JPS62192909A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特にメタルテー
プなどの高抗磁力の磁気記録媒体に対して信号を記録・
再生するのに好適な磁気ヘッドの製造方法に関する。 （従来の技術） 近年、ビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）の高性能化およ
び超小型化の実現のために磁気記録媒体として、例えば
メタルテープなど高抗磁力（Ｈｅ）の磁気テープを用い
ることが必要とされていることは周知のことである。そ
して、これに対応する磁気ヘッドとしては、高周波領域
において高い透磁率４右Ｊることが必要どされている。 また、高い飽和磁束密度（Ｒｓ　）を実現でさる磁気ヘ
ッドとしてはセンダス１−（登録商標）、アモルファス
合金などの金属磁竹拐料が、また、高周波領域において
高い透ｔｉｉｌ率を右Ｊる磁気ヘッドとしてはフ■ライ
Ｉ−などの酸化物系（ａ　（！１月利が知られている。 ところぐ、従来Ｖ　Ｔ’　Ｒに使用されている磁気ヘッ
ド１２のへッドーコア１７は、第７図（ｆ）に示す如く
、−ノ■ライトから成る一対の］７半体１３゜１４を磁
気ギャップ１６を介し−Ｃｎいに接合した構成となつ−
Ｃいる。なお、１０．１０は磁気ギャップ１６のギトツ
プ幅を規制ηる。Ｊ１４．ｉｆ性拐（例えばＳｉＯ２ヤ
）△（１２０３’、７と）、１８は］ア半体１３の接合
面側に形成された巻線窓１１うに巻回されたコイルであ
る。 そして、上記磁気ヘッド」ア１２の製造り法とし−Ｃは
、第７図（ａ）〜（ｆ’）に示すように、まず同図（ａ
＞の如く、例えばＭｎ−Ｚｎ）１−ライ１へなどの高透
磁率磁ｆ口Ａわ１を所定形状に切断して直り体の第１の
一１アブ目ツク１を形成し、この−」アブ［］ツク１の
接合面となる１面を鏡面研磨した後、この鏡面研尼面と
ｊ−／’　ｔ　ｔｉ面側の而の角に切欠き溝２を長ｆ方
向に沿つ−Ｃ形成づると共に、この満２と略平行に巻線
窓どなる満３をω１磨加十によりイれぞれ形成する。ま
た、二１アＩｏツク１の台溝２，３に対しで直交するｈ
向に一定の間隔を保つＣ複数の凹溝４，４を８満２，３
に跨るよう薄肉のダイアモンドブレードを使用したダイ
シングソーなどの機械的加ＦによつＣ形成する。なお、
この凹溝４．４の形状は、イの深さが白方体の］７ブ］
１ツク１の切欠き溝２側の端部より溝３に向かう部分が
浅＜４「るようテーパ状に形成され−（いる。 −１）、第７図（ｂ）に示す如く、例えばＭｎ−Ｚｎノ
エライトなどの高透磁率ｔａ竹月別を所定形状に切断し
−Ｃ１上記第１の］’７７ブ目ツク１と同様に直方体の
第２の］コアブロックを形成し、この」アブロック５の
接合面どなる上面を鏡面研磨した後、第１のコアブロッ
ク１の溝２おにび凹溝４゜４と同様な溝６と凹溝７，７
をそれぞれ形成する。 次に、第７図（Ｃ）に示す如く、」アブ［１ツク１の上
面の凹溝４，１１間の平坦面に、ギャップスペーサとな
る、例えば５ｉＯ−Ｏｒなどのサーメット、り

【コム金
属、ＳｉＣなどのカーバイト系化合物、混合酸化物のマ
グネシア、アルミノ−、ヂタニア等のガラス質以外の比
較的高融点で高硬度の非磁性相別を用いてスパッタリン
グなどの薄膜形成手段によって磁気ヘッドのギャップ幅
となる厚さｑの薄膜層８を形成する。また、溝３を境に
薄膜層８を形成した平坦面と反対側の直方体のブロック
１の−に面の平坦面に、厚さがｑ以下の低軟化点のガラ
ス薄膜層９をスパッタリングなどによって形成する。な
お、このガラス簿膜層９は、コアブロック１と」アブロ
ック５どを接合する際の接着剤として機能するものであ
る。 そして、上記第７図（ｂ）および同図（Ｃ）の如く形成
したコアブロック１．５を第７図（ｄ）に示づ如く、そ
の各凹溝１．７が正確に一致するよう万いに突合せ、満
２と溝６とによって形成される凹溝１９にガラス薄膜層
９の低軟化点ガラスの軟化点より、例えば１００度程高
い比較的低軟化点の棒ガラス１０を配置し、両」アブロ
ック１゜５の両側から加圧しながら不活性ガス中で棒ガ
ラス１０の作業点付近の温度に加熱する。この加熱によ
り、凹溝１９内の棒ガラス１０は凹溝４，７内に充填さ
れ、この軟化したガラス１０およびガラス薄膜層９にに
って両コアブロック１，５はｂいに接着されて、第７図
（ｅ）に示す如くの複合ブロック１１を得る。ぞして、
この複合ブロック１１を一点鎖線および二点鎖線で示す
仮想線に沿って切断づ゛ると、第７図（ｆ）に示す如く
の磁気ヘッド１７を形成することができる。 また、第８図に示す磁気ヘッドは薄膜磁気ヘッドであり
、この薄膜磁気ヘッド２０は、基板１９上に軟磁性体よ
りなる薄膜コア２１と導電材よりなるパターンニングさ
れた簿膜コイル２２とを配置してなり、この薄膜コイル
２２は同−星板上に形成されたワイヤーボンディング川
のパッド２３ａ、２３ｂに接続されている。 そして、このパッド２３ａ、２３ｂに信号電流を通電す
ることにより薄膜］イル２２を、介して薄膜磁気ヘッド
２０に信号電流が供給されこれにより記録媒体に磁気記
録が行なわれる構成どなっている。なお、同図において
、２４は薄膜磁気ヘッド２０に信号電流を供給するフレ
４−シブル旦板であり、また、２５はボンディング用の
バッド２３ａ、２３ｂとフレキシブル基板２４とを電気
的に接続するワイヤである。 〈発明が解決しようとする問題点） ところで、第７図に示した磁気ヘッド１２はその製造工
程において、トラック幅を規制する凹溝４．７を形成す
る際に、グイＡ７モンドブレードを用いたダイヤモンド
ソーｔ「どの機械的手段によって行なわれるため、トラ
ック幅はせいぜい２０〜３０μｍ程度のものが限度であ
る。そこで、トラック幅寸法をこれ以上狭く、例えば２
０〜３０μ０１以下に加工しようとすると、カケやデツ
ピングなどが起って、加工精度上その作業が困ガである
ばかりか材料の歩留まりが悪くなり、高密度記録および
量産化は不可能である。 また、第８図に示す薄膜磁気ヘッド２０においては、製
造に際してトラック幅の形成はフォトレジスト工程によ
り３０μｍ以下も可能であるが、コアの厚みを３０μｍ
程度に常に維持することがパターン精度とのかね合いて
困難であり、このためコアの磁束効率が悪く磁気飽和し
易いなど他の面での問題点が発生して、ＶＴＲの磁気ヘ
ッドとしての実用化が困難であるなど各種の問題点があ
った。 また、メタルテープに対応するための磁気ヘッドを構成
するために、第７図に示した如くの磁気ヘッド１２のギ
ャップ部近傍に、このギャップ１６を介してセンダスト
などの高い飽和磁束密度を有する磁性材料を接合したよ
うな磁気ヘッドが提案されているが、このものはセンダ
ストとフェライトとの接合面が疑似ギャップとなり易＜
Ｓ／Ｎが悪くなったり、また高い飽和磁束密度を有する
センダストを使用しているにも拘らずこれとフェライト
との接合面積を大きくすることができないため、センダ
ストよりフェライトが先に磁気飽和してしまい、かつ製
造上において量産化が困九であるなどの問題点がある。 （問題点を解決するための手段） 本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり
、フェライトなどの高周波領域で高い透磁率を右する磁
性材料からなる第１、第２のコアブロック半体の接合面
と直交する側面に、前記接合面と所定の角度を右する複
数の溝部を形成する工程と、前記複数の溝部内の一側面
にトラック幅となるセンダストなどの強磁性薄膜を形成
する工程と、前記複数の溝部内に比較的融点の高い低軟
化点ガラス材を充填して加熱する工程と、前記第１、第
２のコアブロック半体の強磁性体側に近接してトラック
幅を規制するための切欠溝を形成すると共に、少なくと
も第２のコアブロック半体の接合面側の長手方向に巻線
溝を形成する工程と、前記第１、第２のコアブロック半
体の強１０性体同志がηいに対向するよう接合面の少な
くとも一方に形成したギャップを介して互いに接合し、
前記第２のコアブロック半体の巻線溝内に前記低軟化−
８一 点ガラス材より軟化点の低い低軟化点ガラス材を充填し
て加熱・接着してコアブロック体を形成する工程と、前
記コアブロック体を接合面と直交する方向に切断して磁
気へッドコアを得る工程とよりなることを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法を提供するものである。 （実　施　例） 第１図（ａ）〜（Ｃ１）は本発明になる一磁気ヘッドの
製造工程を示したものであり、まず、同図（ａ）に示す
如く、例えばＭｎ−７ｎフエライトなどの金属酸化物磁
性体からなる直方体のコアブロック３０を用意してその
上面３０ａを鏡面研磨した後、同図（ｂ）に示すように
、側面３０ｂに対して垂直で、かつその研磨面３０ａに
対して所定の角度θ（実施例ではθ−４５°）を有する
深さ寸法がｄ　（ｄ　＝　０．２−０．５ｍｍ）なる複
数の溝部３１、・・・３１をダイシングソーなどによっ
て形成する。そして、各溝部３１．・・・３１の一側面
３１′に、例えばＦｅ−Ａｊ！−８ｉの合金であるセン
ダスト（登録商標）あるいはアモルファスなどの強磁性
薄膜３２をスパッタリングおＪ、び真空蒸盾などの薄膜
形成手段によ−）で２０・〜３０μｍの厚みに形成する
。（この状態を第２図に拡大して示−１）この薄膜形成
手段ｒｕ、第４図に示す如く、複数個＋７’）ニー】１
７０ツ’）３０．３０（ｒ）％部３１が７ｑイに重なら
ないようにこれらを治具Ｌ　ｌに階段状に積層した状態
で、各］アブ１］ツク３０．３０の渦部３１の一側が矢
印で示づ一スパッタ方向に向くようにスパッタリング装
置内に溝部３１の角度θと同じ角度Ｃ配置することによ
り、スパッタ１パツプで多くの二コアーゾ］−１ツク３
０，３０の溝３１，３１の−・側３１′に効率良く強１
ｉ１！竹薄膜３２の形成が可能となり、作業効率が増加
する。 イして、同第２図の要部拡大図に示づ如く、その強磁性
薄膜３２の土に、後工程のガフス材の充填・加熱作業に
おいて、ガラスのメレ性を良くする意味ｒ−３ｉ０７、
△１２０３などの酸化物やＣｒ、’７−ｉなどの金属薄
膜からなるｕｌ磁竹膜３３を、例λば０，１・−・３ｆ
１ｍの厚みでスパッタリングなどによって形成４る。 （）かる後、第１図（ｄ）に示寸よう（、二各満３１．
３１内（こ比較的に溶融温度の高い低軟化点のカラス３
４を充填し、窒素ガスへどの不活性ガスの雰囲気中で加
熱して一１アブ［」ツク１体３０△、３０Ｂを得る。 そして、同図（ｅ）に示ｔＪ、うに両１１アブ［１ツク
゛１（体３ＯＡ、３０Ｂの強磁性薄膜３２側を所定の深
さにダイシングソーなどによ−）−（ぞれぞれ切欠漏３
５　＋　３５を形成して強磁性薄１１４！３２に、Ｊ：
る所望の１−ラック幅を形成Ｊる（第３図に拡大して承
ず）と共に、使方の］ｌアブ［１ツク半体３３０Ｂの長
手り向にその切欠溝３５．３ｂに連通４る巻線）菖３Ｇ
を形成づ−る。この切欠溝３５の形成土稈においで、切
欠溝３５はギＡｌツブ近傍にＪ３いて、磁性簿膜３２に
ノＬライ］・をぞの隣接限界よ（・存在させるＪとが可
能となるため、磁気ヘッドの磁気効率が人どなるどｊｔ
　Ｌｍ　、グイノングツ−なと（Ｊ−よって精度の高い
ｌ−ノック幅を（ｑるＪとができる。 次に、コアブロック半体３０Ａの研磨面３　Ｑ　ａと、
」アブロック半体３０Ｂの巻線溝３６を形成した面とを
膜付（」シたギＩＩツプスペーリ−を介し−Ｃ接合づる
と同前に、トラック幅となる強磁性体３２．３２同志が
ｐ７いに対向覆るように位置合けを行なって、巻線溝３
６内に上記低軟化点のガラス３４Ｊ、り融貞の低い低軟
化５気ガラス３７を充填して、ガラスの作業点温度トｊ
近で加熱・接着して第１図（ｆ）に示で１如くの、−１
アブロック体３０１を得る。（雰囲気は窒素ガスやアル
ゴンガスなどの不活性ガスの中で行なう） しかる後、同図（ｆ’）に示す如くコアブロック体３０
１を二点鎖線で承り仮想線に沿って接合面と直交する方
向に垂直に切断し、その後、ヘッドギャップ面をＲ研磨
覆ると第１図（ｇ）に示す如くの磁気ヘッド」ア３０２
を得ることができる。 そして、この磁気ヘッドニ１７３０２に図示せぬ巻線を
施せば最終的に完成された磁気ヘッドを得ることができ
る。 なお、３９は二］アブ１］ツク半体３０Ｂの後部接合面
側に形成されたＲで、４０はこの溝３９に充填されたガ
ラスでありこれらは必要に応じて適宜−’１２− 形成覆れば良い、。 第５図（ａ）（ｂ）は本発明方法の他の実施例を説明す
る図であり、第１図（［））の満加Ｔ士程の代りに同図
（ａ＞に示す如く、−１ｊ′ブ［１ツク３０′の上面研
磨面３０ａ′と側面の一部にだけこの側面３０ｂ’に跨
っＣ１第６図に示寸如く、先端の形状が約４５°のダイ
シングソーＳによって受型状の満３１　．・・・３１″
を形成１する。この場合溝３１″は上面３０ａ′に対し
では直交１）、側面３０ｂ′に対しては約４５°の角度
をな−づ。ぞして、この満３１″の深さは後部突き合Ｕ
面に達しない程度とする。このように」アブに１ツク崖
体３０Ａ′を形成することにより、同図（ｂ）に承り如
く接合された両」アブロック半体３０Ａ’　、３０Ｂ’
を仮想線に沿って接合面と直交号−る方向に切断する際
、隣接する磁気ヘッドＩ　’ｉ’　３８　’　、・・・
３８′相互の間隔を大とづることがｉｉＪ能となる。従
って、この実施例においては上記第１の実施例より多く
のコアブロックを製造し得るので、材料の歩留りが良く
廉価に形成し得る。 （発明の効果） 以−にの如く構成した本発明の磁気ヘッドの製造方法は
、一対のコアブロック゛１′一体の接合面と直交する側
面に、この接合面と所定の角麻を右する複数の溝部の一
側に薄膜の強磁性体を形成するようにしたため、薄膜形
成を効率良く行なうことができ、また、トラックの幅の
規制は切欠溝によって行なわれるため、トラック部に隣
接する限界までフェライ１〜を臨ませることができて磁
気ヘッドの磁気効率が人となると共に、トラック幅の規
制はダイシングソーなどによって安定して精度良く行な
Ｇ柑ｑる。また、このような］ニ稈を経て製造された磁
気ヘッドは、メタルテープなど高抗磁力のテープに対し
て記録再生が可能となると共に、ギャップ部に高い飽和
磁束密度を右する薄膜磁竹林を形成したことにより狭ト
ラツク化を可能とし、かつ工業的な量産が可能となるな
どの特長を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｇ）は本発明になる磁気ヘッドの製造
方法の好適な一実施例を示ず製造工程間、第２図は第１
図に示すＴ稈（Ｃ）の要部拡大図、第３図は第１図に示
す工程（ｅ）の拡大正面図、第４図は強磁性ａ？膜の形
成時の状態を示す外観図、第５図（ａ）（ｂ）は第１図
ニ示ｔ　Ｉ　稈（ｂ　）　（７）伯の実施例を示す図、
第６図はダイシングソーの正面図、第７図は従来の磁気
ヘッドの製造工程を説明するための工程間、第８図は従
来の薄膜磁気ヘッドの外観斜視図である。 ３０・・・コアブロック、 ３１・・・溝部、３２・・・強磁性薄膜、３４．３７・
・・低軟化点ガラス材、３５・・・切欠溝、３６・・・
巻線溝、３０１・・・コアブロック体、３０２・・・磁
気ヘッドコア。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 フェライトなどの高周波領域で高い透磁率を有する磁性
   材料からなる第１、第２のコアブロック半体の接合面と
   直交する側面に、前記接合面と所定の角度を有する複数
   の溝部を形成する工程と、前記複数の溝部内の一側面に
   トラック幅となるセンダストなどの強磁性薄膜を形成す
   る工程と、前記複数の溝部内に比較的融点の高い低軟化
   点ガラス材を充填して加熱する工程と、 前記第１、第２のコアブロック半体の強磁性体側に近接
   してトラック幅を規制するための切欠溝を形成すると共
   に、少なくとも第２のコアブロック半体の接合面側の長
   手方向に巻線溝を形成する工程と、 前記第１、第２のコアブロック半体の強磁性体同志が互
   いに対向するよう接合面の少なくとも一方に形成したギ
   ャップを介して互いに接合し、前記第２のコアブロック
   半体の巻線溝内に前記低軟化点ガラス材より軟化点の低
   い低軟化点ガラス材を充填して加熱・接着してコアブロ
   ック体を形成する工程と、 前記コアブロック体を接合面と直交する方向に切断して
   磁気ヘッドコアを得る工程とよりなることを特徴とする
   磁気ヘッドの製造方法。