JPS5858123B2 - 気体分離膜 - Google Patents
気体分離膜Info
- Publication number
- JPS5858123B2 JPS5858123B2 JP1043981A JP1043981A JPS5858123B2 JP S5858123 B2 JPS5858123 B2 JP S5858123B2 JP 1043981 A JP1043981 A JP 1043981A JP 1043981 A JP1043981 A JP 1043981A JP S5858123 B2 JPS5858123 B2 JP S5858123B2
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- JP
- Japan
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- membrane
- disiloxane
- oxygen
- solvent
- polymer
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジシロキサン構造を含むポリウレタンからなる
気体分離膜に関する。
気体分離膜に関する。
近年、省資源、省エネルギーの観点から有機重合体膜に
よる気体分離、特に空気の酸素富化が注目されているが
、従来知られている酸素富化用膜は酸素の透過速度が小
さすぎ、或いは窒素に対する酸素の透過係数比が小さい
ため、工業的な規模で酸素富化を行なうには適しない。
よる気体分離、特に空気の酸素富化が注目されているが
、従来知られている酸素富化用膜は酸素の透過速度が小
さすぎ、或いは窒素に対する酸素の透過係数比が小さい
ため、工業的な規模で酸素富化を行なうには適しない。
例えばポリジメチルシロキサンは酸素の透過係数が1O
−81Z7713(STP)・cIIVcIrL2・5
ec−cIIlHt台であって、従来知られている重合
体膜のなかでは最大であるが、窒素に対する透過係数比
が精々2程度であって、酸素の選択透過性又は分離性に
劣り、高濃度の酸素を得ようとすれば多段の膜処理を要
することとなり、装置、費用のいずれの点からも実用的
でない。
−81Z7713(STP)・cIIVcIrL2・5
ec−cIIlHt台であって、従来知られている重合
体膜のなかでは最大であるが、窒素に対する透過係数比
が精々2程度であって、酸素の選択透過性又は分離性に
劣り、高濃度の酸素を得ようとすれば多段の膜処理を要
することとなり、装置、費用のいずれの点からも実用的
でない。
また、この膜は機械的強度が小さく、比較的厚い膜を用
いる必要があり、従って、透過係数は大きくとも、透過
速度を大きくすることができない。
いる必要があり、従って、透過係数は大きくとも、透過
速度を大きくすることができない。
このため特公昭47−51715号公報にはポリビニル
トリメチルシランからなる酸素富化膜力提案されておシ
、酸素の窒素に対する透過係数比はポリジメチルシロキ
サンの約2倍に改善されているが、耐薬品性に劣シ、空
気中の汚染物質、ポンプ類からの油等により劣化しやす
い欠点がある。
トリメチルシランからなる酸素富化膜力提案されておシ
、酸素の窒素に対する透過係数比はポリジメチルシロキ
サンの約2倍に改善されているが、耐薬品性に劣シ、空
気中の汚染物質、ポンプ類からの油等により劣化しやす
い欠点がある。
また、米国特許第3189662号にはポリシロキサン
−ポリカーボネートブロック共重合体が開示されている
が、ポリカーボネート構造を含むために、ポリビニルト
リメチルシラン膜同様に耐薬品性に劣る。
−ポリカーボネートブロック共重合体が開示されている
が、ポリカーボネート構造を含むために、ポリビニルト
リメチルシラン膜同様に耐薬品性に劣る。
本発明者らは酸素の選択透過性、耐薬品性、機構的強度
等にすぐれる気体分離膜について鋭意研究を重ねた結果
、ポリウレタンの主鎖中にジシロキサン構造を導入する
ことにより上記要求に適う気体分離膜を得ることができ
ることを見出し、本発明に至ったものである。
等にすぐれる気体分離膜について鋭意研究を重ねた結果
、ポリウレタンの主鎖中にジシロキサン構造を導入する
ことにより上記要求に適う気体分離膜を得ることができ
ることを見出し、本発明に至ったものである。
本発明による気体分離膜は一般式
(但し、R1は2価の有機基、R2はそれぞれ独立にア
ルキル基又は芳香族基、nは1〜4の整数を示す。
ルキル基又は芳香族基、nは1〜4の整数を示す。
)で表わされる繰返し単位を有するポリ(ウレタン/ジ
シロキサン)からなることを特徴とする。
シロキサン)からなることを特徴とする。
** 一般式(I)におして、RIH2価の有機基、
好昔しくは脂肪族基又は芳香族基であり、ここに芳香族
基はへテロ原子を介して結合されていてもよい。
好昔しくは脂肪族基又は芳香族基であり、ここに芳香族
基はへテロ原子を介して結合されていてもよい。
従って、これらの具体例として
(CIF(2)、一等を挙げることができ、ここにXは
2価の有機結合基、即ち、原子価結合、アルキレン基又
はヘテロ原子を含んでよい2価基であって、具体例とし
て−CH2−、−C(CH3)2−O−、−S−等を挙
げることがきる。
2価の有機結合基、即ち、原子価結合、アルキレン基又
はヘテロ原子を含んでよい2価基であって、具体例とし
て−CH2−、−C(CH3)2−O−、−S−等を挙
げることがきる。
R2は1価のアルキル基又は芳香族基である。
アルキル基は好ましくは炭素数が1〜4である。
R2の特に好ましい具体例はメチル基又はフェニル基で
ある。
ある。
ジシロキサン構造は4つのR2を有スルが、すべωR2
が同一である必要はない。
が同一である必要はない。
一般式(I)で表わされる繰返し単位を有するポリ(ウ
レタン/ジシロキサン)は一般式 で表わされるジシロキサン系ジオールとを適宜の有機溶
剤中にて加熱、反応させることによって得られる。
レタン/ジシロキサン)は一般式 で表わされるジシロキサン系ジオールとを適宜の有機溶
剤中にて加熱、反応させることによって得られる。
上記一般式(n)で表わされるジイソシアネートにおい
て、R1は前記したとおりであり、好ましいジイソシア
ネートの具体例としてトリレンジイソシアネ−)、フェ
ニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ジフェニルプロパンジイソシアネート、ジフェ
ニルエーテルジイソシアネート、ナフタレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等を挙げるこ
とができる。
て、R1は前記したとおりであり、好ましいジイソシア
ネートの具体例としてトリレンジイソシアネ−)、フェ
ニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ジフェニルプロパンジイソシアネート、ジフェ
ニルエーテルジイソシアネート、ナフタレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等を挙げるこ
とができる。
筐た、上記一般式(2)で表わされるジシロキサン系ジ
オールにかいてb R2及びnは前記したと釦りであり
、一般に既に知られている方法によって得ることができ
る。
オールにかいてb R2及びnは前記したと釦りであり
、一般に既に知られている方法によって得ることができ
る。
即ち、n = 1の場合は米国特許第2527591号
に、n = 2及び3の場合はJ、Org、Chem、
25,1637(1950)に、また、n = 4の場
合は米国特許第3083219号に開示されている。
に、n = 2及び3の場合はJ、Org、Chem、
25,1637(1950)に、また、n = 4の場
合は米国特許第3083219号に開示されている。
上記ジイソシアネートとジシロキサンとを反応させるた
めの反応溶剤は好1しくは、これら両者を共に溶解し得
ると共に、これらに対して不活性であり、且つ、生成す
るポリ(ウレタン/ジシロキサン)重合体をも溶解し得
るものが用いられる。
めの反応溶剤は好1しくは、これら両者を共に溶解し得
ると共に、これらに対して不活性であり、且つ、生成す
るポリ(ウレタン/ジシロキサン)重合体をも溶解し得
るものが用いられる。
好ましい有機溶剤の具体例としてはジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルア
セトアミド、N、N−ジメチルホルム−rミド等の非プ
ロトン性極性有機溶剤が挙げられ一種又は二種以上の混
合物が用いられ、好1しくは上記溶剤とメチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
脂肪族、脂環族ケトン類との混合溶剤が用いられる。
ド、N−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルア
セトアミド、N、N−ジメチルホルム−rミド等の非プ
ロトン性極性有機溶剤が挙げられ一種又は二種以上の混
合物が用いられ、好1しくは上記溶剤とメチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
脂肪族、脂環族ケトン類との混合溶剤が用いられる。
一般にジイソシアネートは上記非プロトン性極性有機溶
剤に難溶性であるが、ケトン類との混合溶剤を用いるこ
とによりジオールとの反応を均−系又は均−系に近い状
態で行なうことができる。
剤に難溶性であるが、ケトン類との混合溶剤を用いるこ
とによりジオールとの反応を均−系又は均−系に近い状
態で行なうことができる。
溶剤の使用量は特に制限されないが、ジイソシアネート
とジシロキサン系ジオールとの合計量が10〜50重量
係、好1しくは20〜40重量係となるように用いられ
る。
とジシロキサン系ジオールとの合計量が10〜50重量
係、好1しくは20〜40重量係となるように用いられ
る。
重合反応の温度は通常50〜150℃の範囲であり、反
応に要する時間は通常、数時間〜数十時間である。
応に要する時間は通常、数時間〜数十時間である。
尚、高分子量の重合体を得るには、ジシロキサン系ジオ
ールに対してジイソシアネートを2〜45モル係程度過
剰に用いるのがよい。
ールに対してジイソシアネートを2〜45モル係程度過
剰に用いるのがよい。
このようにして得られるポリ(ウレタン/ジシロキサン
)は通常、0.4〜1.2の対数粘度を有し強靭な膜に
形成することができる。
)は通常、0.4〜1.2の対数粘度を有し強靭な膜に
形成することができる。
この重合体は重合反応溶剤として例示したような前記極
性溶剤及びテトラヒドロフランのような一部の環状エー
テルを除き、はとんどの有機溶剤に不活性であって、極
めてすぐれた耐薬品性を有している。
性溶剤及びテトラヒドロフランのような一部の環状エー
テルを除き、はとんどの有機溶剤に不活性であって、極
めてすぐれた耐薬品性を有している。
本発明による気体分離膜は種々の方法によって製造する
ことができるが、普通は、上記ポリ(ウレタン/ジシロ
キサン)を製膜液溶剤に溶解して均一な製膜液とし、こ
れを適宜の支持基材に流延塗布した後、加熱処理して溶
剤を蒸発させて均質な膜とする。
ことができるが、普通は、上記ポリ(ウレタン/ジシロ
キサン)を製膜液溶剤に溶解して均一な製膜液とし、こ
れを適宜の支持基材に流延塗布した後、加熱処理して溶
剤を蒸発させて均質な膜とする。
気体の透過速度を犬きくするためには膜厚は薄い程好ま
しいが、一方、機械的強度の点からは厚い方が好1しく
、これらの観点から膜厚は0.05〜30μが望ましい
。
しいが、一方、機械的強度の点からは厚い方が好1しく
、これらの観点から膜厚は0.05〜30μが望ましい
。
従って、製膜液の重合体濃度は10重量係以下がよい。
製膜液溶剤は重合反応溶剤と同様にジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、l’lJ。
ド、N−メチル−2−ピロリドン、l’lJ。
N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムア
ミド等の非プロトン性極性有機溶剤が好ましい。
ミド等の非プロトン性極性有機溶剤が好ましい。
また、テトラヒドロフランもポリ(ウレタン/ジシロキ
サン)重合体をよく溶解するので製膜液溶剤として好適
である。
サン)重合体をよく溶解するので製膜液溶剤として好適
である。
必要ならば上記非プロトン性有機溶剤及びテトラヒドロ
フランの混合溶剤も用いられる。
フランの混合溶剤も用いられる。
製膜液を支持基材に塗布後、加熱する温度は製膜液溶剤
にもよるが、上記非プロトン性極性有機溶剤の場合には
80〜140℃、好1しくは100〜120℃である。
にもよるが、上記非プロトン性極性有機溶剤の場合には
80〜140℃、好1しくは100〜120℃である。
特に好1しくほこのような温度範囲で溶剤のほとんど蒸
発させた後、150℃程度に昇温しで溶剤を完全に蒸発
させる。
発させた後、150℃程度に昇温しで溶剤を完全に蒸発
させる。
製膜液溶剤としてテトラヒドロフランを用いた場合には
常温でこれを蒸発させることができ、均質な膜を容易に
得ることができる。
常温でこれを蒸発させることができ、均質な膜を容易に
得ることができる。
本発明の気体分離膜は以上のように主鎖にジシロキサン
構造を有するポリウレタンからなり、ジシロキサン構造
の大きい酸素の透過速度とポリウレタン構造のすぐれた
酸素の選択透過性、耐薬品性と相俟って特に酸素富化に
好適であう、更に機械的強度も大きいので、例えば空気
の酸素富化の工業的実施に最適である。
構造を有するポリウレタンからなり、ジシロキサン構造
の大きい酸素の透過速度とポリウレタン構造のすぐれた
酸素の選択透過性、耐薬品性と相俟って特に酸素富化に
好適であう、更に機械的強度も大きいので、例えば空気
の酸素富化の工業的実施に最適である。
しかしながら、他の気体混合物の膜分離への使用を妨げ
るものではない。
るものではない。
以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
定されるものではない。
尚、以下の実施例において、気体の透過係数Pは25℃
で高真空法により求めたものであり、分離係数αは25
℃における当該気体の透過係数/窒素の透過係数CPN
2)から求めたものである。
で高真空法により求めたものであり、分離係数αは25
℃における当該気体の透過係数/窒素の透過係数CPN
2)から求めたものである。
実施例 1
ビス(ヒドロキシエチル)テトラメチルジシロキサン(
8,9y、 o、o 40モル)のジメチルスルホキシ
ド(27@)溶液をジフェニルメタンジイソシアネート
(13,0,@、0.052モル)のメチルイソブチル
ケトン(120,P)溶液に加え、攪拌下に加熱した。
8,9y、 o、o 40モル)のジメチルスルホキシ
ド(27@)溶液をジフェニルメタンジイソシアネート
(13,0,@、0.052モル)のメチルイソブチル
ケトン(120,P)溶液に加え、攪拌下に加熱した。
徐々に粘度が上昇した。100℃の温度で5時間反応さ
せて非常に粘稠な溶液を。
せて非常に粘稠な溶液を。
得た。
この溶液を大量の水中に投じ、重合体を析出させ、水中
で粉砕した。
で粉砕した。
−夜放置後、重合体を1別し、80℃で10時間真空乾
燥した。
燥した。
得られた重合体は前記一般式(1)において
であった(N−メチル−2−ピロリドン、30’C。
0.5.!ii’/d、/、、以下同じ。
)。この重合体を5重量%のテトラヒドロフラン溶液と
し、スズメッキ板上に流延した後、室温で3※※日間放
置して溶剤を蒸発さぜ、次にスズを水銀でアマルガムに
して溶かし、厚み10μの均質な重合体膜を得た。
し、スズメッキ板上に流延した後、室温で3※※日間放
置して溶剤を蒸発さぜ、次にスズを水銀でアマルガムに
して溶かし、厚み10μの均質な重合体膜を得た。
この重合体膜の気体透過性を高真空法にて測定し、結果
を第1表に示す。
を第1表に示す。
比較例として、実施例1においてビス(ヒドロキシエチ
ル)テトラメチルジシロキサンの代わりにエチレングリ
コール(2,7f、0.043モル)**を用した以外
は実施例1と全く同様にしてポリウレタン膜を調製した
。
ル)テトラメチルジシロキサンの代わりにエチレングリ
コール(2,7f、0.043モル)**を用した以外
は実施例1と全く同様にしてポリウレタン膜を調製した
。
このポリウレタン膜の気体透過性を第2表に示す。
以上の結果から、本発明のポリ(ウレタン/ジシロキサ
ン)膜によれば酸素の窒素に対する分離係数を高く維持
して、酸素の選択透過性を約50倍増大させることがで
きた。
ン)膜によれば酸素の窒素に対する分離係数を高く維持
して、酸素の選択透過性を約50倍増大させることがで
きた。
更に、本発明の膜は前記非プロトン性極性有機溶剤及び
テトラヒドロフランを除くほとんどすべての有機溶剤に
不溶性であって、耐薬品性に著しくすぐれるほか、引張
速度50關/分、温度25℃にて測定した破断強度及び
破断伸びはそれぞれ740 kg/cm”及び4係であ
って、膜は強鞭で十分な機械的強度を有する。
テトラヒドロフランを除くほとんどすべての有機溶剤に
不溶性であって、耐薬品性に著しくすぐれるほか、引張
速度50關/分、温度25℃にて測定した破断強度及び
破断伸びはそれぞれ740 kg/cm”及び4係であ
って、膜は強鞭で十分な機械的強度を有する。
実施例 2
実施例1においてジフェニルメタンジイソシアネートの
代わ9に2.4−)!Jレンジイソシアネート(7,5
f、0.043モル)を、また、ビス(ヒドロキシエチ
ル)テトラメチルジシロキサンの代わりにビス(ヒドロ
キシプロピル)テトラメチルジシロキサン(10,Of
、 0.040 %ル)を用いた以外は、実施例1と
全く同様にして、前記n = 3であって、対数粘度0
.76のポリ(ウレタン/ジシロキサン)重合体を得た
。
代わ9に2.4−)!Jレンジイソシアネート(7,5
f、0.043モル)を、また、ビス(ヒドロキシエチ
ル)テトラメチルジシロキサンの代わりにビス(ヒドロ
キシプロピル)テトラメチルジシロキサン(10,Of
、 0.040 %ル)を用いた以外は、実施例1と
全く同様にして、前記n = 3であって、対数粘度0
.76のポリ(ウレタン/ジシロキサン)重合体を得た
。
この重合体から実施例1と同様にして厚み15μの膜を
調製した。
調製した。
酸素の透過係数は3.OX 10−10 CC(STP
)・cIrL/crfL2・5ec−cIILH2、分
離係数は5.7であった。
)・cIrL/crfL2・5ec−cIILH2、分
離係数は5.7であった。
実施例 3
実施例1においてジフェニルメタンジイソシアネートの
代わりにヘキサメチレンジイソシアネートを、また、ビ
ス(ヒドロキシエチル)テトラメチルジシロキサンの代
わりにビス(ヒドロキシブチル)テトラフェニルジシロ
キサンを用いた以外は、実施例1と全く同様にして、前
記一般式(I)にむいてR1=−(CH2)6.R2=
−C,H5−、n=41対数粘度0.61の重合体を得
た。
代わりにヘキサメチレンジイソシアネートを、また、ビ
ス(ヒドロキシエチル)テトラメチルジシロキサンの代
わりにビス(ヒドロキシブチル)テトラフェニルジシロ
キサンを用いた以外は、実施例1と全く同様にして、前
記一般式(I)にむいてR1=−(CH2)6.R2=
−C,H5−、n=41対数粘度0.61の重合体を得
た。
この重合体から実施f+! 1と同様にして得た膜は酸
素の透過係数8.2×1O−10CC(STP)・cI
rL/CrIL2・sec・cmHf、酸素の分離係数
3.2であった。
素の透過係数8.2×1O−10CC(STP)・cI
rL/CrIL2・sec・cmHf、酸素の分離係数
3.2であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (但し、R1は2価の脂肪族基又は芳香族基、R2はそ
れぞれ独立に1価のアルキル基又は芳香族基、nは1〜
4の整数を示す。 )で表わされる繰返し単位を有するポリ(ウレタン/ジ
シロキサン)からなることを特徴とする気体分離膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1043981A JPS5858123B2 (ja) | 1981-01-26 | 1981-01-26 | 気体分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1043981A JPS5858123B2 (ja) | 1981-01-26 | 1981-01-26 | 気体分離膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57122907A JPS57122907A (en) | 1982-07-31 |
JPS5858123B2 true JPS5858123B2 (ja) | 1983-12-23 |
Family
ID=11750182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1043981A Expired JPS5858123B2 (ja) | 1981-01-26 | 1981-01-26 | 気体分離膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5858123B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5895541A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 気体分離膜 |
JPS5949808A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-22 | Teijin Ltd | 気体分離用選択透過性複合膜の製造方法 |
JPS5949803A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-22 | Teijin Ltd | 気体分離用選択透過膜 |
-
1981
- 1981-01-26 JP JP1043981A patent/JPS5858123B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57122907A (en) | 1982-07-31 |
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