JPS58185625A - ポリアリ−レンスルフイドの製造方法 - Google Patents
ポリアリ−レンスルフイドの製造方法Info
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- JPS58185625A JPS58185625A JP57067143A JP6714382A JPS58185625A JP S58185625 A JPS58185625 A JP S58185625A JP 57067143 A JP57067143 A JP 57067143A JP 6714382 A JP6714382 A JP 6714382A JP S58185625 A JPS58185625 A JP S58185625A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なポリアリーレンスルフィドの製造方法に
関し、更に詳しく言えば、ハロチオフェノール化合物の
自己縮合型反応によってポリアリ−Vンヌルフイドを製
造する方法に関するものである、 ポリアリーレンスルフィドの製造方法として、■ ジハ
ロアリーレン化合物に硫化アルカリ金属化合物あるいは
硫黄とアルカリ金属化合物の混合物を反応させる方法、 ■ ジチオフェノール類のアルカリ金属塩あるいはアル
カリ土類金属塩とジハロアリーレン化合物を反応させる
方法、 ■ 芳香族化合物とハロゲン化硫黄化合物を酸性触媒の
存在下に反応させる方法、 ■ ハロゲン化チオフェノール類のアルカリ金属塩ある
いはアルカリ土類金属塩を加熱する方法、 など種々の方法が提案されている。
関し、更に詳しく言えば、ハロチオフェノール化合物の
自己縮合型反応によってポリアリ−Vンヌルフイドを製
造する方法に関するものである、 ポリアリーレンスルフィドの製造方法として、■ ジハ
ロアリーレン化合物に硫化アルカリ金属化合物あるいは
硫黄とアルカリ金属化合物の混合物を反応させる方法、 ■ ジチオフェノール類のアルカリ金属塩あるいはアル
カリ土類金属塩とジハロアリーレン化合物を反応させる
方法、 ■ 芳香族化合物とハロゲン化硫黄化合物を酸性触媒の
存在下に反応させる方法、 ■ ハロゲン化チオフェノール類のアルカリ金属塩ある
いはアルカリ土類金属塩を加熱する方法、 など種々の方法が提案されている。
しかしながら、これらの方法は一般に重合反応を高温度
で長時間材なうことが必要であることから、反応制御に
困難を伴ない、製造された重合体の重合度がバラツキ、
且つ枝分れ状態の重合体であった。
で長時間材なうことが必要であることから、反応制御に
困難を伴ない、製造された重合体の重合度がバラツキ、
且つ枝分れ状態の重合体であった。
この欠点を改善するために、特公昭45−3668号公
報には前記■の方法において、重合反応をアミド類、ラ
クタム類又はスルホン類などのような非プロトン系極性
溶媒中で行なうことにより安定なポリアリーレンスルフ
ィドを製造する方法が開示されているが、しかし高温反
応であり、反応に含まれる圧力及び腐食性雰囲気のため
に反応は不錆鋼の加圧容器中で行なわなければならない
という欠点がある。
報には前記■の方法において、重合反応をアミド類、ラ
クタム類又はスルホン類などのような非プロトン系極性
溶媒中で行なうことにより安定なポリアリーレンスルフ
ィドを製造する方法が開示されているが、しかし高温反
応であり、反応に含まれる圧力及び腐食性雰囲気のため
に反応は不錆鋼の加圧容器中で行なわなければならない
という欠点がある。
本発明者は、ポリアリーレンスルフィドの製造方法にお
ける上記の如き反応上の問題点の認識に基づき、優れた
製造方法を見出す目的で種々研究、検討を行なった。そ
の結果、従来より低温度で反応が進行し、且つ高収率で
ポリアリーレンスルフィドが得られる新規な製造方法を
見出すに至ったものである。
ける上記の如き反応上の問題点の認識に基づき、優れた
製造方法を見出す目的で種々研究、検討を行なった。そ
の結果、従来より低温度で反応が進行し、且つ高収率で
ポリアリーレンスルフィドが得られる新規な製造方法を
見出すに至ったものである。
本発明のポリアリーレンヌルフィトの製造方法は、一般
式(1) で71′:、されるハロチオフェノール化合物トハロゲ
ン化水素捕捉剤との組合せ、又は該ハロチオフェノー/
V塩を触媒の存在下で反応させることにより一般式〔■
〕 で示されるポリアリーレンスルフィドを収率よく容認に
製造する方法を提供するものである。
式(1) で71′:、されるハロチオフェノール化合物トハロゲ
ン化水素捕捉剤との組合せ、又は該ハロチオフェノー/
V塩を触媒の存在下で反応させることにより一般式〔■
〕 で示されるポリアリーレンスルフィドを収率よく容認に
製造する方法を提供するものである。
(但し、前記一般式において、Xは塩素、臭素あるいは
沃素の一つであり、Rは水素、塩素、臭素、沃素、ニト
ロ基、アミノ基、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数
1又は2個のアルコキシ基、シアノ基、カルボン酸エス
テル、ンアルキルアミノ基、アルデヒド基、カルボキシ
ル基の一つを表わし、mは0〜4の整数であって、mが
2−4の整数である場合にはRは同−又は異なった基の
いずれでもよい。) この反応には通常、ハロゲン化水素捕捉剤と触媒とを必
要とする。触媒としては、2価又は0価のパラジウム錯
体化合物が好ましい。
沃素の一つであり、Rは水素、塩素、臭素、沃素、ニト
ロ基、アミノ基、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数
1又は2個のアルコキシ基、シアノ基、カルボン酸エス
テル、ンアルキルアミノ基、アルデヒド基、カルボキシ
ル基の一つを表わし、mは0〜4の整数であって、mが
2−4の整数である場合にはRは同−又は異なった基の
いずれでもよい。) この反応には通常、ハロゲン化水素捕捉剤と触媒とを必
要とする。触媒としては、2価又は0価のパラジウム錯
体化合物が好ましい。
ハロゲン化水素捕捉剤としては、2級アミン、6級アミ
ンなどのアミン類、及び炭酸水素ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸リチウムなどの塩基性の塩、リチウム、ナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属メタル、水素化
ナトリウム、水素化カルシウムなどの金属水素化物、リ
チウムtertーブトキシド、ナトリウムエチラート、
−ツートリウムメチラート、カリウムtertーブトキ
シドなどのアルカリ金属アルコ−ラードの塩基などが適
当である。
ンなどのアミン類、及び炭酸水素ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸リチウムなどの塩基性の塩、リチウム、ナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属メタル、水素化
ナトリウム、水素化カルシウムなどの金属水素化物、リ
チウムtertーブトキシド、ナトリウムエチラート、
−ツートリウムメチラート、カリウムtertーブトキ
シドなどのアルカリ金属アルコ−ラードの塩基などが適
当である。
触媒としてはパラジウム錯体を使用することが特に好ま
しく、パラジウム錯体を例示すればジクロロビス(ベン
ゾニトリル)パラジウム(II)、ジブロモビス(トリ
フェニルホヌフィン)パラジウム(II) 、ビス(ア
セチルアセトナート)パラジウム(It)、ジクロロビ
ス(トリーn−ブチルポスフィン)パラジウム(n)、
l−ランス−ジメチルビス(トリフェニルホヌフィン)
パラジウム(lI)、シーμmクロローンクロロビス(
) IJフェニルホスフィン)ニパラジウム(II)
、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(
O)、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ノ
くラジウム(0) 、ビス(ジベンジリデンアセトン)
ノくラジウム(0)、クロロ(4−ニトロフェニル)ビ
ス(トリーo−トリルホヌフイン)パラジウム(II)
、ヨード(フエニ/I/)ビス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(n)、酢酸パラジウムなどとトリアリ
ールホスフィンとの組合せからなる触媒を挙げることが
できるが、特にテトラキス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(0)カ好マシい0 而して、パラジウム錯体の使用量は、ハロチオフェノー
ル化合物又は該ハロチオフェノール塩の欧の001〜2
0モ)V%、好ましくは0.1〜10モ/L/ %であ
る。又ハロゲン化水素捕捉剤の使用量は発生するハロゲ
ン化水素に対して通常、当モルより少し過剰とするのが
好ましい。
しく、パラジウム錯体を例示すればジクロロビス(ベン
ゾニトリル)パラジウム(II)、ジブロモビス(トリ
フェニルホヌフィン)パラジウム(II) 、ビス(ア
セチルアセトナート)パラジウム(It)、ジクロロビ
ス(トリーn−ブチルポスフィン)パラジウム(n)、
l−ランス−ジメチルビス(トリフェニルホヌフィン)
パラジウム(lI)、シーμmクロローンクロロビス(
) IJフェニルホスフィン)ニパラジウム(II)
、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(
O)、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ノ
くラジウム(0) 、ビス(ジベンジリデンアセトン)
ノくラジウム(0)、クロロ(4−ニトロフェニル)ビ
ス(トリーo−トリルホヌフイン)パラジウム(II)
、ヨード(フエニ/I/)ビス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(n)、酢酸パラジウムなどとトリアリ
ールホスフィンとの組合せからなる触媒を挙げることが
できるが、特にテトラキス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(0)カ好マシい0 而して、パラジウム錯体の使用量は、ハロチオフェノー
ル化合物又は該ハロチオフェノール塩の欧の001〜2
0モ)V%、好ましくは0.1〜10モ/L/ %であ
る。又ハロゲン化水素捕捉剤の使用量は発生するハロゲ
ン化水素に対して通常、当モルより少し過剰とするのが
好ましい。
一般式〔l〕のハロチオフェノール化合物はXが臭素又
は沃素であるのが好ましく、かかる化合物を例示すれば
、P−ブロモチオフェノール、In−ブロモチオフェノ
ール、P−ヨードチオフェノール、4−ブロモ−m−チ
オクレゾール、2.6−シメチルー4−ブロモチオフェ
ノール、6−アミノ−6ブロモチオフエノール、2−ヨ
ード−P−)ルイジンー5−チオール、2−アミノ−4
−ヨードチオフェノール、5−プロモル3−ニトキ/チ
オサリチルアルデヒド、4−クロロ−2−ヨートーチオ
フエノール、5−ブロモ−4−メルカプト−ベンゾニト
リル、2−ブロモ−4−二トロチオフエノール及び類似
物が挙げられ、それらの混合物も使用され得る。
は沃素であるのが好ましく、かかる化合物を例示すれば
、P−ブロモチオフェノール、In−ブロモチオフェノ
ール、P−ヨードチオフェノール、4−ブロモ−m−チ
オクレゾール、2.6−シメチルー4−ブロモチオフェ
ノール、6−アミノ−6ブロモチオフエノール、2−ヨ
ード−P−)ルイジンー5−チオール、2−アミノ−4
−ヨードチオフェノール、5−プロモル3−ニトキ/チ
オサリチルアルデヒド、4−クロロ−2−ヨートーチオ
フエノール、5−ブロモ−4−メルカプト−ベンゾニト
リル、2−ブロモ−4−二トロチオフエノール及び類似
物が挙げられ、それらの混合物も使用され得る。
又前記一般式(1)のRのうち一つでも臭素あるいは沃
素が含有されている場合には、生成するポリアリーレン
スルフィド[11の中に枝分れした構造が一部含まれる
可能性があるが1.このような構造が含まれてもよい。
素が含有されている場合には、生成するポリアリーレン
スルフィド[11の中に枝分れした構造が一部含まれる
可能性があるが1.このような構造が含まれてもよい。
かかる)・ロチオフエノール化合物は、あらかじめ・・
ロゲン化水素補促剤と反応させることができるが、ノ・
ロゲン化水素捕捉剤として用いられる塩基性の化合物と
反応系内で塩を形成したものは、一旦、・・ロブオフエ
ノールの塩として単離した後、本反応に使用してもよく
、この場合には塩基性化合物は不要である。
ロゲン化水素補促剤と反応させることができるが、ノ・
ロゲン化水素捕捉剤として用いられる塩基性の化合物と
反応系内で塩を形成したものは、一旦、・・ロブオフエ
ノールの塩として単離した後、本反応に使用してもよく
、この場合には塩基性化合物は不要である。
反応溶媒としては、一般的なもの、例えば、N11く一
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、I・h
、pr’−ジメチルイミダノ゛リジン、ヘキサメチルホ
スホルアミド、トルエン、キンレノ、クロルベンゼン、
0−ジクロルベンゼン、N−メチル−2−ピロリドン、
ジメチルスルホキノド、アセトニトリル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、トリエテレノグリコールシ
メチルエーテル、エトキンエタノール、2−(2−エト
キシエトキ/)エタノール、n−ブタノール、ベノジル
アルコール、エチレングリコール、ジアセトンアルコー
ルなどが挙げられ、特にアルコール系溶媒が好ましい。
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、I・h
、pr’−ジメチルイミダノ゛リジン、ヘキサメチルホ
スホルアミド、トルエン、キンレノ、クロルベンゼン、
0−ジクロルベンゼン、N−メチル−2−ピロリドン、
ジメチルスルホキノド、アセトニトリル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、トリエテレノグリコールシ
メチルエーテル、エトキンエタノール、2−(2−エト
キシエトキ/)エタノール、n−ブタノール、ベノジル
アルコール、エチレングリコール、ジアセトンアルコー
ルなどが挙げられ、特にアルコール系溶媒が好ましい。
本発明の方法は、前記一般式[1,1で示される・・ロ
チオフエノール化合物と・・ロゲン化水素捕促剤を組合
せるか、又は該ハロチオフェノール塩を2価又は0価の
パラジウム錯体触媒の存在下、常圧で反応が行われ75
〜250℃の温度において、1〜50時間で完結する。
チオフエノール化合物と・・ロゲン化水素捕促剤を組合
せるか、又は該ハロチオフェノール塩を2価又は0価の
パラジウム錯体触媒の存在下、常圧で反応が行われ75
〜250℃の温度において、1〜50時間で完結する。
反応終了後は、反応生成物を通常の方法に従って、濾取
、洗浄、乾燥することによってポリアリーレンスルフィ
ドが得られる。
、洗浄、乾燥することによってポリアリーレンスルフィ
ドが得られる。
本発明の方法に従えば、従来の方法に比し重合速度が顕
著に向上し、しかも常圧、低温度での反応が可能であり
、更に高融点のポリアリーレンスルフィドが高収率で製
造され得る。従って他の方法によって得られるポリアリ
ーレンスルフィドにおいて必要とされる別の強化工程を
省略することができて、通常の押出成型、射出成型、押
出吹込成型などの直接成型が可能であり、例えば機械部
品、自動車部品、電子部品、事務機器、家庭用品などに
使用することができる。更に、他の重合体、充填剤、添
加物、例えば、グラファイト、金属粉末、無機質粉末、
繊維状物、ガラス繊維、あるいは通常の安定剤、顔料な
どと混合して成型品とすることができる。
著に向上し、しかも常圧、低温度での反応が可能であり
、更に高融点のポリアリーレンスルフィドが高収率で製
造され得る。従って他の方法によって得られるポリアリ
ーレンスルフィドにおいて必要とされる別の強化工程を
省略することができて、通常の押出成型、射出成型、押
出吹込成型などの直接成型が可能であり、例えば機械部
品、自動車部品、電子部品、事務機器、家庭用品などに
使用することができる。更に、他の重合体、充填剤、添
加物、例えば、グラファイト、金属粉末、無機質粉末、
繊維状物、ガラス繊維、あるいは通常の安定剤、顔料な
どと混合して成型品とすることができる。
ポリアリーレンスルフィドの評価法における溶融粘度の
測定は、高化式フローテスターを使用し、290℃、2
0kg//、I2、ノズル115 mrs、dr x
5111の条件による流動塵Qを測定し、下記式を適用
(7て算出した。
測定は、高化式フローテスターを使用し、290℃、2
0kg//、I2、ノズル115 mrs、dr x
5111の条件による流動塵Qを測定し、下記式を適用
(7て算出した。
η・溶融粘度 (ポイズ)
r・ノズルの半径(cm )
L:ノズルの長さくCm)
P 、荷 重 (k’?/Cm2 )Q−
流動塵 (′″I/:n1n )次に、本発明の方
法を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれ
ら実施例のみに限定されるものではない。
流動塵 (′″I/:n1n )次に、本発明の方
法を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれ
ら実施例のみに限定されるものではない。
実施例1
4−ブロモチオフェノール20” On (li t
部、以下同じ)、カリウム−te’rt−ブトキシド1
a51部、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム1.27fLn−ブタノール125部からなる混
合物を窒素雰囲気下で攪拌しながら還流するまで加熱し
て、10時間反応させた。反応後、生成した沈澱物を濾
過により分取し、塩酸、続いて多量の水で洗浄後、最後
にアセトンで洗浄し、真空中100℃で乾燥してポリ(
P−フェニレンスフレフイド)11.03部を得た。こ
の重合物の溶融粘度を測定した結果286ポイズであっ
た。
部、以下同じ)、カリウム−te’rt−ブトキシド1
a51部、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム1.27fLn−ブタノール125部からなる混
合物を窒素雰囲気下で攪拌しながら還流するまで加熱し
て、10時間反応させた。反応後、生成した沈澱物を濾
過により分取し、塩酸、続いて多量の水で洗浄後、最後
にアセトンで洗浄し、真空中100℃で乾燥してポリ(
P−フェニレンスフレフイド)11.03部を得た。こ
の重合物の溶融粘度を測定した結果286ポイズであっ
た。
又、その赤外線スペクト)v(KBr法)を第1図に示
す。
す。
比較例
実施例1において、テトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウムを添加しない他は実施例1と同様の反応
を行なったが、重合物は得られなかった。
ン)パラジウムを添加しない他は実施例1と同様の反応
を行なったが、重合物は得られなかった。
実施例2
ナトリウム−4−ブロモチオフェノキシド4.68部、
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム015部、
エチレングリコ−/L/25部からなる混合物を窒素雰
囲気下で攪拌しながら100℃で15時間反応させた。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム015部、
エチレングリコ−/L/25部からなる混合物を窒素雰
囲気下で攪拌しながら100℃で15時間反応させた。
反応後、生成した沈澱物を濾過により分取し、塩素、続
いて多量の水で洗浄後、最後にアセトンで洗浄し、真空
中100℃で乾燥してポリ(P−フェニレンスルフィド
)199部を得た。この重合物の溶融粘度は203ポイ
ズであった。
いて多量の水で洗浄後、最後にアセトンで洗浄し、真空
中100℃で乾燥してポリ(P−フェニレンスルフィド
)199部を得た。この重合物の溶融粘度は203ポイ
ズであった。
実施例5
4−ヨードチオフェノ−/L’ 5.19部、カリウム
−1−ブトキシド3フ0部、テトラキス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウムo、25部、n −フタノー/
l’25部からなる混合物を窒素雰囲気下で攪拌しなが
ら還流するまで加熱して、15時間反応させた。反応後
、生成した沈澱物を濾過して分取し、塩酸、続いて水で
洗浄後、最後にアセトンで洗浄し、真空中100℃で乾
燥してポリ(p−フェニレンスルフィド)1.40部ヲ
得り。
−1−ブトキシド3フ0部、テトラキス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウムo、25部、n −フタノー/
l’25部からなる混合物を窒素雰囲気下で攪拌しなが
ら還流するまで加熱して、15時間反応させた。反応後
、生成した沈澱物を濾過して分取し、塩酸、続いて水で
洗浄後、最後にアセトンで洗浄し、真空中100℃で乾
燥してポリ(p−フェニレンスルフィド)1.40部ヲ
得り。
この重合物の溶融粘度は130ポイズであった。
第1図は実施例1で製造したポリ(P−フェニレンスル
フィド)の赤外吸収スペクトルチャートである。
代理人内 1) 賄手続補正書(自発) 昭和58年2 月V日 特許庁長官 若杉和夫殿 ■、事件の表示 特願昭57−67143号 2、発明の名称 ポリアリーレンスルフィドの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号氏名 (
004)旭硝子株式会社 4、代理人 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容
フィド)の赤外吸収スペクトルチャートである。
代理人内 1) 賄手続補正書(自発) 昭和58年2 月V日 特許庁長官 若杉和夫殿 ■、事件の表示 特願昭57−67143号 2、発明の名称 ポリアリーレンスルフィドの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号氏名 (
004)旭硝子株式会社 4、代理人 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 一般式〔1〕 巳m で示されるハロチオフェノール化合物トハロゲン化水素
捕捉剤との組合せ、又は該ハロチオフェノール塩を触媒
の存在下で反応させることを特徴とする一般式(II) で示されるポリアリーレンヌルフィトの製造方法。 (但し、上記一般式において、Xは塩素、臭素あるいは
沃素の一つであり、Rは水素、塩素、臭素、沃素、ニト
ロ基、アミノ基、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数
1又は2個のアルコキシ基、シアノ基、カルボン酸エス
テル、ジアルキルアミノ基、アルデヒド基、カルボキシ
ル基の一つを表わし、mはD〜4の整数であって、mが
2〜4の整数である場合にはRは同−又は異なった基の
いずれでもよい。) (2) 触媒が21tlj又は0価のパラジウム錯体
化合物である特許請求の範囲第1項記載の方法。 (6)一般式〔1〕のXが臭素又は沃素である特許請求
の範囲第1項記載の方法。 (4) 反応溶媒にアルコール系溶媒を使用する特許
請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57067143A JPS5939448B2 (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | ポリアリ−レンスルフイドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57067143A JPS5939448B2 (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | ポリアリ−レンスルフイドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58185625A true JPS58185625A (ja) | 1983-10-29 |
JPS5939448B2 JPS5939448B2 (ja) | 1984-09-22 |
Family
ID=13336384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57067143A Expired JPS5939448B2 (ja) | 1982-04-23 | 1982-04-23 | ポリアリ−レンスルフイドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5939448B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62106929A (ja) * | 1985-11-02 | 1987-05-18 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | ポリフエニレンスルフイドおよびその製造方法 |
US4801664A (en) * | 1988-01-29 | 1989-01-31 | Phillips Petroleum Company | Acid wash of polyarylene sulfides |
US4877850A (en) * | 1988-02-22 | 1989-10-31 | Phillips Petroleum Company | Buffer wash of polyarylene sulfides |
EP0351136A2 (en) * | 1988-07-08 | 1990-01-17 | Tosoh Corporation | Poly(arylene thioether) copolymers and process for production thereof |
US4931542A (en) * | 1987-02-28 | 1990-06-05 | Idemitsu Petrochemical Company, Limited | Process for preparing a polyarylene thioether |
JP2015028142A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-02-12 | 東レ株式会社 | ポリアリーレンスルフィドの製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5229894A (en) * | 1975-09-03 | 1977-03-07 | Teijin Ltd | Process for producing polyamides |
-
1982
- 1982-04-23 JP JP57067143A patent/JPS5939448B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
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