JPH0253214A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置
に装備される磁気ヘッドに関するものである。

（従来の技術） 従来より斯種磁気ヘッドに於いては、記録密度の向上を
図る為に、第６図及び第７図（ｇ）に示す如く、単結晶
フェライト等の強磁性酸化物からなる一対のコア半体（
１）（１１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟
んで、センダストやアモルファス合金等からなる一対の
強磁性金属層（２０）　（２０）を形成し、磁気ギャッ
プ層（４）のトラック幅方向の両側には、ガラスからな
る非磁性部（３）（３１）を形成してミドラック幅ＴＷ
を規制した複合型の磁気ヘッドが提案されている（例え
ば特開昭６１−２６５７１４［Ｇ１１Ｂ５／１８）】）
。

上記磁気ヘッドの特徴は、強磁性金属層（２０）とコア
半体（１）（１１）との境界面（５１）が磁気ギャップ
形成面に対して非平行、即ち曲面に形成されていること
であり、これによって境界面’（５１）が擬似ギャップ
となることを回避している。

第６図に示す従来の磁気ヘッドの製造工程を第７図（ａ
）〜（ｇ）に基づいて説明する。

第６図（暑）に示す如く、強磁性酸化物の基板〈１２）
の表面に、エツチング或は回転砥石による溝加工を施し
て、多数の円弧溝（１７）をトラック幅よりも狭いピッ
チで形成する。

次に、同図（ｂ）の如く基板（１２）の表面に強磁性金
属薄膜（２８）をスパッタリングにより所定厚さに形成
した後、同図（ｃ）の如く、強磁性金属薄膜（２８）の
表面を平面に研磨する。

その後、同図（ｄ）の如く、トラック幅規制溝（１３）
を凹設することによって、トラック幅ＴＷに一致する幅
の凸条を繰り返し形成する。

更に同図（ｅ）に示す如く、トラック幅規制溝（１３）
にガラス（３２）を充填した後、その表面は鏡面研磨を
施し、ブロック半体（６０）ｊ製造する。

次に同図（ｆ）の如く、上記工程を経た一対のブロック
半体（６０）　（６０）の一方に、巻線用溝（８）及び
ガラス溝（９）を凹設した後、両ブロック半体（６０）
（６０）を非磁性層り４１）を介して互いに溶着し、ヘ
ッドブロック（７０）を製造する。

最後に、上記ヘッドブロック（７０）を図中ａ−ａ線及
びａ’−ａ’線に沿ってスライスし、更に磁気テープと
の摺接面を曲面に研磨することによって、同図（ｇ）及
び第６図に示す磁気へラドチップが完成する。

（解決しようとする課題） ところが、第７図に示す磁気ヘッド製造方法に於いては
、同図（ｄ）の如くトラック幅規制溝（１３）を回転砥
石等によって切削加工する際、被剛性の異なる強磁性金
属薄膜（２８）と基、板（１２）とを同時に加工する必
要があるから、切削条件の最適設定が困難であり、この
結果、加工時に強磁性金属薄膜（Ｚ８）が基板（１２）
から剥離することがあった。該剥離は、最終的に磁気ギ
ャップ層（４）のトラック幅に影響を及ぼすから、歩留
りの低下を招来する。

本発明の目的は、製造時に、強磁性金属薄膜（２８）が
磁気ギャップ層の近傍箇所にて剥離することのない磁気
ヘッドの構造及び製造方法を提供することである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドに於いて、磁気ギャップ層（４
）の両側に配置される強磁性金属層（２）は、磁気ギャ
ップ層（４）の両側に磁気ギャップ層り４）に沿って形
成されたトラック幅形成部（２１）と、各トラック幅形
成部（２１）の両端より磁気ギャップ層（４）から離れ
る方向へ延びコア半体（１）（１１）と非磁性部（３）
（３１）との間に介在する境界層（２２）　（２３）と
から構成される。

又、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、強磁性酸化
物からなる基板（１２）の表面（溝加工面）に、一定ピ
ッチで溝加工を施し、幅ＴＷ’がトラック幅ＴＷよりも
偏かに狭く且つ頂部端面（１４）が溝加工面に対して傾
斜した複数の凸条（１５）を形成する工程（第２図（ａ
）（ｂ））と、 前記工程を経た基板（１２）の表面に対し、真空薄膜形
成技術による強磁性金属の成膜を施して、前記凸条（１
５）の両側壁での膜厚の和が凸条（１５）の幅ＴＷ’と
トラック幅ＴＷの差に一致する強磁性金属薄膜（２６）
を、基板の全表面に形成する工程（第２図（ｃ）（ｄ）
）と、 前記強磁性金属薄膜（２６）の表面の凹部に非磁性資材
を充填した後、該非磁性資材の形成面を研磨し、高い平
面度の接合面（６１）を具えたブロック半体（６）を製
造する工程（第２図（ｅ））と、前記工程を経た一対の
ブロック半体（６）（６）を、磁気ギャップ層となる非
磁性層（４１）を挟んで互いに同一位相にて接合一体化
し、ヘッドブロック（７）を製造する工程（第２図（ｆ
））と、 前記ヘッドブロック（７）を基板（１２）のトラック幅
規制溝（１３）に沿って凸条（１５）毎にスライスし、
磁気ギャップ層（４）偽両側に強磁性金属層（２）（２
）を具えた磁気へラドチップを製造する工程（第２図（
ｇ）） とから構成される。

（作用及び効果） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法に於いて、第２図（
ａ）（ｂ）に示す溝加工工程は、強磁性酸化物の基板（
１２）に対する加工のみであるから、最適な加工条件の
設定が可能であり、これによって高い加工精度が得られ
る。

又、第２図（ｄ）に示す成膜工程に於いて、強磁性金属
薄膜（２６）の膜厚は、真空薄膜形成技術による蒸着時
間の調整等によって容易に制御出来るから、凸条（１５
）両側部に形成された金属薄膜（２６）の全幅を、正確
にトラック幅ＴＷに一致せしめることが可能である。

第２図＜ｆ＞に示すスライス工程に於いて、強磁性酸化
物の基板（１２）と強磁性金属薄膜（２６）とが同時に
切断されるが、該切断加工の際に強磁性金属薄膜（２６
）の剥離が起こったとしても、これによって磁気ギャッ
プ部のトラック幅に影響はなく、所定の性能を発揮する
磁気ヘッドが得られる。

又、本発明に係る磁気ヘッドは、上記方法により容易に
製造出来、これによって歩留りの向上に寄与出来る。こ
の際、基板（１２）が最終的にコア半体（１）（１１）
となり、強磁性金属薄膜（２６）が強磁性金属Ｎ（２）
となり、非磁性層（４１）が磁気ギャップ層（４）とな
り、更に非磁性資材が非磁性部（３）（３１）となる。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

本発明に係る磁気ヘッドは、第１図及び第２図（ｇ）に
示す如く、強磁性酸化物からなる一対の磁気コア半体（
１）（１１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟
んで一対の強磁性金属層（２）（２）を形成している。

コア半体（１）（１１）の磁気ギャップ層（４）寄りの
端部には、細幅の凸部（１０）が夫々形成され、該凸部
（１０）の両側面（１０ａ）　（１０ｂ）は磁気ギャッ
プ層（４）の形成面に対して直交している。

磁気ギャップ層（４）は、コア半体（１）（１１）の主
面（図中の上下面）に対する直交面から所定のアジマス
角度θだけ傾き、前記直交面に沿う方向の幅ＴＷがトラ
ック幅に一致している。

又、磁気ギ・ヤップ層（４）のトラック幅方向の両側に
は非磁性部（３）（３１）を形成して、トラック幅を規
制している。

強磁性金属層（２）は、磁気ギャップ層（４）の両側に
磁気ギャップ層、（４）に沿って形成されたトラック幅
形成部（２１）と、各トラック幅形成部（２１）の両端
より磁気ギャップ層（４）から離れる方向へ延びコア半
体（１）（１１）と非磁性部（３）＜３１）との間に介
在する境界層（２２）　（２３）とから構成される強磁
性金属層（２）とコア半体（１）（１１）との境界面（
５）（５’）は、磁気ギャップ形成面に対して所定角度
αだけ傾斜しており、これによって擬似ギャップ部の発
生を回避している。

上記磁気ヘッドの製造方法を第２図（ａ）〜（ｇ）に沿
って説明する。

第２図（ａ）に示す如く、強磁性酸化物からなる基板（
１２）の表面（溝加工面）に、一定ピッチでトラック幅
規制溝（１３）を凹設して、幅ＴＷ”がトラック幅ＴＷ
よりも僅かに狭い複数の凸条（１５）を形成し、その後
、同図（ｂ）の如く各凸条（１５）の頂部を研磨し、て
、基板（１２）主面に対して前記角度αだけ傾いた端面
（１４）を形成する。

尚、凸条（１５）の両側面（１５ａ）（１５ｂ）は夫々
、溝加工面に対して直交し、最終的に前記コア半体（１
）（１１）の凸部（１０）の両側面＜１０ｍ）　（１０
ｂ）になるものである。

上記トラック幅規制溝（１３）及び頂部端面（１４）は
、同図（ｂ）に示す最終的な溝形状に応じた刃先形状の
回転砥石を用いて、−度に形成することも可能であり、
又、頂部端面（１４）を形成した後に、トラック幅規制
溝（１３）を凹設することも可能である。

次に、前記加工工程を経た基板（１２〉を周知のスパッ
タリング装置に装着１７て、第２図（ｃ）の如く基板（
１２）の斜め上方に配置した一対のターゲット（２７）
から基板（１２）表面に対して、強磁性金属のスパッタ
リングを施す。

この結果、第２図（ｄ）に示す如く基板（１２）の表面
には、全面に強磁性金属薄膜（２６）が形成される。

図中Ａの部分を拡大して第２図（ｄ′）に示す９図示の
様に、トラック幅規制溝（１３）の底面と凸条（１５）
の頂部端面（１４）には、比較的厚い強磁性金属薄膜（
２６）が形成されるが、凸条（１５）の両側壁において
は、スパッタリング角度が小さくなるため、強磁性金属
薄＊　（ｚｅ）は薄いものとなる。

ここで、凸条（１５）の両側に形成された強磁性金属薄
膜（２６ａ）（２６ａ）の全幅ＴＷが、最終的に磁気ヘ
ッドのトラック幅となるため、各強磁性金属薄膜（２６
ａ）の膜厚ｔ２を、 ｔ２＝（’ｒｗ′−ＴＷ）／２ なる値に規定する必要がある。この為、本実施例では、
予めスパッタリング時間と膜厚ｔ２の関係を調べ、スパ
ッタリング時閏を制御することによって、所定の膜厚ｔ
２を得る。

尚、後記工程（第２図（ｅ））にて、第２図（ｄ′）中
の一点鎖線の位置まで鏡面研磨が施されるため、強磁性
金属薄膜＜２６）のトラック幅規制溝（１３）深さ方向
に沿う膜厚ｔ、は、 ｔ、＞ＴＷ　−ｔａｎＵ なる関係を満たす必要がある。

次に第２図（す）に示す如く、強磁性金属薄膜＜２６）
の表面の凹部にガラス（３２）を充填した後、その表面
に鏡面研磨を施し、高い平面度の接自面（６１）を具え
たブロック半体（６）を製造する。

前記工程を経て製造された一対のプロ・ンク半体（６）
（６）の一方に、第２図（ｆ）の如く巻線用講り８）及
びガラス溝（９）を凹設した後、両ブロック半体（６）
（６）をガラスからなる非磁性層（４１）を介し”ζ図
示の如く同一位相で突き合わせ、更に前記ガラス溝（９
）にガラス棒を挿入した状態で加熱炉に収容し、両ブロ
ック半体（６）（６）を互いに溶着一体化する。

上述の様にして得られたヘッドブロック（７）に対して
、図中のａ−ａ線及び＠’−ａ’線に沿うスライス加工
を施し、更に磁気テープとの摺接面を曲面に研磨するこ
とにより、第１図及び第２図録）に示すヘッドチップが
完成する。

上記製造方法によれば、第２図（ａ）に示す溝加工工程
に於いて、凸条（１５）の両側面（１５ａＨ１５ｂ）は
夫々、溝加工面に対して直交しているから、砥石の切込
み量に誤差が生じても、幅ＴＷ′には無関係である。従
って、その後の成膜工程で所定厚さの強磁性金属薄ＩＩ
Ａ（２６）を形成すれば、極めて精度の高いトラック幅
が得られる。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するｔ〕め
のものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し
、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。

ス、本発明の各部構成は上記実施例に限？）ず、特許請
求の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能であ
ることは勿論である。

例えば、第２図（ｂ）に示す頂部端面（１４）の形状を
変えることにより、第３図、第４図及び第５図に示す如
く、境界面（５）の形状がｖ字状、逆Ｖ字状、或は曲面
状の磁気ヘッドの製造が可能であり、これらの磁気ヘッ
ドによっても上記同様の効果を得ることが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの拡大平面図、第２図
は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を示す工程図、第
３図乃至第５図は夫々磁気ヘッドの他の構成例を示す平
面図、第６図は従来の磁気ヘッドの平面図、第７図は従
来の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］強磁性酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）
   （１１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟んで
   一対の強磁性金属層（２）（２）を形成し、強磁性金属
   層（２）とコア半体（１）（１１）との境界面（５）が
   磁気ギャップ形成面に対して傾斜し、磁気ギャップ層（
   ４）のトラック幅方向の両側部には非磁性部（３）（３
   １）を形成して、トラック幅を規制している磁気ヘッド
   に於いて、強磁性金属層（２）は、磁気ギャップ層（４
   ）の両側に磁気ギャップ層（４）に沿って形成されたト
   ラック幅形成部（２１）と、各トラック幅形成部（２１
   ）の両端より磁気ギャップ層（４）から離れる方向へ延
   びコア半体（１）（１１）と非磁性部（３）（３１）と
   の間に介在する境界層（２２）（２３）とから構成され
   ることを特徴とする磁気ヘッド。 ［２］強磁性酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）
   （１１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟んで
   一対の強磁性金属層（２）（２）を形成した磁気ヘッド
   の製造方法であつて、 ａ）強磁性酸化物からなる基板（１２）の表面（溝加工
   面）に、一定ピッチで溝加工を施し、幅ＴＷ′がトラッ
   ク幅ＴＷよりも僅かに狭く且つ頂部端面（１４）が溝加
   工面に対して傾斜した複数の凸条（１５）を形成する工
   程と、 ｂ）前記工程を経た基板（１２）の表面に対して真空薄
   膜形成技術による強磁性金属の成膜を施し、前記凸条（
   １５）の両側壁での膜厚の和が凸条（１５）の幅ＴＷ′
   とトラック幅ＴＷの差に一致する強磁性金属薄膜（２６
   ）を、基板の全表面に形成する工程と、 ｃ）前記強磁性金属薄膜（２６）の表面の凹部に非磁性
   資材を充填した後、該非磁性資材の形成面を研磨し、高
   い平面度の接合面を具えたブロック半体（６）を製造す
   る工程と、ｄ）前記工程を経た一対のブロック半体（６
   ）（６）を、磁気ギャップ層となる非磁性層（４１）を
   挟んで互いに同一位相にて接合一体化し、ヘッドブロッ
   ク（７）を製造する工程と、 ｅ）前記ヘッドブロック（７）を基板（１２）のトラッ
   ク幅規制溝（１３）に沿って凸条（１５）毎にスライス
   して、磁気ヘッドチップを製造する工程 とからなる磁気ヘッドの製造方法。