JPS59119765A - 電界効果型半導体装置の製造方法 - Google Patents
電界効果型半導体装置の製造方法Info
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- JPS59119765A JPS59119765A JP57226602A JP22660282A JPS59119765A JP S59119765 A JPS59119765 A JP S59119765A JP 57226602 A JP57226602 A JP 57226602A JP 22660282 A JP22660282 A JP 22660282A JP S59119765 A JPS59119765 A JP S59119765A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
- H10D30/87—FETs having Schottky gate electrodes, e.g. metal-semiconductor FETs [MESFET]
- H10D30/877—FETs having Schottky gate electrodes, e.g. metal-semiconductor FETs [MESFET] having recessed gate electrodes
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57226602A JPS59119765A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 電界効果型半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57226602A JPS59119765A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 電界効果型半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59119765A true JPS59119765A (ja) | 1984-07-11 |
JPH0472381B2 JPH0472381B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1992-11-18 |
Family
ID=16847763
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57226602A Granted JPS59119765A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 電界効果型半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59119765A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01500946A (ja) * | 1986-10-08 | 1989-03-30 | ヒユーズ・エアクラフト・カンパニー | 電界効果トランジスタ用tゲート電極およびそれを形成する電界効果トランジスタ |
JPH01274477A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-02 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH0265141A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH02299245A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Rohm Co Ltd | 電界効果トランジスタの製造方法 |
JPH0319244A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-28 | Matsushita Electron Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH05211171A (ja) * | 1990-03-12 | 1993-08-20 | Electron & Telecommun Res Inst | ガリウム砒素半導体素子の製造方法 |
JPH0897232A (ja) * | 1994-09-29 | 1996-04-12 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2003100776A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Hitachi Cable Ltd | 化合物半導体ウェハ及びそれを用いた電界効果トランジスタ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58194373A (ja) * | 1982-05-10 | 1983-11-12 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP57226602A patent/JPS59119765A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58194373A (ja) * | 1982-05-10 | 1983-11-12 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0472381B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1992-11-18 |
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