JPS62192909A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62192909A JPS62192909A JP3568386A JP3568386A JPS62192909A JP S62192909 A JPS62192909 A JP S62192909A JP 3568386 A JP3568386 A JP 3568386A JP 3568386 A JP3568386 A JP 3568386A JP S62192909 A JPS62192909 A JP S62192909A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 12
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 11
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 3
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 3
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 3
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 3
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 244000025254 Cannabis sativa Species 0.000 description 1
- 235000012766 Cannabis sativa ssp. sativa var. sativa Nutrition 0.000 description 1
- 235000012765 Cannabis sativa ssp. sativa var. spontanea Nutrition 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000009120 camo Nutrition 0.000 description 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 description 1
- 235000005607 chanvre indien Nutrition 0.000 description 1
- -1 comb metals and SiC Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011487 hemp Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
(産業上の利用分野)
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特にメタルテー
プなどの高抗磁力の磁気記録媒体に対して信号を記録・
再生するのに好適な磁気ヘッドの製造方法に関する。 (従来の技術) 近年、ビデオテープレコーダ(VTR)の高性能化およ
び超小型化の実現のために磁気記録媒体として、例えば
メタルテープなど高抗磁力(He)の磁気テープを用い
ることが必要とされていることは周知のことである。そ
して、これに対応する磁気ヘッドとしては、高周波領域
において高い透磁率4右Jることが必要どされている。 また、高い飽和磁束密度(Rs )を実現でさる磁気ヘ
ッドとしてはセンダス1−(登録商標)、アモルファス
合金などの金属磁竹拐料が、また、高周波領域において
高い透tiil率を右Jる磁気ヘッドとしてはフ■ライ
I−などの酸化物系(a (!1月利が知られている。 ところぐ、従来V T’ Rに使用されている磁気ヘッ
ド12のへッドーコア17は、第7図(f)に示す如く
、−ノ■ライトから成る一対の]7半体13゜14を磁
気ギャップ16を介し−Cnいに接合した構成となつ−
Cいる。なお、10.10は磁気ギャップ16のギトツ
プ幅を規制ηる。J14.if性拐(例えばSiO2ヤ
)△(1203’、7と)、18は]ア半体13の接合
面側に形成された巻線窓11うに巻回されたコイルであ
る。 そして、上記磁気ヘッド」ア12の製造り法とし−Cは
、第7図(a)〜(f’)に示すように、まず同図(a
>の如く、例えばMn−Zn)1−ライ1へなどの高透
磁率磁f口Aわ1を所定形状に切断して直り体の第1の
一1アブ目ツク1を形成し、この−」アブ[]ツク1の
接合面となる1面を鏡面研磨した後、この鏡面研尼面と
j−/’ t ti面側の而の角に切欠き溝2を長f方
向に沿つ−C形成づると共に、この満2と略平行に巻線
窓どなる満3をω1磨加十によりイれぞれ形成する。ま
た、二1アIoツク1の台溝2,3に対しで直交するh
向に一定の間隔を保つC複数の凹溝4,4を8満2,3
に跨るよう薄肉のダイアモンドブレードを使用したダイ
シングソーなどの機械的加FによつC形成する。なお、
この凹溝4.4の形状は、イの深さが白方体の]7ブ]
1ツク1の切欠き溝2側の端部より溝3に向かう部分が
浅<4「るようテーパ状に形成され−(いる。 −1)、第7図(b)に示す如く、例えばMn−Znノ
エライトなどの高透磁率ta竹月別を所定形状に切断し
−C1上記第1の]’77ブ目ツク1と同様に直方体の
第2の]コアブロックを形成し、この」アブロック5の
接合面どなる上面を鏡面研磨した後、第1のコアブロッ
ク1の溝2おにび凹溝4゜4と同様な溝6と凹溝7,7
をそれぞれ形成する。 次に、第7図(C)に示す如く、」アブ[1ツク1の上
面の凹溝4,11間の平坦面に、ギャップスペーサとな
る、例えば5iO−Orなどのサーメット、り
プなどの高抗磁力の磁気記録媒体に対して信号を記録・
再生するのに好適な磁気ヘッドの製造方法に関する。 (従来の技術) 近年、ビデオテープレコーダ(VTR)の高性能化およ
び超小型化の実現のために磁気記録媒体として、例えば
メタルテープなど高抗磁力(He)の磁気テープを用い
ることが必要とされていることは周知のことである。そ
して、これに対応する磁気ヘッドとしては、高周波領域
において高い透磁率4右Jることが必要どされている。 また、高い飽和磁束密度(Rs )を実現でさる磁気ヘ
ッドとしてはセンダス1−(登録商標)、アモルファス
合金などの金属磁竹拐料が、また、高周波領域において
高い透tiil率を右Jる磁気ヘッドとしてはフ■ライ
I−などの酸化物系(a (!1月利が知られている。 ところぐ、従来V T’ Rに使用されている磁気ヘッ
ド12のへッドーコア17は、第7図(f)に示す如く
、−ノ■ライトから成る一対の]7半体13゜14を磁
気ギャップ16を介し−Cnいに接合した構成となつ−
Cいる。なお、10.10は磁気ギャップ16のギトツ
プ幅を規制ηる。J14.if性拐(例えばSiO2ヤ
)△(1203’、7と)、18は]ア半体13の接合
面側に形成された巻線窓11うに巻回されたコイルであ
る。 そして、上記磁気ヘッド」ア12の製造り法とし−Cは
、第7図(a)〜(f’)に示すように、まず同図(a
>の如く、例えばMn−Zn)1−ライ1へなどの高透
磁率磁f口Aわ1を所定形状に切断して直り体の第1の
一1アブ目ツク1を形成し、この−」アブ[]ツク1の
接合面となる1面を鏡面研磨した後、この鏡面研尼面と
j−/’ t ti面側の而の角に切欠き溝2を長f方
向に沿つ−C形成づると共に、この満2と略平行に巻線
窓どなる満3をω1磨加十によりイれぞれ形成する。ま
た、二1アIoツク1の台溝2,3に対しで直交するh
向に一定の間隔を保つC複数の凹溝4,4を8満2,3
に跨るよう薄肉のダイアモンドブレードを使用したダイ
シングソーなどの機械的加FによつC形成する。なお、
この凹溝4.4の形状は、イの深さが白方体の]7ブ]
1ツク1の切欠き溝2側の端部より溝3に向かう部分が
浅<4「るようテーパ状に形成され−(いる。 −1)、第7図(b)に示す如く、例えばMn−Znノ
エライトなどの高透磁率ta竹月別を所定形状に切断し
−C1上記第1の]’77ブ目ツク1と同様に直方体の
第2の]コアブロックを形成し、この」アブロック5の
接合面どなる上面を鏡面研磨した後、第1のコアブロッ
ク1の溝2おにび凹溝4゜4と同様な溝6と凹溝7,7
をそれぞれ形成する。 次に、第7図(C)に示す如く、」アブ[1ツク1の上
面の凹溝4,11間の平坦面に、ギャップスペーサとな
る、例えば5iO−Orなどのサーメット、り
【コム金
属、SiCなどのカーバイト系化合物、混合酸化物のマ
グネシア、アルミノ−、ヂタニア等のガラス質以外の比
較的高融点で高硬度の非磁性相別を用いてスパッタリン
グなどの薄膜形成手段によって磁気ヘッドのギャップ幅
となる厚さqの薄膜層8を形成する。また、溝3を境に
薄膜層8を形成した平坦面と反対側の直方体のブロック
1の−に面の平坦面に、厚さがq以下の低軟化点のガラ
ス薄膜層9をスパッタリングなどによって形成する。な
お、このガラス簿膜層9は、コアブロック1と」アブロ
ック5どを接合する際の接着剤として機能するものであ
る。 そして、上記第7図(b)および同図(C)の如く形成
したコアブロック1.5を第7図(d)に示づ如く、そ
の各凹溝1.7が正確に一致するよう万いに突合せ、満
2と溝6とによって形成される凹溝19にガラス薄膜層
9の低軟化点ガラスの軟化点より、例えば100度程高
い比較的低軟化点の棒ガラス10を配置し、両」アブロ
ック1゜5の両側から加圧しながら不活性ガス中で棒ガ
ラス10の作業点付近の温度に加熱する。この加熱によ
り、凹溝19内の棒ガラス10は凹溝4,7内に充填さ
れ、この軟化したガラス10およびガラス薄膜層9にに
って両コアブロック1,5はbいに接着されて、第7図
(e)に示す如くの複合ブロック11を得る。ぞして、
この複合ブロック11を一点鎖線および二点鎖線で示す
仮想線に沿って切断づ゛ると、第7図(f)に示す如く
の磁気ヘッド17を形成することができる。 また、第8図に示す磁気ヘッドは薄膜磁気ヘッドであり
、この薄膜磁気ヘッド20は、基板19上に軟磁性体よ
りなる薄膜コア21と導電材よりなるパターンニングさ
れた簿膜コイル22とを配置してなり、この薄膜コイル
22は同−星板上に形成されたワイヤーボンディング川
のパッド23a、23bに接続されている。 そして、このパッド23a、23bに信号電流を通電す
ることにより薄膜]イル22を、介して薄膜磁気ヘッド
20に信号電流が供給されこれにより記録媒体に磁気記
録が行なわれる構成どなっている。なお、同図において
、24は薄膜磁気ヘッド20に信号電流を供給するフレ
4−シブル旦板であり、また、25はボンディング用の
バッド23a、23bとフレキシブル基板24とを電気
的に接続するワイヤである。 〈発明が解決しようとする問題点) ところで、第7図に示した磁気ヘッド12はその製造工
程において、トラック幅を規制する凹溝4.7を形成す
る際に、グイA7モンドブレードを用いたダイヤモンド
ソーt「どの機械的手段によって行なわれるため、トラ
ック幅はせいぜい20〜30μm程度のものが限度であ
る。そこで、トラック幅寸法をこれ以上狭く、例えば2
0〜30μ01以下に加工しようとすると、カケやデツ
ピングなどが起って、加工精度上その作業が困ガである
ばかりか材料の歩留まりが悪くなり、高密度記録および
量産化は不可能である。 また、第8図に示す薄膜磁気ヘッド20においては、製
造に際してトラック幅の形成はフォトレジスト工程によ
り30μm以下も可能であるが、コアの厚みを30μm
程度に常に維持することがパターン精度とのかね合いて
困難であり、このためコアの磁束効率が悪く磁気飽和し
易いなど他の面での問題点が発生して、VTRの磁気ヘ
ッドとしての実用化が困難であるなど各種の問題点があ
った。 また、メタルテープに対応するための磁気ヘッドを構成
するために、第7図に示した如くの磁気ヘッド12のギ
ャップ部近傍に、このギャップ16を介してセンダスト
などの高い飽和磁束密度を有する磁性材料を接合したよ
うな磁気ヘッドが提案されているが、このものはセンダ
ストとフェライトとの接合面が疑似ギャップとなり易<
S/Nが悪くなったり、また高い飽和磁束密度を有する
センダストを使用しているにも拘らずこれとフェライト
との接合面積を大きくすることができないため、センダ
ストよりフェライトが先に磁気飽和してしまい、かつ製
造上において量産化が困九であるなどの問題点がある。 (問題点を解決するための手段) 本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり
、フェライトなどの高周波領域で高い透磁率を右する磁
性材料からなる第1、第2のコアブロック半体の接合面
と直交する側面に、前記接合面と所定の角度を右する複
数の溝部を形成する工程と、前記複数の溝部内の一側面
にトラック幅となるセンダストなどの強磁性薄膜を形成
する工程と、前記複数の溝部内に比較的融点の高い低軟
化点ガラス材を充填して加熱する工程と、前記第1、第
2のコアブロック半体の強磁性体側に近接してトラック
幅を規制するための切欠溝を形成すると共に、少なくと
も第2のコアブロック半体の接合面側の長手方向に巻線
溝を形成する工程と、前記第1、第2のコアブロック半
体の強10性体同志がηいに対向するよう接合面の少な
くとも一方に形成したギャップを介して互いに接合し、
前記第2のコアブロック半体の巻線溝内に前記低軟化−
8一 点ガラス材より軟化点の低い低軟化点ガラス材を充填し
て加熱・接着してコアブロック体を形成する工程と、前
記コアブロック体を接合面と直交する方向に切断して磁
気へッドコアを得る工程とよりなることを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法を提供するものである。 (実 施 例) 第1図(a)〜(C1)は本発明になる一磁気ヘッドの
製造工程を示したものであり、まず、同図(a)に示す
如く、例えばMn−7nフエライトなどの金属酸化物磁
性体からなる直方体のコアブロック30を用意してその
上面30aを鏡面研磨した後、同図(b)に示すように
、側面30bに対して垂直で、かつその研磨面30aに
対して所定の角度θ(実施例ではθ−45°)を有する
深さ寸法がd (d = 0.2−0.5mm)なる複
数の溝部31、・・・31をダイシングソーなどによっ
て形成する。そして、各溝部31.・・・31の一側面
31′に、例えばFe−Aj!−8iの合金であるセン
ダスト(登録商標)あるいはアモルファスなどの強磁性
薄膜32をスパッタリングおJ、び真空蒸盾などの薄膜
形成手段によ−)で20・〜30μmの厚みに形成する
。(この状態を第2図に拡大して示−1)この薄膜形成
手段ru、第4図に示す如く、複数個+7’)ニー】1
70ツ’)30.30(r)%部31が7qイに重なら
ないようにこれらを治具L lに階段状に積層した状態
で、各]アブ1]ツク30.30の渦部31の一側が矢
印で示づ一スパッタ方向に向くようにスパッタリング装
置内に溝部31の角度θと同じ角度C配置することによ
り、スパッタ1パツプで多くの二コアーゾ]−1ツク3
0,30の溝31,31の−・側31′に効率良く強1
i1!竹薄膜32の形成が可能となり、作業効率が増加
する。 イして、同第2図の要部拡大図に示づ如く、その強磁性
薄膜32の土に、後工程のガフス材の充填・加熱作業に
おいて、ガラスのメレ性を良くする意味r−3i07、
△1203などの酸化物やCr、’7−iなどの金属薄
膜からなるul磁竹膜33を、例λば0,1・−・3f
1mの厚みでスパッタリングなどによって形成4る。 ()かる後、第1図(d)に示寸よう(、二各満31.
31内(こ比較的に溶融温度の高い低軟化点のカラス3
4を充填し、窒素ガスへどの不活性ガスの雰囲気中で加
熱して一1アブ[」ツク1体30△、30Bを得る。 そして、同図(e)に示tJ、うに両11アブ[1ツク
゛1(体3OA、30Bの強磁性薄膜32側を所定の深
さにダイシングソーなどによ−)−(ぞれぞれ切欠漏3
5 + 35を形成して強磁性薄114!32に、J:
る所望の1−ラック幅を形成Jる(第3図に拡大して承
ず)と共に、使方の]lアブ[1ツク半体330Bの長
手り向にその切欠溝35.3bに連通4る巻線)菖3G
を形成づ−る。この切欠溝35の形成土稈においで、切
欠溝35はギAlツブ近傍にJ3いて、磁性簿膜32に
ノLライ]・をぞの隣接限界よ(・存在させるJとが可
能となるため、磁気ヘッドの磁気効率が人どなるどjt
Lm 、グイノングツ−なと(J−よって精度の高い
l−ノック幅を(qるJとができる。 次に、コアブロック半体30Aの研磨面3 Q aと、
」アブロック半体30Bの巻線溝36を形成した面とを
膜付(」シたギIIツプスペーリ−を介し−C接合づる
と同前に、トラック幅となる強磁性体32.32同志が
p7いに対向覆るように位置合けを行なって、巻線溝3
6内に上記低軟化点のガラス34J、り融貞の低い低軟
化5気ガラス37を充填して、ガラスの作業点温度トj
近で加熱・接着して第1図(f)に示で1如くの、−1
アブロック体301を得る。(雰囲気は窒素ガスやアル
ゴンガスなどの不活性ガスの中で行なう) しかる後、同図(f’)に示す如くコアブロック体30
1を二点鎖線で承り仮想線に沿って接合面と直交する方
向に垂直に切断し、その後、ヘッドギャップ面をR研磨
覆ると第1図(g)に示す如くの磁気ヘッド」ア302
を得ることができる。 そして、この磁気ヘッドニ17302に図示せぬ巻線を
施せば最終的に完成された磁気ヘッドを得ることができ
る。 なお、39は二]アブ1]ツク半体30Bの後部接合面
側に形成されたRで、40はこの溝39に充填されたガ
ラスでありこれらは必要に応じて適宜−’12− 形成覆れば良い、。 第5図(a)(b)は本発明方法の他の実施例を説明す
る図であり、第1図([))の満加T士程の代りに同図
(a>に示す如く、−1j′ブ[1ツク30′の上面研
磨面30a′と側面の一部にだけこの側面30b’に跨
っC1第6図に示寸如く、先端の形状が約45°のダイ
シングソーSによって受型状の満31 .・・・31″
を形成1する。この場合溝31″は上面30a′に対し
では直交1)、側面30b′に対しては約45°の角度
をな−づ。ぞして、この満31″の深さは後部突き合U
面に達しない程度とする。このように」アブに1ツク崖
体30A′を形成することにより、同図(b)に承り如
く接合された両」アブロック半体30A’ 、30B’
を仮想線に沿って接合面と直交号−る方向に切断する際
、隣接する磁気ヘッドI ’i’ 38 ’ 、・・・
38′相互の間隔を大とづることがiiJ能となる。従
って、この実施例においては上記第1の実施例より多く
のコアブロックを製造し得るので、材料の歩留りが良く
廉価に形成し得る。 (発明の効果) 以−にの如く構成した本発明の磁気ヘッドの製造方法は
、一対のコアブロック゛1′一体の接合面と直交する側
面に、この接合面と所定の角麻を右する複数の溝部の一
側に薄膜の強磁性体を形成するようにしたため、薄膜形
成を効率良く行なうことができ、また、トラックの幅の
規制は切欠溝によって行なわれるため、トラック部に隣
接する限界までフェライ1〜を臨ませることができて磁
気ヘッドの磁気効率が人となると共に、トラック幅の規
制はダイシングソーなどによって安定して精度良く行な
G柑qる。また、このような]ニ稈を経て製造された磁
気ヘッドは、メタルテープなど高抗磁力のテープに対し
て記録再生が可能となると共に、ギャップ部に高い飽和
磁束密度を右する薄膜磁竹林を形成したことにより狭ト
ラツク化を可能とし、かつ工業的な量産が可能となるな
どの特長を有する。
属、SiCなどのカーバイト系化合物、混合酸化物のマ
グネシア、アルミノ−、ヂタニア等のガラス質以外の比
較的高融点で高硬度の非磁性相別を用いてスパッタリン
グなどの薄膜形成手段によって磁気ヘッドのギャップ幅
となる厚さqの薄膜層8を形成する。また、溝3を境に
薄膜層8を形成した平坦面と反対側の直方体のブロック
1の−に面の平坦面に、厚さがq以下の低軟化点のガラ
ス薄膜層9をスパッタリングなどによって形成する。な
お、このガラス簿膜層9は、コアブロック1と」アブロ
ック5どを接合する際の接着剤として機能するものであ
る。 そして、上記第7図(b)および同図(C)の如く形成
したコアブロック1.5を第7図(d)に示づ如く、そ
の各凹溝1.7が正確に一致するよう万いに突合せ、満
2と溝6とによって形成される凹溝19にガラス薄膜層
9の低軟化点ガラスの軟化点より、例えば100度程高
い比較的低軟化点の棒ガラス10を配置し、両」アブロ
ック1゜5の両側から加圧しながら不活性ガス中で棒ガ
ラス10の作業点付近の温度に加熱する。この加熱によ
り、凹溝19内の棒ガラス10は凹溝4,7内に充填さ
れ、この軟化したガラス10およびガラス薄膜層9にに
って両コアブロック1,5はbいに接着されて、第7図
(e)に示す如くの複合ブロック11を得る。ぞして、
この複合ブロック11を一点鎖線および二点鎖線で示す
仮想線に沿って切断づ゛ると、第7図(f)に示す如く
の磁気ヘッド17を形成することができる。 また、第8図に示す磁気ヘッドは薄膜磁気ヘッドであり
、この薄膜磁気ヘッド20は、基板19上に軟磁性体よ
りなる薄膜コア21と導電材よりなるパターンニングさ
れた簿膜コイル22とを配置してなり、この薄膜コイル
22は同−星板上に形成されたワイヤーボンディング川
のパッド23a、23bに接続されている。 そして、このパッド23a、23bに信号電流を通電す
ることにより薄膜]イル22を、介して薄膜磁気ヘッド
20に信号電流が供給されこれにより記録媒体に磁気記
録が行なわれる構成どなっている。なお、同図において
、24は薄膜磁気ヘッド20に信号電流を供給するフレ
4−シブル旦板であり、また、25はボンディング用の
バッド23a、23bとフレキシブル基板24とを電気
的に接続するワイヤである。 〈発明が解決しようとする問題点) ところで、第7図に示した磁気ヘッド12はその製造工
程において、トラック幅を規制する凹溝4.7を形成す
る際に、グイA7モンドブレードを用いたダイヤモンド
ソーt「どの機械的手段によって行なわれるため、トラ
ック幅はせいぜい20〜30μm程度のものが限度であ
る。そこで、トラック幅寸法をこれ以上狭く、例えば2
0〜30μ01以下に加工しようとすると、カケやデツ
ピングなどが起って、加工精度上その作業が困ガである
ばかりか材料の歩留まりが悪くなり、高密度記録および
量産化は不可能である。 また、第8図に示す薄膜磁気ヘッド20においては、製
造に際してトラック幅の形成はフォトレジスト工程によ
り30μm以下も可能であるが、コアの厚みを30μm
程度に常に維持することがパターン精度とのかね合いて
困難であり、このためコアの磁束効率が悪く磁気飽和し
易いなど他の面での問題点が発生して、VTRの磁気ヘ
ッドとしての実用化が困難であるなど各種の問題点があ
った。 また、メタルテープに対応するための磁気ヘッドを構成
するために、第7図に示した如くの磁気ヘッド12のギ
ャップ部近傍に、このギャップ16を介してセンダスト
などの高い飽和磁束密度を有する磁性材料を接合したよ
うな磁気ヘッドが提案されているが、このものはセンダ
ストとフェライトとの接合面が疑似ギャップとなり易<
S/Nが悪くなったり、また高い飽和磁束密度を有する
センダストを使用しているにも拘らずこれとフェライト
との接合面積を大きくすることができないため、センダ
ストよりフェライトが先に磁気飽和してしまい、かつ製
造上において量産化が困九であるなどの問題点がある。 (問題点を解決するための手段) 本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり
、フェライトなどの高周波領域で高い透磁率を右する磁
性材料からなる第1、第2のコアブロック半体の接合面
と直交する側面に、前記接合面と所定の角度を右する複
数の溝部を形成する工程と、前記複数の溝部内の一側面
にトラック幅となるセンダストなどの強磁性薄膜を形成
する工程と、前記複数の溝部内に比較的融点の高い低軟
化点ガラス材を充填して加熱する工程と、前記第1、第
2のコアブロック半体の強磁性体側に近接してトラック
幅を規制するための切欠溝を形成すると共に、少なくと
も第2のコアブロック半体の接合面側の長手方向に巻線
溝を形成する工程と、前記第1、第2のコアブロック半
体の強10性体同志がηいに対向するよう接合面の少な
くとも一方に形成したギャップを介して互いに接合し、
前記第2のコアブロック半体の巻線溝内に前記低軟化−
8一 点ガラス材より軟化点の低い低軟化点ガラス材を充填し
て加熱・接着してコアブロック体を形成する工程と、前
記コアブロック体を接合面と直交する方向に切断して磁
気へッドコアを得る工程とよりなることを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法を提供するものである。 (実 施 例) 第1図(a)〜(C1)は本発明になる一磁気ヘッドの
製造工程を示したものであり、まず、同図(a)に示す
如く、例えばMn−7nフエライトなどの金属酸化物磁
性体からなる直方体のコアブロック30を用意してその
上面30aを鏡面研磨した後、同図(b)に示すように
、側面30bに対して垂直で、かつその研磨面30aに
対して所定の角度θ(実施例ではθ−45°)を有する
深さ寸法がd (d = 0.2−0.5mm)なる複
数の溝部31、・・・31をダイシングソーなどによっ
て形成する。そして、各溝部31.・・・31の一側面
31′に、例えばFe−Aj!−8iの合金であるセン
ダスト(登録商標)あるいはアモルファスなどの強磁性
薄膜32をスパッタリングおJ、び真空蒸盾などの薄膜
形成手段によ−)で20・〜30μmの厚みに形成する
。(この状態を第2図に拡大して示−1)この薄膜形成
手段ru、第4図に示す如く、複数個+7’)ニー】1
70ツ’)30.30(r)%部31が7qイに重なら
ないようにこれらを治具L lに階段状に積層した状態
で、各]アブ1]ツク30.30の渦部31の一側が矢
印で示づ一スパッタ方向に向くようにスパッタリング装
置内に溝部31の角度θと同じ角度C配置することによ
り、スパッタ1パツプで多くの二コアーゾ]−1ツク3
0,30の溝31,31の−・側31′に効率良く強1
i1!竹薄膜32の形成が可能となり、作業効率が増加
する。 イして、同第2図の要部拡大図に示づ如く、その強磁性
薄膜32の土に、後工程のガフス材の充填・加熱作業に
おいて、ガラスのメレ性を良くする意味r−3i07、
△1203などの酸化物やCr、’7−iなどの金属薄
膜からなるul磁竹膜33を、例λば0,1・−・3f
1mの厚みでスパッタリングなどによって形成4る。 ()かる後、第1図(d)に示寸よう(、二各満31.
31内(こ比較的に溶融温度の高い低軟化点のカラス3
4を充填し、窒素ガスへどの不活性ガスの雰囲気中で加
熱して一1アブ[」ツク1体30△、30Bを得る。 そして、同図(e)に示tJ、うに両11アブ[1ツク
゛1(体3OA、30Bの強磁性薄膜32側を所定の深
さにダイシングソーなどによ−)−(ぞれぞれ切欠漏3
5 + 35を形成して強磁性薄114!32に、J:
る所望の1−ラック幅を形成Jる(第3図に拡大して承
ず)と共に、使方の]lアブ[1ツク半体330Bの長
手り向にその切欠溝35.3bに連通4る巻線)菖3G
を形成づ−る。この切欠溝35の形成土稈においで、切
欠溝35はギAlツブ近傍にJ3いて、磁性簿膜32に
ノLライ]・をぞの隣接限界よ(・存在させるJとが可
能となるため、磁気ヘッドの磁気効率が人どなるどjt
Lm 、グイノングツ−なと(J−よって精度の高い
l−ノック幅を(qるJとができる。 次に、コアブロック半体30Aの研磨面3 Q aと、
」アブロック半体30Bの巻線溝36を形成した面とを
膜付(」シたギIIツプスペーリ−を介し−C接合づる
と同前に、トラック幅となる強磁性体32.32同志が
p7いに対向覆るように位置合けを行なって、巻線溝3
6内に上記低軟化点のガラス34J、り融貞の低い低軟
化5気ガラス37を充填して、ガラスの作業点温度トj
近で加熱・接着して第1図(f)に示で1如くの、−1
アブロック体301を得る。(雰囲気は窒素ガスやアル
ゴンガスなどの不活性ガスの中で行なう) しかる後、同図(f’)に示す如くコアブロック体30
1を二点鎖線で承り仮想線に沿って接合面と直交する方
向に垂直に切断し、その後、ヘッドギャップ面をR研磨
覆ると第1図(g)に示す如くの磁気ヘッド」ア302
を得ることができる。 そして、この磁気ヘッドニ17302に図示せぬ巻線を
施せば最終的に完成された磁気ヘッドを得ることができ
る。 なお、39は二]アブ1]ツク半体30Bの後部接合面
側に形成されたRで、40はこの溝39に充填されたガ
ラスでありこれらは必要に応じて適宜−’12− 形成覆れば良い、。 第5図(a)(b)は本発明方法の他の実施例を説明す
る図であり、第1図([))の満加T士程の代りに同図
(a>に示す如く、−1j′ブ[1ツク30′の上面研
磨面30a′と側面の一部にだけこの側面30b’に跨
っC1第6図に示寸如く、先端の形状が約45°のダイ
シングソーSによって受型状の満31 .・・・31″
を形成1する。この場合溝31″は上面30a′に対し
では直交1)、側面30b′に対しては約45°の角度
をな−づ。ぞして、この満31″の深さは後部突き合U
面に達しない程度とする。このように」アブに1ツク崖
体30A′を形成することにより、同図(b)に承り如
く接合された両」アブロック半体30A’ 、30B’
を仮想線に沿って接合面と直交号−る方向に切断する際
、隣接する磁気ヘッドI ’i’ 38 ’ 、・・・
38′相互の間隔を大とづることがiiJ能となる。従
って、この実施例においては上記第1の実施例より多く
のコアブロックを製造し得るので、材料の歩留りが良く
廉価に形成し得る。 (発明の効果) 以−にの如く構成した本発明の磁気ヘッドの製造方法は
、一対のコアブロック゛1′一体の接合面と直交する側
面に、この接合面と所定の角麻を右する複数の溝部の一
側に薄膜の強磁性体を形成するようにしたため、薄膜形
成を効率良く行なうことができ、また、トラックの幅の
規制は切欠溝によって行なわれるため、トラック部に隣
接する限界までフェライ1〜を臨ませることができて磁
気ヘッドの磁気効率が人となると共に、トラック幅の規
制はダイシングソーなどによって安定して精度良く行な
G柑qる。また、このような]ニ稈を経て製造された磁
気ヘッドは、メタルテープなど高抗磁力のテープに対し
て記録再生が可能となると共に、ギャップ部に高い飽和
磁束密度を右する薄膜磁竹林を形成したことにより狭ト
ラツク化を可能とし、かつ工業的な量産が可能となるな
どの特長を有する。
第1図(a)〜(g)は本発明になる磁気ヘッドの製造
方法の好適な一実施例を示ず製造工程間、第2図は第1
図に示すT稈(C)の要部拡大図、第3図は第1図に示
す工程(e)の拡大正面図、第4図は強磁性a?膜の形
成時の状態を示す外観図、第5図(a)(b)は第1図
ニ示t I 稈(b ) (7)伯の実施例を示す図、
第6図はダイシングソーの正面図、第7図は従来の磁気
ヘッドの製造工程を説明するための工程間、第8図は従
来の薄膜磁気ヘッドの外観斜視図である。 30・・・コアブロック、 31・・・溝部、32・・・強磁性薄膜、34.37・
・・低軟化点ガラス材、35・・・切欠溝、36・・・
巻線溝、301・・・コアブロック体、302・・・磁
気ヘッドコア。
方法の好適な一実施例を示ず製造工程間、第2図は第1
図に示すT稈(C)の要部拡大図、第3図は第1図に示
す工程(e)の拡大正面図、第4図は強磁性a?膜の形
成時の状態を示す外観図、第5図(a)(b)は第1図
ニ示t I 稈(b ) (7)伯の実施例を示す図、
第6図はダイシングソーの正面図、第7図は従来の磁気
ヘッドの製造工程を説明するための工程間、第8図は従
来の薄膜磁気ヘッドの外観斜視図である。 30・・・コアブロック、 31・・・溝部、32・・・強磁性薄膜、34.37・
・・低軟化点ガラス材、35・・・切欠溝、36・・・
巻線溝、301・・・コアブロック体、302・・・磁
気ヘッドコア。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 フェライトなどの高周波領域で高い透磁率を有する磁性
材料からなる第1、第2のコアブロック半体の接合面と
直交する側面に、前記接合面と所定の角度を有する複数
の溝部を形成する工程と、前記複数の溝部内の一側面に
トラック幅となるセンダストなどの強磁性薄膜を形成す
る工程と、前記複数の溝部内に比較的融点の高い低軟化
点ガラス材を充填して加熱する工程と、 前記第1、第2のコアブロック半体の強磁性体側に近接
してトラック幅を規制するための切欠溝を形成すると共
に、少なくとも第2のコアブロック半体の接合面側の長
手方向に巻線溝を形成する工程と、 前記第1、第2のコアブロック半体の強磁性体同志が互
いに対向するよう接合面の少なくとも一方に形成したギ
ャップを介して互いに接合し、前記第2のコアブロック
半体の巻線溝内に前記低軟化点ガラス材より軟化点の低
い低軟化点ガラス材を充填して加熱・接着してコアブロ
ック体を形成する工程と、 前記コアブロック体を接合面と直交する方向に切断して
磁気ヘッドコアを得る工程とよりなることを特徴とする
磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3568386A JPS62192909A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3568386A JPS62192909A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192909A true JPS62192909A (ja) | 1987-08-24 |
Family
ID=12448688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3568386A Pending JPS62192909A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62192909A (ja) |
-
1986
- 1986-02-20 JP JP3568386A patent/JPS62192909A/ja active Pending
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