JPS5875154A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置Info
- Publication number
- JPS5875154A JPS5875154A JP17319081A JP17319081A JPS5875154A JP S5875154 A JPS5875154 A JP S5875154A JP 17319081 A JP17319081 A JP 17319081A JP 17319081 A JP17319081 A JP 17319081A JP S5875154 A JPS5875154 A JP S5875154A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- heated
- heating table
- rails
- rail
- Prior art date
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- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は加熱装置に関するものであり、とくに基板（ガ
ラス金属、半導体など）の上に塗布された塗膜（フォト
レジスト膜、保護膜、介在層、絶縁層等）の均一な乾燥
固化のための加熱装置に関するものである。
ラス金属、半導体など）の上に塗布された塗膜（フォト
レジスト膜、保護膜、介在層、絶縁層等）の均一な乾燥
固化のための加熱装置に関するものである。
従来上記のような被加熱体を連続工程の一環として加熱
搬送する装置において、長時間の加熱を行う必要がある
場合には加熱装置は長大なものとなり、流れ作業におけ
るその他の加工装置との関係から無視できない大きなス
に一スを占拠し、問題となって来たものである。また加
熱方法としても上からの加熱のみでは塗膜の表面が先ず
固化して、塗膜の中部や下層が固化する過程でその中に
気泡が塩９残され、そのため膜表面に突起を生じたり１
塗膜の内部の遅れた収縮により塗膜面に微細な凹凸を生
じたりする。
搬送する装置において、長時間の加熱を行う必要がある
場合には加熱装置は長大なものとなり、流れ作業におけ
るその他の加工装置との関係から無視できない大きなス
に一スを占拠し、問題となって来たものである。また加
熱方法としても上からの加熱のみでは塗膜の表面が先ず
固化して、塗膜の中部や下層が固化する過程でその中に
気泡が塩９残され、そのため膜表面に突起を生じたり１
塗膜の内部の遅れた収縮により塗膜面に微細な凹凸を生
じたりする。
本発明は上記のような従来の欠点を改善するもので、上
記のような塗装された基板を下からの加熱を重点的に行
い上面からの加熱とを併せて塗膜の均一な乾燥を行うも
ので、また間歇的な前進と停止を繰返す搬送機構によっ
て加熱装置としての長さを節約し、スペース的に小型で
しかも可成り長時間の加熱が行えるように塗膜内に生ず
る気泡による微細な表面突起の生起を防止することがで
きるものであって、以下図示の実施例によって本発明を
具体的に説明する。
記のような塗装された基板を下からの加熱を重点的に行
い上面からの加熱とを併せて塗膜の均一な乾燥を行うも
ので、また間歇的な前進と停止を繰返す搬送機構によっ
て加熱装置としての長さを節約し、スペース的に小型で
しかも可成り長時間の加熱が行えるように塗膜内に生ず
る気泡による微細な表面突起の生起を防止することがで
きるものであって、以下図示の実施例によって本発明を
具体的に説明する。
第１図は本発明の加熱装置の正面の断面的な説明図であ
る。また第２図は加熱部の搬送状態を上面から示した説
明図、第３図は加熱台上の搬送の説明図である。
る。また第２図は加熱部の搬送状態を上面から示した説
明図、第３図は加熱台上の搬送の説明図である。
加熱台１はヒーター（図示せず）が内蔵されており、上
面平滑な長尺型で水平に置かれ上面に始端から終端まで
連なる複数本の平行溝２（第３図参照）を有する。この
溝２の中にそれぞれレール３が、上↑動を伴って円弧運
動で前進後退するリンク機構４をレール３の両端部に取
付けることによりレール３は加熱台１の上面に出たり、
沈んだり第１図の点線で示すように略円弧運動を行って
水平を保ちつつ加熱台１上の被加熱体Ａを間歇的に前進
、静止の繰返しによって先方に搬送するものである□。
面平滑な長尺型で水平に置かれ上面に始端から終端まで
連なる複数本の平行溝２（第３図参照）を有する。この
溝２の中にそれぞれレール３が、上↑動を伴って円弧運
動で前進後退するリンク機構４をレール３の両端部に取
付けることによりレール３は加熱台１の上面に出たり、
沈んだり第１図の点線で示すように略円弧運動を行って
水平を保ちつつ加熱台１上の被加熱体Ａを間歇的に前進
、静止の繰返しによって先方に搬送するものである□。
すなわちこのリンク機構４によりレール３が加熱台表面
下にあるときは被加熱体Ａは加熱台１上に静止され、リ
ンク機構によりレール３が加熱台１の上面より出るとき
は被加熱体Ａは水平を保ったままほぼ円弧状に前進する
レール３の上に移って搬送される。この運動が間歇的に
繰返されるので被加熱体Ａは加熱台１上で先方に搬送さ
れる。
下にあるときは被加熱体Ａは加熱台１上に静止され、リ
ンク機構によりレール３が加熱台１の上面より出るとき
は被加熱体Ａは水平を保ったままほぼ円弧状に前進する
レール３の上に移って搬送される。この運動が間歇的に
繰返されるので被加熱体Ａは加熱台１上で先方に搬送さ
れる。
被加熱体Ａは常に上方から赤外線ヒーター５により加熱
され、かつ加熱台１上に静置されている時は加熱台１の
上面からも能率よく直接加熱全うける。
され、かつ加熱台１上に静置されている時は加熱台１の
上面からも能率よく直接加熱全うける。
間歇的に加熱台上を被加熱体Ａを搬送する運動はリンク
機構４によって行われる。すなわち搬送レール３には矢
印方向に回転する回転車６、逆Ｔ字型クランク７および
支持腕８よすする一種のリンク機構がムリつけられ、第
１図の点線で示したように円弧運動により一定距離だけ
先方（右方）に被加熱体Ａｉ逆進行せるものである。加
熱台１の始端および終端にはコンベアベルト９が接続し
加熱台１上に被加熱体Ａを搬入あるいは搬出が行われる
。
機構４によって行われる。すなわち搬送レール３には矢
印方向に回転する回転車６、逆Ｔ字型クランク７および
支持腕８よすする一種のリンク機構がムリつけられ、第
１図の点線で示したように円弧運動により一定距離だけ
先方（右方）に被加熱体Ａｉ逆進行せるものである。加
熱台１の始端および終端にはコンベアベルト９が接続し
加熱台１上に被加熱体Ａを搬入あるいは搬出が行われる
。
なお加熱時間を調節するには例えばリンク機構の回転車
６を連続的にしたり、間歇的にしたりまたは回転速度を
調節する等の方法がある。
６を連続的にしたり、間歇的にしたりまたは回転速度を
調節する等の方法がある。
本発明の加熱装置は上述の通りであるので写真乾板や超
精密電子部品等の塗膜の加熱乾燥に通し、塗膜全体を均
一に加熱乾燥して表面平滑な膜面を得るに優れた性能を
示すものである。
精密電子部品等の塗膜の加熱乾燥に通し、塗膜全体を均
一に加熱乾燥して表面平滑な膜面を得るに優れた性能を
示すものである。
第１図は本発明の加熱装置の正面の断面的な説明図、第
２図は同じくその加熱台の上面説明図、第３図はレール
の運動の説明図゛である。 １・・・・シ・・・加熱台 ２・・・・・・・・平行溝 ３・・・・・・・・レール ４・・・・・・・・ リンク機構 ５・・・・・・・・赤外線ヒーター ６・・・・・・・・回転車 ７・・・・・・・・逆Ｔ字型クランク ８・・・・・・・・支持腕 ９ｅ・−ｅ・・・・コンベアベルト Ａ・・・・・・・・被加熱体 特許出願人 凸版印刷株式会社
２図は同じくその加熱台の上面説明図、第３図はレール
の運動の説明図゛である。 １・・・・シ・・・加熱台 ２・・・・・・・・平行溝 ３・・・・・・・・レール ４・・・・・・・・ リンク機構 ５・・・・・・・・赤外線ヒーター ６・・・・・・・・回転車 ７・・・・・・・・逆Ｔ字型クランク ８・・・・・・・・支持腕 ９ｅ・−ｅ・・・・コンベアベルト Ａ・・・・・・・・被加熱体 特許出願人 凸版印刷株式会社
Claims (1)
- 上方で下向きに照射する赤外線ヒーターと、その下に設
けた長尺の上面平滑な加熱台よりなり、該加熱台には始
端から終端まで連なる複数本の平行溝を設け、該平行溝
内にそれぞれの搬送レールを設けるとともに上記溝内で
該レールは加熱台の上面以下にあるときは被加熱体は加
熱台上で残留静置され、レールが加熱台面より上昇する
ときは搬送方向にほぼ円弧状に運動して被加熱体を一定
距離だけ搬゛送し、次いで加熱台面より下降して後戻り
することにより被加熱体を加熱台上に静置するように間
歇的に繰返えすリンク機構をし、−ルの始端部および終
端部に取付けてなることを特徴とする加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17319081A JPS5875154A (ja) | 1981-10-29 | 1981-10-29 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17319081A JPS5875154A (ja) | 1981-10-29 | 1981-10-29 | 加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5875154A true JPS5875154A (ja) | 1983-05-06 |
| JPH0241163B2 JPH0241163B2 (ja) | 1990-09-14 |
Family
ID=15955757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17319081A Granted JPS5875154A (ja) | 1981-10-29 | 1981-10-29 | 加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5875154A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59228731A (ja) * | 1983-06-09 | 1984-12-22 | Toshiba Corp | ウエハ−移送装置 |
| JPS62183521A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-11 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置の製造装置 |
| JPS62172150U (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-31 | ||
| JPH0257184U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-25 | ||
| JP2007158088A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Tokyo Electron Ltd | 加熱処理装置、加熱処理方法、制御プログラム、コンピュータ読取可能な記憶媒体 |
| JP2009052762A (ja) * | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
| JP2021527955A (ja) * | 2018-06-15 | 2021-10-14 | マトソン テクノロジー インコーポレイテッドＭａｔｔｓｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， Ｉｎｃ． | 被加工材の露光後ベーク処理のための方法および装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4913264U (ja) * | 1972-05-03 | 1974-02-04 | ||
| JPS5113738U (ja) * | 1974-07-18 | 1976-01-31 | ||
| JPS51124839A (en) * | 1975-04-25 | 1976-10-30 | Hitachi Ltd | Infrared ray baking furnace |
| JPS54149471A (en) * | 1978-05-16 | 1979-11-22 | Nec Corp | Object moving unit |
| JPS5558516U (ja) * | 1978-10-11 | 1980-04-21 |
-
1981
- 1981-10-29 JP JP17319081A patent/JPS5875154A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5558516U (ja) * | 1978-10-11 | 1980-04-21 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4672538B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2011-04-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱処理装置 |
| JP2009052762A (ja) * | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
| JP2021527955A (ja) * | 2018-06-15 | 2021-10-14 | マトソン テクノロジー インコーポレイテッドＭａｔｔｓｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， Ｉｎｃ． | 被加工材の露光後ベーク処理のための方法および装置 |
| US11586113B2 (en) | 2018-06-15 | 2023-02-21 | Mattson Technology, Inc | Methods and apparatus for post exposure bake processing of a workpiece |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0241163B2 (ja) | 1990-09-14 |
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