℃が得られた。実
施例 3 6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸2・2・2−トリクロロエチルエステノレジクロロ
メタン(10m0中で6−β−ヒドロキシペニシラン酸
2・2・2−トリクロロエチル(0.24y)をO℃に
冷却して攪拌しながら、これにトリフルオロメタンスル
ホニルクロリド(0.167)と次にジクロロメタン(
1m1)中のトリエチルアミン(0.085y)を滴下
した。
含有量を漸増させたペンタンで溶離した。適当な画分を
集めて蒸発すると、6−α一トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル
(0.707)、M.p.69〜71℃が得られた。実
施例 3 6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸2・2・2−トリクロロエチルエステノレジクロロ
メタン(10m0中で6−β−ヒドロキシペニシラン酸
2・2・2−トリクロロエチル(0.24y)をO℃に
冷却して攪拌しながら、これにトリフルオロメタンスル
ホニルクロリド(0.167)と次にジクロロメタン(
1m1)中のトリエチルアミン(0.085y)を滴下
した。
0℃での攪拌をさらに1.25時間続けた後、溶液を水
洗し、乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸発させて、6−
β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラン酸
2・2・2−トリクロロエチルエステル(0.29y)
を淡黄色油状で得た。
洗し、乾燥し(MgSO4)、溶媒を蒸発させて、6−
β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラン酸
2・2・2−トリクロロエチルエステル(0.29y)
を淡黄色油状で得た。
実施例 4
6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ピバロイルオキシメチルエステルこの化合物は、実
施例3の一般的方法により、ただし6−β−ヒドロキシ
ペニシラン酸ピバロイルオキシメチルエステルを出発物
質として使用して製造された。
ン酸ピバロイルオキシメチルエステルこの化合物は、実
施例3の一般的方法により、ただし6−β−ヒドロキシ
ペニシラン酸ピバロイルオキシメチルエステルを出発物
質として使用して製造された。
実施例 5
6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸2・2・2−トリクロロエチルエステル(20
0r1z(!)を90%酢酸水溶液に溶解し、活性亜鉛
(65ワ)を添加した。
ン酸6−β一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸2・2・2−トリクロロエチルエステル(20
0r1z(!)を90%酢酸水溶液に溶解し、活性亜鉛
(65ワ)を添加した。
混合物を室温で1時間攪拌した後、追加の亜鉛(30η
)を加え、混合物をさらに1時間攪拌した。混合物を沢
過し沢液を蒸発乾固し、残渣を酢酸エチルで抽出し、溶
媒を蒸発させた。得られた粗生成物をシリカでの調製用
Tlc(5%酢酸/酢酸エチルで溶離)により精製して
、6−β一トリフルオロメチルスルホニルォキシペニシ
ラン酸(23η)を得た。IR(フイルム):1815
cTrL−1 (β−ラクタムカルボニル)実施例 6 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸4−メトキシベンジル(100η)をトリフル
オロ酢酸(1m0に溶解し、15秒後に蒸発乾固した。
)を加え、混合物をさらに1時間攪拌した。混合物を沢
過し沢液を蒸発乾固し、残渣を酢酸エチルで抽出し、溶
媒を蒸発させた。得られた粗生成物をシリカでの調製用
Tlc(5%酢酸/酢酸エチルで溶離)により精製して
、6−β一トリフルオロメチルスルホニルォキシペニシ
ラン酸(23η)を得た。IR(フイルム):1815
cTrL−1 (β−ラクタムカルボニル)実施例 6 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸4−メトキシベンジル(100η)をトリフル
オロ酢酸(1m0に溶解し、15秒後に蒸発乾固した。
残渣をシリカでカラムクロマトグラフイ一処理し、酢酸
エチルの含有量を漸増させたガソリンで溶離して、62
ηの粗生成物を得た。これをジイソプロピールエーテル
と共に摩砕し、5%酢酸/酢酸エチルを用いたシリカで
の調製用Tlcで精製して、純粋な6−α一トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシペニシラン酸(17η)を得
た。実施例 7 6−α−ノナフルオロブチルスルホニルォキシラペニシ
ラン酸ベンズヒドリルエステル クロロホルム(19m0中の6−α−ヒドロキシペニシ
ラン酸ベンズヒドリル(・1.917)をトリエチルア
ミン(505ワ)とノナフルオロブチルスルホニルフル
オリド(1.57)とで順に処理した。
エチルの含有量を漸増させたガソリンで溶離して、62
ηの粗生成物を得た。これをジイソプロピールエーテル
と共に摩砕し、5%酢酸/酢酸エチルを用いたシリカで
の調製用Tlcで精製して、純粋な6−α一トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシペニシラン酸(17η)を得
た。実施例 7 6−α−ノナフルオロブチルスルホニルォキシラペニシ
ラン酸ベンズヒドリルエステル クロロホルム(19m0中の6−α−ヒドロキシペニシ
ラン酸ベンズヒドリル(・1.917)をトリエチルア
ミン(505ワ)とノナフルオロブチルスルホニルフル
オリド(1.57)とで順に処理した。
反応は20分後に完了した。反応混合物の処理を、溶媒
の蒸発およびシリカでのクロマトグラフイ一(塩化メチ
レンを漸増する量で含有するガソリンで溶離)により行
なつて、6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(1.87)、M
.p。74〜76℃を得た。
の蒸発およびシリカでのクロマトグラフイ一(塩化メチ
レンを漸増する量で含有するガソリンで溶離)により行
なつて、6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(1.87)、M
.p。74〜76℃を得た。
カルボニル)、1738CTIL−1 (エステルカル
ボニル)実施例 8 6−β−ヨードペニシラン酸 (A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル(57)、
ヨウ化ナトリウム(12.57)およびアセトン(10
0m0からなる混合物を室温で46時間攪拌した。
ボニル)実施例 8 6−β−ヨードペニシラン酸 (A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル(57)、
ヨウ化ナトリウム(12.57)およびアセトン(10
0m0からなる混合物を室温で46時間攪拌した。
得られた混合物を10m1に濃縮し、水(200m0で
希釈し、エーテル(200mので抽出した。エーテル抽
出液をMgSO4上で乾燥し、蒸発させて、6−β−ヨ
ードペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル(4.
8V)を油状で得た。(B)上記(4)で得た生成物(
0.387)をジクロロメタン(20m0にとかした溶
液にトリフルオ口酢酸(2m1)を加えた。
希釈し、エーテル(200mので抽出した。エーテル抽
出液をMgSO4上で乾燥し、蒸発させて、6−β−ヨ
ードペニシラン酸4−メトキシベンジルエステル(4.
8V)を油状で得た。(B)上記(4)で得た生成物(
0.387)をジクロロメタン(20m0にとかした溶
液にトリフルオ口酢酸(2m1)を加えた。
この溶液を室温で30分間攪拌した後、真空蒸発し、残
渣をシリカのカラムでクロマトグラフ処理し、酢酸エチ
ルと石油エーテル(B.p.6O〜80℃)の1:3混
合物で溶離した。生成物を含有する適当な画分を合わせ
て、少量になるまで蒸発させた。析出した結晶性沈殿を
▲別し、ジクロロメタンとペンタンの1:1混合物で洗
浄し、乾燥して、6−β−ヨードペニシラン酸(27r
f11!)、M.p.l2O℃(分解)を得た。この生
成物は、分光学およびクロマトグラフイ一のデータが参
照試料と同一であつた。
渣をシリカのカラムでクロマトグラフ処理し、酢酸エチ
ルと石油エーテル(B.p.6O〜80℃)の1:3混
合物で溶離した。生成物を含有する適当な画分を合わせ
て、少量になるまで蒸発させた。析出した結晶性沈殿を
▲別し、ジクロロメタンとペンタンの1:1混合物で洗
浄し、乾燥して、6−β−ヨードペニシラン酸(27r
f11!)、M.p.l2O℃(分解)を得た。この生
成物は、分光学およびクロマトグラフイ一のデータが参
照試料と同一であつた。
実施例 9
(A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルォキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステルを使用して実施例
8(A)の方法をくり返すことにより、6−β−ヨード
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステルを得た。
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステルを使用して実施例
8(A)の方法をくり返すことにより、6−β−ヨード
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステルを得た。
86−β−ヨードペニシラン酸ベンズヒドリルエステル
(80ワ)をジクロロメタン(1m1)に溶解し、トリ
フルオロ酢酸(0.5m0を加えた。
(80ワ)をジクロロメタン(1m1)に溶解し、トリ
フルオロ酢酸(0.5m0を加えた。
この溶液を室温で30分間攪拌した後、蒸発乾固して、
76ヮの生成物を得た。これはTlc、赤外スペクトル
およびNMRにより、少量のベンズヒドリル誘導副生物
を不純物として含んだ6−β−ヨードペニシラン酸であ
ると同定された。定施例 10 6−β−プロモペニシラン酸 〜 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸ベンズヒドリルエステル(400η)をN・N
−ジメチルホルムアミド(3m0にとかした溶液に、臭
化リチウム(68η)を添加し、この混合物を室温で1
7時間攪拌した。
76ヮの生成物を得た。これはTlc、赤外スペクトル
およびNMRにより、少量のベンズヒドリル誘導副生物
を不純物として含んだ6−β−ヨードペニシラン酸であ
ると同定された。定施例 10 6−β−プロモペニシラン酸 〜 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸ベンズヒドリルエステル(400η)をN・N
−ジメチルホルムアミド(3m0にとかした溶液に、臭
化リチウム(68η)を添加し、この混合物を室温で1
7時間攪拌した。
溶媒を蒸発させ、残渣をシリカでクロマトグラフ処理し
、塩化メチレンの含有量を漸増させたヘキサンで溶離し
て、6−βプロモペニシラン酸ベンズヒドリルエステル
(73m9)を得た。ト) 6−β−フロモペニシラン
酸ベンズヒドリルを実施例98に記載のようにトリフル
オロ酢酸で処理して、参照試料と同一の6−β−プロモ
ペニシラン酸を得た。
、塩化メチレンの含有量を漸増させたヘキサンで溶離し
て、6−βプロモペニシラン酸ベンズヒドリルエステル
(73m9)を得た。ト) 6−β−フロモペニシラン
酸ベンズヒドリルを実施例98に記載のようにトリフル
オロ酢酸で処理して、参照試料と同一の6−β−プロモ
ペニシラン酸を得た。
辷施例 11
6−β−アジドペニシラン酸
A) 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペ
ニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(485η)を
N−N−ジメチルホルムアミド(5m0にとかした溶液
に、アジ化リチウム(50ワ)を添加し、゛この混合物
を室温に2週間保持した。
ニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(485η)を
N−N−ジメチルホルムアミド(5m0にとかした溶液
に、アジ化リチウム(50ワ)を添加し、゛この混合物
を室温に2週間保持した。
次いで混合物をクロロホルムと水の間で分配し、有機相
を分離し、蒸発させ、残渣をシリカでクロマトグラフ処
理し、塩化メチレンを含有するガソリンで溶離して、6
−βアジドペニシラン酸4−ニトロベンジル(160ワ
)を得た。
を分離し、蒸発させ、残渣をシリカでクロマトグラフ処
理し、塩化メチレンを含有するガソリンで溶離して、6
−βアジドペニシラン酸4−ニトロベンジル(160ワ
)を得た。
NMR(CDCl3)δ:1.43(S、3H)、(B
) 6−β−アジドペニシラン酸4−ニトロベンジル(
150mク)をアセトニトリル(10m1にとかした溶
液を、水(5m1)と亜二チオン酸ナトリウム(150
ワ)で処理した。
) 6−β−アジドペニシラン酸4−ニトロベンジル(
150mク)をアセトニトリル(10m1にとかした溶
液を、水(5m1)と亜二チオン酸ナトリウム(150
ワ)で処理した。
混合物を室温で15分間撹拌した後、酢酸エチルと水の
間で分配した。水相をPH2.5に酸性化してから、有
機相を分離し、蒸発させた。残渣をシリカでクロマトグ
ラフ処理し、まずペンタンで、次にエタノールを5%含
有する酢酸エチルで溶離して、6−β−アジドペニシラ
ン酸(22η)を油状で得た。これは静置すると徐々に
固化した。実施例 126−β−アジドペニシラン酸 (A) 6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(21it)を実
施例11(A)に記載のようにアジ化リチウム 30で
処理して、6−β−アジドペニシラン酸ベンズヒドリル
(0.97)を得た。
間で分配した。水相をPH2.5に酸性化してから、有
機相を分離し、蒸発させた。残渣をシリカでクロマトグ
ラフ処理し、まずペンタンで、次にエタノールを5%含
有する酢酸エチルで溶離して、6−β−アジドペニシラ
ン酸(22η)を油状で得た。これは静置すると徐々に
固化した。実施例 126−β−アジドペニシラン酸 (A) 6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(21it)を実
施例11(A)に記載のようにアジ化リチウム 30で
処理して、6−β−アジドペニシラン酸ベンズヒドリル
(0.97)を得た。
(B)上記6の生成物を、実施例9(B)の方法を利用
して保護基脱離処理して、6−β−アジドペニシラン酸
を得た。
して保護基脱離処理して、6−β−アジドペニシラン酸
を得た。
これは実施例11(B)の生成物と同一であつた。実施
例 13 6−β−ヨードペニシラン酸ナトリウム (4)アセトン(50m1)中の6−α一トリフルオロ
メチルスルホニルオキシペニシラン酸(57143ミリ
モル)の溶液に、ビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド(3.197、157ミリモル)を加え、この溶液を
35〜40゜Cで30分間攪拌した。
例 13 6−β−ヨードペニシラン酸ナトリウム (4)アセトン(50m1)中の6−α一トリフルオロ
メチルスルホニルオキシペニシラン酸(57143ミリ
モル)の溶液に、ビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド(3.197、157ミリモル)を加え、この溶液を
35〜40゜Cで30分間攪拌した。
得られた6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸トリメチルシリルエステルの溶液にヨウ化
ナトリウム(2.35y、157ミリモル)を加え、混
合物を60〜65℃で30分間攪拌した。溶媒を真空蒸
発させて、6−β−ヨードペニシラン酸トリメチルシリ
ルエステルを粘稠な赤色油状で得た。B)上記6の生成
物を酢酸エチル(50m1)および水(50TLI)と
共に攪拌し、有機相を分離し水(2×25m1)で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
ペニシラン酸トリメチルシリルエステルの溶液にヨウ化
ナトリウム(2.35y、157ミリモル)を加え、混
合物を60〜65℃で30分間攪拌した。溶媒を真空蒸
発させて、6−β−ヨードペニシラン酸トリメチルシリ
ルエステルを粘稠な赤色油状で得た。B)上記6の生成
物を酢酸エチル(50m1)および水(50TLI)と
共に攪拌し、有機相を分離し水(2×25m1)で洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
得られた遊離酸のアセトン溶液に2−エチルヘキサン酸
ナトリウム(3.57y1215ミリモル)の溶液を添
加し、混合物を室温で30分間攪拌した。
ナトリウム(3.57y1215ミリモル)の溶液を添
加し、混合物を室温で30分間攪拌した。
析出した結晶性沈殿を沢別し、酢酸エチルとエーテルで
洗浄し、乾燥して、6−β−ヨードペニシラン酸ナトリ
ウム(3.37、66%)を得た。これは参照試料と同
一であつた。辷施例 14 6−β−クロロペニシラン酸 υ N−N−ジメチルホルムアミド(2m1)中の6−
α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラン酸
ベンズヒドリルエステル(550ヮ)の溶液に塩化リチ
ウム(50η)を加え、混合物を室温で17時間攪拌し
た。
洗浄し、乾燥して、6−β−ヨードペニシラン酸ナトリ
ウム(3.37、66%)を得た。これは参照試料と同
一であつた。辷施例 14 6−β−クロロペニシラン酸 υ N−N−ジメチルホルムアミド(2m1)中の6−
α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラン酸
ベンズヒドリルエステル(550ヮ)の溶液に塩化リチ
ウム(50η)を加え、混合物を室温で17時間攪拌し
た。
溶媒を蒸発させ残渣をシリカでクロマトグラフ処理し、
塩化メチレンの含有量を漸増させたペンタンで溶離して
、6−β−クロロペニシラン酸ベンズヒドリル(162
牧)、RfO.35(CH2Cl2/SiO2)を白色
フオーム状で得た。[有]) 6−β−クロロペニシラ
ン酸ベンズヒドリルを実施例903)に記載のようにト
リフルオロ酢酸で処理して、6−β−クロロペニシラン
酸を得た〜 実施例 15 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ベンズヒドリルエステルクロロホルム(100m1
)に6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエ
ステル(10.07)をとかした溶液に、0℃でトリエ
チルアミン(2.637)と無水トリフルオロメタンス
ルホン酸(8.07)を加えた。
塩化メチレンの含有量を漸増させたペンタンで溶離して
、6−β−クロロペニシラン酸ベンズヒドリル(162
牧)、RfO.35(CH2Cl2/SiO2)を白色
フオーム状で得た。[有]) 6−β−クロロペニシラ
ン酸ベンズヒドリルを実施例903)に記載のようにト
リフルオロ酢酸で処理して、6−β−クロロペニシラン
酸を得た〜 実施例 15 6−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペニシラ
ン酸ベンズヒドリルエステルクロロホルム(100m1
)に6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエ
ステル(10.07)をとかした溶液に、0℃でトリエ
チルアミン(2.637)と無水トリフルオロメタンス
ルホン酸(8.07)を加えた。
反応混合物を室温で2時間攪拌した後、水(2×100
m1)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて、
黒ずんだゴム状物を得た。シリカでクロマトグラフ処理
し、ヘキサンとジクロロメタンの混合物で溶離して、実
施例2の生成物と同一の生成物(47)を得た。実施例
166−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペ
ニシラン酸4−ニトロベンジルエステル6−α−ヒドロ
キシペニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(1.9
7)を実施例2に記載のようにトリフルオロメタンスル
ホニルクロリドで処理した。
m1)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて、
黒ずんだゴム状物を得た。シリカでクロマトグラフ処理
し、ヘキサンとジクロロメタンの混合物で溶離して、実
施例2の生成物と同一の生成物(47)を得た。実施例
166−α一トリフルオロメチルスルホニルオキシペ
ニシラン酸4−ニトロベンジルエステル6−α−ヒドロ
キシペニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(1.9
7)を実施例2に記載のようにトリフルオロメタンスル
ホニルクロリドで処理した。
生成物を実施例2に記載のようにクロマトグラフ処理お
よび溶離して、6−α一トリフルオロメチルスルホニル
オキシペニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(1.
37)を赤色油状で得た。製造例 1 6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステ
ノレ塩化メチレン(13m1)とメタノール(4m0の
混合溶媒中の6−α−ヒドロキシペニシラン酸(1?)
の溶液にジフエニルジアゾメタン(1y)を加えた。
よび溶離して、6−α一トリフルオロメチルスルホニル
オキシペニシラン酸4−ニトロベンジルエステル(1.
37)を赤色油状で得た。製造例 1 6−α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステ
ノレ塩化メチレン(13m1)とメタノール(4m0の
混合溶媒中の6−α−ヒドロキシペニシラン酸(1?)
の溶液にジフエニルジアゾメタン(1y)を加えた。
追加分のジフエニルジアゾメタンを4時間後(0.57
)と6時間後(0.257)にも加えた。混合物を室温
で1晩放置し、溶媒を真空除去した。残渣をシリカでク
ロマトグラフ処理し、酢酸エチルと石油エーテル(B.
p.6O〜80℃)の1:3混合物で溶離した。生成物
を含有する画分を合わせて蒸発させることにより、6−
α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(
0.67)を黄色フオーム状で得た。NMRとIRのデ
ータは文献(J.C.Sheehan.Y.S.LOJ
J.LOligerおよびC.POdewell.J.
Org.Chem.l974、39、1444)の値と
一致した。製造例 2 6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−メトキシベンジル
エステルトリエチルアミン(577)を含有するN−N
ジメチルホルムアミド(540m0に6−αヒドロキシ
ペニシラン酸(717)をとかした溶液に、塩化アニシ
ル(50.67)を攪拌下に加えた。
)と6時間後(0.257)にも加えた。混合物を室温
で1晩放置し、溶媒を真空除去した。残渣をシリカでク
ロマトグラフ処理し、酢酸エチルと石油エーテル(B.
p.6O〜80℃)の1:3混合物で溶離した。生成物
を含有する画分を合わせて蒸発させることにより、6−
α−ヒドロキシペニシラン酸ベンズヒドリルエステル(
0.67)を黄色フオーム状で得た。NMRとIRのデ
ータは文献(J.C.Sheehan.Y.S.LOJ
J.LOligerおよびC.POdewell.J.
Org.Chem.l974、39、1444)の値と
一致した。製造例 2 6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−メトキシベンジル
エステルトリエチルアミン(577)を含有するN−N
ジメチルホルムアミド(540m0に6−αヒドロキシ
ペニシラン酸(717)をとかした溶液に、塩化アニシ
ル(50.67)を攪拌下に加えた。
混合物を室温で17時間攪拌した後、水(11)と酢酸
エチル(11)の間で分配した。有機相を分離し、水(
2×500m0、飽和重炭酸ナトリウム溶液(500m
1)および食塩水(500m0で順に洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。溶媒蒸発後に残つた油状物をシ
リカでクロマトグラフ処理し、石油エーテル(B.p。
6O〜80℃)で溶離して、6−α−ヒドロキシペニシ
ラン酸4−メトキシベンジルエステル(15y113%
)を油状で得た。
エチル(11)の間で分配した。有機相を分離し、水(
2×500m0、飽和重炭酸ナトリウム溶液(500m
1)および食塩水(500m0で順に洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。溶媒蒸発後に残つた油状物をシ
リカでクロマトグラフ処理し、石油エーテル(B.p。
6O〜80℃)で溶離して、6−α−ヒドロキシペニシ
ラン酸4−メトキシベンジルエステル(15y113%
)を油状で得た。
製造例 3
6−β−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2トリクロロ
エチルエステル50%エタノ△ル水溶液(250m1に
とかした6−オキソペニシラン酸2・2・2−トリクロ
ロエチルエステル(2.87)の溶液に、0℃で50%
エタノール水溶液(350m0中の水素化ホウ素ナトリ
ウム(0.237)の溶液を攪拌しながら加えた。
エチルエステル50%エタノ△ル水溶液(250m1に
とかした6−オキソペニシラン酸2・2・2−トリクロ
ロエチルエステル(2.87)の溶液に、0℃で50%
エタノール水溶液(350m0中の水素化ホウ素ナトリ
ウム(0.237)の溶液を攪拌しながら加えた。
2分後、反応混合物を20%リン酸(90Tn1)でP
H2に酸性化し、ジクロロメタン(2X100m0で抽
出した。
H2に酸性化し、ジクロロメタン(2X100m0で抽
出した。
有機抽出液を合わせて、5%重炭酸ナトリウム水溶液(
100m0と水(100m0で洗浄し、乾燥し(Na2
SO4)、蒸発して、橙色油状物を得た。これをシリカ
でクロマトグラフイ一処理し、ジエチルエーテルの含有
量を漸増させたジクロロメタンで傾斜溶離して、6−β
−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2−トリクロロエチ
ルエステル(0.54y)を得た。NMR(CDCl3
)δ:1.59(Sl3H)、1,70(Sl3H)、
4.61(SllH)、4.81(Sl2H)、5.2
1(Bs..D2Oでdに変化、J−4Hz、1H)、
5.58(D.J一4Hz11H)、また3.53(B
dllH)に0H0IR(フイルム):1760〜17
80cTrL−1製造例 4 6−β−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオキシメチ
ルエステルジクロロメタン(360m1)と水(400
m)の混合溶媒にp−トルエンスルホン酸(2.0y)
と亜硝酸ナトリウム(8.87)をとかした溶液を冷却
して攪拌しながら、これにジクロロメタン(40m0中
の6−アミノペニシラン酸ピバロィルオキシメチルエス
テルp−トルエンスルホン酸塩(4.07)の溶液を滴
下した。
100m0と水(100m0で洗浄し、乾燥し(Na2
SO4)、蒸発して、橙色油状物を得た。これをシリカ
でクロマトグラフイ一処理し、ジエチルエーテルの含有
量を漸増させたジクロロメタンで傾斜溶離して、6−β
−ヒドロキシペニシラン酸2・2・2−トリクロロエチ
ルエステル(0.54y)を得た。NMR(CDCl3
)δ:1.59(Sl3H)、1,70(Sl3H)、
4.61(SllH)、4.81(Sl2H)、5.2
1(Bs..D2Oでdに変化、J−4Hz、1H)、
5.58(D.J一4Hz11H)、また3.53(B
dllH)に0H0IR(フイルム):1760〜17
80cTrL−1製造例 4 6−β−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオキシメチ
ルエステルジクロロメタン(360m1)と水(400
m)の混合溶媒にp−トルエンスルホン酸(2.0y)
と亜硝酸ナトリウム(8.87)をとかした溶液を冷却
して攪拌しながら、これにジクロロメタン(40m0中
の6−アミノペニシラン酸ピバロィルオキシメチルエス
テルp−トルエンスルホン酸塩(4.07)の溶液を滴
下した。
混合物をO℃で30分間、さらに室温で1時間攪拌した
。有機層を分離し、乾燥し(Na2SO4)、150m
1の量に濃縮した。この溶液を氷浴で冷却し、攪拌しな
がらこれにトリフエニルホスフイン(2.17f)を加
え、続いてトリフルオロ酢酸(3.25m1)とジメチ
ルスルホキシド(110m0とに亜硝酸ナトリウム(2
.717)をとかした溶液を滴下した。混合物をO℃で
さらに2時間攪拌した後、水、5%重炭酸ナトリウム水
溶液および水で順に洗浄した。この溶液を乾燥し(Na
2SO4)、溶媒を真空蒸発させた。得られた粗製6−
オキソ生成物を直ちにメタノール(62.5m0とエタ
ノール(62.5m1)の混合物中に溶解させ、この溶
液を氷浴で冷却して攪拌しながら、これに水(62.5
m1)とエタノール(62.5m1)の混合物中の水素
化ホウ素ナトリウム(0.177)の溶液を加えた。2
.5時間後混合物を20%リン酸でPH2に酸性化し、
ジクロロメタン(2×100m1)で抽出した。
。有機層を分離し、乾燥し(Na2SO4)、150m
1の量に濃縮した。この溶液を氷浴で冷却し、攪拌しな
がらこれにトリフエニルホスフイン(2.17f)を加
え、続いてトリフルオロ酢酸(3.25m1)とジメチ
ルスルホキシド(110m0とに亜硝酸ナトリウム(2
.717)をとかした溶液を滴下した。混合物をO℃で
さらに2時間攪拌した後、水、5%重炭酸ナトリウム水
溶液および水で順に洗浄した。この溶液を乾燥し(Na
2SO4)、溶媒を真空蒸発させた。得られた粗製6−
オキソ生成物を直ちにメタノール(62.5m0とエタ
ノール(62.5m1)の混合物中に溶解させ、この溶
液を氷浴で冷却して攪拌しながら、これに水(62.5
m1)とエタノール(62.5m1)の混合物中の水素
化ホウ素ナトリウム(0.177)の溶液を加えた。2
.5時間後混合物を20%リン酸でPH2に酸性化し、
ジクロロメタン(2×100m1)で抽出した。
合わせた有機抽出液を5%重炭酸ナトリウム水溶液と水
で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、溶媒を真空蒸発し
て、粗生成物を得た。これをシリカでジエチルエーテル
の含有量を漸増させたジクロロメタンでの傾斜溶離によ
りクロマトグラフ処理して精製することにより、6−β
−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオキシメチルエス
テル(0.95f)を得た。NMR(CDCl3)δ:
1.20(Sl9H)、1.52(Sl3H)、1.6
3(Sl3H)、4.46(SllH)、5.22(m
1またはD2O後にdに変化、J−4Hz11H)、5
.69(D.J=4Hz、2H)、5.83(d、J−
6Hz11H)、5.87(D,.J−6Hz11H)
IR(フイルム・):1800C7rL−1 (β−ラ
クタムカルボニル)製造例 5 6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−ニトロベンジルエ
ステルN−N−ジメチルアミド(50m0に6−αーヒ
ドロキシペニシラン酸(5.07)とトリエチルアミン
(2.37)をとかして得た攪拌された溶液に、臭化4
−ニトロベンジル(5.07)を加えた。
で洗浄し、乾燥し(Na2SO4)、溶媒を真空蒸発し
て、粗生成物を得た。これをシリカでジエチルエーテル
の含有量を漸増させたジクロロメタンでの傾斜溶離によ
りクロマトグラフ処理して精製することにより、6−β
−ヒドロキシペニシラン酸ピバロイルオキシメチルエス
テル(0.95f)を得た。NMR(CDCl3)δ:
1.20(Sl9H)、1.52(Sl3H)、1.6
3(Sl3H)、4.46(SllH)、5.22(m
1またはD2O後にdに変化、J−4Hz11H)、5
.69(D.J=4Hz、2H)、5.83(d、J−
6Hz11H)、5.87(D,.J−6Hz11H)
IR(フイルム・):1800C7rL−1 (β−ラ
クタムカルボニル)製造例 5 6−α−ヒドロキシペニシラン酸4−ニトロベンジルエ
ステルN−N−ジメチルアミド(50m0に6−αーヒ
ドロキシペニシラン酸(5.07)とトリエチルアミン
(2.37)をとかして得た攪拌された溶液に、臭化4
−ニトロベンジル(5.07)を加えた。
反応混合物を室温で1晩攪拌した後、水(100m1)
と酢酸エチル(100mのを加えた。
と酢酸エチル(100mのを加えた。
有機層を分離し、水希重炭酸ナトリウム水溶液および食
塩水で順に洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて
、赤色ゴム状物を得た。シリカで酢酸エチルとジクロロ
メタンの混合物を溶離剤としてクロマトグラフを行ない
、生成物(2.52y)を得た。NMR(CDCl3)
δ:1.41(Sl3H)、1.55(Sl3H)、4
.52(SllH)、4.80(BsllH)、5.2
0−5.32(Ml3H)、7.54(D.J=8.5
Hz、2H)、8.19(D.J−8.5Hz、2H)
塩水で順に洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発させて
、赤色ゴム状物を得た。シリカで酢酸エチルとジクロロ
メタンの混合物を溶離剤としてクロマトグラフを行ない
、生成物(2.52y)を得た。NMR(CDCl3)
δ:1.41(Sl3H)、1.55(Sl3H)、4
.52(SllH)、4.80(BsllH)、5.2
0−5.32(Ml3H)、7.54(D.J=8.5
Hz、2H)、8.19(D.J−8.5Hz、2H)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式の6−α又は6−β−置換ペニシラン酸
誘導体:▲数式、化学式、表等があります▼・・・(
I )式中、RはHまたは慣用のペニシリンカルボキシ保
護基または生体内で易加水分解性のエステル形成残基で
あり、R^1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であ
つて、ここで該ハロゲン原子はフッ素または塩素である
。 2 該慣用のペニシリンカルボキシ保護基がベンジル、
p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズヒ
ドリル、トリメチルシリル、テトラヒドロピラニル、ト
リクロロエチル、フェナシルまたはトリメチルシリルエ
チル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 生体内で易加水分解性の該エステル形成残基がピバ
ロイルオキシメチル、アセトキシメチル、1−エトキシ
カルボニルオキシエチル、3−フタリジル、4−クロト
ノラクトニル、またはγ−ブチロラクトン−4−イル基
である特許請求の範囲第1項又は第2項記載の化合物。 4 該ペルハロアルキル基がトリフルオロメチルまたは
ノナフルオロブチル基である特許請求の範囲第1項ない
し第3項のいずれかに記載の化合物。 5 6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシペニ
シラン酸ベンズヒドリルエステル;6−α−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシペニシラン酸4−メトキシベ
ンジルエステル;6−β−トリフルオロメチルスルホニ
ルオキシペニシラン酸2・2・2−トリクロロエチルエ
ステル;6−α−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
ペニシラン酸;6−β−トリフルオロメチルスルホニル
オキシペニシラン酸;6−α−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシペニシラン酸トリメチルシリルエステル;
または6−α−ノナフルオロブチルスルホニルオキシペ
ニシラン酸ベンズヒドリルエステルである特許請求の範
囲第1項記載の一般式( I )の化合物。 6 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I )(式
中、RはHまたは慣用のペニシリンカルボキシ保護基ま
たは生体内で易加水分解性のエステル形成残基であり、
R^1は炭素数1〜4のペルハロアルキル基であつて、
ここで該ハロゲン原子はフッ素または塩素である)の6
−αまたは6−β−置換ペニシラン酸誘導体の製造方法
であつて:一般式(II)▲数式、化学式、表等がありま
す▼・・・(II)(式中、Rは上記定義のとおり)の6
−αまたは6−β−ヒドロキシペニシラン酸またはエス
テルをペルハロアルキルスルホニルハロゲン化物または
無水物と反応させ;所望によりカルボキシ保護基を除去
させて一般式( I )でRがHである化合物を得;また
、場合により、一般式( I )でRがHである化合物を
慣用のペニシリンカルボキシ保護基で保護する、ことか
らなる方法。 7 ペルハロアルキルスルホニルハロゲン化物がトリフ
ルオロメチルスルホニルクロリドである特許請求の範囲
第6項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7917505 | 1979-05-19 | ||
| GB7917505 | 1979-05-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55157588A JPS55157588A (en) | 1980-12-08 |
| JPS5941994B2 true JPS5941994B2 (ja) | 1984-10-11 |
Family
ID=10505288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55065859A Expired JPS5941994B2 (ja) | 1979-05-19 | 1980-05-17 | ペニシラン酸誘導体とその製造方法 |
Country Status (28)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4356122A (ja) |
| JP (1) | JPS5941994B2 (ja) |
| KR (1) | KR840000079B1 (ja) |
| AR (1) | AR225038A1 (ja) |
| AT (1) | AT366694B (ja) |
| AU (1) | AU517488B2 (ja) |
| BE (1) | BE883319A (ja) |
| CA (1) | CA1140916A (ja) |
| CH (1) | CH650262A5 (ja) |
| CS (1) | CS214756B2 (ja) |
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