JPH0515692B2 - - Google Patents

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JPH0515692B2
JPH0515692B2 JP56209555A JP20955581A JPH0515692B2 JP H0515692 B2 JPH0515692 B2 JP H0515692B2 JP 56209555 A JP56209555 A JP 56209555A JP 20955581 A JP20955581 A JP 20955581A JP H0515692 B2 JPH0515692 B2 JP H0515692B2
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Japan
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reaction
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methyl
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JP56209555A
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JPS58113174A (ja
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Takako Hori
Kaishu Momoi
Chosaku Yoshida
Joji Nakano
Tetsunori Kitani
Katsuyuki Nagumo
Shunjiro Misumi
Takashi Yasuda
Yasuo Watanabe
Yoshikazu Fukuoka
Masaru Tai
Isamu Saikawa
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Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
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  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式 「式中、Rは、水素原子、塩形成陽イオンまた
はエステル形成基を;R1は、式 (式中、R5は、アリールまたはテトラゾール
基を;R6は、水素原子、カルボキシル基または
アミノ基をそれぞれ示す。)、式 (式中、R7は、ヒドロキシル基で置換されて
いてもよいアリール基を;R8は、アルキル基、
オキソ基またはヒドロキシル基で置換されていて
もよいピペラジニルまたはナフチリジニル基をそ
れぞれ示す。)または式 (式中、R9は、カルボキシル基で置換されて
いてもよいアルキル基を示す。)で表わされるア
シルアミノ基を;R2およびR3は、同一もしくは
異なつて、水素原子またはアルキル基を;および
Xは、水素原子またはアルコキシ基をそれぞれ示
す。」 で表わされる新規な1−スルホキシ−2−アゼチ
ジン誘導体またはその塩類を含有する抗菌剤に関
する。 本発明の目的は、広範囲な抗菌スペクトルを有
し、グラム陽性菌およびグラム陰性菌、特に従来
のペニシリンおよびセフアロスポリン類に対する
耐性菌にも優れた抗菌活性を発揮するとともに、
低毒性で人および動物に対する医薬としてまた中
間体として有用な新規な化合物を含有する抗菌剤
を提供することにある。 本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意
研究した結果、アゼチジンの1位にスルホキシ基
を導入した化合物を含有する抗菌剤が有用である
ことを見出し、本発明を完成するに至つた。 以下、本発明を詳細に説明する。 本明細書において、特にことわらない限り、ア
ルキル基とは、直鎖また分枝鎖状C114アルキ
ル、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチルまたはドデシルなどを;アルケ
ニル基とは、C210アルケニル、たとえば、ビニ
ル、アリル、イソプロペニル、2−ペンテニルま
たはブテニルなどを;アリール基とは、たとえ
ば、フエニル、トリル、ナフチルまたはインダニ
ルなどを;アルアルキル基とは、ベンジル、フエ
ネチル、4−メチルベンジルまたはマフチルメチ
ルなどを;アシル基とは、C112アシル、たとえ
ば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンゾ
イル、ナフトイル、ペンタンカルボニル、シクロ
ヘキサンカルボニル、フロイルまたはテノイルな
どを;ハロゲン原子とは、フツ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素原子を;および低級とは、C115をそ
れぞれ意味する。 なお、種々の用語中にアルキル、アルアルキ
ル、アルケニル、アリール、アシルおよび低級な
どの用語が入つている場合も、特にことわらない
限り上記の定義を用いるものとする。 ヒドロキシル基の保護基としては、通常ヒドロ
キシル基の保護基として使用しうるすべての基を
含み、たとえば、ベンジルオキシカルボニル、4
−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ブロモ
ベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジ
ルオキシカルボニル、4−(フエニルアゾ)ベン
ジルオキシカルボニル、4−(4−メトキシフエ
ニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、tert−ブ
トキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ジフエ
ニルメトキシカルボニル、2,2,2−トリクロ
ロエトキシカルボニル、2,2,2,−トリブロ
モエトキシカルボニル、2−フルフリルオキシカ
ルボニル、1−アダマンチルオキシカルボニル、
1−シクロプロピルエトカシカルボニル、8−キ
ノリルオキシカルボニルまたはトリフルオロアセ
チルなどの脱離しやすいアシル基並びにベンジ
ル、トリチル、メトキシメチル、2−ニトロフエ
ニルチオおよび2,4−ジニトロフエニルチオ基
などが挙げられる。 アミノ基の保護基としては、通常アミノ基の保
護基として使用しうるすべての基を含み、たとえ
ば、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、p
−トルエンスルホニル、p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、o−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、o−ニトロフエニルスルフエニル、(モノ
ー、ジー、トリー)クロロアセチル、トリフルオ
ロアセチル、アセチル、ホルミル、tert−アミル
オキシカルボニル、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、2−シアノエトキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、メトキシメチルオキ
シカルボニル、アセチルメチルオキシカルボニ
ル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、α
−(4−メトキシベンジルオキシカルボニル)フ
エニルアセチル、フエニルオキシカルボニル、
3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
4−(フエニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、
4−(4−メトキシフエニルアゾ)ベンジルオキ
シカルボニル、ピリジン−1−オキサイド−2−
イル−メトキシカルボニル、2−フリフリルオキ
シカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニル、
1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプ
ロポキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキ
シカルボニル、フタロイル、スクシニル、1−ア
ダマンチルオキシカルボニル、8−キノリルオキ
シカルボニル、ベンゾイル、p−ニトロベンゾイ
ルもしくはp−tert−ブチルベンゾイルなどの脱
離しやすいアシル基が挙げられ、さらに、トリチ
ル、ベンジル、p−ニトロベンジル、p−ニトロ
フエニルチオ、2,4−ジニトロフエニルチオ、
ベンジリデン、p−ニトロベンジリデン、2−ヒ
ドロキシベンジリデン、2−ヒドロキシ−5−ク
ロロベンジリデン、2−ヒドロキシ−1−ナフチ
ルメチレン、3−ヒドロキシ−4−ビリジルメチ
レン、2−(1−エトキシカルボニル−1−プロ
ペニル)、2−[1−(1−モルホリノ)カルボニ
ル−1−プロペニル]、2−(1−ジエチルアミノ
カルボニル−1−プロペニル)、1−メトキシカ
ルボニル−2−プロピリデン、1−エトキシカル
ボニル−2−プロピリデン、3−エトキシカルボ
ニル−2−ブチリデン、1−アセチル−2−プロ
ピリデン、1−ベンゾイル−2−プロピリデン、
1−[N−(2−メトキシフエニル)カルバモイ
ル]−2−プロピリデン、1−[N−(4−メトキ
シフエニル)カルバモイル]−2−プロピリデン、
2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、2
−エトキシカルボニルシクロペンチリデン、2−
アセチルシクロヘキシリデンもしくは3,3−ジ
メチル−5−オキソシクロヘキシリデンなどの脱
離しやすい基またはジ−もしくはトリ−アルキル
シリル基などのアミノ基の保護基が挙げられる。 カルボキシル基の保護基としては、通常のカル
ボキシル基の保護基として使用しうるすべての基
を含み、たとえば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−ブチル、
フエニル、インダニル、ベンジル、ジフエニルメ
チル、トリチル、p−ニトロベンジル、p−メト
キシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチ
ル、p−ニトロベンゾイルメチル、p−ブロモベ
ンゾイルメチル、p−メタンスルホニルベンゾイ
ルメチル、フタルイミドメチル、トリクロロエチ
ル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1,1
−ジメチルプロピル、アセトキシメチル、プロピ
オニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、
1−アセチルエチル、1−ピバロイルオキシエチ
ル、1−ピバロイルオキシ−n−プロピル、アセ
チルチオメチル、ピバロイルチオメチル、1−ア
セチルチオエチル、1−ピバロイルチオエチル、
メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメ
チル、イソプロポキシメチル、n−ブチルオキシ
メチル、メトキシカルボニルオキシメチル、エト
キシカルボニルオキシメチル、tert−ブチルオキ
シカルボニルオキシメチル、1−メトキシカルボ
ニルオキシ−エチル、1−エトキシカルボニルオ
キシ−エチル、1−イソプロポキシカルボニルオ
キシ−エチル、フタリジル、2−(フタリジリデ
ン)−エチル、2−(5−フルオロフタリジリデ
ン)−エチル、2−(6−クロロフタリジリデン)
−エチル、2−(6−メトキシフタリジリデン)−
エチル、5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソール−4−イル、5−エチル−2−オキソ−
1,3−ジオキソール−4−イル、5−プロピル
−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イ
ル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、3−メ
チル−3−ブチニル、スクシンイミドメチル、1
−シクロプロピルエチル、メチルスルフエニルメ
チル、フエニルチオメチル、ジメチルアミノメチ
ル、キノリン−1−オキサイド−2−イルメチ
ル、ピリジン−1−オキサイド−2−イルメチル
もしくはビス(p−メトキシフエニル)メチルな
どの基で保護されている場合、または四塩化チタ
ンのような非金属化合物で保護されている場合、
さらに特開昭46−7073号およびオランダ国公開公
報7105259号に記載されているたとえば、ジメチ
ルクロロシランのようなシリル化合物で保護され
ている場合などが挙げられる。 Rにおける塩形成陽イオンとしては、当該分野
において知られているもの、たとえば、リチウ
ム、ナトリウムもしくはカリウムなどのアルカリ
金属イオン;マグネシウムもしくはカルシウムな
どのアルカリ土類金属イオン;またはアンモニウ
ム、テトラ−n−ブチルアンモニウム、ピリジニ
ウムもしくはジシクロヘキシルアンモニウムなど
の置換されていてもよいアンモニウムイオンが挙
げられ、エステル形成基としては、医薬として使
用しうるものであればよく、たとえば、置換基を
有していてもよいアルキル、アルケニル、アリー
ルまたはアルアルキル基などが挙げられる。 R1におけるアシルアミノ基の具体例としては、
たとえば、フエニルアセチル、1H−テトラゾ−
ル−1−イルアセチル、D−フエニルグリシン、
2−(4−エチルピペラジンカルボキサミド)−2
−フエニルアセチル、2−(4−エチル−2−オ
キソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−2−フ
エニルアセチル、2−(4−エチル−2−オキソ
−1−ピペラジンカルボキサミド)−2−(4−ヒ
ドロキシフエニル)アセチル、2−(4−エチル
−3−オキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)
−2−フエニルアセチル、2−(4−エチル−3
−オキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−2
−(4−ヒドロキシフエニル)アセチル、2−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカ
ルボキサミド)−2−フエニルアセチル、2−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカ
ルボキサミド)−2−(4−ヒドロキシフエニル)
アセチル、2−(4−メチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサミド)−2−フエニ
ルアセチル、2−(4−メチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−2−(4−
ヒドロキシフエニル)アセチル、2−(4−n−
オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカ
ルボキサミド)−2−フエニルアセチル、2−(4
−n−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジンカルボキサミド)−2−(4−ヒドロキシフエ
ニル)アセチル、2−[2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−メトキシイミノアセタミド]ア
セチル、2−(4−ヒドロキシ−1,5−ナフチ
リジン−3−カルボキサミド)−2−フエニルア
セチル、2−(4−ヒドロキシ−1,5−ナフチ
リジン−3−カルボキサミド)−2−(4−ヒドロ
キシフエニル)アセチル、2−(6−ヒドロキシ
−1,5−ナフチリジニルカルボキサミド)−2
−フエニルアセチル、2−(6−ヒドロキシ−1,
5−ナフチリジニルカルボキサミド)−2−(4−
ヒドロキシフエニル)アセチル、2−(4−ヒド
ロキシ−7−メチル−1,8−ナフチリジン−3
−カルボキサミド)−2−フエニルアセチル、2
−(4−ヒドロキシ−7−メチル−1,8−ナフ
チリジン−3−カルボキサミド)−2−(4−ヒド
ロキシフエニル)アセチル、2−[2−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキ
サミド)アセタミド]−2−フエニルアセチル、
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−[2−(2−カルボキシプロピル)
オキシイミノ]アセチル、2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−カルボキシメトキシイミノ
アセチルなどが挙げられる。 Xにおけるアルコキシ基、R2およびR3におけ
るアルキル基としては、具体的には、先に定義し
た基が挙げられる。 また、一般式[]の化合物の塩類としては、
前記したRにおける塩基付加塩の外に、R1が塩
基性基および/または酸性基を有している場合、
酸付加塩または塩基付加塩並びにそれらにおける
分子内塩などが挙げられる。 R1における塩基付加塩としては、たとえば、
Rで説明したと同様の塩基付加塩および酸付加塩
としては、たとえば、塩化水素、臭化水素、硫
酸、p−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホ
ン酸、ナフタレンスルホン酸もしくはトリフルオ
ロ酢酸などの無機または有機酸との塩が挙げられ
る。 また、分子内塩としては、たとえば、Rが水素
原子である場合に生ずる分子内塩などが挙げられ
る。 また、一般式[]の化合物またはその塩類に
おいて光学異性体(D,Lもしくはラセミ体また
はSもしくはR配置)、幾何異性体(シス、トラ
ンスもしくはそれらの混合物またはシン、アンチ
もしくはそれらの混合物)および/または互変異
性体などの異性体が存在しうるが、本発明は、そ
れらいずれをも包含するものであり、さらには一
般式[]の化合物またはその塩類の水和物およ
び種々の結晶形をも包含するものである。 一般式[]の化合物およびその塩類は、遊離
酸の形、非毒性塩もしくは生理的に許容されるエ
ステルの形またはそのエステルの非毒性塩の形で
人および動物に経口的または非経口的に供しう
る。人および動物に投与する場合、通常ペニシリ
ンおよびセフアロスポリン系薬剤の場合に適用さ
れている剤形、たとえば、錠剤、カプセル剤、シ
ロツプ剤、注射剤、坐剤などの形に調整され、経
口的もしくは非経口的投与方法が適用される。 その投与量は患者の症状に応じて適宜選択され
るが、一般に成人において1mg〜400mg/Kg/日
(好ましくは約10mg〜100mg/Kg/日)の量を1回
〜数回に分けて投与すればよい。 つぎに本発明抗菌剤に含有される代表的化合物
の薬理効果を説明する。 1 抗菌力 グラム陽性菌およびグラム陰性菌の代表的細菌
に対する最小発育阻止濃度(MIC:μg/ml)
を、日本化学療法学会標準法[Chemotherapy
(ケモセラピー)、23巻、第1〜2頁(1975年)]
に基づいてHeart Infusion broth(ハート・イン
フユージヨン・ブロース)[栄研化学社製]で、
37℃,20時間培養した菌液を、薬剤を含むHeart
Infusion agar (ハート・インフユージヨン・
アガー)培地(栄研化学社製)に接種し、37℃,
20時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌
の発育が阻止された最小濃度をもつてMIC(μ
g/ml)とした。 ただし、接種菌量は、104個/プレート(106
個/ml)とした。 その結果を表に示す。
【表】
【表】 * 上記化合物はいずれもナトリウム塩であ
る。
2 急性毒性(LD50値) 参考例10,18,19および20で得られた化合物の
マウス静脈注射によるLD50値はいずれも500mg/
Kg以上であつた。 上記した試験結果より、一般式[]の化合物
およびその塩類は、グラム陽性菌およびグラム陰
性菌に対して広範囲な抗菌スペクトを有し、優れ
た抗菌活性を有し、人および動物の細菌感染症の
治療に極めて有用であることが理解される。 つぎに、一般式[]の化合物またはその塩類
の製造法について説明する。 一般式[]の化合物またはその塩類は、たと
えば、つぎに示す製造ルートにしたがつて合成す
ることができる。 上記した反応経路の式中、R,R1,R2,R3
よびXは、それぞれ、前記したと同様の意味を有
し;X1は、アルコキシ基を;Yは、ヒドロキシ
ル基、ハロゲン原子または置換基を有していても
よいアシルオキシ、アルキルスルホニルオキシも
しくはアリールスルホニルオキシ基を示す。 上記した反応式中のX1のアルコキシ基として
は、Xで例示したアルコキシ基が挙げられる。 一般式[],[]または[]の化合物のカ
ルボキシル基の反応性誘導体としては、具体的に
は、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物、
活性酸アミド、活性エステル、酸アジドおよび酸
シアニド並びに一般式[],[]または[]
の化合物のビルスマイヤー試薬との反応性誘導体
などが挙げられる。 その混合酸無水物としては、たとえば、炭酸モ
ノエチルエステルおよび炭酸モノイソブチルエス
テルなどの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸
無水物;ピバリン酸およびトリクロロ酢酸などの
ハロゲンで置換されていてもよい低級アルカン酸
との混合酸無水物;フエニルスルホン酸およびp
−トルエンスルホン酸などのアリールスルホン酸
との混合酸無水物;並びにメタンスルホン酸およ
びエタンスルホン酸などのアルキルスルホン酸と
の混合酸無水物などが挙げられる。 また、活性酸アミドとしては、たとえば、N−
アシルサツカリン、N−アシルイミダゾール、N
−アシルベンゾイルアミド、N,N−ジシクロヘ
キシル−N−アシル尿素およびN−アシルスルホ
ンアミドなどが挙げられる。 また、活性エステルとしては、たとえば、シア
ノメチルエステル、置換フエニルエステル、置換
ベンジルエステル、置換チエニルエステル、ベン
ゾトリアゾールエステルおよびスクシンイミドエ
ステルなどが挙げられる。 また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体と
しては、たとえば、N,N−ジメチルホルムアミ
ドまたはN,N−ジメチルアセトアミドなどの酸
アミドにホスゲン、塩化チオニル、三塩化リン、
三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリ
クロロメチル=クロロホルメートまたは塩化オキ
サリルなどの酸ハロゲン化剤を作用させて得られ
るビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙
げられる。 一般式[],[]または[]の化合物の反
応性誘導体としては、たとえば、(CH33Si−,
(CH32Si,(CH32[(CH32CH]Si−,(CH3
O)3Si−,CH3(CH3O)2Si−もしくは(CH32
(CH3O)Si−などの有機シリル基;または
(CH3O)2P,
【式】
【式】もしく は
【式】などの有機リン基が反応部位で あるNHまたは−NH2に結合した化合物が挙げ
られる。 一般式[]の化合物の反応性誘導体として
は、たとえば、ナトリウムもしくはカリウムなど
のアルカリ金属原子;または先に定義したアシル
基もしくは上て述べた有機シリルもしくは有機リ
ン基が反応部位である−OHに結合した化合物が
挙げられる。 上記した反応性誘導体は、自体公知の方法ある
いはそれに準じた方法によつて容易に製造され、
単離することなく後の反応に供してもよい。 つぎに、上記製造法において原料である一般式
[],[],[],[],[],[]また

[]の化合物は、自体公知の方法あるいはそれ
に準じた方法によつて得ることができ、それらの
うち、一般式[]または[]の化合物は、た
とえば、以下に示す方法によつて製造することが
できる。 上記した反応経路の式中、R,R1,R2,R3
XおよびYは、それぞれ、前記したと同様の意味
を有し;R10は、アシル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アルアルキル基また
はアルキル基を;R11は、保護されたアミノ基を
示す。 また、上記反応経路において、一般式[]〜
[]の化合物の塩類およびそれらの反応性誘
導体としては、一般式[]〜[]の化合物の
塩類およびそれらの反応性誘導体と同様のものが
適宜使用される。 つぎに、各製造法をさらに詳細に説明する。 製造法(1)における一般式[]の化合物または
その反応性誘導体と一般式[]の化合物もしく
はその塩類またはそれらの反応性誘導体の反応
は、反応に不活性な溶媒の存在下または不存在下
で実施される。 この反応で用いられる不活性な溶媒としては、
たとえば、水;テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエチルエーテル、ジメトキシ
エタンもしくはジオキサンなどのエーテル類;塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素もしくは
1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水
素類;メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、tert−ブタノール、tert−アミルアル
コール、エチレングコールもしくはエチレングリ
コールモノメチルエーテルなどのアルコール類;
N,N−ジメチルホルムアミドもしくはN,N−
ジメチルアセトアミドなどのアミド類;アセトニ
トリルもしくはプロピオニトリルなどのニトリル
類;ベンゼン、トルエンもしくはキシレンなどの
芳香族炭化水素類;ニトロメタンもしくはニトロ
エタンなどのニトロアルカン類;ピリジンもしく
はキノリンなどの第三アミン類;ジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類;酢酸エチルもしく
は酢酸ブチルなどのエステル類;またはアセトン
もしくはメチルイソブチルケトンなどのケトン類
などが挙げられる。上記した溶媒は、二種以上を
混合して用いることもできる。 また、この反応は、塩基の存在下に行うことが
できる。 この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、たとえば、炭化水素アルカリ、炭酸アルカリ
もしくは酢酸アルカリなどの無機塩基;またはト
リエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジ
エチルアニリン、ピリジン、N−メチルピペリジ
ン、N−メチルモルホリン、ルチジン、コリジ
ン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5
−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オク
タンもしくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.4]−
7−ウンデセンなどの第三アミン類が挙げられ
る。 一般式[]の化合物を遊離酸または塩の状態
で使用する場合は、適当な縮合剤を用いることが
できる。 このような縮合剤としては、たとえば、N,
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジ
イミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル)カルボジイミドもしく
はN−エチル−N′−(3′−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミドなどのN,N′−ジ置換カル
ボジイミド;N,N′−チオニルジイミダゾール
などのアゾライド化合物;N−エトキシカルボニ
ル−2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノリン;
オキシ塩化リン;アルコキシアセチレン;2−ハ
ロゲンピリジニウム塩(たとえば、2−クロロピ
リジニウムメチルアイオダイド、2−フルオロピ
リジニウムメチルアイオダイド);またはトリフ
エニルホスフイン−2,2′−ジピリジルジスルフ
イドなどが挙げられる。 また、反応温度および反応時間は、特に限定さ
れないが、通常、−50〜80℃で行うことが好まし
く、このとき反応は、通常5分〜50時間で完結す
る。 一般式[]の化合物またはその反応性誘導体
は、一般式[]の化合物もしくはその塩類また
はそれの反応性誘導体1モルに対し、当モル以
上、好ましくは、1.0〜2.0モル使用される。 製造法(2)は、反応に不活性な溶媒の存在下また
は不存在下に実施することができる。 この反応に用いられる不活性な溶媒としては、
製造法(1)で説明したのと同様の溶媒が挙げられる
が、N,N−ジメチルホルムアミドもしくはピリ
ジンなどの極性溶媒;またはジクロロメタンなど
のハロゲン化炭化水素類を単独または混合して使
用することが望ましい。 また、スルホン化剤としては、たとえば、三酸
化硫黄、クロロ硫酸、硫酸、トリメチルシリルク
ロロスルホネート、メトキシスルホニルクロリ
ド、エトキシスルホニルクロリド、フエニルスル
ホニルクロリドもしくはベンジルスルホニルクロ
リドなどまたは三酸化硫黄−ピリジン、三酸化硫
黄−N,N−ジメチルホルムアミド、三酸化硫黄
−ジオキサン、三酸化硫黄−トリメチルアミン、
三酸化硫黄−ルチジン、三酸化硫黄−ピコリンも
しくは三酸化硫黄−クロロ硫酸などの三酸化硫黄
複合体が挙げられる。 これらの三酸化硫黄複合体は、単離して用いて
もよいし、反応系において複合体を形成させてそ
のまま使用してもよい。上記スルホン化剤は、一
般式[]の化合物もしくはその塩類またはそれ
らの反応性誘導体1モルに対し、当モル以上、好
ましくは、1〜5モル、さらに好ましくは、1〜
3モル使用される。 また、反応温度および反応時間は、特に限定さ
れないが、通常、−30〜80℃、好ましくは、−10〜
40℃で、通常5分〜50時間で反応は完結する。 製造法(3)は、通常当該技術分野でよく知られて
いる方法により容易に実施される。まず、一般式
[a]の化合物またはその塩類を、塩素もしく
は臭素などのハロゲン;N−クロロスクシンイミ
ドもしくはN−ブロモスクシンイミドなどのN−
ハロイミド類;N−クロロロアセトアミドもしく
はN−ブロモアセトアミドなどのN−ハロアミド
類;N−クロロベンゼンスルホンアミドもしくは
N−クロロ−p−トルエンスルホンアミドなどの
N−ハロスルホンアミド類;またはtert−ブチル
ヒポクロリドなどのヒポクロリド類などのハロゲ
ン化剤を、一般式[a]の化合物またはその塩
類1モルに対し、1〜2モル程度使用し、ジクロ
ロメタンなどのハロゲン化炭化水素類;メタノー
ルなどのアルコール類;水−ジクロロメタンなど
の2相溶媒;またはN,N−ジメチルホルムアミ
ドなどの極性溶媒中で反応させる。 このハロゲン化反応は、ホウ酸ナトリウム・10
水和物などの塩基の存在下に行つてもよい。 また、反応温度および反応時間は、特に限定さ
れないが、通常、−50〜20℃程度で行うのが好ま
しい。 このようにして得られた中間体のハロゲン化合
物は、単離してもよいし、そのまま同一反応系
で、つぎのアルコキシ化反応に付すことができ
る。 アルコキシ化反応は、上記で得られたハロゲン
化物に、メタノール、エタノールもしくはプロピ
ルアルコールなどのアルカリ金属(リチウムまた
はナトリウムなど)塩またはアルカリ土類金属
(マグネシウムなど)塩を反応させることによつ
て実施される。 アルコールの金属塩は、一般式[a]の化合
物またはその塩類1モルに対し、1〜3.5モル程
度使用すればよい。 反応温度および反応時間は、特に限定されない
が、−50〜30℃の範囲内で行うのがよい。 また、このアルコキシ化反応は、反応系内を酸
性にすることにより停止される。 反応停止のための適当な酸としては、たとえ
ば、ギ酸、酢酸またはトリクロロ酢酸などが使用
される。 反応停止後、過剰のハロゲン化剤は、たとえ
ば、チオ硫酸ナトリウムまたは亜リン酸トリアル
キルエステルなどの還元剤で処理することによつ
て除去される。本製造法によつて得られる一般式
[b]の化合物またはその塩類は、一般にはラ
セミ混合物として得られる。必要に応じて、光学
活性を有する有機アミノ類による適当な塩の分別
結晶または光学活性を有するカチオンを使用する
イオン対クロマトグラフイーのような常法によ
り、ラセミ混合物から、アゼチジンの3位がR配
置およびS配置を有するエナンチオマーをそれぞ
れ単離することができる。 製造法(4)は、反応に不活性な溶媒の存在下また
は不存在下に実施することができる。 この反応に用いられる不活性な溶媒としては、
たとえば、製造法(1)で説明したのと同様の溶媒が
挙げられる。 この反応は、必要に応じて、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸水素アルカリ、炭酸ア
ルカリもしくは酢酸アルカリなどの無機塩基;ま
たはトリエチルアミン、トリブチルアミン、N,
N−ジエチルアニリン、ピリジン、N−メチルピ
ペリジン、N−メチルモルホリン、ルチジン、コ
リジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン
−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタンもしくは1,8−ジアザビシクロ
[5.4.4]−7−ウンデセンなどの有機塩基;また
はテトラブチルアンモニウムブロミドなどの相間
移動触媒などの塩基の存在下に行われる。一般式
[]の化合物もしくはその塩類またはそれらの
反応性誘導体で、Yがヒドロキシル基である場合
は、アゾジカルボン酸ジエチルまたは四塩化炭素
の存在下、トリフエニルホスフインを、一般式
[]の化合物もしくはその塩類またはそれらの
反応性誘導体1モルに対し、当モル以上添加する
ことが好ましい。 反応温度および反応時間は、特に限定されない
が、20〜80℃で行うのが好ましい。 製造法(5)は、反応に不活性な溶媒の存在下また
は不存在下に実施することができる。 この反応に用いられる不活性な溶媒としては、
製造法(1)で説明したのと同様の溶媒が挙げられ、
この閉環反応は、通常のβ−ラクタム環合成の手
段が用いられる。一般式[]の化合物のカルボ
キシル基における反応性誘導体を用いる場合、と
りわけ、反応性誘導体がエステル類のときは、エ
チルマグネシウムブロミドなどのグリニヤー試薬
との反応により閉環させることが好ましい。ま
た、一般式[]の化合物を遊離酸または塩の状
態で使用する場合は、製造法(1)で説明したのと同
様の縮合剤を用いることができる。とりわけ、縮
合剤としてトリフエニルホスフイン−2,2′−ジ
ピリジルジスルフイドを用いる場合は、アセトニ
トリル溶媒中で反応するのが好ましい。 反応温度および反応時間は、特に限定されない
が、−10〜80℃で行うのが好ましい。 製造法(6)は、反応に不活性な溶媒の存在下また
は不存在下に実施することができる。 この反応で用いられる不活性な溶媒としては、
たとえば、ジエチルエーテル、ジメトキシエチル
エーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ンもしくはジオキサンなどのエーテル類;塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素もしくは1,
2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類;N,N−ジメチルホルムアミドもしくはN,
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;ベン
ゼン、トルエンもしくはキシレンなどの芳香族炭
化水素類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類;酢酸エチルもしくは酢酸ブチルなどのエ
ステル類;またはアセトンもしくはメチルイソブ
チルケトンなどのケトン類が挙げられる。上記し
た溶媒は、二種以上を混合して用いることもでき
る。 反応温度および反応時間は、特に限定されない
が、通常−80〜50℃で実施すれば、5分〜40時間
で反応は完結する。 さらに必要によつてはこの反応を窒素、アルゴ
ンまたはヘリウムなどの不活性ガス気流下で行つ
てもよい。また、一般式[]の化合物を原料と
して使用する場合は、塩基の存在下に反応を行う
のが好ましい。 この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、たとえば、製造法(1)で説明したのと同様の塩
基が挙げられる。 また、一般式[]または[]の化合物は、
一般式[]の化合物1モルに対し、当モル以
上、好ましくは、1〜2モル程度使用すればよ
い。 以上記載した如く反応を行つた後、常法にした
がつて反応混合物から一般式[],[a]また
は[b]の化合物もしくはそれらの塩類を単離
し、カラムクロマトグラフイーおよび/または再
結晶などの操作を施すことによつて、精製するこ
とができる。また、立体異性体が存在する場合
は、さらに必要に応じて、通常の光学分割方法に
したがつて異性体を単離ことができる。さらに、
得られた化合物が保護されたアミノ基、保護され
たヒドロキシル基および/または保護されたカル
ボキシル基を有する場合で、それらの保護基を除
去する必要のある場合は、公知の方法を適用して
保護基を脱離することができる。また、一般式
[],[a]または[b]の化合物の塩類を
得るには、反応計内で直接生成している場合は、
それを常法どおり単離すればよく、また一般式
[],[a]または[b]の化合物を遊離の
形で得た場合は、医薬品に対して繁用される無機
もしくは有機塩基または酸を用いてそれらの塩を
生成せしめ、常法にしたがつて、単離および精製
することによつて一般式[],[a]または
[b]の化合物の塩類を得ることができる。さ
らに、上記のようにして得られた塩類に、たとえ
ば、イオン交換樹脂を用いる方法またはイオン対
抽出法などの常套手段により、他の塩類に交換す
ることもできる。 これら各製造法における条件は、これらに限定
されるものではなく、反応試剤の種類によつて適
宜選択しうる。 さらに、一般式[]または[]の化合物を
得る方法において、閉環反応、スルホン化反応、
還元、可溶媒分解およびアミノ保護基の脱離は、
自体公知の方法によつて行うことができるが、具
体的には一般式[]の化合物またはその塩類を
製造する方法において説明した方法によつて行う
ことがよい。 つぎに、本発明を参考例および実施例で説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 参考例 1 (3S,4S)−3−(ベンジルオキシカルボニル
アミノ)−4−メチル−1−(p−ニトロベンジル
オキシ)−2−オキソアゼチジン2.1gをイソプロ
ピルアルコール/エタノール[4/1(V/V)]
100mlに懸濁させ、5%パラジウム−炭素0.2gを
加え、常温常圧で30分間水素添加する。ついで、
触媒を去し、液を減圧下に濃縮乾固して結晶
性残渣を得る。これを酢酸エチルで洗浄し、取
すれば、白色結晶の(3S,4S)−3−アミノ−1
−ヒドロキシ−4−メチル−2−オキソアゼチジ
ン0.530g(収率83.1%)を得る。 融点:121〜122℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01750,1710 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.23(3H,d,j=6HZ,CH3), 3.15〜3.65(2H,m,CH×2), 4.73(3H,s,NH2,OH) 元素分析値(C4H8N2O2) 理論値(%)C;41.37 H;6.94 N;24.13 実測値(%)C;41.52 H;6.96 N;24.17 参考例 2 (3S)−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−1−(p−ニトロベンジルオキシ)−2−オキソ
アゼチジン4.4gを酢酸エチル150mlに溶解させ、
これに5%パラジウム−炭素1.5gを加え、常温
下5.5気圧で60分間水素添加する。ついで、生成
物および触媒を取し、メタノール200mlで抽出
する。減圧下にメタノールを留去して、(3S)−
3−アミノ−1−ヒドロキシ−2−オキソアゼチ
ジン0.87g(収率71.7%)を得る。 融点:128〜130℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01740〜1710 参考例 3 参考例1で得られた(3S,4S)−3−アミノ−
1−ヒドロキシ−4−メチル−2−オキソアゼチ
ジン0.12gを塩化メチレン10mlに懸濁させ、氷冷
下にトリエチルアミン0.35mlおよびD(−)−α−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ンカルボキサミド)フエニル酢酸クロリド0.71g
を順次加える。室温で30分間反応させた後、反応
液を飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒を留去する。
残留物にメタノール5mlを加え、室温で1時間攪
拌する。ついで、減圧下にメタノールを留去し、
得られた残留物をカラムクロマトグラフイー[和
光シリカゲルC−200、クロロホルム/メタノー
ル=50/1(V/V)で溶出]で精製すれば、
(3S,4,)−4−メチル−3−[D(−)−α−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカ
ルボキサミド)フエニルアセタミド]−1−ヒド
ロキシ−2−オキソアゼチジン0.28g(収率65.1
%)を得る。 融点:161〜164℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01760,1710,1670 参考例 4 参考例2で得られた(3S)−3−アミノ−1−
ヒドロキシ−2−オキソアゼチジンを用いて、参
考例3と同様の操作を行えば、(3S)−3−[D
(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジンカルボキサミド)フエニルアセタミ
ド]−1−ヒドロキシ−2−オキソアゼチジンを
得る。 融点:157℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01760,1710,1665 参考例 5 (3S,4S)−3−(tert−ブトキシカルボニルア
ミノ)−1−ヒドロキシ−4−メチル−2−オキ
ソアゼチジン0.9gをN,N−ジメチルホルムア
ミド(DMF)4mlに溶解させ、氷冷下三酸化イ
オウのDMF錯体(1,182M,DMF溶液)3.53
mlを加える。同温度で30分間反応させた後、ピリ
ジン0.35mlを加え、さらに5分間同温度で反応さ
せる。反応液から減圧下に溶媒を留去し、得られ
た油状物にイソプロピルアルコール/ジイソプロ
ピルエテール[1/1(V/V)]を加え、析出す
る結晶を取すれば、ピリジニウム(3S,4S)−
3−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)−4−メ
チル−2−オキソアゼチジン−1−オキソスルホ
ナート1.13g(収率72.2%)を得る。 融点:123℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01760,1710 NMR(d6−DMSO−D2O)ppm値; 1.50(3H,d,J=6Hz,CH3), 1.54(9H,s,CH3×3), 3.74〜4.25(2H,m,CH×2), 7.89〜9.08(5H,m,
【式】) 元素分析値(C14H21N3O7S) 理論値(%)C;44.79 H;5.64 N;11.19 実測値(%)C;44.85 H;5.83 N;11.02 参考例 6 ピリジニウム(3S,4S)−3−(tert−ブトキシ
カルボニルアミノ)−4−メチル−2−オキソア
ゼチジン−1−オキソスルホナート15gをアニソ
ール150mlに懸濁させ、これに氷冷下トリフルオ
ロ酢酸75mlを加えて室温で2時間反応させる。析
出した結晶を取し、アニソールおよび酢酸エチ
ルで順次洗浄した後、この結晶を水24mlに懸濁さ
せ、氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
てpH5に調整する。結晶を取し、少量の水で洗
浄した後、五酸化リン上で減圧乾燥すれば、
(3S,4S)−3−アミノ−4−メチル−2−オキ
ソ−1−スルホキシアゼチジン3.3g(収率42.1
%)を得る。 融点:139℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01760 NMR(d6−DMSO−D20)ppm値; 1.41(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.76〜4.41(2H,m,CH×2) 参考例 7 (3S,4S)−3−アミノ−4−メチル−2−オ
キソ−1−スルホキシアゼチジン0.3gおよび塩
化メチレン6mlを混合し、これに氷冷下トリエチ
ルアミン0.41mlを加え、ついでフエニル酢酸クロ
リド0.24gおよび塩化メチレン0.5mlの混合液を
滴下する。室温で30分間反応させた後、氷水30ml
を加え、トリエチルアミンを加えてpH7に調整す
る。水層を分取し、これに飽和に達するまで食塩
を加えて、アセトニトリル各30mlで2回抽出す
る。抽出液を合わせ、減圧下に溶媒を留去する。
得られた残留物を水30mlに溶解させ、Dowex(ダ
ウエツク)50W(Na型)樹脂に通し、ついで、ア
ンバーライトXAD−2カラム(水で溶出)で精
製すれば、白色粉末のナトリウム(3S,4S)−3
−フエニルアセタミド−4−メチル−2−オキソ
アゼチジン−1−オキシスルホナート0.37g(収
率72.0%)を得る。 融点:85〜86℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01770,1660 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.37(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.60(2H,s,CH2), 3.82〜4.30(1H,m,CH), 4.31〜4.64(1H,m,CH), 7.48(5H,s,
【式】 9.26(1H,d,J=8Hz,NH) 参考例 8 (1) (3S,4S)−3−アミノ−4−メチル−2−
オキソ−1−スルホキシアゼチジン0.2gを塩化
メチレン4mlに懸濁させ、これに氷冷下トリエチ
ルアミン0.29mlりを加えて溶解させる。ついで、
この溶液に、5℃でD(−)−α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミ
ド)フエニル酢酸クロリド0.38gを添加する。同
温度で5分間反応させた後、室温まで昇温させ、
さらに1時間反応させる。反応液から減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物を水4mlに溶解させ
る。この水溶液を同量の酢酸エチルで2回洗浄し
た後、さらに同量の塩化メチレンおよび飽和食塩
水を加え、激しく攪拌する。析出した結晶を取
し、水洗すれば、白色結晶のナトリウム(3S,
4S)−4−メチル−3−[D(−)−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキ
サミド)フエニルアセタミド]−2−オキソアゼ
チジン−1−オキシスルホナート0.40g(収率
75.5%)を得る。 融点:145〜146℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01770,1710,1670 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.10(3H,t,J=7Hz,CH3), 1.30(3H,d,J=6Hz,CH3), 2.88〜4.63(8H,m,CH2×3,CH×2), 5.45(1H,d,J=7Hz,CH), 7.26(5H,s,
【式】 9.30(1H,d,J=9Hz,NH), 9.69(1H,d,J=7Hz,NH) (2) 参考例3で得られた(3S,4S)−4−メチル
−3−[D(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フエニル
アセタミド]−1−ヒドロキシ−2−オキソアゼ
チジン0.42gをDMF2mlに溶解させ、これに3〜
5℃で三酸化イオウのDMF錯体(1.182M,
DMF溶液)2.58mlを滴下する。室温で1時間反
応させた後、ピリジン0.25mlりを加え、ジエチル
エーテルで希釈して油状物を得る。これに、氷水
4.2mlおよび酢酸エチル10mlを加え、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液でpH6.5に調整する。つい
で、水層を分取し、上記(1)と同様に精製すれば、
(1)で示した化合物0.3g(収率58.0%)を得る。 なお、融点、IRおよびNMRは、(1)で得られた
ものと一致した。 参考例 9 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−(Z)
−2−メトキシイミノ酢酸1.36gを塩化メチレン
4mlに懸濁させ、−35℃でオキシ塩化リン2.08g
およびN,N−ジメチルアセトアミド0.59gを順
次加えて−15〜−10℃で2時間反応させる。この
反応液に−45℃で、(3S,4S)−3−アミノ−4
−メチル−2−オキソ−1−スルホキシアゼチジ
ン0.91g、塩化メチレン18mlおよびトリエチルア
ミン1.94mlの混合液を滴下する。滴下終了後、反
応液を20℃まで昇温させ、さらに30分間反応させ
る。析出物を取し、これを氷水50mlに溶解さ
せ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて
pH7.0に調整した後、酢酸エチル50mlで洗浄す
る。水層に食塩を飽和させ、テトラヒドロフラン
50mlで3回抽出する。抽出液を合わせて減圧下に
溶媒を留去して油状物を得る。これを少量のギ酸
に溶解させた後、再び減圧下に溶媒を留去する。
得られた泡状物をアンバーライトXAD−2カラ
ム[テトラヒドロフラン/水=1/19(V/V)
で溶出]で精製すれば、(3S,4S)−3−[2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−
メトキシイミノアセタミド]−4−メチル−2−
オキソ−1−スルホキシアゼチジン0.95g(収率
51.5%)を得る。 融点:130℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01780,1660 NMR(d6−DMSO−D2O)ppm値; 1.43(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.72(3H,s,CH3), 3.10〜4.30(1H,m,CH), 4.54(1H,d,J=2Hz,CH), 6.88(1H,s,
【式】 参考例 10 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−(Z)
−2−(1−tert−ブトキシカルボニル−1−メ
チルエトキシ)イミノ酢酸0.9gをDMF5mlに溶
解させ、これに氷冷下、1−ヒドロキシベンゾト
リアゾール0.42gおよびN,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド0.56gを加え、室温で1時間反
応させる。ついで、この反応液に(3S,4S)−3
−アミノ−4−メチル−2−オキソ−1−スルホ
キシアゼチジン0.54g、DMF3mlおよびトリエチ
ルアミン0.42mlの混合液を加え、室温で一夜反応
させる。析出物を去し、液を減圧下に濃縮す
る。得られた残留物を氷水50mlおよび塩化メチレ
ン100mlに溶解させ、トリエチルアミンを加えて
pH7.5に調整する。水層を分取し、これに飽和に
達するまで食塩を加えて5倍容量の塩化メチレン
で3回抽出する。抽出液を合わせて減圧下に溶媒
を留去する。残留物をアニソール10mlに溶解さ
せ、これに氷冷下、トリフルオロ酢酸10mlを加
え、室温で3時間反応させる。反応終了後、減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をアンバーラ
イトXAD−2カラム[テトラヒドロフラン/水
=3/97(V/V)で溶出]で精製すれば、(3S,
4S)−3−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−(Z)−2−(1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシ)イミノアセタミド]−4−メチル−2−
オキソ−1−スルホキシアゼチジン0.61g(収率
49.1%)を得る。 融点:156℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01775,1725,1665 NMR(d6−DMSO−D2O)ppm値; 1.20〜1.85(9H,m,CH3×3), 3.80〜4.70(2H,m,CH×2), 7.04(1H,s,
【式】 参考例 11 (1) (3S,4S)−3−アミノ−4−メチル−2−
オキソ−1−スルホキシアゼチジン0.3gを塩化
メチレン5mlに懸濁させ、−10℃でトリエチルア
ミン0.43mlを加えて溶解させた後、同温度でα−
(p−メトキシベンジルオキシカルボニル)フエ
ニル酢酸クロリド0.54gおよび塩化メチレン3ml
の混合液を滴下する。滴下終了後、反応液を0℃
に昇温させ、同温度で30分間反応させた後、 反応液を塩化メチレン20mlおよび氷水20ml混合液
に加え、氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えてpH7.0に調整する。ついで、水層を分取
し、食塩で飽和させた後、塩化メチレン20mlで2
回抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒
を留去する。得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフイー[和光シリカゲルC−200、クロロホル
ム/メタノール=10/1(V/V)で溶出]で精
製すれば、油状のトリエチルアンモニウム(3S,
4S)−3−[2−(p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル)フエニルアセタミド]−4−メチル−
2−オキソアゼチジン−1−オキシスルホナート
0.5g(収率56%)を得る。 IR(ニート)cm-1;νc=01780,1735 NMR(CDCI3)ppm値; 1.23(9H,t,J=7Hz,CH×3), 1.44(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.10(6H,q,J=7Hz,CH2×3), 3.74(3H,s,CH3), 4.10〜4.30(2H,m,CH×2), 4.66(1H,s,CH), 5.07(2H,s,CH2), 6.80,7.20(4H,A,B,J=9Hz,
【式】 7.30(5H,s,
【式】 7.95(1H,d,J=7Hz,NH) (2) トリエチルアンモニウム(3S,4S)−3−
[2−(p−メトキシベンジルオキシカルボニル)
フエニルアセタミド]−4−メチル−2−オキソ
アゼチジン−1−オキシスルホナート0.45gをジ
オキサン7mlおよび水3mlの混合液に溶解させ
る。これに、10%パラジウム−炭素0.23gを加
え、常圧下で水素添加する。水素吸収量が18mlに
達したところで触媒を別し、液にトリエチル
アミン0.11mlを加え、減圧下に溶媒を留去する。
得られた油状物を水2mlに溶解させ、ダウエツク
ス50W(Na型)樹脂に通して精製すれば、白色粉
末の(3S,4S)−3−(2−カルボキシフエニル
アセタミド)−4−メチル−2−オキソ−1−ス
ルホキシアゼチジンのジナトリウム塩0.22g(収
率70%)を得る。 融点:150〜153℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01770,1660 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.35(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.51(1H,s,CH), 3.70〜4.30(2H,m,CH×2), 7.30(5H,s,
【式】 9.08(1H,d,J=8Hz,NH) 参考例 12 (3S,4R)−3−(tert−ブトキシカルボニル
アミノ)−1−ヒドロキシ−4−メチル−2−オ
キソアゼチジン0.92gをDMF2mlに溶解させ、氷
冷下三酸化イオウのDMF錯体(1.182M,DMF
溶液)3.68mlを加え、室温で1時間反応させた
後、氷冷下ピリジン0.35mlを加え、同温度で5分
間反応させる。この反応液から減圧下に溶媒を留
去して得られる油状物にジエチルエーテルで加
え、析出する結晶を取すれば、白色結晶のピリ
ジニウム(3S,4R)−3−(tert−ブトキシカル
ボニルアミノ)−4−メチル−2−オキソアゼチ
ジン−1−オキシスルホナート1.45g(収率90.8
%)を得る。 融点:131℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01765,1715 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.16(3H,d,J=6Hz,CH3), 1.38(9H,s,CH3×3), 4.05〜4.75(2H,m,CH×2), 7.32〜7.62(1H,m,NH), 8.07〜9.15(5H,m,
【式】 参考例 13 ピリジニウム(3S,4R)−3−(tert−ブトキ
シカルボニルアミノ)−4−メチル−2−オキソ
アゼチジン−1−オキシスルホナート1.12gをア
ニソール5.6mlに懸濁させ、氷冷下トリフルオロ
酢酸5.6mlを加えて溶解させる。室温で1時間反
応させた後、氷冷下30分間攪拌する。析出晶を
取し、アニソールおよび酢酸エチルで順次洗浄し
た後、直ちに五酸化リン上で減圧乾燥する。この
結晶を塩化メチレン4.4mlに懸濁させ、氷冷下ト
リエチルアミン0.47mlを加えて溶解させる。つい
で、この溶液に同温度でD(−)−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキ
サミド)フエニル酢酸クロリド0.38gを5時間を
要して分割添加する。冷蔵庫で一夜静置した後、
反応液に氷水30を加え、攪拌する。水層を分取
し、これを塩化メチレンで洗浄した後、トリエチ
ルアミンでpH7.8に調整し、食塩を飽和させる。
この溶液に塩化メチレン30mlずつで3回、ついで
テトラヒドロフラン30mlで抽出操作を行う。抽出
液を合わせ、減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物を水2mlに溶解させ、ダウエツクス50W(Na
型)樹脂に通して精製すれば、ナトリウム(3S,
4R)−3−[D(−)−α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フエ
ニルアセタミド]−4−メチル−2−オキソアゼ
チジン−1−オキシスルホナート0.21g(収率
13.6%)を得る。 融点:165℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01770,1710,1670 MNR(d6−DMSO−D2O)ppm値; 0.86(3H,d,J=6Hz,CH3), 1.18(3H,t,J=7Hz,CH3), 3.20〜5.10(8H,m,CH2×3,CH×2), 5.56(1H,s,CH), 7.45(5H,s,
【式】 参考例 14 (3S)−3−[D(−)−α−(4−エチル−2,
3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)
フエニルアセタミド]−1−ヒドロキシ−2−オ
キソアゼチジン0.3gをDMF3mlに溶解させ、三
酸化イオウのDMF錯体(1.182M,DMF溶液)
1.89mlを氷冷下加え、室温で30分間反応させる。
ついで、これにピリジン0.18mlを加え、ジエチル
エーテルで希釈して油状物を得る。これに、氷水
3mlおよび酢酸エチル10mlを加え、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH6.5に調整する。水層を分
取し、参考例8(1)と同様にアンバーライトXAD
−2カラム(水で溶出)で精製すれば、ナトリウ
ム(3S)−3−[D(−)−α−(4−エチル−2,
3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)
フエニルアセタミド]−2−オキソアゼチジン−
1−オキシスルホナート0.18g(収率47.9%)を
得る。 融点:165℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01775,1710,1670 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.12(3H,t,J=7Hz,CH3), 3.18〜4.09(8H,m,CH2×4), 4.67〜5.01(1H,m,CH), 5.55(1H,d,J=8Hz,CH), 7.43(5H,s,
【式】 9.42(1H,d,J=7Hz,NH), 9.90(1H,d,J=8Hz,NH) 参考例 15 (3S)−3−(tert−ブトキシカルボニルアミ
ノ)−1−ヒドロキシ−2−オキソアゼチジンを
用い、参考例5と同様にして、ピリジニウム
(3S)−3−(tert−2−オキソアゼチジン−1−
オキシスルホナートを得る。 融点:126〜128℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01760,1700 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.50(9H,s,CH3×3), 3.40〜4.00(2H,m,CH2), 4.48(1H,m,CH), 7.53(1H,m,NH), 7.92〜9.10(6H,m,
【式】NH) 参考例 16 (3S,4S)−3−アミノ−4−メチル−2−オ
キソ−1−スルホキシアゼチジン0.4gをDMF
5mlに溶解させ、これに氷冷下、トリエチルアミ
ン0.26ml、1H−テトラゾール−1−酢酸0.29gお
よびN,N′−ジシクロヘキシカルボジイミド0.42
gを順次加え、室温で12時間反応させる。析出物
を去し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物に氷水30mlおよび塩化メチレン30mlを加えて
溶解させる。水層を分取し、これに食塩を飽和に
達するまで加えた後、アセトニトリル各20mlで3
回抽出する。抽出液を合わせ、飽和食塩水で洗浄
した後、減圧下に溶媒を留去する。残留物を水2
mlに溶解させ、アンバーライトXAD−2カラム
(水で溶出)、ついでダウエツク50W(Na型)樹脂
に通して精製すれば、白色粉末のナトリウム
(3S,4S)−3−(1H−テトラゾール−1−イル
−アセタミド)−4−メチル−2−オキソアゼチ
ジン−1−オキシスルホナート0.19g(収率28.4
%)を得る。 融点;130〜133℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01775,1690 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.34(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.80〜4.30(2H,m,CH×2), 5.26(2H,s,CH2), 9.20(2H,m,テトラゾール環CH,NH) 参考例 17 D(=)−α−(tert−ブトキシカルボニルアミ
ノ)フエニル酢酸2.70gを塩化メチレン21.6ml溶
解させ、これに−10℃でN−メチルモルホリン
1.27mlを加え、ついで−25〜−20℃でクロロ炭酸
エチル1.13mlを滴下する。−18±2℃で1時間反
応させた後、−20℃に冷却する。 一方、3−アミノ−4−メチル−2−オキソ−
1−スルホキシアゼチジン2.0g、塩化メチレン
40ml、DMF 20mlおよびトリエチルアミン1.4ml
を混合し、−20℃に冷却する。これに先に得られ
た反応液を一度に加え、−15℃で1時間反応させ
た後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物
に水50mlを加え、析出する不溶物を去した後、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7.0に調整
し、ジエチルエーテルおよび酢酸エチルで順次洗
浄する。水層を食塩で飽和にした後、塩化メチレ
ン各50mlで5回抽出する。抽出液を合わせ、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に溶媒
を留去すれば、泡状物4.9gを得る。この泡状物
を塩化メチレン34.3mlに溶解させ、氷冷下トリフ
ルオロ酢酸14.7mlを滴下する。同温度で3時間反
応させた後、塩化メチレン83.3mlを加える。析出
物を取し、塩化メチレンで洗浄すれば、白色結
晶を得る。これを水10mlおよびジエチルエーテル
10mlの混合液に懸濁させ、炭酸水素ナトリウム水
溶液でpH5.2に調整する。析出晶を取し、水お
よびジエチルエーテルで順次洗浄すれば、白色結
晶の(3S,4S)−3−[D(−)−α−アミノフエ
ニルアセタミド]−4−メチル−2−オキソ−1
−スルホキシアゼチジン1.44g(収率42.9%)を
得る。 融点:182℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01765,1690 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.29(3H,d,J=6Hz,CH3), 2.78(1H,m,CH), 4.41(1H,dd,J=8Hz,1.5Hz,CH), 4.95(1H,bs,CH), 7.44(5H,s,
【式】 8.0〜9.0(3H,m,NH3 ), 9.45(1H,d,J=8Hz,NH)参考例 18 (3S,4S)−3−[D(−)−α−アミノフエニ
ルアセタミド]−4−メチル−2−オキソ−1−
スルホキシアゼチジン0.30gをDMF 4mlに溶解
させ、これに5℃でトリエチルアミン0.25mlおよ
びN−(4−ヒドロキシ−1,5−ナフチリジン
−3−カルボニルオキシ)スクシンイミド0.26g
を順次加える。室温で一夜反応させた後、減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物を水15mlに溶解
させる。これに食塩1.0gを含む水3ml溶液を加
える。析出晶を取し、これをアンバーライト
XAD−2カラム[エタノール/水=1/1(V/
V)で溶出]で精製すれば、淡黄色粉末のナトリ
ウム(3S,4S)−3−[D(−)−α−(4−ヒドロ
キシ−1,5−ナフチリジン−3−カルボキサミ
ド)フエニルアセタミド]−4−メチル−2−オ
キソアゼチジン−1−オキシスルホナート0.35g
(収率73.4%)を得る。 融点:175〜185℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01775,1650 NMR(d6−DMSO−D2O)ppm値; 1.52(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.9〜4.6(2H,m,CH×2), 5.98(1H,s,CH), 7.40〜9.30(9H,m,
【式】
【式】 参考例 19 D(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサミド)−α−(4−ヒ
ドロキシフエニル)酢酸0.42gを塩化メチレン
4.2mlに懸濁させ、氷冷下、トリエチルアミン
0.33mlを加え、ついでトリメチルクロロシラン
0.33mlおよび塩化メチレン1mlの混合液を滴下す
る。反応液を15℃に昇温し、同温度で1時間反応
させる。ついで、−20℃でN,N−ジメチルホル
ムアミド0.09ml並びにトリクロロメチル=クロロ
ホルマート0.08mlおよび塩化メチレン1mlの混合
液を順次滴下する。滴下終了後、−15〜−10℃で
1時間反応させる。つぎに、この反応液に−20℃
で(3S,4S)−3−アミノ−4−メチル−2−オ
キソ−1−スルホキシアゼチジン0.35g、塩化メ
チレン8mlおよびトリエチルアミン0.23mlの混合
液並びにトリエチルアミン0.46mlおよび塩化メチ
レン8mlの混合液を30分間を要して同時に滴下す
る。滴下終了後、−15〜−10℃で1時間反応させ
た後、メタノール10mlを加え、減圧下に溶媒を留
去する。得られた残留物を酢酸エチル50mlおよび
氷水50mlを加えて溶解させ、トリエチルアミンを
加えてpH7.2に調整した後、有機層を除く。水層
にテトラヒドロフラン50mlを加えた後、食塩を飽
和に達するまで加え、攪拌する。析出層(180mg)
を取し、液の有機層を分取し、水層はテトラ
ヒドロフラン各30mlで3回抽出する。抽出液を合
わせ、飽和食塩水で洗浄した後、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物および析出晶を合わ
せ、これを水3mlに溶解させ、ダウエツクス50W
(Na型)樹脂に通して精製すれば、白色粉末のナ
トリウム(3S,4S)−3−[D(−)−α−(4−エ
ルチ−2,3−ジオキソ−1−ピペラジルカルボ
キサミド)−α−(4−ヒドロキシフエニル)アセ
タミド]−4−メチル−2−オキソアゼチジン−
1−オキシスルホナート0.42g(収率45.9%)を
得る。 融点:184〜186℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01770,1710,1680 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.10(3H,t,J=7Hz,CH3), 1.34(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.45〜4.45(8H,m,CH2×3,CH×2), 5.53(1H,d,J=8Hz,CH), 6.95,7.43(4H,A,B,J=8Hz,
【式】, 9.66(1H,d,J=8Hz,NH), 10.00(1H,d,J=8Hz,NH) 参考例 20 (1) ピリジニウム(3S,4R)−3−(tert−ブト
キシカルボニルアミノ)−4−メチル−2−オ
キソアゼチジン−1−オキシスルホナート1.3
gを塩化メチレン9.1mlに懸濁させ、氷冷下ト
リフルオロ酢酸3.9mlを加えて溶解させる。氷
冷下で2時間反応させた後、塩化メチレン22ml
を加える。析出結晶を取し、塩化メチレンで
洗浄した後、五酸化リン上で減圧乾燥する。 (2) 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
(Z)−2−メトキシイミノ酢酸0.35gを塩化メ
チレン1mlに懸濁させ、これに−30℃でオキシ
塩化リン0.235mlおよびN,N−ジメチルアセ
トアミド0.117mlを加え、−15〜−10℃で2.5時
間反応させる。ついで、この反応液に(1)で得ら
れた析出結晶0.39g、塩化メチレン7mlおよび
トリエチルアミン0.70mlの混合溶液を−30℃で
滴下する。滴下終了後、反応液を室温まで昇温
させ、さらに1時間反応させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物に酢酸エチルおよび
氷水を加え、ついで、炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えて中和する。水層を分取し、酢酸エチ
ルで洗浄する。この水層に食塩を飽和に達する
まで加え、テトラヒドロフラン各30mlで6回抽
出する。抽出液を合わせて減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物に少量のギ酸を加えて溶解
させた後、再び減圧下に溶媒を留去する。得ら
れた残留物を少量の水に溶解させ、アンバーラ
イトXAD−2カラム[テトラヒドロフラン/
水=1/50(V/V)で溶出]で精製すれば、
白色粉末の(3S,4R)−3−[2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシ
イミノアセタミド]−4−メチル−2−オキソ
−1−スルホキシアゼチジン0.27g(収率48.4
%)を得る。 融点:162〜163℃(褐変) IR(KBr)cm-1;νc=01775,1660 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.24(3H,d,J=5Hz,CH3), 4.07(3H,s,CH3), 4.2〜4.7(1H,m,CH), 4.9〜5.3(1H,m,CH), 7.15(1H,s,チアゾール環CH), 7.0〜7.9(3H,m,NH3 ), 9.6〜9.9(1H,m,NH) 参考例 21 (1) (3S,4S)−3−フエニルアセタミド−4−
メチル−1−(p−ニトロベンジルオキシ)−2
−オキソアゼチジン4gを塩化メチレン40mlに
溶解させ、これに−50〜−40℃に保ちつつ、次
亜塩素酸tert−ブチル1.48mlおよびリチウムメ
トキシドのメタノール溶液(2.655N)4.91mlを
順次加える。同温度で30分間保つた後、酢酸
0.26mlを加える。反応液を水洗した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラ
フイー[和光シリカゲルC−200、ベンゼン/
酢酸エチル=5/1(V/V)で溶出]で精製
すれば、白色結晶の(3S,4S)−3−メトキシ
−3−フエニルアセタミド−4−メチル−1−
(p−ニトロベンジルオキシ)−2−オキソアゼ
チジン2.6g(収率60%)を得る。 融点:105〜106℃ IR(KBr)cm-1;νc=01775,1665 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.10(3H,d,J=7Hz,CH3), 3.42(3H,s,CH3), 3.70(2H,s,CH2), 4.16(1H,q,J=7Hz,CH), 5.26(2H,s,CH2), 7.50(5H,s,
【式】 7.92,8.50(4H,A B,J=9Hz,
【式】 9.40(1H,s,NH) (2) (3S,4S)−3−メトキシ−3−フエニルア
セタミド−4−メチル−1−(p−ニトロベン
ジルオキシ)−2−オキソアゼチジン1gを酢
酸エチル25mlに溶解させ、5%パラジウム−炭
素0.1gを加え、水素気流下、室温で1時間攪
拌する。触媒を去し、液は減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物にジエチルエーテル
を加え、析出する白色結晶を取すれば、
(3S,4S)−3−メトキシ−3−フエニルアセ
タミド−4−メチル−1−ヒドロキシ−2−オ
キソアゼチジン0.46g(収率69.7%)を得る。 融点:132℃(分解) IR(KBr)cm-1;νc=01760,1665 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.06(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.44(3H,s,CH3), 3.70(2H,s,CH2), 4.0(1H,q,J=6Hz,CH), 7.52(5H,s,
【式】 9.40(1H,s,NH) (3) (3S,4S)−3−メトキシ−3−フエニルア
セタミド−4−メチル−1−ヒドロキシ−2−
オキソアゼチジン0.34gをDMF5mlに溶解さ
せ、これにピリジン−無水硫酸錯体0.41gを加
え、室温で30分間反応させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をアセトニトリル15ml
に溶解させ、飽和食塩水で十分洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物を水10mlに溶解さ
せ、ダウエツクス50W(Na型)樹脂(水で溶
出)に通して精製すれば、ナトリウム(3S,
4S)−3−メトキシ−3−フエニルアセタミド
−4−メチル−2−オキソアゼチジン−1−オ
キシスルホナート0.21g(収率44.6%)を得
る。 融点:60℃ IR(KBr)cm-1;νc=01775,1660 NMR(d6−DMSO)ppm値; 1.12(3H,d,J=6Hz,CH3), 3.42(3H,s,CH3), 3.72(2H,s,CH2), 4.32(1H,q,J=6Hz,CH), 7.50(5H,s,
【式】 9.42(1H,s,NH) 実施例 1 (3S,4S)−3−[2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−(Z)−2−(1−カルボキシ−1−
メチルエトキシ)イミノアセタミド]−4−メチ
ル−2−オキシ−1−スルホキシアゼチジン5
g、乳酸0.8g、コーンスターチ2.5g、結晶セル
ロース0.5gおよびカルボキシメチルセルロース
カルシウム1gを混合し、この混合末に4%
(W/W)ヒドロキシプロピルセルロース水溶液
3.75gを添加し、練合を行つた。練合した後、40
℃で2時間乾燥し、24メツシユスクリーンを通し
た後、さらに40℃で一夜乾燥を行い、顆粒剤を得
た。 実施例 2 実施例1で得られた顆粒剤3.98gに乳酸0.4g
結晶セルロース0.4gおよびステアリン酸マグネ
シウム0.02gを加えて混合し、ついで、この混合
末各250mgを打錠し、直径8.5mmの錠剤を得た。 実施例 3 (3S,4S)−3−[2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−(Z)−2−(1−カルボキシ−1−
メチルエトキシ)アミノアセタミド]−4−メチ
ル−2−オキシ−1−スルホキシアゼチジン2g
に炭酸水素ナトリウム0.70gを加えて調整したニ
ナトリウム塩[遊離酸換算20%(W/V)]水溶
液10mlにマンニトール0.2gを加えて溶解させた。
この水溶液を無菌過し、これを10mlバイアルに
2.5mlずつ分注し、直ちに凍結乾燥した。凍結乾
燥した後、密栓し、注射用乾燥製剤を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 「式中、Rは、水素原子、塩形成陽イオンまた
    はエステル形成基を;R1は、式 (式中、R5は、アリールまたはテトラゾール
    基を;R6は、水素原子、カルボキシル基または
    アミノ基をそれぞれ示す。)、式 (式中、R7はヒドロキシル基で置換されてい
    てもよいアリール基を;R8は、アルキル基、オ
    キソ基またはヒドロキシル基で置換されていても
    よいピペラジニルまたはナフチリジニル基をそれ
    ぞれ示す。)または式 (式中、R9は、カルボキシル基で置換されて
    いてもよいアルキル基を示す。)で表わされるア
    シルアミノ基を;R2およびR3は、同一もしくは
    異なつて、水素原子たまはアルキル基を;および
    Xは、水素原子またはアルコキシ基をそれぞれ示
    す。」 で表わされる1−スルホキシ−2−アゼチジン誘
    導体またはその塩類を含有する抗菌剤。 2 Xが、水素原子である特許請求の範囲第1項
    記載の1−スルホキシ−2−アゼチジン誘導体ま
    たはその塩類を含有する抗菌剤。 3 R2が、水素原子またはアルキル基およびR3
    が、水素原子である特許請求の範囲第1項または
    第2項記載の1−スルホキシ−2−アゼチジン誘
    導体またはその塩類を含有する抗菌剤。
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