JPS58225177A - コロイド状シリカ研摩剤およびこれを使用する研摩法 - Google Patents

コロイド状シリカ研摩剤およびこれを使用する研摩法

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JPS58225177A
JPS58225177A JP58089309A JP8930983A JPS58225177A JP S58225177 A JPS58225177 A JP S58225177A JP 58089309 A JP58089309 A JP 58089309A JP 8930983 A JP8930983 A JP 8930983A JP S58225177 A JPS58225177 A JP S58225177A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 序言 米国特許第3,170,273号は、コロイド状シリカ
およびシリカダルが半導体装置の製造において半導体結
晶表面の研摩剤としてもっとも多く使用されることを記
載する。この特許のシリカ系研摩剤はけい素結晶ウェハ
の表面を高度に研摩するのに特に適しておシ、このよう
な表面をエピタキシアル結晶層の成長に適した結晶面と
する。
この特許において使用するシリカのゾルおよびケ゛ルは
最適な粒径が4〜200mμmである。商業的見地から
、この特許の方法は研摩剤として粒径が4〜100mμ
mの水性コロイド状シリカゾルを使用することが好まし
い。
米国特許第4,169,337号は上記第3.170,
273号よシ研摩効率が実質的に優れた方法を開示する
この特許によれば、先に記載した型の半導体、特にけい
素の表面を有効に研摩するには、研摩剤として最適粒径
が4〜200mμm1好ましくは4〜100mμmのコ
ロイド状シリカのゾルまたはrルと、水溶性アミンとの
組合せを使用する。シリカのゾルまたはダル中に存在す
るシリカにもとづくアミンの量は0.5〜5.0重量%
とすることができる。アミンの1.は1,0〜5.0重
置チが好まし・く、さらに2,0〜4.0重量%がもつ
とも好ましい。
このアミンは炭素原子2〜8個を含むことが必須であシ
、脂肪族アミンが好ましい。炭素原子2〜8個を含むジ
アミン特に脂肪族も優れた研摩結果を与える。また1つ
の第一級アミノ基または数個のアミン基を含むアミンを
使用することがもつとも好ましい。なお少なくとも1つ
のヒドロキシアルキル基と1つの第一級アミノ基とを含
むアミンも好ましい。
発明 本発明によって、米国特許第4,169,337号の1
・ 実施において使用する研摩剤の組成に水溶性第四級アン
モニウムの塩または塩基1,0〜5.0重量%、好まし
くは2.0〜4.0重量%を加えると、実質的に改良で
きることを見出した。
本発明の好ましい実施態様として、水溶性第四級アンモ
ニウムの塩または塩基は炭素原子が6個よシ多く含まな
い。好ましい実施態様として、分子鎖に炭素原子が2個
を超えない1つ以上のアルキル基を含む。勿論この化合
物は、水溶性を維持できるならば、1つ以上の芳香族基
を含むことができる。またこの化合物は、たとえばモル
ホリンなどの第四級アンモニウム塩のような複素環基の
一部として窒素原子を含むことができる。
本発明において、代表的な水溶性第四級アンモニウムの
塩または塩基として、テトラメチルアンモニウム塩化物
、テトラメチルアンモニウム水酸化物、ジメチルジエチ
ルアンモニウム塩化物、N。
N−ジメチルモルホリニウム硫酸塩およびテトラブチル
アンモニウム臭化物がある。これらのうちテトラメチル
アンモニウム塩化物が好ましい。
ヮゎ7vカ7.j゛ 上記のように本発明の実施には広範囲の水性コロイド状
シリカゾルを使用できる。2つのとのようなシリカゾル
は商品名Naleoag 1050%Naleoag 
1060として市販される。これらのゾルの特性は下記
のとおりである。
Naleoag 1050 コロイド状シリカ、810250% P)(9,0 平均粒径          16〜25Mu平均表面
積        120〜176Mシg比重(6B”
F、20℃)      1.390粘度(最大)  
          70epNa20       
       0.4%Naleoag 1060 コロイド状シリカ、510250チ ー8.5 平均粒径          50〜70Mu平均表面
積         40〜60Mりi比重(687,
20℃)      1.390国特許第3,901,
992号に記載されている。
本発明の詳細な説明するために、米国特許第4.169
,337号記載の研摩試験を行なった。その結果は第1
表に示す。
以下余白

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、・ゾルまたはダルのシリカ含量にもとづき、水溶性
    アミン0.1〜5.0重量%と、水溶性第四級アンモニ
    ウムの塩または塩基0.1〜5.0重量%とを含む、水
    性コロイド状シリカのゾルまたはダルからなる研摩剤で
    、けい素ウェハ等を研摩する方法。− 2、研摩剤に含まれるシリカゾルが平均粒径4〜10(
    jmμmであシ、アミンが第一級アミン基および2〜8
    個の炭素原子を含み、水溶性第四級アンモニウムの塩ま
    たは水酸化物が6個を超えない炭素原子を含む、特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 3、 シリカ含量にもとづき、水溶性アミン0,1〜5
    .0重量%と、水溶性第四級アンモニウムの塩漬−たは
    塩基0.1〜5.0重量%とを含む水性コロイド状シリ
    カのゾルまたはダル。
JP58089309A 1982-06-21 1983-05-23 コロイド状シリカ研摩剤およびこれを使用する研摩法 Granted JPS58225177A (ja)

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