JP2003322957A - フォトマスク用保護膜修正方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フォトマスク用の保護膜を転写する際に挟み
込んでしまった異物を除去し、保護膜の欠損部分にフォ
トマスク用保護膜補修液を滴下して保護膜の修正を行う
ことで、転写した保護膜を部分的に修正することができ
るフォトマスク用保護膜修正方法を提供する。 【解決手段】 本発明のフォトマスク用保護膜修正方法
は、フォトマスク用保護膜転写シートを用いてフォトマ
スクの画像面に保護膜を転写接着した後、保護膜を転写
接着させる際にフォトマスクと保護膜との間に異物が挟
み込まれてしまっていることで画像面に接着していない
保護膜部分に粘着部材を貼り付け、次いで当該粘着部材
を引き剥がすことによって画像面に接着していない保護
膜部分と共に異物をフォトマスクから取り除いた後、粘
着部材を引き剥がすことによって失われた保護膜の欠損
部分に、フォトマスク用保護膜補修液を滴下することで
補修膜を形成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はフォトマスク用保護
膜の修正方法に関するものであり、特に微小な粉塵の混
入を嫌う写真製版用原稿あるいはプリント配線基板用原
稿等のフォトマスクの保護膜の修正方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、表面が傷つき易いフォトマスクを
保護するには、ポリエチレンテレフタレート等の薄いプ
ラスチックフィルムを支持体とし、該プラスチックフィ
ルム上に粘着剤あるいは接着剤を積層し、該粘着剤ある
いは接着剤上に離型フィルムを積層してなる表面保護フ
ィルムが使用されている。ところで最近、写真製版やプ
リント配線基板に用いる原稿であるフォトマスクは、作
成するパターンが複雑化し、高い解像力が要求されるよ
うになってきた。このため、保護フィルムの厚みはさら
に薄いものが要求されている。しかしながら、前記のよ
うな構造を有する表面保護フィルムでは、プラスチック
フィルムをさらに薄くすると、フォトマスクに積層する
際の作業性が悪くなり、シワ、気泡等が発生しやすくな
るという問題があった。

【０００３】このようなものを改善する方法として、例
えば特開2001-337443号公報には、剥離可能な支持体側
から保護層、接着層を順次積層してなるフォトマスク用
保護膜転写シートを用いて、フォトマスクの画像面に保
護膜を転写させる方法が記載されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そしてこのような表面
保護フィルムや保護膜転写シートをフォトマスクの画像
面へ貼着する際には、粉塵等の異物が挟み込まれないよ
うにクリーンな環境下で行うようにしているが、完全に
異物が挟み込まれるのを防止することはできない。この
ようにフォトマスクと表面保護フィルムや転写した保護
膜との間に異物が挟み込まれてしまうと、該異物が露光
障害を起こしてしまうため、フォトマスク自体が不良品
になってしまう。

【０００５】ここで表面保護フィルムを用いる場合に
は、このような異物が挟み込まれた場合、貼着した表面
保護フィルムを剥離して、新しいもので貼り直すことが
できるが、これではコスト高になってしまう。一方、保
護膜転写シートによって転写した保護膜では、該保護膜
の厚みが極めて薄いため、転写後の保護膜の全面を貼り
直すことは不可能である。

【０００６】そこで本発明は上記のような問題点を解決
するためになされたもので、フォトマスク自体が不良品
にならないようにするため、フォトマスク用の保護膜を
転写する際に挟み込んでしまった異物を除去し、保護膜
の欠損部分にフォトマスク用保護膜補修液を滴下して保
護膜の修正を行うことで、転写した保護膜を部分的に修
正することができるフォトマスク用保護膜修正方法を提
供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明のフォトマスク用
保護膜修正方法は、剥離可能な支持体上に保護膜を設け
てなるフォトマスク用保護膜転写シートを用いてフォト
マスクの画像面に前記保護膜を転写接着した後、前記保
護膜を転写接着させる際に前記フォトマスクと前記保護
膜との間に異物が挟み込まれてしまっていることで前記
画像面に接着していない保護膜部分に粘着部材を貼り付
け、次いで前記粘着部材を引き剥がすことによって前記
画像面に接着していない保護膜部分と共に前記異物を前
記フォトマスクから取り除いた後、前記粘着部材を引き
剥がすことによって失われた保護膜の欠損部分に、フォ
トマスク用保護膜補修液を滴下することで補修膜を形成
することを特徴とするものである。

【０００８】また本発明のフォトマスク用保護膜修正方
法は、前記粘着部材が粘着テープであって、前記画像面
に接着していない保護膜部分に前記粘着テープを貼り付
ける際に、前記粘着テープをラビングしながら圧着する
ことにより、前記画像面に接着していない保護膜部分の
端部にクラックを生じさせることを特徴とするものであ
る。

【０００９】また本発明のフォトマスク用保護膜修正方
法は、前記粘着部材を引き剥がすことによって前記画像
面に接着していない保護膜部分と共に前記異物を前記フ
ォトマスクから取り除いた後、前記粘着部材を引き剥が
すことによって失われた保護膜の欠損部分をラビングす
ることで前記保護膜の欠損部分のばりを除去し、その後
にフォトマスク用保護膜補修液を滴下することで補修膜
を形成することを特徴とするものである。

【００１０】また本発明のフォトマスク用保護膜修正方
法は、前記フォトマスク用保護膜補修液を滴下すること
で補修膜を形成する際に、前記保護膜の欠損部分からは
み出した部分を取り除くことを特徴とするものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明のフォトマスク用保護膜修
正方法について、図１〜図４を用いて説明する。

【００１２】本発明のフォトマスク用保護膜修正方法
は、剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなるフォトマ
スク用保護膜転写シートを用いてフォトマスク１の画像
面１１に保護膜２を転写接着した後、保護膜２を転写接
着させる際にフォトマスク１と保護膜２との間に異物３
が挟み込まれてしまっていることで画像面１１に接着し
ていない保護膜部分２１（図１）に粘着部材（図示せ
ず）を貼り付け、次いで当該粘着部材を引き剥がすこと
によって画像面１１に接着していない保護膜部分２１と
共に異物３をフォトマスク１から取り除いた後（図
２）、粘着部材を引き剥がすことによって失われた保護
膜の欠損部分２２に、フォトマスク用保護膜補修液４を
滴下する（図３）ことで補修膜４１を形成する（図４）
ものである。

【００１３】ここで用いられるフォトマスク用保護膜転
写シートは、剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなる
ものであり、必要に応じてセパレータを当該保護膜に積
層して用いることができるものである。ここで保護膜
は、少なくとも支持体に直接接する保護層からなるもの
であって、必要に応じて当該保護層に接着層を積層して
なるものであることが好ましい。

【００１４】ここで支持体は、保護層や接着層等の保護
膜を積層する際に基材となるものであり、薄い保護膜を
作業性良くフォトマスクの画像面に転写させる機能を担
うものである。ここで支持体は、保護膜が剥離可能であ
ることが必要であるため、必要に応じて保護膜の剥離性
を向上させるために、表面に離型層等を設ける等の離型
処理を施したものを用いることが好ましい。

【００１５】またここで保護層は、保護膜がフォトマス
クの画像面に転写したあと最表面にくるため、保護膜の
耐擦傷性及び耐溶剤性に影響を及ぼすものである。従っ
て、保護膜の耐擦傷性及び耐溶剤性を高くするために、
保護層は少なくとも熱硬化性樹脂若しくは電離放射線硬
化型樹脂を含むものから形成されてなるものであること
が好ましい。

【００１６】さらに必要に応じて設けられる接着層と
は、フォトマスクの画像面への貼着を容易にならしめる
層で、保護層一層のみではフォトマスク画像面への密着
性と保護膜としての耐擦傷性、耐溶剤性を両立すること
が困難である時に設けるものである。また、優れた耐擦
傷性、耐溶剤性を発揮させるためには、接着層自体の硬
度を高くさせることが好ましい。このように接着層の硬
度を高くさせるためには、接着層も、少なくとも熱硬化
性樹脂若しくは電離放射線硬化型樹脂を含むものからな
るものであることが好ましい。

【００１７】また本発明におけるフォトマスクとは、基
材の一方の面が画像面となっているものであり、例えば
当該画像面は露光用パターンが形成された乳剤層からな
るものである。ここで基材としては、電離放射線透過率
が良好なものが使用され、例えばガラスやプラスチック
フィルムが好適に使用される。

【００１８】このようなフォトマスク用保護膜転写シー
トを用いてフォトマスクの画像面に保護膜を転写接着す
る手段としては、まず、フォトマスク用保護膜転写シー
トの保護層又は必要に応じて設けられた接着層をフォト
マスクの画像面に貼着する。その後、必要に応じて加熱
及び／又は電離放射線照射を行って、保護層及び／又は
必要に応じて設けられた接着層を硬化させて、フォトマ
スクの画像面に対する接着性を向上させた後、支持体を
剥離することでフォトマスクの画像面に保護膜を転写さ
せる。

【００１９】ここでフォトマスク用保護膜転写シートを
用いてフォトマスク１の画像面１１に保護膜２を転写接
着する場合、フォトマスク１と保護膜２との間に異物３
が挟み込まれてしまうことが生じる（図１）。ここで本
発明では、このように保護膜２を転写接着させる際にフ
ォトマスク１と保護膜２との間に異物３が挟み込まれて
しまっていることで画像面１１に接着していない保護膜
部分（以下、「保護膜未接着部分」という）２１を、修
正する方法を提供するものである。

【００２０】即ち本発明は、ここで保護膜未接着部分に
粘着部材を貼り付け、次いで当該粘着部材を引き剥がす
ことによって保護膜未接着部分と共に異物をフォトマス
クから取り除くという操作を行う。

【００２１】ここで用いられる粘着部材としては、例え
ば粘着テープや粘着ローラー等の、少なくても部分的に
粘着性を有することで貼り付けと剥離が繰り返して行え
る表面を持った材料であれば、特に制限されることなく
使用することができる。

【００２２】ここで特に粘着部材が粘着テープである場
合には、保護膜未接着部分に粘着テープを貼り付ける際
に、粘着テープをラビングしながら圧着することが好ま
しい。このように粘着テープをラビングしながら圧着す
ることにより、保護膜未接着部分の端部にクラックを生
じさせることができ、保護膜未接着部分のみを異物と共
に取り除くことが容易になり、画像面に接着している保
護膜部分までも取り除いてしまうという不都合を生じ難
くすることができる。

【００２３】ここでラビングしながら圧着するとは、粘
着テープの上から爪やヘラ等の硬い物質で擦り、粘着テ
ープと保護膜との間に空気が入り込むのを防ぐようにす
ることである。このように圧着することで、粘着テープ
と保護膜との間の接着力を上げる効果も同時に出すこと
ができる。

【００２４】上述のように、粘着部材を引き剥がすこと
によって異物と共に保護膜未接着部分をフォトマスク１
から取り除くと、フォトマスク１の画像面１１を被覆し
ている保護膜２の一部分が失われてしまい、保護膜に欠
損部分２２を生じることになる（図２）。以下、このよ
うに粘着部材を引き剥がすことによって失われた保護膜
の欠損部分を、単に「保護膜の欠損部分」という。

【００２５】ここで保護膜の欠損部分２２の端部には、
図２に示すような「ばり」２３が生じる場合がある。こ
のような場合には、当該保護膜の欠損部分をラビングす
ることで、保護膜の欠損部分のばりを除去することが好
ましい。このように保護膜の欠損部分のばりを除去する
ことによって、白化した状態で残っているばりが露光時
に散乱光を発生させて露光障害となる等の弊害を生じ難
くすることができるからである。

【００２６】ラビングの際は、有機溶剤を使用すること
で、ばりとして浮き上がっている隙間の部分のみに有機
溶剤が染み込み、画像面と接着している保護膜部分を侵
すことなく、ばりのみを除去できる。具体的には有機溶
剤を染み込ませた綿棒等を用いて擦ることによりラビン
グすることができる。なお、ここでいう有機溶剤として
はアルコール系、ケトン系、芳香族炭化水素系、アルコ
ールエステル系などを用いることができる。

【００２７】次いで保護膜の欠損部分２２に、フォトマ
スク用保護膜補修液４を滴下する（図３）ことで補修膜
４１を形成する（図４）ことによって、保護膜２の修正
を完了することができる。

【００２８】ここで用いられるフォトマスク用保護膜補
修液としては、少なくとも補修膜を形成しうる樹脂を含
み、適宜その他に希釈溶剤や添加剤を加えたものを用い
ることができる。

【００２９】フォトマスク用保護膜補修液は、形成後の
補修膜がフォトマスクに接着できるものであることが要
求される。ここでフォトマスクに対する接着性を発現さ
せる観点から、フォトマスク用保護膜補修液には、補修
膜を形成する樹脂として、熱可塑性ポリエステル樹脂、
熱可塑性アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂等の熱可塑性樹
脂を含ませることが好ましい。

【００３０】またフォトマスク用保護膜補修液は、形成
される補修膜の性能として高い耐擦傷性及び耐溶剤性が
得られるようなものであることが好ましい。即ち補修膜
は、画像面に接着している保護膜部分と同等の性能を有
することが好ましい。

【００３１】ここで耐擦傷性及び耐溶剤性を高くする手
段としては、補修膜を形成する樹脂として、少なくとも
熱硬化性樹脂若しくは電離放射線硬化型樹脂を含ませる
ことが好ましい。

【００３２】ここで熱硬化性樹脂としては、シリコーン
系、メラミン系、エポキシ系、アミノアルキッド系、ウ
レタン系、アクリル系、ポリエステル系、フェノール系
等の架橋性樹脂を熱によって架橋硬化させるものが使用
できる。この中でも、良好な耐光性及び電離放射線透過
性を有するアクリル系熱硬化性樹脂が好適に使用され
る。これらは単独でも使用可能であるが、架橋性、架橋
硬化塗膜の硬度をより向上させるためには、硬化剤を加
えることが望ましい。

【００３３】ここで硬化剤としては、ポリイソシアネー
トやアミノ樹脂、エポキシ樹脂、カルボン酸などの化合
物を適合する樹脂に合わせて適宜使用することができ
る。

【００３４】特に常温では全く反応せずにある温度以上
に加熱すると架橋反応を起こすような一液型硬化反応と
なる硬化剤を用いることが望ましい。このような硬化剤
としては、触媒や官能基をブロック化する手法が用いら
れたブロックイソシアネート等を用いることができる。

【００３５】ここでブロックイソシアネートとは、ポリ
イソシアネートをマスク剤でマスク化したものであり、
常温では全く反応せず硬化反応を進行させることはな
く、マスク剤が解離する温度以上に加熱すると活性なイ
ソシアネート基が再生されて十分な架橋反応を起こすも
のである。またこのようなブロックイソシアネートは、
イソシアネート成分を含むことからフォトマスクの乳剤
層との接着が良好となり、保護膜の耐久性を向上させる
役割も果たすことができる。

【００３６】ポリイソシアネートは、イソシアネートモ
ノマーを重合若しくは共重合させたものであり、特に制
限されること無く使用することができる。イソシアネー
トモノマーとしては、１，６−ヘキサメチレンジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、１，３−若し
くは１，４−ジイソシアネートシクロヘキサン、ｍ−若
しくはｐ−テトラメチルキシレンジイソシアネート、
１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，１２−
ドデカメチレンジイソシアネートなどがあげられる。

【００３７】マスク剤は特に制限されることなく使用す
ることができ、例えば、フェノール系、アルコール系、
活性メチレン系、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミ
ド系、ラクタム系、イミダゾール系、尿素系、オキシム
系、アミン系、イミド系、ヒドラジン化合物などがあげ
られる。具体的には、フェノール、クレゾール、２−ヒ
ドロキシピリジン、ブチルセロソルブ、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコール、ベン
ジルアルコール、エタノール、マロン酸ジエチル、アセ
ト酢酸エチル、アセチルアセトン、ブチルメルカプタ
ン、アセトアニリド、酢酸アミド、コハク酸イミド、ε
−カプロラクタム、イミダゾール、尿素、チオ尿素、ア
セトアルドオキシム、アセトンオキシム、シクロヘキサ
ンオキシム、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾー
ル、エチレンイミン、ジメチルヒドラジンなどがあげら
れる。

【００３８】マスク剤の解離温度は１００℃以上である
ことが好ましい。１００℃以上とすることにより、フォ
トマスク用保護膜補修液中に希釈溶剤を含むような場合
でも、１００℃以下で加温して希釈溶剤を揮発させても
マスク剤の解離が起こることなく、作業性を向上させる
ことができる。但し、フォトマスクの基材がプラスチッ
クフィルム等のように耐熱性に劣るようなものである場
合には、マスク剤の解離温度は１２０℃以下であるもの
が好ましい。マスク剤の解離温度を１２０℃以下とする
ことにより、プラスチックフィルムの熱収縮等による寸
法変化によってフォトマスクの精密性が低下することを
防止することができる。

【００３９】また電離放射線硬化型樹脂としては、少な
くとも電離放射線（紫外線若しくは電子線）の照射によ
って架橋硬化することができる塗料から形成されるもの
を使用することが好ましい。このような電離放射線硬化
塗料としては、光カチオン重合可能な光カチオン重合性
樹脂や、光ラジカル重合可能な光重合性プレポリマー若
しくは光重合性モノマー、などの１種又は２種以上を混
合したものを使用することができる。

【００４０】ここで光カチオン重合性樹脂としては、ビ
スフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等のエポ
キシ樹脂やビニルエーテル系樹脂等を挙げることができ
る。

【００４１】また光重合性プレポリマーとしては、例え
ば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メ
タ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポ
リエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）
アクリレート、メラミン（メタ）アクリレートなどの各
種（メタ）アクリレート類などを用いることができる。

【００４２】また光重合性モノマーとしては、例えば、
スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマ
ー類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸−２
−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、
(メタ)アクリル酸ブトキシエチル、(メタ)アクリル酸ブ
チル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル、(メタ)アクリ
ル酸フェニル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）ア
クリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸エトキシメチ
ル、（メタ）アクリル酸ラウリルなどの（メタ）アクリ
ル酸エステル類、（メタ）アクリルアミドなどの不飽和
カルボン酸アミド、（メタ）アクリル酸−２−(Ｎ，Ｎ
−ジエチルアミノ)エチル、（メタ）アクリル酸−２−
(Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ)エチル、（メタ）アクリル
酸−２−(Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ)プロピルなどの不飽
和酸の置換アミノアルコールエステル類、エチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ノナプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロ
ールトリ(メタ)アクリレート、トリス−(２−ヒドロキ
シエチル)−イソシアヌル酸エステル(メタ)アクリレー
ト、２，２−ビス[４−(アクリロキシジエトキシ)フェ
ニル]プロパン、３−フェノキシ−２−プロパノイルア
クリレート、１，６−ビス（３−アクリロキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）−ヘキシルエーテルなどの多官能性
化合物、およびトリメチロールプロパントリチオグリコ
レート、トリメチロールプロパントリチオプロピレー
ト、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレートなど
の分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール
化合物、などを用いることができる。

【００４３】この他このような電離放射線硬化塗料に
は、種々の添加剤を添加しうるが、硬化の際に紫外線を
用いる場合には、光重合開始剤、紫外線増感剤等を添加
することが好ましい。この光重合開始剤としては、アセ
トフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベ
ンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾ
エート、α−アシロキシムエステル、チオキサンソン類
等の光ラジカル重合開始剤や、オニウム塩類、スルホン
酸エステル、有機金属錯体等の光カチオン重合開始剤が
挙げられ、紫外線増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、
トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙
げられる。

【００４４】またここでフォトマスク用保護膜補修液に
は上述したように適宜希釈溶剤を加えることができる
が、ここで加えられ得る希釈溶剤としては、上述した樹
脂を溶解できるものであれば特に制限されることなく使
用することができる。例えば、具体的には酢酸エチル、
酢酸ブチル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン
等があげられる。好ましくは液のレベリング性を出すた
めに蒸発速度の遅い溶剤を用いることが望ましい。この
ように蒸発速度の遅い溶剤を用いることで、液の滴下
後、溶剤が揮発するまでの間の作業性を良くすることが
できる。このような希釈溶剤としてはプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、キシレン、酢酸ブチル、シク
ロヘキサノン等が用いられる。

【００４５】なお、上述した性能を害さない範囲で、フ
ォトマスク用保護膜補修液中にはレベリング剤等の添加
剤を添加しても良い。

【００４６】上述した各種の樹脂は単独でも用いること
ができるが、数種類を混合して使用することもできる。
例えば、熱可塑性樹脂と電離線硬化型樹脂を混合して用
いることにより、フォトマスクへの接着性が良く、且つ
耐擦傷性及び耐溶剤性等に、特に優れる補修膜を形成す
ることができるようになる。

【００４７】次にフォトマスク用保護膜補修液を滴下す
る手段としては、マイクロシリンジ針や毛細管等を用い
て微小な液滴を作って滴下したり、針の先端に付けた液
滴を欠損部分に接着させて滴下したりすることにより行
い得る。通常、保護膜の欠損部分の面積は非常に小さい
場合が多いため、例えばマイクロシリンジ針や毛細管等
の内径は２００μｍ以下であることが望ましい。補修膜
の厚みは、液滴の液量により調節することが可能であ
る。

【００４８】また保護膜の欠損部分に滴下したフォトマ
スク用保護膜補修液から補修膜を形成させる手段として
は、当該補修液が希釈溶剤を含むものである場合には当
該希釈溶剤を揮発させることで、また当該補修液に含ま
れる補修膜を形成する樹脂に硬化性樹脂が含まれている
場合には当該硬化性樹脂を硬化させることで、当該補修
液を被膜化することによって補修膜を形成することがで
きる。

【００４９】このようにフォトマスク用保護膜補修液を
被膜化して補修膜を形成する際には、保護膜の欠損部分
に滴下した当該補修液が当該欠損部分からはみ出した際
に、当該欠損部分からはみ出した補修液を取り除いた後
に、硬化性樹脂等を硬化させることが好ましい。このよ
うに当該欠損部分からはみ出した当該補修液を取り除く
ことによって、修正される保護膜に補修膜が重ねて形成
されることがなくなり、保護膜に厚みムラを生じ難くす
ることができるようになって、光線透過率の悪化や散乱
光の発生等による露光障害を起こし難くすることができ
るようになる。

【００５０】当該欠損部分からはみ出した当該補修液を
取り除く具体的手段としては、有機溶剤等を染み込ませ
た綿棒等を用いて拭き取ることで行い得る。なお、ここ
でいう有機溶剤としてはアルコール系、ケトン系、芳香
族炭化水素系、アルコールエステル系などを用いること
ができる。

【００５１】またフォトマスク用保護膜補修液に含まれ
る硬化性樹脂を硬化させる手段としては、硬化性樹脂が
硬化剤としてブロックイソシアネートを用いたものであ
る場合には、マスク剤が解離する温度以上に加熱して硬
化性樹脂の硬化反応を促進させる。また、硬化性樹脂が
電離放射線硬化型樹脂である場合には、電離放射線を照
射することにより硬化し得る。

【００５２】ここで電離放射線（紫外線若しくは電子
線）を照射する方法としては、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等を用いて紫外線を照射したり、コ
ックロフトワルトン型、バンデルグラフ型、共変圧器
型、絶縁コア変圧器型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子加速器を用いて電子線を照射したりする方法
が採用できる。

【００５３】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
尚、「部」「％」は特記しない限り重量基準である。

【００５４】［実施例１］ １．フォトマスク用保護膜転写シートの作製 厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
（Ｔ−６００Ｅ：三菱化学ポリエステルフィルム社）の
一方の表面に、以下の組成の離型層用塗工液ａを塗布
し、乾燥させることにより、厚み約１μｍの離型層を設
けた支持体を作製した。

【００５５】

【００５６】次いで、当該支持体の離型層上に、以下の
組成の保護層用塗工液ｂ及び接着層用塗工液ｃを順次塗
布、乾燥することにより、厚み約２μｍの保護層及び厚
み約２μｍの接着層を積層形成した。その際、保護層に
ついては、乾燥後、高圧水銀灯により紫外線照射を行っ
て硬化させた。さらに、当該接着層上に厚み３８μｍの
セパレータ（エステルフィルムＥ７００６：東洋紡績
社）の離型処理面を貼り合わせて、フォトマスク用保護
膜転写シートを得た。

【００５７】＜保護層用塗工液ｂ＞ ・ウレタンアクリレート（ユニディックV4005 <固形分 ６４％>：大日本インキ化学工業社） １２５部 ・光ラジカル重合開始剤（イルガキュア184：チバスペ シャリティケミカルズ社） ２．４部 ・トルエン ２７５部

【００５８】＜接着層用塗工液ｃ＞ ・光カチオン重合性樹脂（ビスフェノールＡ型エポキシ 樹脂 <商品名：アデカオプトマーKRM-2410>：旭電化 工業社） １．５部 ・光カチオン重合開始剤（トリフェニルスルホニウム 塩 <商品名：アデカオプトマーSP-170>：旭電化工業 社） ０．１部 ・アクリル系粘着性樹脂（ＳＫダイン1102 <固形分４０ ％>：綜研化学社） ４部 ・酢酸エチル ２０部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル １０部

【００５９】２．保護膜の転写および保護膜未接着部分
の除去 上記で得られたフォトマスク用保護膜転写シートからセ
パレータを剥離して露出した接着層を、ガラスの表面に
回路配線パターンを形成したフォトマスクの当該回路パ
ターンを形成した画像面に、ラミネーターを用いて１０
０℃に加熱したヒートロールによって貼着した。次いで
高圧水銀灯にて紫外線を照射して接着層を硬化させた
後、保護膜から支持体を剥離して、保護膜をフォトマス
クの画像面に転写接着させた。

【００６０】次いで転写接着させた保護膜とフォトマス
ク画像面との間に直径約３００μｍ程度の異物が挟み込
まれてしまっているために保護膜がフォトマスクの画像
面に対して接着していない保護膜未接着部分を発見し、
当該保護膜未接着部分にセロハン粘着テープ（CT-405A-
18：ニチバン社）を爪でラビングして当該保護膜未接着
部分の端部にクラックを生じさせながら圧着した。次い
で当該粘着テープを勢いよく引き剥がして、当該保護膜
未接着部分を異物と共に保護膜から部分的に取り除い
た。

【００６１】３．ばりの除去 保護膜の欠損部分を観察したところ、欠損部分の淵にば
りが生じていたので、メチルエチルケトンを染み込ませ
た綿棒でラビングすることで、当該ばりを除去した。ば
りが除去された後の保護膜の欠損部分の直径は約１ｍｍ
程度の大きさであった。

【００６２】４．フォトマスク用保護膜補修液の滴下及
び補修膜の形成ばりを除去した保護膜の欠損部分に、以
下の組成のフォトマスク用保護膜補修液ｄを滴下した。

【００６３】＜フォトマスク用保護膜補修液ｄ＞ ・熱可塑性アクリル樹脂（LMS−55 <固形分40％>：互応 化学工業社） ２５部 ・ウレタンアクリレート（ユニディック17-824-9 <固形 分８０％>：大日本化学工業社） １２．５部 ・メチルエチルケトン １８０部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル １８０部

【００６４】ここで滴下したフォトマスク用保護膜補修
液で保護膜の欠損部分からはみ出した部分については、
メチルエチルケトンを染み込ませた綿棒により拭き取っ
て取り除いた。また当該補修液中の希釈溶剤を８０℃３
分間で揮発乾燥させた後、高圧水銀灯で紫外線を照射し
て、滴下した補修液を硬化させて補修膜を形成した。

【００６５】尚、滴下の際には、内径が約７０μｍの毛
細管を使用し、滴下した液量を約０．５μｌ程度にする
ことにより、形成した補修膜の厚みが周囲の保護膜と同
程度の厚みになった。

【００６６】［実施例２］ １．フォトマスク用保護膜転写シートの作製 実施例１の接着層用塗工液ｃの代わりに、下記の接着層
用塗工液ｅを使用した以外は、実施例１と同様にしてフ
ォトマスク用保護膜転写シートを得た。

【００６７】＜接着層用塗工液ｅ＞ ・熱硬化性アクリル樹脂（アクリディックA-814 <固形 分５０％>：大日本インキ化学工業社） １０部 ・ブロックイソシアネート硬化剤（DB-980K <固形分７ ５％>：大日本インキ化学工業社、マスク剤の解離温 度：１３０℃） ０．８６部 ・アクリル系粘着性樹脂（ＳＫダイン1102 <固形分４０ ％>：綜研化学社） ２０部 ・酢酸エチル ５０部 ・メチルエチルケトン ５０部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル １００部

【００６８】２．保護膜の転写および保護膜未接着部分
の除去 フォトマスク用保護膜転写シートをフォトマスクの画像
面に貼着した後に、接着層を硬化させる際に、紫外線照
射を行う代わりに、１４０℃１８０分間加熱してブロッ
クイソシアネートのマスク剤を解離させて接着層を硬化
させた以外は、実施例１と同様にして保護膜を転写接着
させると共に保護膜未接着部分を取り除いた。

【００６９】３．ばりの除去 実施例１と同様にして、欠損部分の淵に生じていたばり
を除去した。

【００７０】４．フォトマスク用保護膜補修液の滴下及
び補修膜の形成 ばりを除去した保護膜の欠損部分に、以下の組成のフォ
トマスク用保護膜補修液ｆを滴下して、硬化手段として
紫外線照射を行う代わりに、１４０℃１８０分間加熱し
てブロックイソシアネートのマスク剤を解離させて当該
補修液を硬化させた以外は、実施例１と同様にして補修
膜を形成した。

【００７１】＜フォトマスク用保護膜補修液ｆ＞ ・熱可塑性アクリル樹脂（LMS−55 <固形分40％>：互応 化学工業社） １０部 ・熱硬化性アクリル樹脂（アクリディックA-814 <固形 分５０％>：大日本インキ化学工業社） １０部 ・ブロックイソシアネート硬化剤（DB-980K <固形分７ ５％>：大日本インキ化学工業社、マスク剤の解離温 度：１３０℃） ０．８６部 ・メチルエチルケトン １１０部 ・プロピレングリコールモノメチルエーテル １１０部

【００７２】以上の実施例１及び２共に、フォトマスク
用保護膜転写シートから転写した保護膜とフォトマスク
の画像面との間に挟み込まれてしまった異物を、保護膜
未接着部分と共に容易に取り除くことができ、当該保護
膜の欠損部分にフォトマスク用保護膜補修液を滴化する
ことで当該保護膜の欠損部分に補修膜を形成することが
でき、転写後の保護膜を簡易に修正することができるも
のであった。

【００７３】

【発明の効果】本発明のフォトマスク用保護膜修正方法
によれば、フォトマスク用の保護膜を転写接着する際に
異物を挟み込んでしまったような場合であっても、当該
異物を除去すると共に、当該異物を除去する際に生じる
保護膜の欠損部分にフォトマスク用保護膜補修液を滴下
して補修膜を形成することにより、転写した保護膜を部
分的に修正することができるため、フォトマスク自体が
不良品になることを防ぐことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 フォトマスクと保護膜との間に異物が挟み込
まれてしまっている状態を示す断面図。

【図２】 フォトマスクの画像面から保護膜未接着部分
を取り除いて保護膜に欠損部分を生じている状態を示す
断面図。

【図３】 フォトマスクの画像面上の保護膜の欠損部分
にフォトマスク用保護膜補修液を滴下している状態を示
す断面図。

【図４】 フォトマスクの画像面上の保護膜の欠損部分
に補修膜を形成した状態を示す断面図。

【符号の説明】

１・・・・フォトマスク １１・・・画像面 ２・・・・保護膜 ２１・・・保護膜未接着部分 ２２・・・保護膜の欠損部分 ２３・・・ばり ３・・・・異物 ４・・・・フォトマスク用保護膜補修液 ４１・・・補修膜

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなる
   フォトマスク用保護膜転写シートを用いてフォトマスク
   の画像面に前記保護膜を転写接着した後、前記保護膜を
   転写接着させる際に前記フォトマスクと前記保護膜との
   間に異物が挟み込まれてしまっていることで前記画像面
   に接着していない保護膜部分に粘着部材を貼り付け、次
   いで前記粘着部材を引き剥がすことによって前記画像面
   に接着していない保護膜部分と共に前記異物を前記フォ
   トマスクから取り除いた後、前記粘着部材を引き剥がす
   ことによって失われた保護膜の欠損部分に、フォトマス
   ク用保護膜補修液を滴下することで補修膜を形成するこ
   とを特徴とするフォトマスク用保護膜修正方法。
2. 【請求項２】請求項１記載のフォトマスク用保護膜修正
   方法において、前記粘着部材が粘着テープであって、前
   記画像面に接着していない保護膜部分に前記粘着テープ
   を貼り付ける際に、前記粘着テープをラビングしながら
   圧着することにより、前記画像面に接着していない保護
   膜部分の端部にクラックを生じさせることを特徴とする
   フォトマスク用保護膜修正方法。
3. 【請求項３】請求項１記載のフォトマスク用保護膜修正
   方法において、前記粘着部材を引き剥がすことによって
   前記画像面に接着していない保護膜部分と共に前記異物
   を前記フォトマスクから取り除いた後、前記粘着部材を
   引き剥がすことによって失われた保護膜の欠損部分をラ
   ビングすることで前記保護膜の欠損部分のばりを除去
   し、その後にフォトマスク用保護膜補修液を滴下するこ
   とで補修膜を形成することを特徴とするフォトマスク用
   保護膜修正方法。
4. 【請求項４】請求項１記載のフォトマスク用保護膜修正
   方法において、前記フォトマスク用保護膜補修液を滴下
   することで補修膜を形成する際に、前記保護膜の欠損部
   分からはみ出した部分を取り除くことを特徴とするフォ
   トマスク用保護膜修正方法。