JPS59110641A - アルキルエ−テル結合を有する液晶物質 - Google Patents
アルキルエ−テル結合を有する液晶物質Info
- Publication number
- JPS59110641A JPS59110641A JP22054682A JP22054682A JPS59110641A JP S59110641 A JPS59110641 A JP S59110641A JP 22054682 A JP22054682 A JP 22054682A JP 22054682 A JP22054682 A JP 22054682A JP S59110641 A JPS59110641 A JP S59110641A
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- Japan
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- formula
- compound
- alkyl ether
- alkyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の化合物は新規な液晶化合物及びそれを含有する
液晶組成物に関する。
液晶組成物に関する。
液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性及び誘電異方
性を利用したものであるが、その表示様式によってTN
型(ねじれネマチック型)、DS型(動的散乱型)、ゲ
スト・ホスト型、DAP型など各種の方式に分けられ、
夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。しかしいず
れの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定であること
が必要であることは共通しておシ、又、室温を中心とし
て出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示すものが求めら
れている。しかし現在のところ単一化合物ではこの様な
条件を満たす物質はなく、数種の液晶化合物や非液晶化
合物を混合して得られる液晶組成物を使用しているのが
現状である。特に最近は一20°C〜80°Cという様
な広い温度範囲で作動する液晶表示素子が要求される様
になって来た。この様な要求を満足させるためには粘度
、特に低温での粘度を低くすることが有力な手段である
。しかし一般的には透明点(N−I点)の高いものは粘
度が高く、粘度が低いものは、例えばアルキルフェニル
シクロヘキサン誘導体などは透明点が低い。
性を利用したものであるが、その表示様式によってTN
型(ねじれネマチック型)、DS型(動的散乱型)、ゲ
スト・ホスト型、DAP型など各種の方式に分けられ、
夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。しかしいず
れの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定であること
が必要であることは共通しておシ、又、室温を中心とし
て出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示すものが求めら
れている。しかし現在のところ単一化合物ではこの様な
条件を満たす物質はなく、数種の液晶化合物や非液晶化
合物を混合して得られる液晶組成物を使用しているのが
現状である。特に最近は一20°C〜80°Cという様
な広い温度範囲で作動する液晶表示素子が要求される様
になって来た。この様な要求を満足させるためには粘度
、特に低温での粘度を低くすることが有力な手段である
。しかし一般的には透明点(N−I点)の高いものは粘
度が高く、粘度が低いものは、例えばアルキルフェニル
シクロヘキサン誘導体などは透明点が低い。
本発明の目的は上記の様な要望にこたえる低粘性でかつ
液晶温度範囲の広い液晶組成物を構成するのに有用な化
合物を提供すること、にある。
液晶温度範囲の広い液晶組成物を構成するのに有用な化
合物を提供すること、にある。
即ち、本発明は一般式
%式%()
(上式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基又はアルコ
キシ基を示し、R′は炭素数1〜5のアルキル基を示す
) で表わされる4−(4−()ランス−4−置換−シクロ
ヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンジルアルキ
ルエーテル? 6 ル、。
キシ基を示し、R′は炭素数1〜5のアルキル基を示す
) で表わされる4−(4−()ランス−4−置換−シクロ
ヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンジルアルキ
ルエーテル? 6 ル、。
この化合物は高い液晶−透明点をもち、かつ低粘性であ
るので低温から高温まで広い温度範囲で動作する液晶組
成物を得るのに有用なものである。
るので低温から高温まで広い温度範囲で動作する液晶組
成物を得るのに有用なものである。
次に本発明の化合物の製造法を示す。まずp−プロモベ
ンジルブロマイドヲ、アルコール中ナトリウムアルコキ
シドと反応させp−ブロモベンジルアルキルエーテルを
得る。このものをテトラヒドロフラン中マグネシウムに
作用させ4−ペンジルアルキルエーテルマグ不シウムブ
ロミドとする。これに4−(トランス−4−アルキルシ
クロヘキシル)シクロヘキサンヲ加、t4−、(4−(
)ランス−4−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン−1−オール〕ベンジルアルキルエーテルを得る。こ
れに硫酸水素カリウムを触媒として脱水すると目的の4
−(4−()ランス−4−アルキルシクロヘキシル)シ
クロヘキセン−11ル〕ベンジルアルキルエーテルが得
られる。
ンジルブロマイドヲ、アルコール中ナトリウムアルコキ
シドと反応させp−ブロモベンジルアルキルエーテルを
得る。このものをテトラヒドロフラン中マグネシウムに
作用させ4−ペンジルアルキルエーテルマグ不シウムブ
ロミドとする。これに4−(トランス−4−アルキルシ
クロヘキシル)シクロヘキサンヲ加、t4−、(4−(
)ランス−4−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン−1−オール〕ベンジルアルキルエーテルを得る。こ
れに硫酸水素カリウムを触媒として脱水すると目的の4
−(4−()ランス−4−アルキルシクロヘキシル)シ
クロヘキセン−11ル〕ベンジルアルキルエーテルが得
られる。
以上を化学式で示すと次のようになる。
(1)
以下実施例iCよ)更に詳細に製造法、使用例について
説明する。
説明する。
実施例1
4−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
シクロヘキセン−1−イル〕ベンジルメチルエーテルの
製造法 無水メタノール200g1中に金属ナトリウム5.5y
を多片づつ加えナトリウムメトキシドとする。この溶液
にp−ブロモベンジルプロミド50fを乾燥トルエン1
00rlに溶かした液を滴下していく。滴下後3時間還
流し放冷した後トルエン11、水11を加え分液洗浄を
施こす。
シクロヘキセン−1−イル〕ベンジルメチルエーテルの
製造法 無水メタノール200g1中に金属ナトリウム5.5y
を多片づつ加えナトリウムメトキシドとする。この溶液
にp−ブロモベンジルプロミド50fを乾燥トルエン1
00rlに溶かした液を滴下していく。滴下後3時間還
流し放冷した後トルエン11、水11を加え分液洗浄を
施こす。
油状層を集めゼオライトで乾燥させ溶媒を減圧留去後蒸
留し、その主留分(88〜94°C/8〜10 ma+
Hg)40 fを得た。
留し、その主留分(88〜94°C/8〜10 ma+
Hg)40 fを得た。
このものの9.9geテトラヒドロフラン50m1に浴
かし、窒素気流中マグネシウム片1.21に作用させる
。かるく還流する程度に温度をおさえ、3時間後、マグ
ネシウムは溶けて均一になる。水冷後、4−()ランス
−4−プロピルシクロヘキシル)シクロへキサノン8.
91のテトラヒドロフラン溶液を加える。滴下後2時間
還流し、冷却した後3N塩酸100m/を加え、ヘプタ
ン300ゴで抽出する。水洗後、集めた油状層の溶媒を
減圧留去する。残った油状物が4−(4−()7ンスー
4−7”ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン−1−
オール〕ベンジルメチルエーテルである。このものに硫
酸水素カリウム2yを加え、窒素気流中160°Cで2
時間脱水する。冷却後ヘプタン30(1+/を加え硫酸
水素カリウムを炉別し、ヘプタン層を水洗し洗液が中性
になるまで行なう。ヘプタンを減圧留去後、トルエンと
アセトンに溶かし再結晶を行なう。得られた結晶が4−
(4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)シク
ロヘキセン−1−イル〕ベンジルメチルエーテルである
。収量3−2fo このものの結晶−スメクチック点は
室温以下、液晶−透明点は300°C以上であった。
かし、窒素気流中マグネシウム片1.21に作用させる
。かるく還流する程度に温度をおさえ、3時間後、マグ
ネシウムは溶けて均一になる。水冷後、4−()ランス
−4−プロピルシクロヘキシル)シクロへキサノン8.
91のテトラヒドロフラン溶液を加える。滴下後2時間
還流し、冷却した後3N塩酸100m/を加え、ヘプタ
ン300ゴで抽出する。水洗後、集めた油状層の溶媒を
減圧留去する。残った油状物が4−(4−()7ンスー
4−7”ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン−1−
オール〕ベンジルメチルエーテルである。このものに硫
酸水素カリウム2yを加え、窒素気流中160°Cで2
時間脱水する。冷却後ヘプタン30(1+/を加え硫酸
水素カリウムを炉別し、ヘプタン層を水洗し洗液が中性
になるまで行なう。ヘプタンを減圧留去後、トルエンと
アセトンに溶かし再結晶を行なう。得られた結晶が4−
(4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)シク
ロヘキセン−1−イル〕ベンジルメチルエーテルである
。収量3−2fo このものの結晶−スメクチック点は
室温以下、液晶−透明点は300°C以上であった。
実施例2
実施例1と同様にして4−(4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル)ベン
ジルエチルエーテルヲ製造した。このものの結晶−スメ
クチック点は室温以下、液晶−透明点は300°C以上
であった。
ピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル)ベン
ジルエチルエーテルヲ製造した。このものの結晶−スメ
クチック点は室温以下、液晶−透明点は300°C以上
であった。
実施例3(使用例)
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 28% トランス−4−ペンテルー(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 42% トランス−4−へブチル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 30% なる組成の液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一3
〜52°Cである。この液晶組成物をセル厚10μmの
TNセル(ねじれネマチックセル)に封入したものの動
作しきい電圧は1.53V、飽和電圧は2.12Vであ
った。又粘度は20℃で23 cpであった。
クロヘキサン 28% トランス−4−ペンテルー(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 42% トランス−4−へブチル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 30% なる組成の液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一3
〜52°Cである。この液晶組成物をセル厚10μmの
TNセル(ねじれネマチックセル)に封入したものの動
作しきい電圧は1.53V、飽和電圧は2.12Vであ
った。又粘度は20℃で23 cpであった。
上記の液晶組成物90部に本発明の実施例1の4−(4
−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘ
キセン−1−イル〕ベンジルメチルエーテル10部を加
えた液晶組成物はイマチツクー透明点か62.6 ’C
に上昇し、上記セルに封入したものの動作しきい電圧は
1.6v、飽和電圧は2.2Vとわずかに上昇した。又
20℃における粘朋は25 cpとあ1シ変化しなかっ
た。
−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘ
キセン−1−イル〕ベンジルメチルエーテル10部を加
えた液晶組成物はイマチツクー透明点か62.6 ’C
に上昇し、上記セルに封入したものの動作しきい電圧は
1.6v、飽和電圧は2.2Vとわずかに上昇した。又
20℃における粘朋は25 cpとあ1シ変化しなかっ
た。
以上
Claims (2)
- (1)一般式 %式% (上式中、Rは炭素数1〜10を有するアルキル基又は
アルコキシ基を示し、R′は炭素数1〜5を有するアル
キル基を示す) で表わされる4−(4−()ランス−4−置換−シクロ
ヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンジルアルキ
ルエーテル。 - (2)一般式 %式% (上式中、Rは炭素数1〜10を有するアルキル基又は
アルコキシ基を示し、R′は炭素数1〜5を有するアル
キル基を示す) で表わされる4−(4−()ランス−4−置換−シクロ
ヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンジルアルキ
ルエーテルを少なくとも一種含有することを特徴とする
液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22054682A JPS59110641A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | アルキルエ−テル結合を有する液晶物質 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22054682A JPS59110641A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | アルキルエ−テル結合を有する液晶物質 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59110641A true JPS59110641A (ja) | 1984-06-26 |
Family
ID=16752681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22054682A Pending JPS59110641A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | アルキルエ−テル結合を有する液晶物質 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59110641A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4698177A (en) * | 1985-04-16 | 1987-10-06 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Cyclohexylcyclohexene derivatives |
-
1982
- 1982-12-16 JP JP22054682A patent/JPS59110641A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4698177A (en) * | 1985-04-16 | 1987-10-06 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Cyclohexylcyclohexene derivatives |
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