JPS6034969A - 新規なペニシラン酸誘導体およびその塩類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なペニシラン酸誘導体お」、ｄその塩類に
関する。さらに詳しくｄ７、つぎの一般式〔Ｉ〕、 で表わされる新規なペニシラン酸誘導体およびその塩類
に関する。

そして、その目的とするところは、β−ラクタマーゼ阻
害作用を有し、ペニシリン類およびセファロスポリン類
の薬効を増進さぜる作用を有する有用な新規化合物を提
供することにある。

本発明者らは、これらの目的を達成するため鋭意研究し
た結釆、６位にス・ルホキシ基または置換基を櫓してい
てもよいスルファモイルオキシ基を有する一般式〔Ｉ〕
で表わされる化合物が有用な化合物であることを見出し
、本発明を完成するに至った。

尚、本明細書において特Ｃてことわらない１＜、１，３
す、アルキル基とｄ直鎖またば分枝鎖状ＣＩ−ｕアルキ
ル、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅＣ−ブチル、ｔ
ｅｒｔ−７’チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ドデシルなど；アルケニルとハＣ２〜１０アル
ケニル、たとえ？、Ｉ’　、ビニル、アリル、イソフロ
ベニル、２−ベンゾニル、ブテニルなト；シクロアルキ
ルとハＣ３〜７シクロアルキル、たとえば、シクロプロ
ピル、ンクロプチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
、シクロヘプチルなど；アリールとは、たとえｄ−、フ
ェニル、トリル、ナフチル、インダニルなト；アルアル
キルとけ、たとえば、ベンジル、フェネチル、４−メチ
ルベンジル、ナフチルメチルなど；アシルとハＣ１〜□
２アシル、たとえは、アセチル、フロビオニル、ブチリ
ル、ピバロイル、ペンタンカルボニル、シクロヘキサン
カルボニル、ベンゾイル、ナフトイル、フロイル、テノ
イルなど；複素環式基とは環中に酸素、硫黄および蟹Ａ
’−ｋ子から選定された少なくとも１個以上の桟菓原子
を含む複素環式基、たとえば、フリル、チェニル、ピロ
リル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、インチ
アゾリル、オキサシリル、インオキサシリル、オキサジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリ
ル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピロリジニル
、ピラゾリニル、ピロリニル、チアトリアゾニル、オ咥
すトリアゾリル、インドリル、ピリジル、ピリミジニル
、ピリダジニル、ピラジニル、ピラニル、ピペラジニル
、ピペリジニル、ヘギサメチレンイミノ、モルホリニル
、トリアジニル、ベンゾチェニル、ベンゾフリル、ベン
ゾオキサシリル、ベンゾチアゾリル、プリニル、イソベ
ンゾフリル、イソインドリル、ベンゾフリル、キノリジ
ニル、ギノリル、イソキノリルなど；ハロゲン原子とは
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子をそれぞれ意味する。

、寸だ低級とは炭素原子数１〜５を意味する。

本発明で使用されている釉々の用語中に、たトエば、ア
ルキル、アルケニル、アリール、アシルなどの用語があ
る場合も、特にことわらない限り上述した意味を示す。

以下、一般式［Ｉ）の化合物を詳細に説明する。

Ｒ１は、水酸基または置換されていてもよいアミノ基を
示すが、置換さり、ていてもよいアミノ基の置換基とし
ては、たとえば、アルギルス、テトラメチレン、ペンタ
メチレン、３−オへ−シペンタメチレン、３−チオペン
タメチレン、３−メチルイミノペンタメチレンなど、メ
チレン基が酸素、硫黄または窒素原子と入れ代つ１いて
もよいアルキレン基、アルケニル基、シクロアルキル基
、アリール基、アルアルキル基などが挙げられる。

Ｒ２は、式−０Ｒ１（式中、Ｒ３け水素原子またはＣ式
中、Ｒ４およびＲ５は同一もしくνよ異なって、それぞ
れ水素原子または置換されていてもよいアルギル、アリ
ールもしくはアルアルキル基をボし、またＲ４およびＲ
５が隣接する窒素原子と一緒になってＮ換されていても
よい含窒素飽和複素環式基を形成してもよい。）を示す
。

これらのうち、Ｒ３のカルボキシル保磯基としては、従
来ペニシリンおよびセファロスポリン系化合物の分野で
通常使用されているものが拳げられ、具体的ＶＣは、た
とえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル
、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−７’チル、フェニル、インダ
ニル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、ｐ−ニ
トロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ベンゾイルメチ
ル、アセチルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ
−プロ七ベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、トリ
クロロエチル、１．１−ジメチル−２−プロペニル、、
１．１−シメチルフロビル、アセトキシメチル、プロピ
オニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、１−ア
セチルエチル、１−ピバロイルオキシエチル、１−ピバ
ロイルオキシ−ｎ−プロピル、アセデルチオメチル、ピ
バロイルチオメチル、１−アセチルチオエチル、１−ピ
バロイルチオエチル、メトキシメチル、エトキシメチル
、フロボキシメチル、イソプロポキシメチル、ｎ−ブト
キシメチル、メトキシカルボニルオキシエチル、エトキ
シカルボニルオキシメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル、１−メトキシカルボニルオキシエチル、１
−エトキシカルボニルオキシエチル、１−イソプロポキ
シ力ルボニルオ昨ジエチル、フタリジル、２−フタリジ
リデンエチル、２−（５−フルオロフタリジリデン）エ
チル、２−（６−クロロフタリジリデン）エチル、２−
（６−メドキシフタリジリデン）エチル、（５−メチル
−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メチ
ル、（５−エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ル
ー４−イル〕メチル、（５−プロピル−２−オキソ−１
，３−ジメキソールー４−イル）メチル、１．１−ジメ
チル−２−フロベニル、３−メチル−３−ｙヂニル、ス
クシンイミドメチル、１−シクロフロビルエチル、メチ
ルスルフェニルメチル、１−シクロフロビルエチル、フ
ェニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、キノリン−
１−オキシド−２−メチル、（ピリジン−１−オキシド
−２−イル）メチル、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メ
チルなどの基が誉げられ、さらに、四塩化チタンの如き
、非金５化合物でカルボキシル基が保心されている場合
、ならびに特開昭４６−７０７３号およびオランダ国公
開公報７１０５２５９号に記載されているように、たと
えば、ジメチルクロロシランの如きシリル化合物でカル
ボキシル基が保護されている場合などが挙げられる。

また、Ｒ４およびＲ５が隣接する窒ぜ原子と一緒になっ
て形成してもよい置換されていてもよい含窒素飽和複素
環式基の含窒素飽和複素環式基としては、たとえば、ピ
ロリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジル、ピペラジニ
ル、インドリル、モルホリニルなどの５員、６員または
縮環含窒素飽和複素環式基が挙げられる。

また、Ｒ４およびＲ５で示される各基および含窒素飽和
複素環式基の置換基としては、たとえｌ：Ｕ、ハロゲン
原子、ヒドロキシル基、シアノ基、アミノ基、アシルア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリ
ールアミノ基、アルアルキルアミノ基、カルボキシル基
、アルキル基、アルアルキル基、アリール基、シクロア
ルキル基、アルキルチオ基、アルキルオキシ基、アシル
基、スルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アル
キルスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、アル
アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルアルキ
ノ１ノオキシカルポニルアミノアルキル基、アミノメチ
ル、アミノエチル、ヒドロキシエチル、トリフルオロメ
チル、メトキシカルボニルメヂル首だはカルボキシメチ
ルなどの置換アルキル基、アルキルオキシカルボニルア
ルキルカルバモイル基、カルボキシアルキルカルバモイ
ル基、複累環式基などが挙げられ、これら一種以上の４
換基で置換されていてもよい。

さらに、Ｒ４およびＲ５で示される各基および含窒素飽
和板；にΩ式基の置換基がカルボキシル基、ヒドロキシ
ル基および／捷たけアミノ基を有している場合は、これ
らの置換基は当該分野で知られている保護基で保護され
ていてもよい。ここにおいてヒドロキシル基の保恐基と
してに１通常ヒドロキシル基の保護基として１ヅ用し荀
るずべての基を含み、たとえば、ベンジルオキシカルボ
ニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ブロ
モベンジルオキシカルボニル、４−メト牛ジベンジルオ
キシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカ
ルボニル、４−（フェニルアソ）ヘンシルオキシカルボ
ニル、４−（４−メトキシフェニルアソ）ベンジルオキ
シカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、１．１
−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ジフェニルメトキシカルボニル％　２．２．２
−　）　！Ｊクロロエトキシカルボニル％　２，２．２
−　）　’）　フロそエトキシカルボニル、２−フルフ
リルオキシカルボニル、１−アダマンチルオキシカルボ
ニル、ｌ−シクロプロピルエトキシカルボニル、３−キ
ノリルオキシカルボニル、トリフルオロアセチルなどの
脱Ｆｉｌｌ　Ｌやすいアシル基；ベンジル基、トリチル
基、メトキシメチル基、２−二トロフェニルノルフェニ
ル、２．４−ジニトロフェニルスルフェニル基すどが挙
げられる。

才た、アミノ基の保護基としては、：１１１を常アミノ
保護基として使用し得るすべてのノー”を含み、たとえ
ば、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキ
シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−）ルエ
ンスルホニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、
Ｏ−７’ロモベンジルオキシ力ルボニル、０−ニトロフ
ェニルスルフェニル、（モノー＋シ＋　）　’Ｊ　）り
。

ロアセチル、トリフルオロアセチル、７Ｊ−ルミル、ｔ
ｅｒｔ−アミルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル、ｐ−メト牛ジベンジルオキシカルボニル、
３．４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、４−（
フェニルアソ）ベンジルオキシカルボニル、４−（４−
メトキシカルニルアソ）ベンジルオキシカルボニル、ピ
リジン−１−オキシド−２−イルメトキシカルボニル、
２−フリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカル
ボニル、１．１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、１−シクロフロヒルエトキシカ
ルボニル、　７１　ｏイル、スクシニル、１−アダマン
チルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニル
などの脱離シゃスいアシル基；トリチル、２−二ｈ０フ
ェニルスルフェニル、２．４−ジニトロフェニルスルフ
ェニル、２−ヒドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ
−５−クロロベンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナフ
チルメチレン、３−ヒドロキシ−４ニビリジルメチレン
、１−メトキシカルボニル−２−プロピリデン、１−エ
トキシカルボニル−２−プロピリデン、３−エトキシカ
ルボニル−２−ブチリデン、ｌ−アセチル−２−プ【コ
ピリデン、１−ベンゾイル−２−プロピリデン、１−４
Ｎ−（２−メトキシフェニル）カルバモイル：ｌ］−２
−プロピリデン、１−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）
カルバモイルクー２−プロヒリテン、２−エトキシカル
ボニルシクロへキシリデン、２−エトキシカルボニルシ
クロペンチリデン、２−アセチルシクロへキシリデン、
３，３−ジメチル−５−オキソシクロヘキシリデンなど
の脱離しやすい基；ジーもしくけトリーアルキルシリル
々とのアミノ基の保Ｎ’Ｊ基が拳げられる。

′　カルボキシル基の保護基としてｄ１通′１６のカル
ボキシル基の保画基として使用しイＪるすべての基を含
み、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプ
ロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ〜ブチル、ベンジル、ジ
フェニルメチル、トリデル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−
メトギシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル
、ｐ−二トロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾイル
メチル、ｐ−）タンスルホニルベンゾイルメチル、フタ
ルイミドメチル、トリクロロエチル、１、１−ジメチル
−２−プロペニル、１．１−ジメチルプロピル、アセト
キシメチル、プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、ｌ。

ｌ−ジメチル−２−プロペニル、３−メチル−３−ブチ
ニル、スクシンイミドメチル、■−シクロプロピルエチ
ル、メチルスルフェニルメチル、フェニルチオメチル、
ジメチルアミノメチル、キノリン−１−オキシド−２−
イルメチル、ピリジン−１−オキシド−２−イルメチル
、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチルなどの基が挙げ
られ、さらに、四塩化チタンの如き非金属化合物でカル
ボキシル基が保詣されている場合ならびに特洲昭４６−
７０７３号およびオランダ国分υ１ｊ公報７１０５２５
９号に記載されているように、たとえばジメチルクロロ
シランの如きシリル化合物でカルボキシル基が保詣され
ている場合などが添げられる。

Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、アシルオキシ基または
アルキルオキシ基を示す。

一般式〔■〕の化合物の塩類としては、たとえば、ナト
リウム、カリウムなどのアルカリ金８との塩；カルシウ
ム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アン
モニウム塩；プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベン
ジル−β−フェネチルアミン、Ｊ−エフエナミン、Ｎ、
Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン、トリメデルアミン、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモル
ホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなど
の含窒素泊イ幾廓基との塩を誉げることができる。また
、一般式［Ｉ］の化合物がアミノ基などの塩基性基を有
する場合は、たとえば、分子内塩、塩化水素、臭化水素
、硫酸などの鉱酸との塩を誉けることができる。

また、本発明は、一般式〔ｌ〕の化合物およびその塩類
の神々の異性体、水和物、溶媒１１１物ならびに結晶形
を包含するものである。

本発明の一般式［Ｉ）の化合物およびその塩シカは、遊
離酸の形、非毒性塩もしくは生理的に許容されるエステ
ルの形おるいはそのエステルの非毒性塩の形で人および
動物に経口または非経口的に供することができる。人お
よび動物に投与する場合、通常ペニシリンおよびセファ
ロスポリン系薬剤の場合に適用されている剤形、たとえ
ば、錠剤、カプセル剤、シロップ剤、注射剤、受刑など
の形に鱗製され、経口的もしくは非経口的投与が適用さ
れ、本発明の目的化合物にβ−ラクタム環を有する抗生
物質の配合剤として用いるのが好適である。投与量は、
患者の症状及びβ−ラククマーゼ産生病原菌の種類など
に応じて適宜選択されるが、一般に、１日当シ成人にお
いて約０．１ｖ〜約４．０２の量を投与するのが好寸し
い。また、β−ラクタム環を有する抗生物質との比は特
に限定されないが、一般にβ−、ラクタム環を有する抗
生物質に対して約０．１〜２倍重合比が好寸しい。

β−ラクタム環を有する抗生物質としては、たとえば、
ベンジルペニシリン、フェノキシメチルペニシリン、カ
ルベニシリン、メチシリン、プロピシリン、アンピシリ
ン、アモキシシリン、エピシリン、チカルシリン、シク
ラシリン、メシリナム、ヘタシリン、ピペラジリンなど
のペニシリン類、セファロリジン、セファログ−ン、セ
ファゾリン、セファレキシン、セファキシン、セファマ
ンドール、セファピリン、士フラジン、七ファトリジン
、セファログリシン、セフオチアム、セフアセドリル、
セフォペラゾン、セファレキシン、セフスロジン、・ヒ
フアシキシムなどのセファロスポリン類などが誉げらｉ
Ｌる。

次の説明は、本発明の代表的化合物の５！：ｌＣＪ１１
効果である。

化合物 Ａ：６β−スルホキシペニシラン随のジナトリウム塩 Ｂ：６β−スルホキシペニシランｔ、　−１−＊キシド
のジナトリウム塩 Ｃ：６β−スルホキシペニシラン酸−ｘ、ｘ−ジオキシ
ドのジナトリウム塩 Ｄ＝６β−スルホキシペニシラン酸アミドのナトリウム
塩 Ｅ：Ｎ−Ｃ４−メトキシカルボニルメチルフェニル）６
β−スルホキシペニシラン酸アミド−１，１−ジオキシ
ドのトリエチルアミン塩 Ｆ：２β−クロロメチル−２α−メチル−６β−スルホ
キシベナム−３−カルボン酸−１，１−ジオキシドのジ
ナトリウム塩 １、β−ラクタマーゼ阻害作用 ベニシリナーセの化５例としてエシェリヒア・コリＴＫ
−３及びセファロスポリナーゼの代表例としてエンテロ
バククー・クロアカＨ−２７がそれぞれ産生ずるβ−ラ
クタマーゼと過当濃度の阻害剤を１／１５　Ｍ　、　ｐ
Ｈ７，０のリン酸緩衝液中３０℃で５分間保温した後、
Ｊ１１終ｇＪｆｉｏｏマイクロモルのセ７アロリジ７　
ヲ加えて酵素反応を行う。β−ラクタマーゼ活性はスヴ
クトロフォトメトリック法〔Ｂ凰ｏｃｈｅｍｉｃａｌＪ
ｏｕｒｎａ１１３９巻、第７８０〜７８９頁（１９７４
年〕〕に基づいて測定する。そしてβ−ラクタマーゼ活
性を５０％阻害するのに要する阻害剤（Ｌ７．１度をＩ
Ｄ５ｏとして示す。

その結果を表−１に示す。

２、急性毒性（ＬＤｓｏ　） Ａ−Ｆで示した化合物のマウス静脈注射によるＬＤ５ｏ
値はいずれも１０００　ｑ／Ｋｇ以上であった。

つぎに、一般式ＣＩ）の化合物またはその塩類の製造法
について説明する。

本発明化合物は、たとえば、以１に示す方法によって製
造することができる。

〔■〕

またはその塩類 （ｍ）　［ＩＶ］ その反応性誘導体　その反応性ｎ０導体またはそれらの
塩類　またはそり、らの１Ａ類ＥＶ）　［：　Ｖｌ　］ その反応性誘導体　その反応性誘ζ′ト体またはそれら
の塩類　またはそれらの塩ζ真〔■〕　〔νｍ〕 またはその塩類　またはその塩類 上述の反応工程の式中、ｍは１または２を示し、Ｒ１、
Ｘ　、　Ｒ３，Ｒ４およびＲ５は前記した意味を有する
。

一般式Ｃｍ）　、　〔ｍ）　、　［ＩＶ］　、　〔Ｖ）
　、　［：ＶＩ）　、　［：■］および〔■〕の化合物
の塩類としては、上で説明したように、たとえば、一般
式〔Ｉ〕の化合物の塩類と同榎のものが４９けられる。

一般式［ＩＩＤおよび究〕の化合物の反応性誘導体とし
ては、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属原子ｉ　（ＣＨ＋）ｓＳｉ−１（ＣＨ３
）２　Ｓ　ｉ”、（ＣＨｓ　）２　Ｃ（ＣＨ３）２ｃＨ
）Ｓ　ｉ　−、（ＣＨ３０）ｓＳｉ　−１ＣＨｓ　（Ｃ
ＨａＯ）２Ｓ　１−１（ＣＨ３）２　（ＣＨ３０）Ｓ凰
−などの有機などの有機リン基などが反応部位である水
酸基に結合した化合物が挙げられる。

また、一般式■〕および〔■〕の化合物のカルボキシル
基における反応性誘導体としては、たとえば、酸ハロゲ
ン化物、酸無水物、混合酸熱水物、活性酸アミド、活性
エステル、酸アジドまたは一般式■〕および〔■〕の化
合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げ
られ、具体的には、混合酸熱水物としては、たとえば、
炭酸モノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステル
などの炭酸モノアルキルニスデルとの混合酸無水物；ピ
バリン酸、トリクロロ酊「７２などのハロゲンで置換さ
れていてもよい低級アルカン酸との混合酸無水物；フェ
ニルスルホン酸、ｐ−トルエンスルホンｅなどのアリー
ルスルボン酸との混合酸無水物；メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸などのアルキルスルホン酸との混合酸無
水物などが、活性酸アミドとしては、たとえば、Ｎ−ア
シルザツカリン、Ｎ−アシルイミダゾール、Ｎ−アシル
ベンゾイルアミド、Ｎ　、Ｎ’−ジシクロへキシル−Ｎ
−アシル尿ぶ、Ｎ−アシルスルホンアミドなどが、活性
エステルとしてＶゴ、たとえば、シアノメチルエステル
、植換フェニルエステル　ＵＷ　Ｆ＋ベンジルエステル
、置換チェニルエステル、ペンツトリアゾールエステル
、スクシンイミドエステルなどが、ビルスマイヤー試薬
との反応性誘導体としては、たとえば、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの
酸アミドにホスゲン、塩化チオニル、三塩化リン、三臭
化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリクロロメチ
ル＝クロロホルメート、塩化オキザリルなどの酸ハロゲ
ン化剤を作用させて得られるビルスマイヤー試薬との反
応性誘導体などがそれぞれ挙げられる。

つぎに各製造法を詳細に説明する。

（１）　［ＩＩ）→［ＩＩＩ）の製造法原村である一般
式［ＩＩＩ）の化合物は新規化合物を包含するが、これ
らは自体公知の方法、参考例および実施例ならびにそれ
らに準じた方法によって製造することができる。

たとえば、Ｘが水素原子である６α−ヒドロキシペニシ
ラン酸またはそのエステル類は、６−アミツベニシラン
醒に過塩素酸および亜硝酸塩を作用させて０α−ヒドロ
キシペニシラン酸ｆ：製造し、しかるのち常法によりエ
ステル化する方法（Ｄ、Ｈａｕｓｅｒ　ｃｔ、ａｌ、Ｈ
ｅ１Ｖ、Ｃｈｉｍ、ＡＣｔａ　＋１９６７＋５０．１３
２７）止たは６−ジアゾベニシラン酸エステル類に過塩
素酸を作用させる方法（Ｊ、Ｃ。

５ｈｅｅｈａｎ、ｅｔ、ａｌ　、、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅ
ｍ、　、　１９７４．３９　ｖ　１４４４）などによっ
て脱進できることが知られている。

また、Ｘが水素原子である６β−ヒドロキシペニシラン
酸またはそのエステル類は、６−オキツベニシラン酸エ
ステル類に水素化ホウ素カリウムを作用させる方法［Ｊ
、５ｈｅｅｈａｎ、　ｅｔ、ａｌ、　、　Ｊ。

Ａ＋ｎ、Ｃｂｅｍ、Ｓｏｃ、　、　９４．８２５３（１
９７２）〕などによって製造できることが知られている
。

Ｘが水拭原子以外の場合については、上述した方法およ
びそれに準じた方法によって製造することもでき、丑だ
上述した６（α−またβ−）ヒドロキシペニシラン酸ま
たはそのエステル類から誘尋することもできる。

ｆ２１　ＣｊｌＪ］→［ｌＶ：］、［Ｖ］→〔■〕およ
び〔〜′■〕→〔−・■〕の製造法これらの製造法は、
一般式［１１Ｄ、〔Ｖ）　ｔたけ〔■〕の化合物、その
反応性誘導体またけキｉ１らの塩類に反応に不活性な溶
媒の存仕下または不存在下に酸化剤を作用させることに
よってほぼ同様に行われる。

この反応に使用される溶媒としては、とくに限定されな
いが、たとえば、水；テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエチルエーテル、ジメトキシエタン
、ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのノ
・ロゲン化炭化水素頬；メタノール、エタノール、イン
プロパツール、ｔＣｒｔ−ブタノール、ｔｅｒｔ　−ア
ミルアルコール、エチレンクリコール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのアルコール頑；ベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；゛酢酸
エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトン、メチ
ルイソブチルケトンなどのケトン類；ギ酸、１作酸など
の低級脂肪酸類などが単げられる。これらの溶媒は二種
以上を混合して用いてもよい。

また酸化剤としては、たとえば、過酸化水素・ｔｅｒ　
ｔ−ブチル゛ヒトロバジオキシドなどの過酸化物；過ギ
酸、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などの
有機過酸類；過ヨウ素敏、メタ過ヨウ素酸カリウム、メ
タ過ヨウ素酸ナトリウムなどの過ヨウ素酸類；過マンガ
ンｒ没カリウム、過マンガン酸ナトリウムなどの過マン
ガン酸アルカリ金属塩類などの通常　Ｓ（＝Ｏ）ｍ化に
おいて知られている酸化剤が挙げらｉＬる。

酸化剤の使用ＪＳｔ［、ｍ＝ｌすなわちスルホキシドへ
の酸化の場合は、一般式〔■〕、〔Ｖ３寸たは〔■〕の
化合物、その反応性誘導体またはそれらの塩類に対し、
約１当量以上、好ましくは約１当量であり、ｍ−２すな
わちジスルホキシドへの酸化の場合は、一般式１：１１
Ｄ　、　〔Ｖ’）捷たｕ［髪Ｍ〕の化合物、その反応性
誘導体またはそれらの塩類に対し、２〜１０当量、好ま
しくは約２〜３当量である。

反応温度および反応時間は、通常−２０〜８０℃、好ま
しくは０〜３０℃で５分〜１６時間で十分である。

また、この反応けβ−ラクタム環の分解を防ぐため、水
を溶媒として使用する場合通ｎ中性付近で行うのが好ま
しい。

（３１［：ＩＩＩ］−ＣＶ〕オｊび（：ＩＶ）−［■］
　ノＦ造法これらの製造法は、一般式［ＩＩＩ）または
〔■〕の化合物、その反応性誘導体咬たはそれらの塩類
に反応に不活性な溶媒の存在下または不存在下にスルホ
ン化剤を作用させることによって行われる。

この反応に使用される溶媒としては、特に限定されない
が、たとえば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
、ジメトキシエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオ
キサンなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム
、四塩化炭素、１．２−ジクロロエタンなどのノ・ロゲ
ン化炭化水素ｅ　；　ＮｒＮ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；アセト
ニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ニト
ロメタン、ニトロエタン々どのニトロアルカン類；ピリ
ジン、キノリンなどのルホキシド類；酢酸エチル、酢酸
ブチルなどのエヌテル類；アセトン、メチルインブチル
ケトンなどのケトン類が拳げられる。これらの溶媒は二
種以上を混合して用いることもできる。こｈらｔｖＨ媒
のうち、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンなど
の溶媒またはジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素
を単独で、もしくは混合して使用するのが好ましい。

マタ、スルホン化剤としてｔｉ、クロロスルホン酸など
のハロスルホン酸類；塩化スルフリルなどのハロスルフ
リル類；三酸化硫黄；硫１’ｉｔ　；三酸化硫黄−ピリ
ジン、三酸化硫黄−ジメチルホルムアミド、三酸化硫黄
−ジオキサン、三酸化硫黄−トリメチルアミン、三酸化
硫黄−ルデシン、三酸化硫黄−ピコリン、三酸化硫黄−
クロロ硫酸などの三酸化硫黄複合体；スルフアミノ酸ク
ロリドなどのスルファミンｆ、ηのハロゲン化物；また
はジエチルスルファモイルクロリド、ジエチルスルファ
モイルクロリド、ジｎ−ブチルスル７７手イル〃口ＩＩ
　ｋＨべ１ノｉ４手１ノＶブルファモイルクロリド、４
−モルホリンスルホニルクロリドなどの置換スルファモ
イルハロゲン化物などが８けられる。なお、三酸化硫黄
複合体は単離して用いてもよく反応系内で生成させたも
のをそのまま用いてもよい。

スルホン化剤の使用量は、一般式〔ＩＩｆ）またはＣＩ
Ｖ）の化合物、その反応性誘導体またはそれらの塩如１
モルに対し１モル以上好ましくは１〜５モル、さらに好
ましくは１〜３モルである。

反応温度および反応時間は、通常−５０〜８０℃、好寸
しくけ一３０〜４０°Ｃで５分〜５０時間で十分である
。

（４）［Ｖ：］→〔■〕および［ＶＩ：］→〔■〕の製
造法これらの製造法は、一般式■〕祉たは〔ＶＤの化合
物またはその反応性誘導体に反応に不活性で示されるア
ミン類を作用させることによって行われる。

この反応に使用される溶媒としては、たとえば、先の（
３）で説明した（３）と同様のものが挙けられ、好まし
くｄ％Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、ベン
ゼン、塩化メチレン、ピリジン、テトラヒドロフランま
たはジオキサンなどの溶媒もしくはこれらの二種以上の
混合溶媒が左げられる。

また、一般式〔ｖ〕またはＣＶｌ、’：ｌの化合物の反
１ム性訪導体は、常法によって先の（３）　＆（おいて
イ！Ｉられた一般式［Ｖ：］甘たは〔田の化合物の遊に
Ｆ酸剤たけそれらの塩から製造される。

寸だ、一般式〔ＶＤまたは［ＶＤの化合物を遊１を酸の
状態で使用する場合は、適当な縮合剤の存在下に行うの
が好ましい。ｎ合剤としてｔ」、Ｎ。

Ｎ′−ジシクロへキシルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘ
キシル−Ｎ／−モルホリノエチルカルボジイミド、Ｎ−
シクロヘキシル−Ｎ’−（４−ジエチルアミノシクロヘ
キシル）カルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−（３’−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドなどのＮ、■
＼Ｊ′−ジ置換カルボジイミド；Ｎ−エトキシカルボニ
ル−２，２−エトキシ−１，２−ジヒドロキノリン、オ
キシ塩化０”１、アルコキシアセチレン、２−ノ・ロゲ
ノビリジニウム塩（たとえば、２−クロロピリジニウム
メナルヨージド、２−フルオロピリジニウムメチルヨー
シトなど）、トリフェニルホスフィン−２，２′−ジピ
リジルスルフィドなどが挙げられる。

〔ｖ〕址たは〔ＶＤの化合物またはその反応性誘導体１
モルに対して、１モル以上、好寸しくに１〜３モルであ
る。

反応温度および反応時間は、通常−７０〜８０℃で５分
〜５０時間で十分である。

上記各製造法によって得られる一般式［ＩＸ一般式［Ｖ
Ｄ　、　［ＶＤ　、　Ｃ■〕および〔ン■〕を含む。）
の化合物１だにその塩類は自体公知の手段、たとえは、
め縮、溶媒抽出、結晶化、再結晶またはクロマトグラフ
ィーなどにより単ＹＬ　８１製することができる。

また、一般式〔■〕の化合物またはその塩類が保護基を
有する場合は、必要に応じてその保護基と常法にしたが
って除去することができる。

一般式〔Ｉ）の化合物またはそのＪ、ｔＸ　回が遊自（
ｔの状態で得らｔした場合に、常法にしたがって、保護
基を導入することもできる。

寸だ、一般式〔■〕の化合物の塩類を得るには、反応系
内で直接塩の形で生成している場合は、それを通常の方
法によシ単靜すればよく、また遊離の形で生成している
場合は、通常の方法Ｖこ勢 よシ塩を生成せしめ、ついで、通常の方法によシ単離す
ればよい。そして、このようにして得られた塩類を、た
とえば、イオン交換樹脂を用いる方法またはイオン対抽
出法などにより他の塩類へ交換することもできる。

つぎに、本発明を参考例及び実施例をｊ′−げて説明す
るが、本発明はこれに限定さｉＬるものではない。

参考例１ （ｉ）　ベンジル−６β−ヒドロキシベニシラオート３
．Ｏｆを、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９　ｍｐに溶
解させ、水冷下にイミダゾール０．９３Ｆおよびｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド３．９ｆｉｆを加え
る。室温で２時間反応させた後、水２０コおよびベンゼ
ン２０ｍ１を加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整し、
有機層と分取する。水層をさらにベンゼン１（７で抽出
し、抽出液を先の有機層と合する。これを、飽和食塩水
１０ゴで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００；溶離液、
ベンゼン：ヘキサン＝２　：　１　）でＲＭスれば、融
点５０〜５４℃を示す白色品のベンジル−６β−ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシベニシラネート８．６
Ｆ（収率８７．５俤）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−”　；　Ｊ／Ｃ＝０１７７０，１
７２５心訊ＣＣＤＣｌ　ｓ　）δ値； ０１４（ｓ　、６Ｈ）　、１．０５（ｓ　、９Ｈ）　、
　１．４２（ｓ　、３Ｈ）　、　１．６４（ｓ　、３Ｈ
）。

４．５０　（Ｓ　、１）Ｉ）　、５．３２（Ｓ　、ＺＨ
）　、５．３０　（ｄ　、Ｊ＝４ＦＩｚ　、ＩＨ）　。

５．４５（ｄ　、Ｊ−４Ｈｚ　、　ＩＨ）　、７．４５
（ｓ　、５Ｉ（）（ｌＯベンジル＝６β−ｔｅｒ　ｔ−
プチルジメチルシリルオキシベニシラネー）８．６Ｐを
塩化メチレン３０ｍに溶解させ、氷冷下にｍ−クロロ過
安息香酸（純度８０９１Ｓ）　１．８５ｆを加え、３０
分間反応させる。ついで、不溶物を炉別し、ｐ液を１０
係亜硫酸水素す）　ＩＪウム水溶液２０ｍ１で洗浄し、
さらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶ｔｉ、２０ｍｅ、水
２０ｒｒ＋ｅおよび飽和食塩水２０ｍで順次洗浄した後
、缶水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物にジエチルエーテル１０ｄを加え
て析出晶を戸数すれば、融点、１６０℃（分角７）を示
すベンジル＝６β−ｔｅｒ　ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシベニシラネート−１β−オキシド１．６ｆ（収率
４２．８チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−”　；　ｐｃ−ｏ　１７８０．１
７３ＯＮＭＲＣＣＤＣ１ｓ　）δ値； ０．２０（Ｓ　、６Ｈ）　、０．９７　（Ｓ　、９Ｈ）
　、１．１０（ｓ　、３１１）　。

１．６８　（Ｓ　、３Ｈ）　、４．８３（ｓ　、　ＩＨ
）　、４．９２　（ｄ　、Ｊ＝４Ｈｚ、、　ＩＩＩ）　
。

５．３６〜５．４３　（ｍ　、　３Ｈ）　、７．５０　
（Ｓ　、５Ｈ）一方、ｐ液よ）減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物をｎ−ヘキサン１ｉｍｅで処理すｊｔば
、融点１０６〜１０７℃を示すベンジル＝６β−ｔｅｒ
ｔ　−ブチルジメチルシリルオキシベニシラネート−１
α−オキシド１．５　ｙ　（収率４０．１チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−”　；　ｌ／ｃ＝＝Ｑ　１７８０
．１７４５ＮＭＲ（ＣＤＣＩｇ）δ値； ０．１９（ｓ　、６Ｈ）　、０．９５（ｓ、９Ｈ）　、
１．３１（ｓ　、３Ｈ）　。

１．５５　（Ｓ　、３Ｈ）　、４．５４　（ｓ　、　Ｉ
Ｈ）　、４．９３（ｄ　、Ｊ−４Ｈｚ　、　ＩＨ）　。

５．３０（ｓ　、２Ｈ）　、５．５２（ｄ　、Ｊ＝４Ｈ
ｚ　、ＩＨ）　、７．５１（ｓ　、５Ｈ）（ｉｉｉ　）
　ベンジル＝６β−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシベニシラネート−１−オキシド（１α−オキシド：
１β−オキシド＝ｌ：１）０．６ｆ」？よび２−メルカ
プトベンゾチアゾール０．２１ｔをＦルエン１０ゴに懸
濁させ、還流下に１時間反応させる。ついで、減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー（和光シリカゲルＣ−２００ｉ溶離液、ｎ−ヘキサ
ン：ベンゼン−１：ｌ）で精製すれば、融点７７〜７９
℃を示す伯色晶の３β−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−４β−（ベンゾチアゾール−２−イル）ジチ
オ−１−［（１−ベンジルオキシカルボニル−２−メチ
レン）フロビルツー２−アゼチジノンｃ）、５４ｔＣ収
率７３％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｓつｃｍ−”　；　ｌ’ｃ＝ｏ　１７６５．
１７４ＯＮＭＲ（ＣＤＣＪｓ）δ値； ０．２５（ｓ、６Ｈ）、１．０２（ｓ、９Ｈ）、１．９
５（ｓ、３田、５．（１Ｇ（ｓ　、２ＦＩ）　。

５．１５〜５．３０　（ｍ　、４Ｈ）　、５．６０　（
ｄ　、Ｊ＝４Ｈｚ　、ＩＨ）　、７．２５〜８．１０（
ｍ、９Ｈ） （ｉＶ）　３β−ｔｅｒｔ−フ゛チルジメチルシリルオ
キシ−４β−（ベンゾチアゾール−２−イル）ジチ、１
−ｔ−［−（ｉ−ベンジルオキシカルボニル−２−メチ
レン）プロピル］−２−７ゼチジノン３．７？を塩化メ
チレン５４ｍｇに溶解させ、アセトアミド１．３６　Ｆ
を加える。水冷下に、塩素の四塩化炭素溶液（Ｑ、８ｍ
ｍｏｌ／ｍｅ　）　１７．７ｔｎｌを加え、室温で１．
５時間攪拌する。析出品を沖去し、ｒ液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液２０ｍｅ、水３０ｍｅおよび飽和食塩
水３０ｍ１！で順次洗浄した後、ｐ′水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２０
０ｉ溶ＮＦ液。

ｎ−ヘキサン：ベンゼン−１：１）で精製スｈば、油状
の末ンジル＝６β−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリルオ
キシ−２β−クロロメチル−２α−メチルペナム−３−
カルボナシレー）１．２ｆ（収率５７．１％）を得る。

ＩＲに−ト）　ｃｒｒｒ”　ｉ　νｃ＝ｏ　１７８５，
１７４３ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ値； ０．１４　（ｓ　、６Ｈ）　、０．９５（ｓ　、９Ｈ）
、１．４７（ｓ　、３Ｈ）、３．５３　（ｍ　、　２Ｅ
Ｉ）。

５．１２〜５．３４　（ｍ　、４Ｈ）　、　５．５３　
（ｄ　、Ｊ−４Ｈｚ　、　ＩＨ）　、　７．５　（ｓ　
、五）（Ｖ）　ベンジル＝６β−ｔｃｒｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ−２β−クロロメチル−２α−メチル
ペナム−３−カルボキシレー）１．ｏｆヲテトラヒドロ
７ラン１０ゴに溶解させ、水冷下にテトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムフルオリド０，６１？　。

酢酸８．３−およびテトラヒドロフラン１０ｍの混合液
を加え、室温で１．５時間反応させる。ついで、７に２
０ｎ！、および酢酸エチル２０ａｅ、を加え、炭酸水素
ナトリウムでｐＨ７，５に’Ｊ’５’Ｊし、有様Ｊ３を
分取する。水層をさらに酢酸エチル１０ｒｒｌで抽出し
、抽出液を先の有様層と合する。これを、飽和食塩水３
０ｍ１で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００ｉ溶離液、
ベンゼン：酢酸エチル−５ｏｆｔ）で精製すれば、油状
のベンジル＝２β−クロロメヂル−６β−ヒドロキシ−
２α−メチルペナム−３−カルボキシレート０．４　！
７（収率５３．３係）を得る。

ＩＲ（＝−ト）ｃｒｒｒ”　；　ｖｃ＝ｏ　１７Ｒ０，
１７４ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値； １．５４（ｓ　、３Ｈ）　、８．６７（ｍ、２Ｈ）　、
５．１２（ｓ　、ＩＨ）　。

５．２７〜５．３５　（ｍ　、３Ｈ）　、５．６６（ｄ
　、Ｊ＝４Ｈｚ　、　ＩＨ）　。

７．４８（ｓ　、５Ｈ） 参考例２ （ｉ）　ベンジル−６β−ヒドロキシペニシラネ−ト０
．６１を塩化メチレン１０ｍｅＫ溶１・胃させ、トリエ
チルアミン０．３ｄを加え、−２０℃に冷却する。

これにベンジルオキシカルボニルクロリドｌ）、　：１
３ｍｅおよび塩化メチレン２　ｍｅの混合液を同温度で
５分間を要して滴下する。−２０〜−１０℃で１５分間
、水冷下で１時間攪拌下に反応さゼる。ついで、反応液
を水１０−中に投入し、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整
し、有様層を分取する。これを水５ｄおよび飽和食塩水
１０ｒｐｌ　で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００
ｉ溶νｉ＋８液、トルエン：酢酸エチル−１００：　１
　）で精製すれば、油状のベンジル−６β−ペンジルオ
キシカルボニルオキシベニシラネー）　０．７　ｆ　（
収率８１．４チ）を得る。

ＩＲ（＝−））ｃｍ−１；　シｃ−ｏ　１７９０，１７
５０（ｉＤ　ペンシル＝６β−ペンジルオキシカルボニ
ルオキゾペニシラネート０．７２を塩化メチレン１０艷
に溶ｔ；’ｉさせ、氷冷下にｍ−クロ口過安息香Ｇ　（
ｊｉ／ｉ度７ｏ％）０．３’ｌを一度に加え、同温度で
１時間４２２拌下に反応させる。ついで、反応液を水１
．０ｔｒＪ中に投入し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
でｐＨ７，０に庁−１整し、有機店を分取する。

こｉＬを水１０ゴおよび飽和貴店水１０ｍ１　で順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶
媒を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー（１１１光シリカゲルＣ−２００；溶離液、トルエ
ン；酢酸エチル＝２０１）で精製すれば、油状のベンジ
ル−６β−ペンジルオキシカルボニルオキシベニシラネ
ー）−］］α−オキシド０．４８ｆＣ収率６６１％）と
油状のベンジル−６β−ペンジルオキシ力ルポニルオ：
１１シベニシラネート−１β−オキシド０．２１　ｆ　
（Ｉｌ＋２　率２９チ）を得る。

０　ベンジル＝６β−ベンジルオキシカルボニルオキシ
ベニシラネート−１α−目シドＲｆ；０，２５（Ｉ（ｉ
ｅｓｃｌｇｅｌ　６０Ｆ２ｓ４．Ａｒｔ、５７］５．メ
ルク社射；展開液、ベンゼン’　酢１：）２エチル＝１
０ｉ１） ＩＲ（＝−ト）ｃｍ−１ｉ　１／（＝＝０１７９０＋１
７５ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値： １．２６（ｓ、３Ｉ（）、ｒ、４８（ｓ、３Ｈ）　、４
．５４（ｓ、１ｆ（）、４１．９２（ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ　、ＩＨ）　、５．２４　（ｍ　、４．Ｈ）
　、　０．０９　（ｄ　、Ｊ＝４−Ｉｚ　、　Ｈ−Ｄ　
。

７．４４（ｍ　、１０１−Ｉ） ０　ベンジル−６β−ペンジルオキシカルボニルオキシ
ペニシラネート−１β−オキシドＲｆ　；　０．２１　
（ＫＩｅｓｅＪｇｅｌ　６０Ｆ２５４　、Ａｒｔ、５７
１５．メルク社製；展開液、ベンゼン：酢酸エチル＝１
０：１） ＩＲ（＝−ト）ｃｍ−’　；　ｖｃ＝ｏ　１７９５＋１
７５ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ　）δ値； １．０５（ｓ　、３Ｈ）　、ｉ、ｓｎｓ　、３Ｈ）　、
４Ｊ３３（ｓ　、ＩＨ）　、５．０７（ｄ。

Ｊ　−５Ｈｚ　、１ｆ（）　、　５．２７　Ｃｍ　、４
Ｈ）　、５．９４　（ｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ　、　ＩＨ）。

７．４７（ｍ、ｌ０Ｈ） （ｉｉｉ）ベンジル＝６β−ベンジルオキシカルボニル
オキシペニシラネート−１−オキシド（１α−オギシド
二１β−オキシド−２：　１　）　０．４グ。

２−メルカプトベンゾチアゾール０．１１’およびトル
エン１０ｍ１の混合液を１時間加熱還流下に反応させる
。ついで、減圧下に溶媒を留去し、イ■ｌられた残留物
をカラムクロマトグラフィー（九光シルカゲルＣ−２０
０；溶離液、トルエン：酢酸エチル−１ｏｏ　：　１　
）でなｎ製すれは、油状の４β−（ベンゾチアゾルルー
２−イル）ジチオ−３β−ベンジルオキシカルボニルオ
キシ＝１−［：（１−ベンジルオキシカルボニル−２−
メチレン）プロピル〕−２−アゼチジノン０．４１（収
率７８．４チ）を得る。

ＩＲ（−＝　−ト　）　ｃｍ−”　；　Ｕｃ＝ｏ　１７
８５，１７５ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩａ　）δ値； １．９４　（Ｓ　、３Ｈ）　、５．０８〜５．２８　（
ｍ　、７Ｈ）　、　５．７０　（ｄ　、Ｊ＝！’１Ｊｔ
ｚ　。

ＩＨ）　、　（＋、０５　（ｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ　、　Ｉ
Ｈ）　、７．３２〜７．０７（ｍ　、　ｌ　４Ｈ）（ｉ
ｖ）　４β−（ベンゾチアゾール−２−イル）ジチオ−
３β−ペンジルオキシ力ルポニルメキシ−１−［（１−
ベンジルオキシカルボニル−２−メチレン）プロピル〕
−２−アゼチジノン０．２２を参考例１−　（ｉＶ）と
同様に反応させて処理すれば、無定形のベンジル−６β
−ベンジルオキシカルボニルオキシ−２β−クロロメチ
ル−２α−メチルペナム−３−カルボキシレート０．１
２ＳＦ（収率７６．４ヂ）を得る。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｒ　）ｃｍ−五　ｉ　Ｉ’ｃ＝ｏ　１７９
Ｌ１７４５ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ値； １．４５（ｓ、３Ｈ）、８．６１（ｍ、２Ｈ）、５．１
９−５．２７（ｍ、５Ｈ）。

５．７２　（ｍ　、　２Ｈ）　、　７．５０　（ｍ　、
　１０ｆｆ）（Ｖ）　ベンジル＝６β−ベンジルオキシ
カルボニルオキシ−２β−クロロメチル−２α−メチル
ペナム−３−カルボキシレートｏ、２ｒ　ヲＱ化メチレ
ン５ｄに溶解させ、氷冷下にｍ−クロロ過安息香酸（純
度７０係）　０，３　ｆを一度に加え、室温で３時間撹
拌下に反応させる。ついで、反応液に塩化メチレンＳ　
ｍｅを加え、これを水５−中に投入し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液でｐ）Ｉ７．ＯにＬｌ、ＡＶする。有機
層を分取し、水５　ｒｒｌおよび飽和食塩水５　ｆｆｌ
εで願次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００ｉ溶離液、
ベンゼンニ酢酸エチル−５０：　１　）で精製すれば、
油状のベンジル−６β−ベンジルオキシカルボニルオキ
シ−２β−クロロメチル−２α−メチルペナム−３−カ
ルボキシレー）　−１，１−ジオキシド０．１７ｒ（収
率８１条）を得る。

ＩＲ（＝−ト）　ｃｍ−ｔ　；　ｖｃ＝ｏ　１８１５＋
１７５ＯＮＭＲ（ＣＤ０１３　）δ値； ＩＨ）　、　４．９８　（ｍ、　２Ｈ）　、　５．３１
　Ｃｒｎ、　４Ｈ）　、　６．１１（ｄ　、　Ｊ＝４１
１ｚ　。

ＩＨ）、７．４９（ｍ、ｌ０Ｈ） 実施例１ （リ　ベンジル−６β−ヒドロキシペニシラネート０，
３２ｆをＮ、Ｎ−ジメチルポルムアミド１　ｍｌに溶解
させ、水冷下に無水硫酸のＮ、Ｎ−ジメチルポルムアミ
ド溶液（０，７７５ｍｍｏｌｅ／ｍｅ　）　１．３５ｍ
ｇを加える。同温度で３０分間攪拌した後、トリエチル
アミン０．１５ｍ７！を加え、減圧下に溶媒を留去する
。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー　Ｃ和光
シ’）　カケルｃ　−２００；溶１ｉｆｔ液、クロロホ
ルム：メタノール−２０：　１　）で４メツ製すれば、
油状のベンジル≧６β−スルホキシペニシラネートのト
リエチルアミン塩０，２８ｙ（収率５４．８チ）を得る
。

ＩＲに−ト）　ｃｍ−１；　Ｉ／Ｃ＝ｏ　１７７５＋１
７４ＯＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ値； １．０７〜１．３３（ｍ　、　１２Ｈ）　、　１．５６
（ｓ　、　３１（）　Ｊ、１４（ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ　。

６Ｈ）　、４．４０　（ｓ　、ＩＨ）　、５．２２　（
ｓ　、２Ｈ）　、　５．４２−５．５９（ｍ　、２ＴＤ
　。

（ｉｉ）　−＜フジルー６β−スルホキシペニシラネー
トのトリエチルアミン塩０．２ＢｔをＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド２ｍＩ２に溶解させ、１０％　−パラジウ
ム−炭酸カルシウム０．１ｙを加え、常温常圧で１時間
水素添加する。ついで、触媒をＦ去し、Ｆ液をジ・イソ
プロピルエーテル１５Ｏｎｒｅ中へ撹拌下に投入する。

静置した後、デカンテーションし、下層に生成した油状
の６β−スルホキシペニシラン酸のトリエチルアミン塩
をアセトン１０ｒｎｏに溶解させる。こり、に、２−エ
チルヘキサン酸ナトリウム０．２２を含む酢酸エチル溶
ン戊２０ｍ１を一度に加え、室温で３０分間３ｎ拌する
。

析出品を戸取し、酢酸エチル５　ｔｄで洗浄した後、乾
燥すれば、融点１６０〜１８５℃（分解〕を示す白色品
の６β−スルホキシペニシランＧのジナトリウム塩０．
１Ｓｌ（収率６１．７係）を得る。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｒ）ｃｍ−’　；　ｖｃ＝ｏ　１７７０＋
１６０５Ｉ’ＪＭＲ（Ｄ２０）δ値； １．３５（ｓ　、３Ｈ）　、１．６１　（ｓ　、３Ｈ）
　、４．４０（ｓ　、ＩＨ）　、　５．５５（ｄ　、Ｊ
＝５Ｈｚ　、　ＩＨ）　、５．（ｉｏ（ｄ　、Ｊ＝５Ｈ
ｚ　、　ＩＨ）実施例２ （ｉ）　ベンジル−６β−スルホキシペニシラネートの
トリエチルアミン塩０．５ｆをｊＪＸ化メチレン１０ｔ
ｈｌに溶解させ、氷冷下に、ｎｌ−クロｏ　３１’１安
息香酸（純度７０襲）０．２５２を一度に加え、同温度
で１時間、さらに室温で３０分間（ひ拌斗に反応させる
。ついで、反応液に水１０ｍｅを加え、６；３和炭酸水
素ナトリウム水溶液でｐ　ＩＩ　７．０にｊｊ”ｌ　５
７’；　Ｌ、有様層を分取する。この有機層を水Ｉ　Ｑ
　ｒｙｅ　：！、−よび飽和食塙水１０ｍｅで順次洗浄
し、然水硫ｒ−？マグネシウムで乾燥した後、減圧下に
溶ρ゛古をＷｆ去する。得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００；溶離液、ク
ロロホルム：　）　夕／　−ル＝　３０　；　１　）テ
４’ｉ’ｊ製−ｊ−ｊＬｉｌ’、、油状のベンジル−６
β−スルホキシベニシラオート−１−オギシドのトリエ
チルアミン塩０．３６ｆ（収率６９．２％）を得る。

ＩＲに−ト）　Ｃｎ１−”　ｉ　νｃ＝ｏ　１７８５　
、１７４０（ｌｉ）　ベンジル−６β−スルホキシペニ
シラネート−１−オキシドのトリエチルアミンｔＪＱ、
３５ｆ’ｔ　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド６ゴに溶解
させ、１０チーパラジウム−炭酸カルシウム０．１５９
を加え常温常圧で１時間水素添加する。ついで、触媒を
戸去し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をア
セトン５ゴに溶岱させ、２−エチルヘキサン酸ナトリウ
ム０．２７を含むアセトン３　ｍｅの溶゛故を室己で一
度に加える。同温度で３０分間攪拌した後、析出品を戸
数し、アセトン２ゴおよびジエチルエーテル３ｄで順次
洗浄した後、乾ヅゴｈすれば、融点１５４〜１６０℃（
分解）を示−Ｊ−白色品の６β−スルホキシペニシラン
酸−１＝オギシド（１α−オキシド：１β−オキシド＝
ｌ：３）のジナトリウム塩０．１’ｌ（収率７６％）を
得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　；　Ｉ／ｃ＝０１７７（Ｌ１
６１ＯＮＭＲ（Ｄ２０）δ値； １．３１（ｓ、２．３Ｈ）、１．３８（ｓ、０．７Ｈ）
、１．６５（ｓ、０．７Ｈ）。

１．７１　（Ｓ　、　２．３Ｈ）　、　４．．４５　（
Ｓ　、０．２３Ｈ）　、４．５４　（Ｓ　、０．７７Ｈ
）　。

５．１３（ｄ　、Ｊ”＝５Ｈｚ　、０．２３Ｈ）　、　
５．４０　（ｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ　、０．７７Ｈ）　。

５．９６（ｍ、ＩＨ） 実施例３ （ｉ）　ベンジルに６α−ヒドロキシペニシラネート１
１を実施例１と同様に反応させて処理すれば、融点１２
９〜１３７℃を示す白色晶のベンジルコ６α−スルホキ
シペニシラネートのトリエチルアミン塩１．１グ（収ホ
ロ９．２チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ”　；　Ｉ／ｃ＝０１７８５＋１７
４５ＮＭＲ（ｄ６−　ＤＭＳＯ）δ値； １．１９（ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ　、９Ｈ）　、１．３７（
ｓ　、３Ｈ）　、１．５２　（Ｓ　、３ＩＩ）　。

２．９９　（ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ　、　６Ｈ）　、４．６
９　（Ｓ　、　ＩＨ）　、　５．０７　（ｄ　、Ｊ＝２
Ｈ２。

ＩＨ）　、　５．２７　（Ｓ　、２Ｈ）　、　５．３４
（ｄ　、　Ｊ＝２Ｈｚ　、ＨＩ）　、　７．４９　（ｓ
、５Ｈ）仏）ベンジルコ６α−スルホキシペニシラネー
トのトリエチルアミン塩０．５２を実Ｍ＋１例２と同様
に反応させて処理すれば、１βハ点１７５〜Ｎ＋１”Ｃ
。

（分ｍ　）　ヲ示ｆ白色晶の６α−スルホキシペニシラ
ン酸−１−オキシドのジナトリウム３４０．２　ｙ（収
率５４．６係）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ−１；　Ｉ／（＝０１７１（Ｌ１
６１ＯＮＭＲ（Ｄ２０）δ値； １．３３（ｓ　、３Ｈ）　、１．６７（ｓ　、３Ｈ）　
、４．３７（ｓ　、ＵＩ）　。

５．４０（ｄ　Ｊ＝２Ｈｚ　、ＩＨ）　、５．５５（ｄ
　、Ｊ＝２ｉ−Ｉｚ　、ＩＨ）実施例４ ６β−スルホキシペニシラン酸のトリエチルアミン塩０
．６　Ｆを塩化メチレン１０ゴに溶解させ、０〜５℃で
過マンガン酸カリウム０．４８？および水１０ｍｆ！の
混合液を１５分間を要して滴下し、同湿度で３０分間、
さらに室温で１時間攪拌する。

不溶物を炉去し、水層を分取する。この水層を塩化メチ
レン１０−で洗浄し、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整し
た後、減圧下に溶成を留去すれば、油状の６β−スルホ
キシペニシラン酸−１，１−ジオキシドのトリエチルア
ミン塩を得る。これｆ　、ＮＵＮ−ジメチルホルムアミ
ド１　ｍｌを加え、不溶物を沖去し、炉液をアセトン２
ｒ７！で希釈する。この溶液に、２−エチルヘキサン酸
ナトリウム０．５２を含むアセトン５ｍｌの溶液を一度
に加え、室温で３０分間（ｎ拝する。析出晶を戸数し、
アセトン３　ｍｌずつで２回洗浄した後乾燥すれば、融
点２１０℃以上を示す白色晶の６β−スルホキシペニシ
ラン［ｔ　−１，１−ジオキシドのジナトリウム塩０．
２Ｆ（収率３５．７饅）を杓る。

ＩＲ（ＫＢｒ　）ｃｍ−’　；νｃ＝ｏ　１８０５．１
６２ＯＮ　Ｍ　Ｒ（Ｄ２０）δ値； １．４７（ｓ　、３Ｈ）　、１．６３（ｓ　、３Ｈ）　
、４臂４８（Ｓ　、１１１）　。

５．３２　（ｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ　、　ＩＩ（）　、Ｃｉ
、０５　（ｄ　、　Ｊ＝５Ｈｚ　、　ＩＨ）同様にして
つぎの化合物を待だ。

０６α−スルホキシペニシランｆｆ＆−１，１−ジオキ
シドのジナトリウム塩 融点；２０５〜２０８℃（分解） ＩＲ（ＫＢ　ｒ　）ｃｒｎ−’　；νｃ＝ｏ　１７Ｂ０
　、１６１ＯＮＭＲ（Ｄ２０）δ値； １．５７　（ｓ　、３Ｈ）　、　１．６４（ｓ　、３Ｈ
）　、４．４２（ｓ　、　ＩＩＩ）　、　５．３１　（
ｄ　。

Ｊ−２Ｈｚ　、ＩＨ）　、５．６７　（ｄ　、Ｊ＝２Ｈ
ｚ　、　１ｆ−Ｉ）実施例５ ６β−スルホキシペニシラン酸ソのトリエチルアミン塩
０．５２を塩化メチレン１０ｍｅに溶解させ、Ｎ−メチ
ルモルホリン０．１４　ｍｅを加え、５０℃に冷却する
。これにクロル炭酸エチル０１３ｍεヲ加え、−５０〜
−３０℃で３０分間、さらに−３０〜＝１５℃で３０分
間攪拌下に反応させる。ついで、反応液を再び一５０℃
に冷却し、アンモニア０．０６１を含む塩化メチレン５
ｄの溶液を５分間を要して滴下した後、３０分間を要し
て０℃まで昇温させる。水冷下３０分間攪拌し、不溶物
を戸去した後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２
００ｉ溶離液、クロロホルム；メタノール−１０：１）
でイｄ製すれば、油状の６β−スルホキシペニシラン酸
アミドのトリエチルアミン塩を得る。これを、メタノー
ル１ｄおよびアセトン５ｄの混合液に溶解させ、２−エ
チルヘキサン酸ナトリウム０．２２を含む酢酸エチル２
ｄの溶液を一度に加える。室温で３０分間飛拌した後、
析出品を戸数し、アセトンｌ−および酢酸エチル１ｉで
順次洗浄し、乾燥すれば融点１０８〜１２０６Ｃ（分解
）を示す白色品の６β−スルホキシペニシラン酸アミド
のナトリウム塩０．２ｔ（収率５０％）を得る。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｒ）ｃｍ−’　；　ｖｃ＝ｏ　１７７５，
１６８ＯＮＭＲ（Ｄ２０　）δ値； １．５２（Ｓ、３Ｈ）、１．６５（Ｓ、３ｆ（）、４．
３５（ｓ、ＩＩ（）　、５．６０（ｄ　、　、１−５Ｈ
ｚ　、　ＩＨ）　、５．７２　（ｄ　、Ｊ＝５１（ｚ　
、　ＩＨ）同様にしてつぎの化合物を得た。

０６β−スルホキシペニシラン酸アミド−１、１−ジオ
キシドのトリエチルアミン塩無定形 ＩＲに−ト）ｃｍ−”　；　νｃ＝０１８０５，１６８
５ＮＭＲ（ｄｓ　ＤＭＳＯ）δ値； １．１５〜１．４３（ｍ、１５Ｈ）　、８．０Ｏ（ｑ、
Ｊ＝７Ｈ２、６ＩＯ。

４．１７（Ｓ、ＩＨ）、５．２５（ｔｌ、Ｊ＝５ｆｆｚ
、ＩＨ）、５．７７（ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ　、ＩＨ）　、７．８５（ｂｓ　、ＩＨ）　
、８．００（ｂｓ　、１１１）実施例６ ６β−スルホキシペニシラン酸−１，Ｊ−ジメキシドの
トリエチルアミン塩０．２５１と４−アミノフェニル酢
酸メチル０．１２を実ｈｍ例５と四杼に反応させて処理
すれば、無定形のＮ−（４−メトキシカルボニルメチル
フェニル）−６β−スルホキシペニシラン酸アミド−１
，１−ジオキシドのトリエチルアミン塩０．１２’（収
率３５．８％）を得る。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｒ）ａｍ−１；　ｖｃ−ｏ　１ＢＢ０，１
７３０．１６５０実施例７ （ｉ）　ベンジルコ２β−クロロメチルー６β−ヒドロ
キシー２α−メチルペナム−３−カルボキシレート０．
２２ヲＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３７に溶解させ、
水冷下に、無水硫酸のＮ、Ｎ　−ジメチルホルムアミド
溶液（ｌ、　４４　ｒｎ　ｍｏｌｅ／ｍｅ、　）　０．
６１ｍｅを加え、同温度で３０分間攪拌した後、トリエ
チルアミン０．１２ｄを加え、減圧下に溶媒を留去する
。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（和光シ
リカゲルＣ−２００’；溶離液、クロロホルム：メタノ
ール＝　Ｚｏｏ　：　１　）で精製ス九ば、油状のベン
ジルコ２β−クロｏ　メチル−２α−メチル−６β−ヌ
ルホギシベナムー３−カルボキシレートのトリエチルア
ミン塩０．：１（収率６５．３条）を得る。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｒ）ｃｍ−”　；　シｃ−ｏ　１７８０＋
１７４ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）δ値； １．２５〜１．４８（ｍ、　１２Ｈ）　、３．０３−８
．４８（ｍ、　６Ｈ）　。

８．６９（Ｓ　、２Ｈ）、５．０８（Ｓ、ＩＨ）　、５
．２７（Ｓ、２ｆｊ）　。

５．７１（ｍ、２Ｈ）、７．５０（Ｓ、５１（）０１）
ベンジルコ２β−クロロメチル−２α−メチル−６β−
スルホキシイナ４−３−カルボキシレートのトリエチル
アミンＪＪ、Ｘ　Ｏ，２１”；１：　Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド３　ｒｒ＝ｅに溶１’＋Ｔさゼ、１０俤−
パラジウム−硫酸バリウム０．１２を加え、室温下５気
圧で１時間水素添加する。触媒を沢去し、減圧下に溶媒
を留去した後、イ（Ｉられた残留物を酢酸エチル５　ｍ
ｌおよび塩化メチレン５ｍｅに（１面間させ、２−エチ
ルヘキサン削ナトリウム０．１５Ｆを含む酢酸エチル５
　ｍｅの溶液を加え、１時間攪拌する。析出晶ｆ：Ｆ取
し、酢酸エチル２ｄで洗浄した後、乾燥すれば、融点１
１０℃（分’ＩＮ　）を示す２β−クロロメチル−２α
−メチル−６β−スルホキシベナム−３−カルボン酸の
ジナトリウム塩０．１９１（収率７０．０％）を得る。

ＩＲ（ＫＢ　ｒ　）　ｃｍ−１；シｃ−ｏ　１７５０，
１ｆｉ１５ＮＭＲ（ｄ６ＤＭＳ　Ｏ）δ値； １．７２（ｓ　、３）Ｉ）、８．４０（Ｓ　、２［（）
　、５．０５（ｓ　、ＩＨ）　。

５．３０〜５．７０（ｍ、２Ｈ） 実施例８ （ｉ）　ベンジル−６β−ベンジルオキシカルボニルオ
キシ−２β−クロロメチル−２α−メチルペナム−３−
カルボキシレー）−１１１−１オキシドｌ、６グをＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ゴに溶解させ、１０デー
パラジウム−硫酸バリウム１．５２を加え、室温下、５
気圧で１時間水素添加する。触礎を沢去し、θス圧下に
溶媒を留去すれば、無定形の２β−クロロメチル−６β
−ヒドロキシ−２α−メチルペナム−３−カルボン酸−
１，１−オキシドＱ、６５５’（収率６８，４係）を得
る。

ＩＲ（＝　−ト　）ｃｍ−”；　νｃ＝ｏ　１８８０，
１７３０（ｉ）　２β−クロロメチル−６β−ヒドロキ
シ−２α−メチルペナム−３−カルボン９−１．１−ジ
オキシド０，６５ｆを実施例１−　（ｉ）　、　（ｉｏ
と同様に反応させて処理すれば、融点１６４〜１７０°
Ｇ（分解）を示す白色品の２β−クロロメチル−２α−
メチル−６β−スルホキシベナム−３−カルボンｔｅ　
−１，１−ジオキシドのジナトリウム塩０．４５ｆ（収
率５１．５係）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１；　ｌ／Ｃ−（１１８０！Ｌ１
６２５ＮＭＲ（ｄａ　ＤＭＳＯ）δ値； １．５５（ｓ、３ｔＩ）、８．８２（口ｔ、２１１．’
）　、４．６８（ｓ　、ＩＩＩ）　、５．３７（ｄ　、
Ｊ＝５Ｈｚ　、　ＩＨ）　、　５．８０　（ｄ　、　Ｊ
＝５ｆ（ｚ　、　１．ＴＩ）実施例９ （ｉ）　ベンジル＝６β−ヒドロキシベニノラネート２
．５２を塩化メチレン２０　ｍｅに溶ブリγｔさぜ、２
０℃に冷却する。この溶液に、トリエチルアミン４５ｄ
を加えた後、スルファミンｆｉ’２クロリド２．８２の
塩化メチレン１０ｍ１溶液を−１５〜−２０℃で１５分
間を要して滴下し、同温度で３０分間、０〜５℃で１時
間、攪拌下に反応させる。ついで、反応液を氷水３〇−
中に投入し、有機層を分取した後、水２０ｍｅおよび飽
和食塩水２０　ｍｅで胎次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥しゾこ後、減ＩＦ丁に溶媒を留去する。得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー（和光シリカゲル
Ｃ２ｏＯ；　俗離液、ベンゼン：酢酸エチル−２（１１
）で精製すれば、無定形のベンジル−６β−スルファモ
イルオキシペニシラネート０．８ｆｃ収率２５．５係）
を得る。

ＩＲに−））ｃｍ−”　；　シｃ−ｏ　１７８０ａ１７
４ＯＮＩＶＩＲ（ＣＤ（ｕ３）δ値； １．４２（Ｓ　１３Ｈ）　１１．６５　（Ｓ　、３Ｈ）
　１４．６２（Ｓ　、ＩＨ）　、５．２８（ｓ　。

２１０．５．６７　（ｄ　、　Ｊ＝４Ｈｚ　、　ＩＨ）
　、　５．８５　（ｄ　、　Ｊ＝４Ｈｚ　、　１ｆ（）
　。

５．９７（ｂｓ、２Ｈ）、７．５２（ｓ、５Ｈ）（ｉｌ
）　ベンジル＝６β−スルファモイルオキシベニシラネ
ー）０．５ｆを実Ｍ例２−（ｉｊと同様に反応させて処
理すれば、Ω点２００℃（分解）を示す６β−スルファ
モイルオキシペニシラン酸のナトリウム塩０．２７（収
率４ｓ、ａｑｂ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ　）　ｃｍ−”　；νｃ＝ｏ　１７７０．
１６０ＯＮＭＲ（Ｄ２０）δ値； １．５０　（Ｓ　、３Ｈ）　、１．５８（Ｓ　、３Ｈ）
　、４．１０（Ｓ　、ＩＩ（）　、５．５０（ｄ　。

Ｊ＝４．Ｈｚ、ＬＨ）、５．７５（ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）実施例１０ （ｉ）　ベンジル＝６β−スルファモイルオキシベニシ
シネー）０．７１を参考例２−（Ｖ）と同様に反応させ
て処理すれば、ベンジル−６β−スルフアそイルオキシ
ベニシラネー）　−ｉ、　ｉ−ジオキシド０．６ｆ（収
率７９，２チ）を得る。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｒ）ｃｍ−１；　ｖｃ＝ｏ　１８１０，１
７５００υ　ベンジル＝６β−スルファモイルメキシベ
ニシラ、ｒ、　−ｈ　−ｉ、　ｉ−ジオキシド０．１７
を実施例２−（ｉ９と同様に反応させて処理すれば、融
点２０８℃（分解）を示す６β−スルファモイルオキシ
ペニシラン＝ｔ　−１，１−ジオキシドのナトリウム塩
ｏ、ｏｓｒ（収率５９．５％）をイ！する。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−”；　νｃ＝ｏ　１８０５．１７
３５ＮＭＲ（ｄ６ＤＩＶＩＳＯ＋Ｄ２０　）δ値；１．
３７（ｓ　、３Ｉ−Ｉ）　、１．４９（ｓ　、３Ｈ）　
、４．００　（ｓ　、　Ｉｎ）　−５，１９（ｄ　。

Ｊ＝５Ｈｚ　、ＩＨ）　、６．０４（ｄ　、Ｊ＝５ｆ■
ｚ　、　ＩＨ）ｑ′♀許出願出 願人化学工業株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）一般式 ％式％ で表わされるペニシラン酸誘導体およびその塩類。 ｆ２）　Ｒ１が水酸基である特許請求の範囲第（１）項
   記載のペニシランｍ　Ｂ導体およびその塩類。 （３）Ｘが水素原子またはハロゲン原子である特許請求
   の範囲第（１）項または第（２）項記載のペニシラン酸
   誘導体およびその塩類。 （４）６β一体である特許請求の範囲第（１）〜（３）
   項いずれかの項記載のペニシラン酸誘導体およびその塩
   類。