JPS59124019A - 磁気ヘツドの製造法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造法Info
- Publication number
- JPS59124019A JPS59124019A JP23150082A JP23150082A JPS59124019A JP S59124019 A JPS59124019 A JP S59124019A JP 23150082 A JP23150082 A JP 23150082A JP 23150082 A JP23150082 A JP 23150082A JP S59124019 A JPS59124019 A JP S59124019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- head
- azimuth angle
- reference block
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録再生装置に用いる磁気ヘッドの製造
法に関するものである。
法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
ビデオテープレコーダ（以下ＶＴＲと称す）に用いられ
る磁気ヘッド、特に家庭用ＶＴＲでは、その高密度記録
達成の一手段としてアジマス記録方式が採用されている
。それはシリンダに実装された２つの異なるアジマスを
有する磁気ヘッドにて達成されている。そのため磁気ヘ
ッドには取付は面に対し、一定の角度（アジマス角）を
持つ事が要求され、そのアジマス角はＶＨ５方式による
もので６°である。現在用いられている磁気ヘッドはフ
ェライトのインゴットより機械加工によシ成形されたコ
アパーをアジマス角を持つ、てスライスする事によりヘ
ッドチップが作成されている。例えば第１図に示すよう
なギャップドパ−（３）全作成する。
る磁気ヘッド、特に家庭用ＶＴＲでは、その高密度記録
達成の一手段としてアジマス記録方式が採用されている
。それはシリンダに実装された２つの異なるアジマスを
有する磁気ヘッドにて達成されている。そのため磁気ヘ
ッドには取付は面に対し、一定の角度（アジマス角）を
持つ事が要求され、そのアジマス角はＶＨ５方式による
もので６°である。現在用いられている磁気ヘッドはフ
ェライトのインゴットより機械加工によシ成形されたコ
アパーをアジマス角を持つ、てスライスする事によりヘ
ッドチップが作成されている。例えば第１図に示すよう
なギャップドパ−（３）全作成する。
（１）はギャップ面、（４）はトラックを規制するモー
ルドガラス部である。このギャップドパ−（３）をギャ
ップ面（１）に対してアジマス角０１を保って（２ａＸ
２ｂ）の部分でスライスした時、ヘッドチップ（３ａ）
は取付は面（２ａ）（２ｂＪに対しθ１なるアジマス角
を有する事となる。ここで用いられているヘッドトラッ
ク幅は３０μｍ程度であり、コアはフェライトの単結晶
又は多結晶である。現在更に高密度記録全実現するため
、狭トラツクヘッド・低ノイズヘッドとして、コア材を
金属又は非晶質磁性体とするものが検討され、狭トラツ
ク化とも相まって、基板にスパッタリング又は蒸着によ
シ形成した磁性薄膜を用いたヘッドが考案されている。
ルドガラス部である。このギャップドパ−（３）をギャ
ップ面（１）に対してアジマス角０１を保って（２ａＸ
２ｂ）の部分でスライスした時、ヘッドチップ（３ａ）
は取付は面（２ａ）（２ｂＪに対しθ１なるアジマス角
を有する事となる。ここで用いられているヘッドトラッ
ク幅は３０μｍ程度であり、コアはフェライトの単結晶
又は多結晶である。現在更に高密度記録全実現するため
、狭トラツクヘッド・低ノイズヘッドとして、コア材を
金属又は非晶質磁性体とするものが検討され、狭トラツ
ク化とも相まって、基板にスパッタリング又は蒸着によ
シ形成した磁性薄膜を用いたヘッドが考案されている。
この時問題となるのは、ヘッドのアジマスの形成法であ
り、例えば第２図に示すように、前記フェライトへ・ン
ドの場合と同様の製造法を採用するならば、ギャップ面
（８）に対しアジマス角θ２の傾きで（９ａ）（９ｂ）
の部分でスライスすれば、ヘッドチップはチップ側面に
対しギャップラインがアジマス角０２を有するが、磁性
膜（６）は基板（７）の上に一層だけのため、磁性膜（
６）は両端で切断される事となる。このため新しい製造
法の確立が必要となる。
り、例えば第２図に示すように、前記フェライトへ・ン
ドの場合と同様の製造法を採用するならば、ギャップ面
（８）に対しアジマス角θ２の傾きで（９ａ）（９ｂ）
の部分でスライスすれば、ヘッドチップはチップ側面に
対しギャップラインがアジマス角０２を有するが、磁性
膜（６）は基板（７）の上に一層だけのため、磁性膜（
６）は両端で切断される事となる。このため新しい製造
法の確立が必要となる。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、アジマス角
度が正確でしかも基板上に作成した磁性体膜を有効に利
用したアジマス記録用磁気ヘッドを容易に製作でき不磁
気ヘッドの製造法を得ることを目的とする。
度が正確でしかも基板上に作成した磁性体膜を有効に利
用したアジマス記録用磁気ヘッドを容易に製作でき不磁
気ヘッドの製造法を得ることを目的とする。
発明の構成
上記目的を達するため、本発明の磁気ヘッドの製造法は
、断面平行四辺形でかつ交わる二面７５；９０’からア
ジマス角を差引いた角度をなす基準フ゛ロックの一面に
磁性体膜を形成してコアブロックを得、このコアブロッ
クの前記磁性体膜が形成された面に前記基準ブロックと
同様の基準ブロックを取イ寸けてコアバーを得、このコ
アパーを前記磁性体膜が同一平面上に位置するようにス
ペーサを介して２個接合してヘッドチップを得、このヘ
ッドチップを前記磁性体膜の両側位置にて磁性体膜と平
行に切断する構成である。
、断面平行四辺形でかつ交わる二面７５；９０’からア
ジマス角を差引いた角度をなす基準フ゛ロックの一面に
磁性体膜を形成してコアブロックを得、このコアブロッ
クの前記磁性体膜が形成された面に前記基準ブロックと
同様の基準ブロックを取イ寸けてコアバーを得、このコ
アパーを前記磁性体膜が同一平面上に位置するようにス
ペーサを介して２個接合してヘッドチップを得、このヘ
ッドチップを前記磁性体膜の両側位置にて磁性体膜と平
行に切断する構成である。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について、図面に基づいて説明
する。
する。
まず、第３図に示すように、２面０１）（ロ）が９００
からアジマス角０３を差引いた角度をなす、断面が平行
四辺形の基準ブロック０３ ｔｌ−作成した。そして、
基準面ａηと平行な面（１９ｔｌ−平担に研摩し、その
面Ｃ１→に磁性体をスパッタリングにて形成した。本実
施例では、Ｃｏ−Ｎｂ −Ｚｎ −Ｍｏ−Ｃｒ ′ｆ：
成分とする非晶質金属磁性体ｔＲＦスパックによ’）１
０ｔｔｍの厚さに形成し、その上に５ｉ０２ｅ ０．１
μ２７１厚スパツタし、更に磁性体′ｆｃ１０μｍ厚ス
パッタし、それを繰返す積層構造として３０μｎｌの膜
厚の磁性体積層膜αＱを形成した。その上に高融点ガラ
ス膜ａ′ｉ）を０１〜０５μｍ厚スパッタで形成し、第
４図に示すコアブロックを作成した。そしてこのコアブ
ロックと前記基準ブロック側とを用いて１．第５１図に
示すように基準ブロックは４９３で磁性体層の両側をは
さんだ形状に積層してコアバーを作成した。この時、磁
性体層を形成していない基準ブロック（へ）には、低融
点ガラスＱ１１９を薄くコーティングしておき、磁性体
積層膜ＱＱ上の高融点ガラス膜αηと加圧融着する事に
より接合した。そして基準ブロックＱ４の基準面（ロ）
に平行な而（ｌｌｔ一平面に研摩し、ギャップ面とした
。次にこのコアパーに巻線溝Ｑ１）ヲ溝加工し、巻線溝
Ｑυを有するコアパーと巻線溝シη金有しないコアバー
と全一対として、ギャップ面にスペーサ（７）を介して
接合し、第６図に示すヘッドチップを作成した。接合は
巻線溝シυに直径０１〜０，２ ＩＩｇの低融点ガ〉ス
捧をｉ入し、加熱融着により行なった。なおこの時、ヘ
ッドのトラック幅は磁性体層の合計した膜厚に相当し、
ヘッドギャップのアジマスは、基準面０１）に対しあら
かじめ設定されたアジマス而（ロ）と平行に研摩された
ギャップ面０１によって形成される。
からアジマス角０３を差引いた角度をなす、断面が平行
四辺形の基準ブロック０３ ｔｌ−作成した。そして、
基準面ａηと平行な面（１９ｔｌ−平担に研摩し、その
面Ｃ１→に磁性体をスパッタリングにて形成した。本実
施例では、Ｃｏ−Ｎｂ −Ｚｎ −Ｍｏ−Ｃｒ ′ｆ：
成分とする非晶質金属磁性体ｔＲＦスパックによ’）１
０ｔｔｍの厚さに形成し、その上に５ｉ０２ｅ ０．１
μ２７１厚スパツタし、更に磁性体′ｆｃ１０μｍ厚ス
パッタし、それを繰返す積層構造として３０μｎｌの膜
厚の磁性体積層膜αＱを形成した。その上に高融点ガラ
ス膜ａ′ｉ）を０１〜０５μｍ厚スパッタで形成し、第
４図に示すコアブロックを作成した。そしてこのコアブ
ロックと前記基準ブロック側とを用いて１．第５１図に
示すように基準ブロックは４９３で磁性体層の両側をは
さんだ形状に積層してコアバーを作成した。この時、磁
性体層を形成していない基準ブロック（へ）には、低融
点ガラスＱ１１９を薄くコーティングしておき、磁性体
積層膜ＱＱ上の高融点ガラス膜αηと加圧融着する事に
より接合した。そして基準ブロックＱ４の基準面（ロ）
に平行な而（ｌｌｔ一平面に研摩し、ギャップ面とした
。次にこのコアパーに巻線溝Ｑ１）ヲ溝加工し、巻線溝
Ｑυを有するコアパーと巻線溝シη金有しないコアバー
と全一対として、ギャップ面にスペーサ（７）を介して
接合し、第６図に示すヘッドチップを作成した。接合は
巻線溝シυに直径０１〜０，２ ＩＩｇの低融点ガ〉ス
捧をｉ入し、加熱融着により行なった。なおこの時、ヘ
ッドのトラック幅は磁性体層の合計した膜厚に相当し、
ヘッドギャップのアジマスは、基準面０１）に対しあら
かじめ設定されたアジマス而（ロ）と平行に研摩された
ギャップ面０１によって形成される。
製造工程においてギャップ形成は最も重要な工程であシ
、より精密なギャップを形成するため、チップ幅は広く
してギャップ対向面を広くしてギャップ形成を行なうこ
とが有効であり、そのため、通常のへラドチップ幅（例
えば１３０μｍ）ｈ’ｃ得るために第７図に示すように
基準面αυと平行にコアを切断して、所定チップ幅Ｉ！
１の磁気ヘッドを作成した。
、より精密なギャップを形成するため、チップ幅は広く
してギャップ対向面を広くしてギャップ形成を行なうこ
とが有効であり、そのため、通常のへラドチップ幅（例
えば１３０μｍ）ｈ’ｃ得るために第７図に示すように
基準面αυと平行にコアを切断して、所定チップ幅Ｉ！
１の磁気ヘッドを作成した。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、アジマス角が最初の
基準ブロックで決定されるためアジマス精度を確保しや
すく、またヘッド製造工程においても、以後のアジマス
に関する加工は基準面と平行に研摩するだけのため高精
度を保つことができ、さらには磁性体膜に全く無駄がな
く、シたがってアジマス角度が正確で、しかも磁性体膜
を有効に利用した、アジマス記録用の磁気へンドを容易
に製造し得る。
基準ブロックで決定されるためアジマス精度を確保しや
すく、またヘッド製造工程においても、以後のアジマス
に関する加工は基準面と平行に研摩するだけのため高精
度を保つことができ、さらには磁性体膜に全く無駄がな
く、シたがってアジマス角度が正確で、しかも磁性体膜
を有効に利用した、アジマス記録用の磁気へンドを容易
に製造し得る。
第１図囚は従来のフ蚕ライトヘッドのアジマス加工工程
全説明するだめのギャップドパ−の平面図、同図（Ｂ）
は同ギャップドパ−から切り出したヘッドチップの正面
図、第２図は磁性膜を従来方法によりアジマス加工した
状態の平面図、第３図（イ）は本発明の一実施例におけ
る基準ブロックの断面図、同図ＣＢ）は同側面図、第４
図〜第７図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製
造過程を示す斜視図である。 ０４・・・基準ブロック、ｕＱ・・・磁性体積層膜、（
イ）・・・スペー！７− 代理人 森 本 義 弘 第１図 第２図 を 第３図 （Ａ） （Ｂ） 第４図 第５図
全説明するだめのギャップドパ−の平面図、同図（Ｂ）
は同ギャップドパ−から切り出したヘッドチップの正面
図、第２図は磁性膜を従来方法によりアジマス加工した
状態の平面図、第３図（イ）は本発明の一実施例におけ
る基準ブロックの断面図、同図ＣＢ）は同側面図、第４
図〜第７図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製
造過程を示す斜視図である。 ０４・・・基準ブロック、ｕＱ・・・磁性体積層膜、（
イ）・・・スペー！７− 代理人 森 本 義 弘 第１図 第２図 を 第３図 （Ａ） （Ｂ） 第４図 第５図
Claims (1)
- １、断面平行四辺形でかつ交わる二面が９０°からアジ
マス角を差引いた角度をなす基準ブロックの一面に磁性
体膜全形成してコアブロックを得、このコアブロックの
前記磁性体膜が形成された面に前記基準ブロックと同様
の基準ブロックを取付けてコアパーを得、このコアパー
を前記磁性体膜が同一平面上に位置するようにスペーサ
を介して２個接合してヘッドチップを得、このヘッドチ
ップを前記磁性体膜の両側位置にて磁性体膜と平行に切
断する磁気ヘッドの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23150082A JPS59124019A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気ヘツドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23150082A JPS59124019A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気ヘツドの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59124019A true JPS59124019A (ja) | 1984-07-18 |
Family
ID=16924461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23150082A Pending JPS59124019A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 磁気ヘツドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59124019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0233086A2 (en) * | 1986-02-13 | 1987-08-19 | Sony Corporation | Thin film magnetic head |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP23150082A patent/JPS59124019A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0233086A2 (en) * | 1986-02-13 | 1987-08-19 | Sony Corporation | Thin film magnetic head |
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