JPS6323210A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドおよびその製造方法Info
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- JPS6323210A JPS6323210A JP16705886A JP16705886A JPS6323210A JP S6323210 A JPS6323210 A JP S6323210A JP 16705886 A JP16705886 A JP 16705886A JP 16705886 A JP16705886 A JP 16705886A JP S6323210 A JPS6323210 A JP S6323210A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
゛ (イ)産業上の利用分野
本発明はVTR等に使用する磁気へ/ドおよびその製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
(ロ)従来の技術
現在家庭用VTRに用いられている慰気デーブはCo−
yFez○3から成るものが主に使用きれているが、8
ミリビデオと称する小型のVTRでは抗磁力の高い(H
c = 1400〜1500エルステツド)メタルテー
プが用いられる。その理由は記録再生装置を小型化する
ためには記録密度を高める必要性のあることがら侶号の
記録波長を短かくすることのできる記録媒体が要求され
てきたためである。
yFez○3から成るものが主に使用きれているが、8
ミリビデオと称する小型のVTRでは抗磁力の高い(H
c = 1400〜1500エルステツド)メタルテー
プが用いられる。その理由は記録再生装置を小型化する
ためには記録密度を高める必要性のあることがら侶号の
記録波長を短かくすることのできる記録媒体が要求され
てきたためである。
一方、このメタルテープに記録する従来のフェライトの
みからなる磁気ヘッドではフェライトの飽和磁束密度が
高々5500ガウス程度であることから磁気飽和現象が
発生するためメタルテープの性姥を十分にいかすことが
できない、そこで磁気飽和現象の最も生じ易い作動ギャ
ップ近傍部分をフェライトよりも飽和磁化の大きな金属
磁性材料(例工ば、パーマロイ、センダスト、アモルフ
ァス)で構成した磁気ヘッドが提案されている0例えば
特開昭60−103511号公報はその1つである。
みからなる磁気ヘッドではフェライトの飽和磁束密度が
高々5500ガウス程度であることから磁気飽和現象が
発生するためメタルテープの性姥を十分にいかすことが
できない、そこで磁気飽和現象の最も生じ易い作動ギャ
ップ近傍部分をフェライトよりも飽和磁化の大きな金属
磁性材料(例工ば、パーマロイ、センダスト、アモルフ
ァス)で構成した磁気ヘッドが提案されている0例えば
特開昭60−103511号公報はその1つである。
第6図は、このような霊気ヘッドを示しており、(la
)(lb)はフェライトコア半体、(2)はS f 0
2膜よりなるギャップスペーサ、(3)は前記金属磁性
材料よりなる金属磁性薄膜、(4)はガラス、(5)は
巻線孔である。
)(lb)はフェライトコア半体、(2)はS f 0
2膜よりなるギャップスペーサ、(3)は前記金属磁性
材料よりなる金属磁性薄膜、(4)はガラス、(5)は
巻線孔である。
斯る磁気ヘッドは従来第7図に示すような方法で製造き
れていた。即ち、同図(a)でフェライト基板(1)に
切r15)を設け、続いて(b)でスパッタリングによ
ってセンダスト膜(6)を設ける。
れていた。即ち、同図(a)でフェライト基板(1)に
切r15)を設け、続いて(b)でスパッタリングによ
ってセンダスト膜(6)を設ける。
ギヤツブ突さ合は面を研磨することによって(C>図の
如く表面の余分なセンダストyg、(6)を除去し、切
溝(5)内にのみそれを残す0次にトラック幅規定溝(
7)を設けるのであるが、これには2通りの方法があり
、研削する場合と、(e゛)のように研削する場合であ
る。(f)は(d)のように研削したものを一対向い合
せて接合した場合を示す。溝(7)には溶着ガラスが施
される。その後、スライス゛することによって単位へメ
トチップを得る。
如く表面の余分なセンダストyg、(6)を除去し、切
溝(5)内にのみそれを残す0次にトラック幅規定溝(
7)を設けるのであるが、これには2通りの方法があり
、研削する場合と、(e゛)のように研削する場合であ
る。(f)は(d)のように研削したものを一対向い合
せて接合した場合を示す。溝(7)には溶着ガラスが施
される。その後、スライス゛することによって単位へメ
トチップを得る。
(ハ) 発明が解決しようとする問題点従来例において
(d)のように研削した場合には、(f’)の接合時に
トラック幅規定溝(7)を相対的にズレきせなければな
らず、溝(7)の精度やトラックヒツチの累稜誤差のた
めにトラックズレが大きくなり、歩留り低下が考えられ
る。
(d)のように研削した場合には、(f’)の接合時に
トラック幅規定溝(7)を相対的にズレきせなければな
らず、溝(7)の精度やトラックヒツチの累稜誤差のた
めにトラックズレが大きくなり、歩留り低下が考えられ
る。
これに対し、(e)のようにトラック幅規定溝(7)を
設けた場合にはトラックズレは起り難いが、センダスト
膜(6)の大部分を削除することになり、加工する回転
砥石の形状が摩耗で変形したり、センダスト膜(6)と
フェライト基板(1)との接合部近傍で引張り応力のた
めにヒビが発生し易いなどの問題がある。
設けた場合にはトラックズレは起り難いが、センダスト
膜(6)の大部分を削除することになり、加工する回転
砥石の形状が摩耗で変形したり、センダスト膜(6)と
フェライト基板(1)との接合部近傍で引張り応力のた
めにヒビが発生し易いなどの問題がある。
(ニ)問題点を解決するための手段
そこで本発明は、ギャップスペーサを挾んで対向するフ
ェライトコアの対向面にセンダスト材を施してなる磁気
ヘッドについて、前記フェライトコアは前方から後方に
向けて走る複数のコアを接合して形成したものを提案し
、その製造は特許請求の範囲第1項の構成によって行な
う。
ェライトコアの対向面にセンダスト材を施してなる磁気
ヘッドについて、前記フェライトコアは前方から後方に
向けて走る複数のコアを接合して形成したものを提案し
、その製造は特許請求の範囲第1項の構成によって行な
う。
(ホ)作用
上記の構成により、センダスト材の部分を研削する量が
少なくなる。従って回転砥石の形状が摩耗で変形する度
合いが小きくなる。接合する2っの積属ウェハのトラッ
ク位置は互いに第7図(d)(f’)の場合とは相違し
、隣接トラック部分同士でなく、対向トラック部分同士
でよい。
少なくなる。従って回転砥石の形状が摩耗で変形する度
合いが小きくなる。接合する2っの積属ウェハのトラッ
ク位置は互いに第7図(d)(f’)の場合とは相違し
、隣接トラック部分同士でなく、対向トラック部分同士
でよい。
くべ)実施例
第2図〜第5図は本発明方法を示し、第1図はそれによ
って製造された磁気へ/ドを示す。
って製造された磁気へ/ドを示す。
第2図(a)で超鏡面研磨されたフェライトウェハ(1
0)に逆五角形状(例えば野琢のホームベース形、将棋
の駒形)の断面形状を有する研削溝(11″Aを設ける
。研削溝(11)をこのような形状にする理由は回転砥
石の刃先を整形して研削溝の断面形状を三角形にした場
合には砥石の摩耗に応して研削溝幅が次第に小さくなり
、それによって後の工程でトラックになる部分の寸法に
バラツキが生じ易いが、刃厚が研削溝幅を決定するよう
な場合には゛、比較的バラツキが生じ難いからである。
0)に逆五角形状(例えば野琢のホームベース形、将棋
の駒形)の断面形状を有する研削溝(11″Aを設ける
。研削溝(11)をこのような形状にする理由は回転砥
石の刃先を整形して研削溝の断面形状を三角形にした場
合には砥石の摩耗に応して研削溝幅が次第に小さくなり
、それによって後の工程でトラックになる部分の寸法に
バラツキが生じ易いが、刃厚が研削溝幅を決定するよう
な場合には゛、比較的バラツキが生じ難いからである。
次に(a)図の破線(12)で示す部分、即ちtI記研
削溝〈11)の近傍において、研削溝(11)に沿った
部・分にカッターを作」させて(b)図の如く複数の単
位フェライトウェハ(10a)に分断する。
削溝〈11)の近傍において、研削溝(11)に沿った
部・分にカッターを作」させて(b)図の如く複数の単
位フェライトウェハ(10a)に分断する。
(C)では、前記単位フェライトウェハ(10a)の切
断面に研磨を施して研削溝(11)の中央に至るまでの
部分を研磨落しする。その際、トラック幅よりも(a)
の寸法が10μm程度大きくなるように研磨して厚みを
揃える。これは精度よくトラック幅規定溝加工を行なう
ためにはトラックピッチの精度が良くなければならず、
一方トラックピッチの精度には(y)の寸法精度が影響
するが、(C)図のような形状を切断によっていきなり
得ることはできないからである0次に(d)図において
、斜線部分(13)に高融点ガラス膜をマスクスパッタ
リングによって設ける。
断面に研磨を施して研削溝(11)の中央に至るまでの
部分を研磨落しする。その際、トラック幅よりも(a)
の寸法が10μm程度大きくなるように研磨して厚みを
揃える。これは精度よくトラック幅規定溝加工を行なう
ためにはトラックピッチの精度が良くなければならず、
一方トラックピッチの精度には(y)の寸法精度が影響
するが、(C)図のような形状を切断によっていきなり
得ることはできないからである0次に(d)図において
、斜線部分(13)に高融点ガラス膜をマスクスパッタ
リングによって設ける。
このように形成した単位フェライトウェハ(10a)を
(e)図の如くアジマス角(VH3方式の場合6°)よ
りも充分大きな角度θ(例えば30°〜45@)で傾斜
させて重ね合せ積層し、前記ガラス膜を加熱処理で溶着
させる0次に、研削溝(11)に臨む角部(14)を結
ぶ仮想点線(15)に沿って積層ウェハ(16〉の一端
を切断すると共に他端を凹凸のない平面状になすべく点
!1!(17)に沿って切断する。
(e)図の如くアジマス角(VH3方式の場合6°)よ
りも充分大きな角度θ(例えば30°〜45@)で傾斜
させて重ね合せ積層し、前記ガラス膜を加熱処理で溶着
させる0次に、研削溝(11)に臨む角部(14)を結
ぶ仮想点線(15)に沿って積層ウェハ(16〉の一端
を切断すると共に他端を凹凸のない平面状になすべく点
!1!(17)に沿って切断する。
次に、前記加工を施した積層ウェハ(16)を(f)図
の如く切削溝(11)が垂直になるようにスパッタ装置
にセットし、(I)の方向からセンダスト材をスパッタ
リングする。(g)図はスパッタリング後の切断近傍を
示す。
の如く切削溝(11)が垂直になるようにスパッタ装置
にセットし、(I)の方向からセンダスト材をスパッタ
リングする。(g)図はスパッタリング後の切断近傍を
示す。
実際には(f’)図のような配置状態では(g)図のよ
うに切削溝(11)中にセンダスト(18)が堆積しに
くく、入口のみに堆積して切削溝(11)を閉奉する状
態になる。(f)図において、(I[)の方向からスパ
ッタリングするような状態に積着ウェハ(16)をセ7
卜すると、センダスト材(18)は第3図(a)に示す
ような形になる。このように研削溝(11)に完全に堆
積してない部分は後工程でトラック幅規定溝を設けるの
で問題はない。
うに切削溝(11)中にセンダスト(18)が堆積しに
くく、入口のみに堆積して切削溝(11)を閉奉する状
態になる。(f)図において、(I[)の方向からスパ
ッタリングするような状態に積着ウェハ(16)をセ7
卜すると、センダスト材(18)は第3図(a)に示す
ような形になる。このように研削溝(11)に完全に堆
積してない部分は後工程でトラック幅規定溝を設けるの
で問題はない。
第2図(g)又は第3図(a)に示すように堆積され°
たセンダストのうち不要な部分は点線(20)まで研磨
することによって除去される。
たセンダストのうち不要な部分は点線(20)まで研磨
することによって除去される。
次に第3図(b)において点、II(19’)に沿って
トラック幅規定溝(19)を設ける。このとき、(b)
図に示す第1、第2積層ウェハ(16A)(16B)は
その突合せ面が同一平面になるように並置され、同時に
トラック幅規定溝(19)を形成する。その際、少くと
も一方の積層ウェハには第4図に示すように巻線孔(2
1)とガラス溝〈22)の研削を行なう、また、一方の
積層ウェハ[図示の場合は第1積洒ウエハ(16A>]
には5iOzよりなるギャップスペーサ膜を設ける。こ
のように溝加工等を行なった第1、第2積層ウェハ(1
6A)(16B)は第3図(b)のように互いに対向さ
れ、且つ低融点ガラスを用いた周知の方法で接合される
。このようにして形成された積層ウェハの合体物は次に
ブロック単位に分断されて、各ブロックごとにR付は研
磨が旌される。
トラック幅規定溝(19)を設ける。このとき、(b)
図に示す第1、第2積層ウェハ(16A)(16B)は
その突合せ面が同一平面になるように並置され、同時に
トラック幅規定溝(19)を形成する。その際、少くと
も一方の積層ウェハには第4図に示すように巻線孔(2
1)とガラス溝〈22)の研削を行なう、また、一方の
積層ウェハ[図示の場合は第1積洒ウエハ(16A>]
には5iOzよりなるギャップスペーサ膜を設ける。こ
のように溝加工等を行なった第1、第2積層ウェハ(1
6A)(16B)は第3図(b)のように互いに対向さ
れ、且つ低融点ガラスを用いた周知の方法で接合される
。このようにして形成された積層ウェハの合体物は次に
ブロック単位に分断されて、各ブロックごとにR付は研
磨が旌される。
第5図はその1つのブロックの前面を示しており、(2
3)は低融点ガラスを示す、このブロック、(24)は
点*(2s)に沿ってスライスされ、各ヘッドチップ単
位に分断される。
3)は低融点ガラスを示す、このブロック、(24)は
点*(2s)に沿ってスライスされ、各ヘッドチップ単
位に分断される。
第1図は完成したヘッドチップ(26)を示すが、図の
ように磁路面が斜めに積層されていることになるので、
第2図(a)のフェライトウェハ(10)が単結晶フェ
ライトの場合には第2図(e)に示す角度0分だけ結晶
方位をずらせる必要がある。
ように磁路面が斜めに積層されていることになるので、
第2図(a)のフェライトウェハ(10)が単結晶フェ
ライトの場合には第2図(e)に示す角度0分だけ結晶
方位をずらせる必要がある。
(ト)発明の効果
本発明によれば第3図(b)の点線(19’)に示すよ
うにセンダスト膜(18)の部分を研削する量が第7図
(e)の従来例に比して減少するために回転砥石の形状
がli耗で変形する度合いが小さくなるという効果があ
る。また、センダスト材とフェライトの接合部近傍でヒ
ビが発生しないという効果も享受できる。更に、第7図
(d)の場合は同図(「)のようにもう一方のフェライ
トウェハと対向接合する際に、互いに隣接するトラック
部分を対向接合しなければならないのでトラックのズレ
量が問題となったが、本発明によれば対向接合する2つ
ノ積層ウェハは互いに隣接するトラック部分でなく対向
する部分を対向接合できるので、トラックのズレ量を相
対的に小さくできる。
うにセンダスト膜(18)の部分を研削する量が第7図
(e)の従来例に比して減少するために回転砥石の形状
がli耗で変形する度合いが小さくなるという効果があ
る。また、センダスト材とフェライトの接合部近傍でヒ
ビが発生しないという効果も享受できる。更に、第7図
(d)の場合は同図(「)のようにもう一方のフェライ
トウェハと対向接合する際に、互いに隣接するトラック
部分を対向接合しなければならないのでトラックのズレ
量が問題となったが、本発明によれば対向接合する2つ
ノ積層ウェハは互いに隣接するトラック部分でなく対向
する部分を対向接合できるので、トラックのズレ量を相
対的に小さくできる。
第1図は本発明を実施した磁気ヘッドの斜視図、であり
、第2図、第3図、第4図および第5図は本発明の製造
方法を示す図である。第6図は従来の磁気ヘッドの斜視
図であり、第7図はその製造方法について示す図である
。 (10)・・・フェライトウェハ、(10a)・・・単
位フェライトウェハ、(11)・・・研削溝、(18)
・・・センダスト材、(19)・・・トラック幅規定溝
、(21)・・・巻線溝、(23)・・・ガラス。
、第2図、第3図、第4図および第5図は本発明の製造
方法を示す図である。第6図は従来の磁気ヘッドの斜視
図であり、第7図はその製造方法について示す図である
。 (10)・・・フェライトウェハ、(10a)・・・単
位フェライトウェハ、(11)・・・研削溝、(18)
・・・センダスト材、(19)・・・トラック幅規定溝
、(21)・・・巻線溝、(23)・・・ガラス。
Claims (2)
- (1)フェライトウェハに逆五角形状の研削溝を施こす
工程と、前記ウェハを前記研削溝の近傍において前記研
削溝に沿って切断する工程と、前記切断により設けられ
た単位フェライトウェハの前記切断面を研削溝の中央に
至るまで研磨する工程と、前記研摩加工を経た複数の単
位フェライトウエハをアジマス角度よりも充分大きな角
度で傾斜して重ね合せると共に接合する工程と、このよ
うに形成された積層ウェハの一端を前記研削溝に臨む各
々の角部を結ぶ仮想線に沿って切断する工程と、前記各
切削溝に対し所定の角度をもつ方向からセンダスト材を
スパッタリングする工程と、センダスト材が被着された
面を前記研削溝のみにセンダスト材が残るように研磨す
る工程と、ギャップスペーサ膜を形成する工程と、しか
る後表面のセンダスト材の間を内部に向けて切取る形で
トラック幅規定溝を研削する工程と、一対の積層ウェハ
をその少くとも一方に巻線溝を設けセンダスト充填研削
溝の傾斜方向が逆になるよう対接させ且つトラック部の
位置を合せた状態で接合する工程と、しかる後ブロック
に切断すると共に溶着ガラスを施こす工程と、前記ブロ
ックをスライスしてヘッドチップ単位を取り出す工程と
からなる磁気ヘッドの製造方法。 - (2)ギャップスペーサを挾んで対向するフェライトコ
アの対向面に センダスト材を施してなる磁気ヘッドにおいて、前記フ
ェライトコアは前方から後方に向けて走る複数のコアを
接合してなることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16705886A JPS6323210A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16705886A JPS6323210A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6323210A true JPS6323210A (ja) | 1988-01-30 |
Family
ID=15842619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16705886A Pending JPS6323210A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6323210A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0512616A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-22 | Sharp Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP16705886A patent/JPS6323210A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0512616A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-22 | Sharp Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
JP2669965B2 (ja) * | 1991-07-04 | 1997-10-29 | シャープ株式会社 | 磁気ヘッドの製造方法 |
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