JPS5860574A - 電界効果トランジスタの製造方法 - Google Patents
電界効果トランジスタの製造方法Info
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- JPS5860574A JPS5860574A JP56158123A JP15812381A JPS5860574A JP S5860574 A JPS5860574 A JP S5860574A JP 56158123 A JP56158123 A JP 56158123A JP 15812381 A JP15812381 A JP 15812381A JP S5860574 A JPS5860574 A JP S5860574A
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- JP
- Japan
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- layer
- forming
- resist mask
- ion implantation
- insulating film
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- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
Landscapes
- Local Oxidation Of Silicon (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56158123A JPS5860574A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56158123A JPS5860574A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5860574A true JPS5860574A (ja) | 1983-04-11 |
JPH0324060B2 JPH0324060B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1991-04-02 |
Family
ID=15664794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56158123A Granted JPS5860574A (ja) | 1981-10-06 | 1981-10-06 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5860574A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5873164A (ja) * | 1981-10-27 | 1983-05-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキゲ−ト電界効果トランジスタとその製造方法 |
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JPS60194577A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電界効果トランジスタの製造方法 |
JPS60194578A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電界効果トランジスタの製造方法 |
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JPS61188971A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキゲ−ト電界効果トランジスタ、およびその製造方法 |
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JPS62254470A (ja) * | 1986-04-28 | 1987-11-06 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 接合型薄膜トランジスタの製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1981
- 1981-10-06 JP JP56158123A patent/JPS5860574A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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JPS622572A (ja) * | 1985-04-26 | 1987-01-08 | トライクイント セミコンダクタ インコ−ポレイテツド | Fetゲ−トの製法 |
JPS62254470A (ja) * | 1986-04-28 | 1987-11-06 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 接合型薄膜トランジスタの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0324060B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1991-04-02 |
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