JPS58182826A - 異物の自動除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は異物の除去装置に関し、特にＬＳＩ製造用のフ
ォトマスクやレチクル等に付着した異物の除去ｂｔｉに
関するものである。

一般にＬＳＩを製造する過程において、レチクルやフォ
トマスクの回路パターンはウェハ上に光学的に転写され
ている。ところかレチクル中フォトマスク（以下、両者
を単にマスクと呼ぶことにする。）に微小なほこりやゴ
ミ等の異物が付着すると、製造したＬＳＩ等は欠陥を伴
ってし１う。

特に縮小投影型の窮光装置によって、ウェハ上にマスク
の回路パターンを小領域毎にくり返し転写した場合、異
物はウェハ上の全チップに共通の欠陥となって現われて
しまう。このため、ＬＳＩの製造過程、特に側光工程前
には、マスクに付着した異物を厳重に検査し、欠陥とな
る異物は除去する必要がある。

従来、マスクに付着した異物は目視で検査され、ギの異
物が欠陥となる場合にはマスク全体を洗浄ｌ〜直してい
た。これにより、マスクに付着した異物はほぼ完全に除
去されるものの、洗浄中、又は洗浄直後に新たな異物が
付着してしまうことがあった。このようにＬＳＩの製造
工程において、マスク上の置物を検査し、除去する作業
は手間がかかり極めて効率が悪いという欠点があった。

そこで杢発明の目的はマスクに付着した異物のみを自動
的に除去する装置を得ることにある。

この目的を達成するだめに、杢発明においては、マスク
の如く被検査物をレーザビーム等で走査して、その被検
査物から生じた散乱光等に基づいて異物の付着を検出す
る異物検査装置と；異物が検出されたとき、レーザビー
ムの走査位置に関する位置情報を発生する位ｉ！検知手
段と；被検査物上の局所領域に当接可能であると共に、
被検査物との当接部分に、捗検査物上の異物を接着して
除去する粘着テープ、粘着性のゴム材等の如く接着部材
を設けた光物除去手段と；位置情報に基づいて除去手段
を被検査物の異物付着部分に対向するように位置決めし
た後に、除去手段を作動する制御手段とを設け、異物の
みを被検査物からはがして接着部材に付着させるように
構成した。、次に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

第１図は杢実施例による異物除去装置の全体の概略を示
す斜視図である。第１図に示すように、本装置は大きく
分けて異物検査部Ａ１異物除去部Ｂ及び装置全体を制御
する制御部Ｃとで構成されている１、異物検査部Ａはマ
スク１に付着した異物（直径が１〜１００淵程度の大き
さ）を光電的に検出して、異物の何着位置に関する情報
ＡＰを発生する。その際、マスターは不図示の搬送手段
によって図中方向Ｘ、へ移動されて位置Ｐ。まで運ばれ
、その後マスターは方向Ｘ　と直交する方向ｙ。

に運ばれて異物検査部Ａへ搬送されてきている。

異物検査部Ａで異物の有無や付着位置を検査されたマス
ク１は再び搬送手段によって位置Ｐ。１で運げれる。そ
して、マスク１は位［Ｐｏで異物除去部Ｂに受は渡され
る。

異部除去部Ｂには、このマスク１の側縁部分を支持する
支持台２が設けられる。この支持台２け不図示のガイド
レールに支えられて、図中ｘｙ平面をマスク１の平面と
平行に宇めた三次元直交座標系ｘｙｘ　（以下単に座標
系ｘｙｚとする）のＸ方向に沿って図中矢印Ｍのように
往復移動可能に設けられている。また支持台２の往復移
動はＸ方向駆動モータ３（以下Ｘモータ３と呼ぶ）と伝
達ベルト４とによって行なわれる。

一方、支持台２の上方と下方にはマスク１を挾み込むよ
うに２つの異物除去ヘッド５．６が対向して配置される
。この除去ヘッド５．６はマスク１のパターン面と平行
に、すなわち座標系ｘｙｚのｙ方向に沿って往復移動可
能なように、夫々ガイドレール７．８によって支持され
ている。そして各ガイドレール７．８の両端側にはそれ
ぞれブー’Ｊ　９　ａ　、　９　ｂ　：　９　ｃ　、　
９　ｄが取り付けられている。

ブーＩＪ　９　ａと９ｂにはガイドレール７に沿って除
去ヘッド５を移動するだめのベル）１０が損は渡されて
いる。同様に除去ヘッド６を移動するためのベルト１１
がガイドレール８に沿ってプーリ９Ｃと９ｄとの間に掛
は渡されている。そして、互いに上下に位置するプーリ
９ａと９Ｃは軸１２ａ、１２ｃによって連結されている
。この軸１２ａ、１２Ｃけモータ１３（以下、ｙモータ
１３と呼ぶ）によって一体に回転する。軸１２ａと１２
ｃとの連結部分には、両軸を軸方向すなわち印標系ｘｙ
ｚの２方向に伸縮駆動する伸縮駆動機構１４が設けられ
ている。この伸縮駆動機構１４は、軸１２ａと１２ｃを
互いに反対方向に進退させて、プーリ９ａ、ガイドレー
ル７及び除去ヘッド５を一体に上下動させると共に、プ
ーリ９ｃ、ガイドレール８及び除去ヘッド６も一体に上
下動させる。

尚、プーリ９ｂ、９ｄも同様に軸１２ｂ、１２ｄによっ
て連結されており、その連結部分にも伸縮駆動機構１４
′が設けられている。この伸縮駆動機構１４　、１４’
は略同−の伸縮を各軸に与えるようにして同時に動作す
る。従って、除去ヘッド５．６けｙモータ１３の駆動に
よって互いにマスク１を挾み込むような状態で、座標系
ｘｙ冨のｙ方向、すなわち図中矢印ＮＶ（往復移動する
。そして、除去ヘッド５，６はほぼ同時にマスク１の上
面、下面にそわぞれ当接するように定められている。壕
だ、除去ヘッド５，６の内部には座標系ｘｙｚの２方向
に往復運動可能な異物粘着用シリンダ１００（以下参に
シリンダ１００とする）が設けられている。このシリン
ダ１００のマスク１との当接部分には粘着部材が設”け
られる。そして除去ヘッド５とマスク１とが所定の間隔
になった状態で、シリンダ１００を上下に往復速動する
こと（Ｆよって、マスク１上の異物はシリンダ１００側
の粘着部材に付着する。尚、除去ヘッド６にも同様に異
物粘着用シリンダが設′けられている。以上説明したＸ
モータ３．Ｙモータ１３、伸縮駆動機構１４゜１４′及
びシリンダ１００の動作は制御部Ｃにより所定のタイミ
ングに従ってシーケンシャルに行なわれる。

次に、第１図に示しだ異物検査部Ａの具体的な構成につ
いて説明する。、第２図は異物検査部Ａの一例を示す斜
視図である。このＲ物検査部Ａ　ｌｄ、本願出頓人が先
１１ｎ出顎した特願昭５６−１６１４４０号及び特願昭
５６−１ｆｉ１４４１号［異物＃′＊装憤１に詳細（Ｃ
開示されている。、さて第２図において、マスク１け第
１図で宏めた。座標系ｘｙｚのｘｙ平面と平行にテーブ
ル２００上に載置される。このテーブル２００はマスク
１の川辺部のみを支えると共に、モ＝り２０１送りネジ
機構等によって座標系ｘｙｚのｙ方向、すなわち矢印Ｆ
のように往徨移動する。テーブル２００のｙ方向の位置
はリニアエンコーダの如き濱Ｕ長器２０２によって引測
される。

一方、レーザ光源２０３から射出しだレーザ光束ＬＢは
、ガルバノミラ−等の振動鍾２０４によって、所定の振
幅及び周波数で進路を偏向される。

集光レンズ２０５は振動鎖２０４からのレーザ光束Ｌ　
Ｂを収束して、マスク１上にレーザ光のスポット光を形
成する。このときスポット光は、振動＠　２０４の振動
に伴って、マスクｌの軌道り上を定査する。また、振動
ｅ２０４からのレーザ光束Ｌ　Ｂとマスク１の表面（ｘ
ｙ平面と平行）との成す角度αけ、例えば３００前後に
定められている。

さて、スポット光が軌道り上を走査すると、スポット光
で照射された異物や、クロム材で作られた回路パターン
から散乱・光が生じる。この散乱光はマスク１の周辺に
空間的に配置された５つの光電、素子２１０〜２１４に
よって検出される。また各光！１子の前には、光軸をν
Ｌ道Ｉ４の中央部分に向けた５つの集光レンズ２１５〜
２１９が設けられる。ここで、集光レンズ２１５〜２１
９の配置について一例を述べる。集光レンズ２１５の光
軸ｔ１、集光レンズ２１７の光軸１Ｑ及び集光レンズ２
１９の、光軸ｔ、の各光軸とマスク１の表面との角度は
それぞれ１５°〜３０°に宇められている。

そして座標系ｘｙｚのｘｙ平面上で見たとき、光軸ｔ、
は軌道り上に一致しており、光軸りは光軸ｔ。

に対し７て３０°〜４５°の角度に定められ、光軸ｔ、
は軌道りに対して３０°〜４５°の角度に走められてい
る。さらに集光レンズ２１６の光軸ｔ、は、マスク１の
表面に対して光軸ｔ、と面対称になるように定められ、
集光レンズ２１８の光軸ｔ、も光軸ｔ、と面対称になる
ように定められている。

すなわち、集光レンズ２１６と２１８は、マスク１の裏
面から軌道りの中央部分を見込むように配置される。尚
、集光レンズ２１５〜２１９は、軌道り上のどこで散乱
光が生じても、その散乱光を光電素子に集光するように
受光角が決められている。

以上のような構成において、マスク１上に付着した異物
は、５つの光重゛紫子２１０〜２１４の光電信号に基づ
いて検査される。この検査処理については、詳しくは特
ｎ１昭５６−１６１４４０号及び特願昭５６−１６１４
４１号に開示されているので、ここでは第３図に基づい
て簡単に説明する。

一般にマスク１にスポット光を照射すると、回路パター
ンのエツジ部（クロム材とガラス面の段差部分）からは
指向性の強い、散乱光が生じる。

ところが異物にスポット光が照射されると、異物からは
無指向に散乱光が生じる。また、これら、散乱光は、マ
スク１の上方、すなわち第２図でレーザ光束ＬＢの入射
側の空間に生じるばか如ではなく、マスク１のガラス面
を透過して裏側の空間にも生じる。そこで、原理的には
マスク１の表面を斜めに見込む３つの光電素子２１０．
２１２１２１４の光電信号に基づいて、異物の付着のみ
を検出できる。それは、３つの光′［素子２１０゜２１
２．２１４が共に所定値以上の光電信号を出力したか否
かによって判別する。ところが、回路パターン中のクロ
ム面上に付着した異物は、薫光工程の際ウェハ上に転写
されることはない。そこで光電素子２１１，２１３の光
電信号の大きさを夫々、光電素子２１０，２１７の光電
信号の大きさと比較する処理を行なうことによって、ク
ロム面上の異物とガラス面上の異物とを判別できる。

さらに、マスク１の表面、裏面に付着した異物も判別で
きる。このように、杢装置の異物検査部人では、検査処
理回路２５０がマスク１に付着した異物のうち、真に欠
陥となる異物のみを検出する。

検査処理回路２５０は、異物を検出したとき検出信号Ｄ
ｓを発生する。一方、レーザ光束ＬＢを偏向走査するだ
めの発Ｓ器（以下Ｏ８Ｃとする）２５１は、振動鏡２０
４を駆動すると共に、その駆動信号をＸ座標検知器２５
２に出力する。Ｘ座標検知器２５２は、その駆動信号の
入力に基づいて、マスク１トでスポット光のＸ方向の位
置に関する情報Ｘｄを発生する。この情報Ｘｄと、測長
器２０２によって計測されたマスク１のｙ方向の位置に
関する情報Ｙｄとは、座標値生成１回路２５５に入力す
る。この座標値生成回路２５５は検知信号ＤＢと情報）
（ｄ、Ｙｄとに基づいて、マスク１上の異物の２次元的
な位置に関する位Ｎ情報ＡＰを出力する。

また、検査処理回路２５０には５つの光重、素子２１０
〜２１４の各光電信号の大きさに基づいて、異物の大き
さを大まかにランク分けして判別する情報Ｖｓを出力す
る手段も含まれている。この手段は実際には計算機、い
わゆるマイクロフンピユータ等であり、５つの光電信号
の大きさをＭ射的に処理することによって、異物の大き
さがランク分けされる。そして、この情報■１と位置情
報ＡＰは共に制御部Ｃに入力する。

次に、制御部Ｃの異物除去部Ｂの制御系について、第４
図に基づいて説明する。情報Ｖ１と位置情報ＡＰは主制
御回路３００に入力する。この主制御回路３００はマイ
クロフンピユータの如へデジタル演算処理装置で構成さ
れる。主制御回路３００には情報Ｖ　ｓ　＋　ＡＰを一
時記憶するだめのメモリ３０１が接続されている。さら
に主制御回路３００には、位置情報ＡＰに基づいてＸモ
ータ３、Ｙモータ１３を駆動するＸインターフェイス回
路（以下ｘＩＦｃとする）３ｏ２．ｙインターフェイス
回路（以下ｙｉｐｃとする）ａＯ３，そして伸縮駆動機
構１４　（１４’）を動作するインターフェイス回路（
以下導ＩＦＣとする）３０４．及びシリンダ１００を上
下動するためのインターフェイス回路（以下、シリンダ
ＩＦＣとする）３０５が接続されている。この主制御回
路３００は、マスク１が異物検査部Ａで検査を受けてい
るとき、情報Ｖｓと位置情報ＡＰをメモリ３０１に順時
記憶していく。そして主制御回路３００はマスク１が異
物除去部Ｂに運ばれてきたとき、メモリ３０１中の各情
報に基づいて、ｘＩＦｃ３０２．ｙＩＦｃ３０３゜ｚＩ
Ｆｃ３０４ＥＩびシリンダＩＰＣ３０５に断電の指令を
出力する。

次に第２図で示した除去ヘッド５，６の溝部について述
べる。普通マスク１に付着した異物のうち、乾燥した異
物はエア・ブロワ−等によって容易に除去することがで
きる。ところが、水分又は油分を含んだ湿った異物等は
マスク１上に弱くこびりついているため、エア・ブロワ
−で除去できないことがある。そこで第５図に示すよう
に、そのようなこびりついた異物も含めて、マスク１ト
の異物は粘着力によって除去される。第５図は除去ヘッ
ド５，６内のシリンダ１００の原理を説明する図である
。第５図において、シリンダ１００はマスク１との当接
部分に粘着部材１００ｂを設けたアーム１００ａと、こ
のアーム１００ａをマスフ１に当接するように上下動す
る駆動部１００Ｃとを有する。この駆動Ｍ１００Ｃけ除
去ヘッド５．６内に置市されており、エア・シリンダ等
によって２つのアーム１００ａを上下動する。壕だこの
とき、アーム１００ａの上下動は、マスク１の上面、下
面を所定の圧力で挾持するように同時に行なわれる。

、二のような原理構成において、マスクｌに付着した異
物Ａｉ上に２つのアーム１００ａが対向するように、マ
スク１とシリンダ１００を相対的に移動する。そして、
２つのアーム１００ａを駆動部１００Ｃによって上下動
して粘着部材１００ｂをマスク１の上面、下面に所定の
圧力で当接させる。その後、アーム１００ａをマスク１
がら退避させる。これによって４％　％　Ａ　ｔはマス
ク１がらはがれて粘着部拐１００ｂに接着する。一般に
、マスク１とハ物Ａｌどのｆｌ力は弱い。そこで粘着部
材１００ｂと異物Ａｔとの接着力が、マスタｌと異物Ａ
ｔとの付着力よりも分ければ、異物Ａｔは確実に除去さ
れる。また、粘着部材１００ｂけマスク１に当接するの
で、十分献かい必要がある。

さらに、粘着部材１００ｂがマスク１に当接したとき、
粘着物質がはがれてマスク１に付着してしまうこともあ
る。そこで粘着部材１００ｂとしては粘着物質の層が薄
いもの（例えば５〜１０μｍ）や、究の透過率が高い透
明なものがよい。例えば、一般に市販されているセロハ
ンテープはもちろんのこと、粘着力はそれ程強くないが
、商品名１表面保護用粘着シート」型番９４１−Ｃ（寺
゛）岡製作所）等が適している。こうすれば、たとえマ
スク１に粘着物質が付着しても、半導体装置の製造工程
上側等はなく、欠陥を引きおこす新だな異物とはならな
い。

さて、除去ヘッド５，６は原理的には上記説明の通りで
あるが、実際には第６図に示すような構成とする。第６
図は除去ヘッド５の一部断面図であり、上下動するアー
ム１１０と、このアーム１１０を駆動する駆動部１１１
と、アーム１１０を摺動可能に支持する支持部１１２と
、内側に接着面を有するように供給リール１３に巻かれ
だ可撓性の粘着テープ１１５と、粘着テープ１１５を巻
き取る巻取リール１１４とが設けられている。

また、除告ヘッド５のマスク１と対向する部分には、ア
ーム１１０が通る開口部１１６ａを設けたテフロン材の
パット１１６が設けられている。そシテ、アーム１１０
の上方にはフラ〕・ジ１１０ａが形成され、このフラン
ジ１１０ａと支持部１１２との間１〆Ｃは圧縮バネ１１
７が設けられる。

このためアーム１１０け通常駆動部１１１の方、すなわ
ち図中上方に付勢されている。まだアヘム１１０の先端
部１１０ｂは球面状又は円筒伏に形成されている。

さらに、粘着テープ１１５がアーム１１０の先端部１１
０ｂとバット１１６の開口部１１６ａとの間を滑らかに
通過するようにローラ１１８が設けられている。まだ、
粘着テープ１１５を所定量ずつ送るために、巻取リール
１１４を時ｉｆ力方向回転させる回転機構部１２０が設
けられている。

この回転機構部１２０は例えばアーム１１０の上下動に
伴って巻取り〜ル１１４を所定量回転するように、駆動
部１１１と連動している３、尚アーム１１０の先端部１
１０ｂは適度に軟かい材質、例えばテフロンでできてい
る。

次に本装置の全体の動作を説明する。検査すべきマスク
１は不図示の搬送手段によ゛つて第１図の如く方向ｘ１
＋ＹＨの順（Ｃ異物検査部Ａへ運ばれる。

マスク１け第２図のように、テーブル２００Ｌに載置さ
れ、座櫓系ｘｙｚのｙ方向に移動する。このとき、レー
ザ光ＬＢの定査も同時に行なわれ、マスクＩＩ：、の全
面の異物が検出される。そし７て異物検査部Ａは第３図
の検査処理回路２５０によって検出された異物の大きさ
に関する情報■、を出力し、座標値生成回路２５５によ
って位置情＠ＡＰを出力する。この情報Ｖａ、ＡＰは第
４図の主制御回路３００を介してメモリ３０１に順次記
憶される。こうしてマスクｌ全面について検査が終了す
ると、マスク１は第１図の如く異物検査部Ａから搬出さ
れて、位ＮＰＯで異物除去部Ｂに受は渡される。この際
、制御部Ｃの主制御回路３００は支持台２を位ＮＰＯま
で移動する指令をｘＩＦＣ３０２に出力する。位１ｉＰ
ｏで支持台２は搬送手段からマスク１を受は取り、再び
第１図の如く除去ヘッド５と６の間に戻る。

次に制御部Ｃは異物除去の動作に制御を切り替える。そ
して主制御回路３００はメモリ３０１から位置情報Ａ　
Ｐを読み出し、その位置情＠ＡＰに基づいて、第６図に
示したアーム１１０の先端部１１０ｂがマスク１上のそ
の位置にくるような指！た異物の上方（又は下方）に位
置する。

次に主制御回路３００はモータ１４と第６図に示した駆
動部１１１を動作して、マスク１上の異物を除去する。

この様子をさらに第７図に基づいて説明する。主制御回
路３００け駆動部１１１を作動するだめの指令をシリン
ダＩＦＣ３０５に出力する。これにより、アーム１１０
がパット１１６の開口部１１６ａから突出する。この際
、粘着テープ１１５は第７図（ａ）のように、アーム１
１０の先端部１１０ｂの曲面に密着するように引き延げ
される。次に主制御回路３００は伸縮駆動機構１４を駆
動する指令をｚＩＦＣ３０４に出力する。

伸縮駆動機構１４は除去ヘッド５と６とがマスク１を挟
持するように作動する。このとき、第７図（ｂ）に示す
ようにアーム１１０の先端部１１０ｂに密着した。粘着
テープ１１５は、マスク１上の異物Ａｉを所定の出力で
押圧する。この際第７図では表わしていないが、アーム
１１０の先端部１１０　ｂと対向したマスク１の裏面も
、除去ヘッド６の粘着テープによって同様に押圧される
。その後、伸縮駆動機構１４は、除去ヘッド５（又は６
）の粘着テープ１１５が第７図（Ｃ）の如くマスク１か
ら離れて元の位Ｈまで戻るように動作する。このとき異
物Ａｔは粘着テープ１１５に接着する。その後、駆動部
１１１の作動が中止され、圧縮バネ１１７の作用によっ
て、アーム１１０は第７図（ｄ）の如く上方に移動する
。アーム１１０が上方へ移動すると、粘着テープ１１５
は巻取リール１１４へ所定量巻き取られる。そして、粘
着テープ１１５の未使用の接着面が供給リール１１３か
ら供給され、開口部１１６ａと対向する。

上述のような動作を、メ干り３０１に記憶された位置情
報ＡＰの全てに基づいてくり返すことにより、マスク１
に付着した異物が残らず除去される。

以上、杢＃施例によればアーム１１０の先端部１１０ｂ
は球面状あるいは円柱状に形成されているので、粘着テ
ープ１１５けその曲面に沿って確実に引き研げされて先
端部１１０ｂと密着する。

またアーム１１０の先端部１１０ｂはテフロン１１０ｂ
は適度に変形するから、異物の粘着テープ１１５への接
着状態が良好になるばかりか、粘着テープ１１５及びマ
スク１を破損することがなくなる。また粘着テープ１１
５はマスク１の上面、下面の両面を所定の出力で同時に
押圧するので、マスク１に無理な応力を作用させて、マ
スク１の平面度等を損なうことがない。

以上述べた本装置の動作において、除去ヘッド５．６中
の各アーム１１０は共に上下動する。このため、例えば
マスク１の上面にのみ異物が付着していても、下面も同
様に粘着テープで押圧される。そこで異物検査部Ａでマ
スク１の上面、下面のどちらに異物が付着しているのか
を判別する情報を発生させるそして、その情報に基づい
て除去ヘッド５と６のどちらか一方を動作させるように
してもよい。この場合、マスク１のどちらか一方の面の
みを粘着テープで押圧すると、マスク１に無理な力が作
用し、破損する恐れも生じる。そこで異物の除去に寄与
しない除去ヘッドは、マスク１に当接させるようにする
。例えばマスク１の上面のみに異物が付着していた場合
、除去ヘッド５は第７図のように作動させ、除去ヘッド
６は単にマスク１の下面に当接するように作動させる。

この場合、除去ヘッド６に設けられたパット１１６はマ
スク１の下面を支える働きをする。このようにマスク１
の上面、下面の異物に対して作動すべき除去ヘッドを選
ぶことによって、異物が付着していなかった面に新たに
粘着物質を付着させることがなくなる、という利点があ
る。

１だ、異物検査部Ａからの情報Ｖａに基づいて、異物の
大きさによって除去ヘッド５，６を作動させてもよい。

例えばマスク１が１／１ｏ程度の縮小投影式鰍光装置で
用いるものであれば、縮小投影レンズの解像力の間顧か
ら極めて小さな異物（例えば５μｍ以下）Ｕウェハ上に
転写されない。従って、このような小さな異物が検出さ
れたとしても、この異物に対しては除去ヘッドを上下動
させないようにする。こ入すれば異物除去の時間が短・
縮され、特に多数のマスクを処理する場合、極めて高い
スルーブツトが得られる。

さらに、異物除去部Ｂで処理されたマスクを、再び異物
検査部Ａに尖［２て異物の有無を確認すれば、より確実
に異物除去が達成される。

また、異物を除去するために、本実施例の異物除去部Ｂ
と共に空気あるいけ窒素ガス（Ｎ、ガス）等をマスクに
吹き付けるエアーブロー装置を使用してもよい。この際
、エアーブロー装置でマスク上の比較的大きな異物（例
えば１００μｍ以上）や、こびりついていない異物を除
去する。その後異物検査部Ａで異物の検査を行ない、エ
ア・ブロー装置で取れなかった異物を葬物除去部Ｂで最
終的に除去する。このようにすれば、マスクにこびりつ
いだ異物のみを異物除去部Ｂで除去するので、スルーブ
ツトはさらに向トする。

以上のように、粘着部材に異物を付着させて除去する場
合、異物に水分や油分が含捷れていると、粘着物質によ
っては確実に除去できないこともある。この場合、異物
中の水分や油分を遊離させるために、強い紫外線光束を
マスクに照射するとよ１い。例えば異物除去部Ｂで異物
を除去した後、異物検査部Ａで異物の有無を検査する。

そして初めに検査したと轡と同一の位置に異物か付着ｌ
〜でいる場合は、マスクーヒのその位置に紫外線の強い
スポット光を一宇時間照射する。そして再び異物除去部
Ｂで異物を除去すればよい。

尚、異物検査部Ａで検査した後、異物除去部Ｂで異物を
除去１−で、再度異物の付着を検査する場合、初めに検
出した異物の付着位置近傍のみを検査するようにしても
よい。例えば、第２図にふルＡて、初めに異物が検出さ
れなかった領域は、異物の検査を中止してテーブル２０
０をｙ方向に高速に移動させる。そして、初めに異物が
検出された領域においては、テーブル２００を検査時の
速度に［７て異物検査を行なうようにする。このように
すれば再検査の時間が短縮される利点がある。

また上記実施例において、異物除去部Ｂけ種々の変形が
可能である。特に除去ヘッド５，６については、例えば
第８図のような構成としてもよい。

）すなわち・ｗ″１１（Ｄ平面に対して粘着部材４００
をは（−テ垂直方向に当接させる揺動アーム４０１を設
ける。この揺動アーム４０１は固定部４０２に軸支され
ており、駆動手段４０３によって粘着部材４００が上下
動する如く動作する。また粘着部材４００を所定の圧力
でマスク１に挿圧するために、揺動アーム４０１と固定
部４０２にはバネ４０４が設けられている。そしてマス
ク１は第２図で示Ｉ７たようなテーブル２００に載置し
て、このテーブルがマスク１と平行な面上で冬次元移動
するように、２軸移動機構を設ける。′４．た、粘着部
材４００は、前述の実施例の如く交換式の粘着テープで
もよいし、あるいは粘着性のゴム材、ラバー等でもよい
。このような構［ＱＫすると、比較的コンパクトな装置
が得られる。また、粘着性のゴム材等を使う場合は、第
９図のような構成にするとよい。第９図において、径の
大きなドラム４１０と径の小さいドラム４１１とには、
ゴム材の平ベルト４１２が所定の張力で掛は渡されてい
る。この平ベルト４１２の表側には長手方向の全周に一
宙ピッチで粘着性の凸部４１２ａが形成されている。ま
たドラム４１１は、いわゆるたる形に作られており、中
央部分の径が周囲部分の径よりも大きく定められている
。さらに、ドラム４１０．４１１は不図示の回転駆動機
構によって断電量ずつ回転可能である。このようなドラ
ム４１０．４１１、平ベルト４１２及び回転駆動機構を
、第２図に示しだ除去ヘッド５（又は６）中に設ける。

異物を除去するには、ドラム４１１のマスク１と対向す
る外周上に、凸部４１２ａを位置させる。

そして、第２図に示した伸縮駆動機構１４　（１４’）
を作動ｌ〜て、凸部４１２ａをマスク１に押圧する。こ
れで、マスク１に付着していた異物は凸部４１２ａに接
着する。その後除去ヘッド５を上方へ退避させ、ドラム
４１０，４１１を回転して、平ベルト４１２を凸部４１
２ａの１ピッチ分だけ進める。。

以上のような構成にすれば、第６図に示したようなアー
ム１１０やその駆動部１１１等が不要となり、除去ヘッ
ド５．６は極めてフンパクトにすることができる。壕だ
平ベルト４１２の凸部４１２ａの接着力が水洗い等によ
って著しく低下しなければ、平ベルト４１２が１回転１
〜だところで、ドラム４１０，４１１からはずして洗浄
することができる。こうすれば前述の実施例の如く粘着
テープを使い捨てにするのに対して、平ベルト４１２の
再利用が可能となる利点がある。また凸部４１２ａは粘
着性のゴム材等で出来ているので、マスク１を傷つける
こともない。

以上の各実施例において、粘着部材はマスク１を単に押
圧するだけでなく、同時に微小な振動を加えたり、温度
を加えたシしてもよい。こうすれば粘着部材はより安定
にマスク１に密着し、異物の除去作用が強められる。

以上のように本発明によれば、フォトマスクあるいけレ
チクルの如く被検査ψノに付着した異物は、被検査物−
ヒの局所領域毎に確実に除去されるので、新たな異物の
付着の原因となる再洗浄が不要となりＬＳＩ等の製造工
程において大幅な時間短縮、簡略化が行なえる、という
効果がある。

尚、本発明は■・８Ｔ［活用のフォトマスクやレチクル
等に付着した異物の除去に利用するだけではなく、他の
被検査物、例えば撮影フィルムやレンズ等の異物除去に
利用しても同様の効果が得られる。

〔主要部分の符号の説明〕

Ａ・・・異物検査部 Ｂ・・・異物除去部 Ｃ・・・制御部 １・・・マスク ５．６・・・除去ヘッド １１０・・・アーム １１５・・・粘着チーニブ 出　願　人　　日本光学工業株式会社 代　　理　　人　　　渡　　　辺　　　隆　　　男〉も ＼ＩＪ 才、、３　区 才４図 、ｆ′６　図 呵 ０１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）板状の被検査物上を光ビームで走査し、被検査物
   からの光情報に基づいて異物の付着を検出する異物検査
   装置と；該検査装置によって異物が検出されたとき、＃
   配光ビームの走査位置に関する位置情報を発生する位置
   検知手段と；被検査物上の局所領域に当接可能とすると
   某に、被検査物との当接部分に被検査物上の異物を接着
   して除去する接着部材を設けた異物除去手段と；前記位
   置情得に基づいて該除去手段を被検査物の異物付着部分
   に位置決めした後に該異物除去手段を作動する制御手段
   とを備えたことを特徴とする異物の自動除去装置。 （２、特許請求の範囲第１項記載の装置において、前記
   異物除去手段は前記接着部材として被検査物上の局所領
   域よりも広い接着面を有し：前記異物除去手段が作動す
   る毎に、該接着部拐の新たな接着面を被検査物と対向さ
   せることを特徴とする異物の自動除去装置。 （３）特Ｐｉ！Ｆ請求の範囲第１項記載の装置において
   、前記異物除去手段は前記接着部材が被検査物上の局所
   領域の表側と裏側との両面を断電の圧力で略同時に押［
   １（する如く往復運動することを特徴とする異物の自動
   除去装置。