JP2006243272A - 感光性転写材料、これを用いた表示装置用基板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一であり、露光時の気泡の発生による画素欠けがない感光性転写材料を提供すること。
【解決手段】 仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層とこの層に隣接する隣接層を有する感光性転写材料であって、該隣接層がポリマー粒子を含み、該ポリマー粒子の単独皮膜の破断強度が１８ＭＰａ以上であって、且つ、破断伸度が４５０％以下であることを特徴とする感光性転写材料。
【選択図】 なし

Description

本発明は、光の照射によって化学変化するポジ型感光性樹脂層を有する転写材料、表示装置用基板及び表示装置に関する。詳細には、好ましくは、液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）を構成する導電層の外側から液晶層側に凸となるように設けられる、液晶表示装置用基板の形成に好適に用いられる感光性転写材料、これを用いて形成された液晶表示装置用基板及び液晶表示装置に関する。

近年、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）ディスプレイに代わるフラットパネルディスプレイとしては、液晶表示装置（ＬＣＤ）が現在最も広く使用されており、その期待も大きい。中でも、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）方式のＬＣＤ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は、パーソナルコンピュータ、ワープロ、及びＯＡ機器や、携帯テレビジョン等への応用によって市場の一層の拡大が期待されているとともに、画像品質の更なる向上が求められている。

現在、ＴＦＴ−ＬＣＤの中で最も広く使用されている方式は、ノーマリホワイトモードのＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型のＬＣＤである。しかし、ＴＮ型のＬＣＤは、視野角が狭いという欠点があり、表示画面を観察する位置によって表示状態が異なってしまう。このため、ＴＮ型のＬＣＤは、その用途が限定されてしまうという問題があった。
上述のような欠点を解決する手段としては、液晶分子の配向状態に傾きを与え、液晶面に対して斜めから観察した場合であっても液晶面を正面から観察した場合と同様の表示状態が得られるように視野角を広げる方法が提案されている。このように、液晶分子の配向状態に傾きを与える手段として、液晶層に対して突起を形成する技術が提案されている。かかる突起は液晶の配向を制御するために形成されるものであり、液晶配向制御用突起と称される。

このような技術としては、フェノールノボラックを用いて液晶配向制御用突起を形成する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。かかる技術は、ポジ型のフォトレジストをスピンコータにて１．５μｍの厚さに塗布して塗布層を形成し、該塗布層をプリベークした後に、露光・現像処理を施してパターン形成し、その後、２４０℃で２０分間ポストベーク（熱フロー）を行い、液晶配向制御用突起を形成するものである。
しかし、液状のレジストをスピンコータにより塗布する方法では、膜厚の均一性が問題となる。

特に、近年ではＬＣＤのサイズが大型化しており、元の基板のサイズも１ｍを超えるものまでが実用化されつつある。このような大きなサイズの基板を用いる場合、スピンコータによる塗布では膜厚の分布が大きくなってしまう。膜厚の均一性が悪いと表示ムラの原因となる。

このようにスピンコータを用いることによる問題を解決するために以下の方法が提案されている。１つは、予め１ｍを超える巾の仮支持体にフォトレジストを均一に塗布した塗布層を乾燥することで得られる感光性転写材料等を用いる方法である（以下、感光性転写材料を用いた方法を「転写方式」と称する場合がある。）。かかる転写方式では、液物性を適切に調整して塗布することが可能であり、膜厚の均一性を高めることができる。かかる感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層、中間層及びカバーフィルムなどが使用される。前記熱可塑性樹脂層、中間層及びカバーフィルムなどを使用することにより、感光性転写材料の感光性樹脂層を仮支持体から永久支持体へ転写する際に、微小なゴミ、気泡、永久支持体の段差などに起因する転写不良が起こりにくくなるため、使用することが好ましい（例えば、特許文献２参照。）。

二つ目は、スリットコーターにより形成する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
上述の方式は、大型基板塗布時の均一性を、スピンコータを用いた場合と比較して改善することが可能である。
しかし、感光性転写材料に上記熱可塑性樹脂層、中間層及び凹凸のあるカバーフィルムを使用すると、中間層の膜強度不足及びガス透過性の低さから、気泡が中間層中、感光性樹脂層と中間層界面、及び基板と感光性樹脂層界面に留まり、これにより現像後の画素の欠けを生じ、ＬＣＤ表示特性にばらつき（ムラ）が生じる。
２００２−１２２８５８号公報 特開平５−８０５０３号公報 特開平１１−１８８３０１号公報

本発明は、上述の問題を解決すべく、液晶分子の配向を規制する液晶配向制御用突起の形成に好適に用いられ、大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一であり、露光時の気泡の発生による画素欠けがない感光性転写材料、これを用いて形成されたパターンを有する液晶表示装置用基板、及びこれを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。

斯かる実情に鑑み、本発明者は鋭意研究を行なった結果、ポジ型感光樹脂層に隣接する隣接層に特定の物性を有するポリマー粒子を含有せしめた感光性転写材料が上記課題を解決し得ることを見出し本発明に至った。
具体的には破断伸度４５０を超えるポリマー粒子を用いると、隣接層の強度が低下するため、露光時中間層内に、瞬時に気泡が発生し、現像後の画素欠けをもたらす。この気泡は経時により良化するが、実用レベルに達するのに数十時間かかり、コスト上好ましくない。
破断強度１８ＭＰａ未満のポリマー粒子を用いると、露光時中間層内に、瞬時に内部亀裂が発生。この亀裂は永久に良化することのないものである。
即ち、本発明は次のものを提供するものである。

＜１＞ 仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層とこの層に隣接する隣接層を有する感光性転写材料であって、該隣接層がポリマー粒子を含み、該ポリマー粒子の単独皮膜の破断強度が１８ＭＰａ以上であって、且つ、破断伸度が４５０％以下であることを特徴とする感光性転写材料。

＜２＞ 隣接層がポリマー粒子を分散含有するバインダー溶液を塗布することにより形成されたものである＜１＞記載の感光性転写材料。

＜３＞ ポリマー粒子が、隣接層を構成するポリマーに対し、固形分量で５〜７０重量％含まれていることを特徴とする＜１＞又は＜２＞記載の感光性転写材料

＜４＞ ポリマー粒子がアイオノマーを含むものである＜１＞〜＜３＞の何れか１項記載の感光性転写材料。

＜５＞ アイオノマーが、エチレンアイオノマー又は／及びポリウレタンアイオノマーである＜１＞〜＜４＞の何れか１項記載の感光性転写材料。

＜６＞ 仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、隣接層、ポジ型感光性樹脂層及び保護層を、この順で設けてなる＜１＞〜＜５＞の何れか１項記載の感光性転写材料。

＜７＞ ＜１＞〜＜６＞の何れか１項に記載の感光性転写材料を用いて樹脂層パターンを形成する事を特徴とする表示装置用基板の形成方法。

＜８＞ 該樹脂層パターンが液晶配向制御用突起パターンである事を特徴とする＜７＞記載の表示装置用基板の形成方法。

＜９＞ ＜１＞〜＜６＞の何れか１項に記載の感光性転写材料を用いて形成されたパターンを有することを特徴とする表示装置用基板。

＜１０＞ 表示装置が液晶表示装置である＜９＞記載の表示装置用基板。

＜１１＞ パターンが液晶配向制御用突起パターンであることを特徴とする＜９＞又は＜１０＞記載の表示装置用基板。

＜１２＞ ＜９＞〜＜１１＞の何れか１項に記載の表示装置用基板を有することを特徴とする液晶表示装置。

＜１３＞ 仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層を設ける工程と、この層に隣接する隣接層を、ポリマー粒子を分散含有するバインダー溶液を塗布することにより形成する工程とを有することを特徴とする＜１＞〜＜６＞の何れか１項に記載の感光性転写材料の製造方法。

本発明の感光性転写材料は、液晶分子の配向を規制する液晶配向制御用突起の形成に好適に用いられ、大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一であり、露光時の気泡の発生による画素欠けがない。

以下、本発明の感光性転写材料、並びに、これを用いて形成したパターンを有する液晶表示装置用基板及び液晶表示装置について詳細に説明する。

《感光性転写材料》
本発明の感光性転写材料の態様は、仮支持体上に少なくとも１層のポジ型感光性樹脂層と、この層に隣接する少なくとも１層の隣接層を有する感光性転写材料であって、該隣接層がポリマー粒子を含有することを特徴とする。更に、本発明の感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層、カバーフィルムなどの、他の層を有していてもよい。
以下、仮支持体上に、該隣接層及びポジ型感光性樹脂層を積層した態様を例に、本発明の感光性転写材料について説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。

（隣接層）
本発明において隣接層は、ポジ型感光性樹脂層に隣接する層であって、中間層に限定されない。隣接層は、露光時の保護、傷防止、クラック防止、ごみ付着防止等のため用いられたり、上記ポジ型感光性樹脂層や上記熱可塑性樹脂層には有機溶剤が用いられることから、両層が互いに混ざり合うのを防止する機能を有する。
本発明の隣接層は、少なくともポリマー粒子を含んで構成され、必要に応じて、隣接層を構成する他のポリマー成分としてアルカリ可溶性の樹脂をも含んで構成される。前記隣接層は、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものであればよい。

前記ポリマー粒子を含有することにより、露光時の気泡の発生による画素欠けを防止することができる。この結果、色相、および画像解像度に優れた像（配向制御用突起など）を安定的に形成することをでき、高品位の表示装置用基板を作成することができる。

ポリマー粒子の添加量は、前記隣接層を構成するポリマーに対し、固形分量で５〜７０重量％含まれているのが好ましく、更に好ましくは１０〜６０重量％、最も好ましくは１５〜５０重量％である。添加量が５重量％未満であると、効果が発現しにくく、７０重量％を超えると隣接層現像性が低下および保存性が低下する。

本発明で用いるポリマー粒子は、該ポリマー粒子の単独皮膜の破断強度が１８ＭＰａ以上であることが好ましく、さらに好ましくは３０ＭＰａ以上、最も好ましくは３５ＭＰａ以上である。破断強度が１８ＭＰａ未満であると、ポリマー粒子が気泡発生などによる加圧に耐え切れず、ポリマー粒子の振動によりポリマー粒子と隣接層を構成する樹脂との界面に隙間ができ、露光時に起こる光散乱のために画素欠けが発生しやすくなるために好ましくない。破断強度に上限はなく、高いほうが隣接層が強靭になり、気泡を発生した場合に気泡を透過させ易くなる点で好ましいが、製造上の可能な値が上限となる。
また、前記ポリマー粒子の単独皮膜の破断伸度が４００％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３８０％以下、最も好ましくは３５０％以下である。破断伸度が４００％を超えると感光性樹脂層から気泡が発生した場合、気泡を閉じ込めてしまい、気泡による露光光散乱が生じ、画素欠けが生じやすくなるために好ましくない。破断伸度に下限はなく、本発明の効果を損なわない程度の破断伸度であればよい。

なお、上記破断強度と破断伸度の値は、以下の方法を用いて測定した際の値である。
ラテックスをコロナ処理を施したテフロン（登録商標）（ポリテトラフルオロエチレン）シート上に塗布して１００℃で５分間乾燥し、厚さ約５μｍの中間層モデル膜を形成した。このモデル膜を２０ｍｍ×５ｍｍにカットしたものを試料とし、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）製）を用いて引っ張り試験を行ない、破断強度と破断伸度を算出した。引っ張り試験の条件は下記の通りである。
・環境温湿度：２５℃／６０％ＲＨ
・引っ張り速度：２０ｍｍ／分（１００％／分）

また、本発明で用いるポリマー粒子の重量平均粒子径は０．３μｍ以下が好ましい。より好ましくは０．１μｍ以下、最も好ましくは０．０５μｍ以下である。ポリマー粒子径が０．３μｍを超えると、気泡による画素欠けが生じやすくなるために好ましくない。隣接層中に含まれるポリマー粒子径が小さいと、気泡による圧力を均一に分散することができるため、小さいほうが好ましいが、製造上可能な範囲１５ｎｍが下限となる。

隣接層中に含まれるポリマー粒子中は、ポリマーラテックスを塗布し、乾燥して形成することが好ましい。
ここで言うポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学(高分子刊行会発行(昭和48年))」に記載されている。

本発明に用いられるポリマー粒子としてはアクリル系、酢酸ビニル系、ゴム系(例えばスチレン−ブタジエン系、クロロプレン系)、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリスチレン系などのポリマー、及びこれらの共重合体からなるポリマー粒子が好ましい。

本発明において好ましい破断強度及び破断伸度を満足するには、ポリマー粒子を構成するポリマー鎖相互間の結合力を強くすることが好ましい。ポリマー鎖相互間の結合力を強くする手段としては水素結合による相互作用を利用するものと共有結合を生成する方法が挙げられる。水素結合力を付与する手段としてはポリマー鎖に極性基を有するモノマーを共重合、もしくはグラフト重合して導入することが好ましい。極性基としてはカルボキシル基（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、部分エステル化マレイン酸等に含有される）一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム塩基、スルホン酸基（スチレンスルホン酸）などが挙げられ、カルボキシル基、スルホン酸基が特に好ましい。
これらの極性基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５〜３５質量％であり、より好ましくは５〜２０質量％、更に好ましくは１５〜２０質量％の範囲内である。一方、共有結合を生成させる手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級、二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックドイソシアネート、イソシアネ−ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ−ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用するのがより好ましく、さらにポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
ポリマー質量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万〜１０万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。

本発明に係るポリマーラテックスは、乳化重合によって得られるものでもよいし、乳化によって得られるものであってもよい。これらポリマーラテックスの調製方法については、例えば「エマルジョン・ラテックスハンドブック」（エマルジョン・ラテックスハンドブック編集委員会編集、（株）大成社発行（昭和５０年））に記載されている。

上記隣接層は、上記ポリマー粒子の他、水又はアルカリ水溶液に分散、溶解可能なポリマー成分（「バインダー」とも言う）を主に構成され、必要に応じて、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。上記隣接層を構成するポリマー成分としては、公知のものの中から適宜選択でき、例えば、特開昭４６−２１２１号公報や特公昭５６−４０８２４号公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらを２種以上組合せたもの等が挙げられる。

これらポリマーの中でも、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組合せてなるものが特に好ましい。また、上記ポリビニルピロリドンの含有量としては、隣接層の固形分の１〜７５質量％であることが好ましく、５〜６０質量％であることが更に好ましく、１０〜５０質量％であることが最も好ましい。上記ポリビニルピロリドンの含有量が、１〜７５質量％の範囲内にあると、ポジ型感光性樹脂層との密着性を十分に高めることができる。

上記隣接層は、樹脂成分等を水系溶媒に溶解、分散して塗布液（隣接層用塗布液）を調製し、該塗布液を上記熱可塑性樹脂層上に公知の塗布方法により塗布して形成することが可能である。
上記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分とし、所望により本発明の効果を損なわない範囲でアルコール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げられる。
上記隣接層の層厚は、約０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。上記層厚が、約０．１〜５μｍの範囲内にあると、熱可塑性樹脂層とポジ型感光性樹脂層との層混合を起こすことがなく、現像や隣接層除去を容易に行うことができる。

＜ポジ型感光性樹脂層＞
上記ポジ型感光性樹脂層は、フェノール樹脂及び／又はクレゾール樹脂、並びに、ナフトキノンジアジド誘導体を含有するものが好ましく、中でも、現像ラチチュードが広い観点から、クレゾール樹脂、並びに、ナフトキノンジアジド誘導体を含有するものが特に好ましい。更には、その他の添加剤を含むことができる。

（フェノール樹脂）
上記フェノール樹脂としては、フェノールに対するホルムアルデヒドのモル比が０．５〜１．０程度のものが好ましく、現像性及び焼き付きの観点から０．８〜１．０のものが更に好ましい。また、上記フェノール樹脂の重量平均分子量は、３００〜４０００が好ましく、４００〜８００が特に好ましい。
前記フェノール樹脂はこれらの誘導体であってもよい。
前記フェノール樹脂は、単独で用いてもよいし、分子量が異なる２種以上の混合物として用いることもできる。本発明の目的を損なわない範囲で、クレゾール樹脂等の他の樹脂と混合して用いてもよい。
上記フェノール樹脂の含有量としては、ポジ型感光性樹脂層中の全固形分量に対して、４０〜９０質量％が好ましく、６０〜８０質量％がさらに好ましい。

（クレゾール樹脂）
上記クレゾール樹脂としては、クレゾールに対するホルムアルデヒドのモル比が０．７〜１．０程度のものが好ましく、０．８〜１．０のものが更に好ましい。また、上記クレゾール樹脂の重量平均分子量としては、８００〜８０００が好ましく、１０００〜６０００が特に好ましい。

上記クレゾール樹脂の異性体比（ｏ−体／ｍ−体／ｐ−体のモル比率）は特に限定はないが、現像性を高める観点から全異性体に対するｐ−体の比率が１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることが更に好ましい。また、液晶パネル性能（焼き付け防止能など）を高める観点からは、ｍ−体の比率が５モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることが好ましい。
上記クレゾール樹脂は、単独で用いてもよいし、２種以上の混合物として用いることもできる。
この場合、フェノール樹脂等の他の樹脂と混合して用いてもよい。
また、本発明においては、上記クレゾール樹脂として、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとの反応生成物等のクレゾール樹脂の誘導体を用いてもよい。
上記クレゾール樹脂の使用量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ²が好ましく、０．５〜５ｇ／ｍ²がさらに好ましい。

（ナフトキノンジアジドエステル）
上記ポジ型感光性樹脂層には、ナフトキノンジアジド誘導体をクレゾール樹脂と併用することが好ましい。上記ナフトキノンジアジド誘導体は、１官能の化合物であってもよいし２官能以上の化合物であってもよく、更にこれらの混合物であってもよい。１官能のナフトキノンジアジド誘導体としては、ナフトキノン−４−スルホン酸クロリド若しくはナフトキノン−５−スルホン酸クロリドと、置換フェノールとを反応させたエステル化合物であることが好ましい。

また、２官能以上のナフトキノンジアジド誘導体としては、ナフトキノン−４−スルホン酸クロリド若しくはナフトキノン−５−スルホン酸クロリドと、フェノール性水酸基を複数有する化合物とを反応させたエステル化合物であることが好ましい。上記フェノール性水酸基を複数有する化合物としては、例えば、ビスフェノール類、トリスフェノール類、テトラキノスフェノール類等のポリフェノール類；ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼン等の多官能フェノール；ビス型又はトリス型のジヒドロキシベンゼン若しくはトリヒドロキシベンゼン、非対称の多核フェノール、並びに、これらの混合物等が好ましい。

上記フェノール性水酸基を有する化合物の具体例としては、例えば、４−ｔ−ブチルフェノール、４−イソアミルフェノール、４−ｔ−オクチルフェノール、２−イソプロピル−５−メチルフェノール、２−アセチルフェノール、４−ヒドロキシベンゾフェノン、３−クロロフェノール、４−ベンジルオキシカルボニルフェノール、４−ドデシルフェノール、レゾルシノール、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−１，３−ベンゼンジオール、フロログルシノール、４，４'−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４'−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール］等が挙げられる。

上記ナフトキノンジアジド誘導体の具体例としては、例えば、４'−ｔ−オクチルフェニルナフトキノンジアジド−４−スルホネート、４'−ｔ−オクチルフェニルナフトキノンジアジド−５−スルホネート、４'−ベンゾイルフェニルナフトキノンジアジド−５−スルホネート、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの反応物が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記感光性樹脂中のナフトキノンジアジド誘導体のクレゾール樹脂に対する質量比は、現像性を高める観点から１〜２００質量％が好ましく、５〜５０質量％が更に好ましい。

（その他の添加剤）
上記ポジ型感光性樹脂層には、ポジ型感光性樹脂層の現像性を促進させるために、２価以上の脂肪族カルボン酸や、２〜６価のフェノール化合物を含有していてもよい。
上記２価以上の脂肪族カルボン酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、ヒドロキシコハク酸、グルタル酸、アジピン酸等が挙げられ、マロン酸、コハク酸が好ましい。上記感光性樹脂中の全固形分に対する上記２価以上の脂肪族カルボン酸の含有量としては、０．５〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。

また、上記２〜６価のフェノール化合物としては、２〜４価のフェノール化合物が特に好ましい。上記２〜６価のフェノール化合物としては、例えば、レゾルシノール、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−１，３−ベンゼンジオール、フロログルシノール、４，４'−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４'−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール］等が挙げられ、レゾルシノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンが好ましい。上記感光性樹脂中の全固形分に対する上記２〜６価のフェノール化合物の含有量としては、０．５〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。

更に、上記ポジ型感光性樹脂層には、液晶配向制御用突起の形成時における転写不良や精度不良等の故障の認識を可能とし、製造適性を向上させる観点から、消色性染料を添加することもできる。上記消色性染料とは、一般に、２００℃、１時間の加熱により消色し得る色素を意味し、ベーク時に消色可能な有色染料である。上記消色性染料としては、１８０℃、１時間の加熱により消色する色素が好ましい。このような色素は、通常、熱による分解若しくは酸化等による構造変化を起こすか、或いは熱によって蒸発若しくは昇華するものである。また、消色性染料を用いて液晶配向制御用突起を作製した場合、該液晶配向制御用突起は、消色後に、４００〜８００ｎｍの平行光線に対して９０％以上の光透過率を有することが好ましい。

上記消色性染料としては、熱によって分解する色素として、例えば、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ、マラカイトグリーン、アイゼンマラカイトグリーン、マラカイトグリーン塩酸塩、アイゼンダイヤモンドグリーン等のジアルキルアミノトリフェニルメタン系の染料等が挙げられる。また、熱により蒸発又は昇華する色素としては、例えば、オリエントオイルブラウン、メチルイエロー、スミカロンブリリアントブルーＢ、１，３，５−トリフェニルテトラゾリウムホルマザンなどが挙げられる。

上記消色性染料としては、上記のほか、染料便覧（有機合成化学協会編、丸善、昭和４７年７月２０日発行）に記載される、昇華堅牢試験の耐汚染性の評価（１８０℃、１時間以下の条件）が１〜３のものも使用可能である。具体的には、Ｃ．Ｉ． Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｙｅｌｌｏｗ ８， ３１， ７２、Ｃ．Ｉ． Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｏｒａｎｇｅ １， ３，２０， ２１ 、Ｃ．Ｉ． Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｒｅｄ １５， ５５， ６０， ６５、Ｃ．Ｉ． Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｖｉｏｌｅｔ ８， ２３，２６， ３７、Ｃ．Ｉ． Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｂｌｕｅ ２０， ２６， ５５， ５６， ７２， ９０， ９１， ９２， １０６、Ｃ．Ｉ． Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｂｌａｃｋ ２９、 Ｄｉａｃｅｌｌｉｔｉｏｎ Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ Ｂ Ｍ／Ｄ （三菱化成（株）製）、Ｓｕｍｉｋａｒｏｎ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＳ （住友化学（株）製）、Ｄｉａｎｉｘ Ｆａｓｔ Ｓｋｙ Ｂｌｕｅ Ｂ Ｍ／Ｄ（三菱化成（株）製）、Ｍｉｋｅｔｏｎ Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ Ｂｌｕｅ ＢＣＬ， ＧＲＮ （三井石油化学（株）製）、Ｋａｙａｒｏｎ Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ Ｎａｖｙ Ｂｌｕｅ ＧＦ（日本化薬（株）製）等が挙げられる。加熱装置の適性、環境汚染を考慮すると、前記消色性染料としては、熱分解性の染料が好ましい。
本発明における消色性染料の添加量としては、ポジ型感光性樹脂層の全固形分に対して０．１〜１０質量％であることが好ましい。

また、上記ポジ型感光性樹脂層には、熱可塑性の結合剤を用いることができる。上記熱可塑性の結合剤としては、例えば、エチレン性不飽和化合物等の公知の結合剤が挙げられる。
上記結合剤の添加量は、本発明の効果を損なわない範囲で適宜決定される。
更に、上記ポジ型感光性樹脂層には、必要に応じて用いる樹脂を可塑化する添加剤を添加することができる。
該可塑化する添加剤としては、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、アルキルフェノール、リン酸トリクレジル等が挙げられる。
該可塑化する添加剤の添加量としては、樹脂全量に対して０〜１０質量％であることが好ましく、１〜８質量％であることがさらに好ましい。

（ポジ型感光性樹脂層）
本発明の感光性転写材料は、前述の通り、ポジ型感光性樹脂層にフェノール樹脂及び／又はクレゾール樹脂、並びにナフトキノンジアジド誘導体を併用することが好ましく、所望のパターンで露光した際に該露光部をアルカリ水溶液等による現像によって除去するポジ型の感光性転写材料とすることが好ましい。即ち、アルカリ可溶性のフェノール樹脂及びクレゾール樹脂に対し、ナフトキノンジアジド誘導体は溶解禁止剤として作用するが、光を受けるとインデンカルボン酸を生成し、溶解禁止効果がなくなる。このため、クレゾール樹脂とナフトキノンジアジドとを含む、上記ポジ型感光性樹脂層は、アルカリ現像により光照射部のみが溶解されるポジ型レジストとして機能する。

上記ポジ型感光性樹脂層の層厚としては、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜６μｍが更に好ましい。上記膜厚が０．５〜１０μｍの範囲内にあると、ポジ型感光性樹脂層用塗布液を仮支持体上に塗布する際に、ピンホールが発生しにくく、現像持に露光部の除去を容易におこなうことができる。

上記ポジ型感光性樹脂層は、上述のフェノール樹脂及び／又はクレゾール樹脂、やナフトキノンジアジド誘導体等のポジ型感光性樹脂層に含まれる成分を溶剤に溶解したポジ型感光性樹脂層塗布液を、仮支持体（仮支持体とポジ型感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層や隣接層が設けられている場合にはその層）上に、種々の塗布手段を用いて塗布、乾燥することで形成することができる。

上記感光性樹脂層塗布液に用いられる溶剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で公知の溶剤から適宜選定したものを用いることができる。上記溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；等が挙げられる。これらの有機溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜形成性の点で、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が特に好適である。
上記ポジ型感光性樹脂層を形成するための上記塗布手段としては、公知の塗布手段を適宜選定することができる。

＜仮支持体＞
本発明に用いる仮支持体としては、後述する熱可塑性樹脂層に対して、転写の支障とならない程度の剥離性を有するものが好ましく、化学的、熱的に安定で可撓性のものが好ましい。上記仮支持体としては、具体的に、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄膜シート若しくはこれらの積層物が好適に挙げられる。

上記仮支持体と熱可塑性樹脂層との間には、良好な剥離性を確保するために、グロー放電等の表面処理は施さず、またゼラチン等の下塗り層も設けないことが好ましい。上記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、２０〜１５０μｍが好ましい。

＜熱可塑性樹脂層＞
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層は、仮支持体上の第一層目として設けられるのが好ましく、これは、主として熱可塑性樹脂を含んでなり、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。上記熱可塑性樹脂としては、転写後のアルカリ現像を可能とし、或いは転写時の転写条件によっては熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して被転写体である基板上を汚染してしまう場合に除去処理を可能とするために、アルカリ性水溶液に可溶な樹脂が好適である。更に、熱可塑性樹脂層は、被転写体である基板上（又はカラーフィルター上）に転写する際、基板上（又はカラーフィルター上）に存在する凹凸に起因して生じうる転写不良を防止するクッション材としての機能をも発揮させる観点から、加熱密着時に被転写物表面の凹凸に応じて変形しうる性質を有することが好ましい。

上記の点から、上記熱可塑性樹脂としては、アルカリ可溶性であって、実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂が好ましい。軟化点が８０℃以下の熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、一種単独からなるものであっても、二種以上を併用したものであってもよい。

更に、上記熱可塑性樹脂としては、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質のうち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用できる。

また、軟化点８０℃以上の有機高分子物質であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質と相溶性のある各種公知の可塑剤を添加することにより、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて使用することもできる。
該可塑剤としては、カルボン酸エステル類、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、アミド類、エチレン性不飽和化合物、ポリエチレングリコール等が挙げられる。
該可塑化する添加剤の添加量としては、樹脂全量に対して０〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがさらに好ましい。
上記有機高分子物質を用いる場合、上述の仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることもできる。

本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層の他、隣接層、及び上記ポジ型感光性樹脂層を順次積層する構成も本発明の１つの態様であるが、その場合、特に熱可塑性樹脂層と仮支持体との間の接着強度が他の層間における接着強度よりも小さくすることが必要である。これにより転写の後、仮支持体を容易に剥離することができ、更に剥離の際に熱可塑性樹脂層表面の破壊を伴うことなく仮支持体を除去することができる。これは、仮支持体除去後のポジ型感光性樹脂層への露光を均一に行うことが可能となる点で好ましい態様である。

熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂と必要に応じて他の成分とを有機溶剤に溶解して塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法で塗布等して形成することが可能である。
上記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；等が挙げられる。これらの有機溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜形成性の点で、メタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン等のケトン類、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が特に好適である。

更に、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。

上記熱可塑性樹脂層の層厚としては、６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。上記層厚が、６〜１００μｍの範囲内にあると、基板（又はカラーフィルター）上の１μｍ以上の凹凸を完全に吸収することができると共に、現像性、製造適性を向上させることができる。

＜カバーフィルム＞
上記ポジ型感光性樹脂層上には、保管等の際の汚れや損傷から保護する目的で、カバーフィルムを設けることが好ましい。上記カバーフィルムは、ポジ型感光性樹脂層から容易に剥離可能なものの中から選択でき、上記仮支持体と同一又は類似の材料からなるものであってもよい。具体的には、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシート等が好ましく、中でも、ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムがより好ましい。
上記カバーフィルムの厚みとしては、約５〜１００μｍが好ましく、１０〜６０μｍがより好ましい。

＜感光性転写材料の製造方法＞
本発明の感光性転写材料が、前記仮支持体上に熱可塑性樹脂層、隣接層、ポジ型感光性樹脂層の３層を有する場合について説明するが、特に限定されるものではない。また、隣接層とポジ型感光性樹脂層との２層構成においても同様な操作により形成することができる。
本発明の感光性転写材料は、例えば、上記仮支持体上に、まず、熱可塑性樹脂を溶剤に溶解し調製した塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布・乾燥して、熱可塑性樹脂層を設け、続いて該熱可塑性樹脂層上に、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶媒を用いてなる塗布液（隣接層用塗布液）を塗布、乾燥して隣接層を設け、更に該隣接層上に、隣接層を溶解しない溶剤にクレゾール樹脂等を溶解し調製した塗布液（ポジ型感光性樹脂層用塗布液）を塗布、乾燥してポジ型感光性樹脂層を設けることにより形成することができる。或いは、上記カバーフィルム上にポジ型感光性樹脂層を設けると共に、別途仮支持体上に熱可塑性樹脂層と隣接層とを設け、それぞれを隣接層とポジ型感光性樹脂層とが接するように貼り合わせることにより形成することもできる。また、本発明の感光性転写材料は、上記カバーフィルム上にポジ型感光性樹脂層と隣接層とを設けると共に、別途仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設け、それぞれを上述と同様に、隣接層と熱可塑性樹脂層とが接するように貼り合わせることによって、製造することができる。

また、後述するように、本発明の感光性転写材料を被転写体である基板上に密着させた後、感光性転写材料の仮支持体を剥離する過程では、仮支持体や基板等が帯電する結果、周囲のゴミ等を引き寄せ、剥離後のポジ型感光性樹脂層上にゴミ等が付着することがある。このような場合、その後の露光過程でポジ型感光性樹脂層に未露光部ができ、その部分が現像の際に残ってしまうことがある。このため、帯電を防止する目的で、仮支持体の少なくとも一方の表面に導電性層を設けたり、或いは導電性を付与した仮支持体を用いることによって、その表面の電気抵抗を１０¹³Ω以下にまで低下させることが好ましい。

上述のように仮支持体に導電性を付与するためには、仮支持体中に導電性物質を含有させればよい。このような方法としては、例えば、金属酸化物の微粒子や帯電防止剤を予め練り込んでおく方法が好適である。上記金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデン等の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸化物の微粒子が挙げられる。

上記帯電防止剤としては、エレクトロストリッパーＡ（花王（株）製）、エレノンＮｏ．１９（第一工業製薬（株）製）等のアルキル燐酸塩系アニオン界面活性剤；アモーゲンＫ（第一工業製薬（株）製）等のベタイン系両性界面活性剤；ニッサンノニオンＬ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系非イオン界面活性剤；エマルゲン１０６、１２０、１４７、４２０、２２０、９０５、９１０（花王（株）製）やニッサンノニオンＥ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性剤、等が好適である。その他、非イオン界面活性剤として、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のものが挙げられる。

仮支持体上に導電性層を設ける場合、該導電性層は公知のものの中から、適宜選択して用いることができる。上記導電性層に用いる導電性物質として、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃等から選ばれる少なくとも１種の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸化物の微粒子等が挙げられる。これらの導電性物質を導電性層に含有させて用いる方法が湿度環境に影響されず、安定した導電効果を発揮する点で好ましい。

また、上記結晶性金属酸化物又はその複合酸化物の微粒子の体積抵抗値としては、１０⁷Ω・ｃｍ以下が好ましく、１０⁵Ω・ｃｍ以下が更に好ましい。また、その粒子径としては、０．０１〜０．７μｍが好ましく、０．０２〜０．５μｍが更に好ましい。

上記結晶性金属酸化物及びその複合酸化物の微粒子の製造方法は、特開昭５６−１４３４３０号公報等に詳細に記載されている。即ち、第１に、金属酸化物微粒子を焼成によって作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に、焼成によって金属酸化物微粒子を作製する際に導電性を向上させるための異種原子を共存させる方法、第３に、焼成により金属微粒子を作製する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等が記載されている。上記異種原子を含む具体例としては、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等；ＴｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等；、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等を存在させることが挙げられる。

上記異種原子の添加量としては、０．０１〜３０ｍｏｌ％が好ましく、０．１〜１０ｍｏｌ％がより好ましい。導電性粒子の使用量としては、０．０５〜２０ｇ／ｍ²が好ましく、０．１〜１０ｇ／ｍ²がより好ましい。

本発明の感光性転写材料の仮支持体に設けられる導電性層には、バインダーとして、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、炭素数１〜４のアルキルアクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマー又は共重合体；可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使用することができる。

また、これらのバインダー中に導電性粒子を分散する場合、チタン系分散剤又はシラン系分散剤等の分散液を添加してもよく、更に、必要に応じてバインダー架橋剤等を添加することもできる。
上記チタン系分散剤としては、例えば、米国特許第４，０６９，１９２号公報、同第４，０８０，３５３号公報等に記載の、チタネート系カップリング剤、プレンアクト（味の素（株）製）などが挙げられる。上記シラン系分散剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、「シランカップリング剤」（信越化学（株）製）として市販されている。上記バインダー架橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤などが挙げられる。

上記導電性層は、導電性微粒子をバインダー中に分散させて仮支持体上に塗設したり、仮支持体上に下引処理（例えば、下塗り層等）を施した上に導電性微粒子を付着させたりすることにより設けることができる。
上記導電性層は、仮支持体のポジ型感光性樹脂層を塗設した面とは反対の表面上に設けてもよく、この場合には、十分な耐傷性を確保する目的で、導電性層上に更に疎水性重合体層を設けることが好ましい。この疎水性重合体層は、疎水性重合体を有機溶剤に溶解した状態又は水性ラテックスの状態で塗布すればよく、その塗布量としては、乾燥質量で０．０５〜１ｇ／ｍ²程度が好ましい。

上記疎水性重合体としては、例えば、ニトロセルロース、セルロースアセテート等のセルロースエステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレート等を含むビニル系ポリマー；有機溶剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマーを挙げることができる。
上記疎水性重合体層には、スベリ性を付与する目的で、例えば、特開昭５５−７９４３５号公報に記載の有機カルボン酸アミド等のスベリ剤を使用することができる。また、必要に応じて、マット剤等を使用することもできる。このような疎水性重合体層を設けても、導電性層の効果は実質的に影響を受けない。

また、下塗り層を設ける場合、特開昭５１−１３５５２６号公報、米国特許第３，１４３，４２１号公報、同第３，５８６，５０８号公報、同第２，６９８，２３５号公報、同第３，５６７，４５２号公報等に記載の塩化ビニリデン系共重合体、特開昭５１−１１４１２０号公報、米国特許第３，６１５，５５６号公報等に記載のブタジエン等のジオレフイン系共重合体、特開昭５１−５８４６９号公報等に記載のグリシジルアクリレート又はグリシジルメタアクリレート含有共重合体、特開昭４８−２４９２３号公報等に記載のポリアミド・エピクロルヒドリン樹脂、特開昭５０−３９５３６号公報に記載の無水マレイン酸含有共重合体等を用いることができる。

本発明においては、特開昭５６−８２５０４号公報、特開昭５６−１４３４４３号公報、特開昭５７−１０４９３１号公報、特開昭５７−１１８２４２号公報、特開昭５８−６２６４７号公報、特開昭６０−２５８５４１号公報等に記載の導電性層も必要に応じて用いることができる。

仮支持体上に、導電性層を塗布する場合、ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコート、バーコート、カーテンコート等の公知の方法により塗布することができる。十分な帯電防止効果を得るためには、導電性層又は導電性を付与した仮支持体の表面電気抵抗値を、１．０×１０¹³Ω以下とすることが好ましく、１．０×１０¹²Ω以下とすることが更に好ましい。
また、熱可塑性樹脂層と仮支持体との強固な接着を防止するため、仮支持体面に公知の微粒子を含有する滑り剤組成物、シリコーン化合物を含有する離型剤組成物等を塗布することもできる。

仮支持体の熱可塑性樹脂層を設けない側の表面に導電性層を設ける場合には、熱可塑性樹脂層と仮支持体との接着性を向上させる目的で、仮支持体に、例えば、グロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処理等の表面処理、フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理又はこれらの処理を組み合わせた処理を施すことができる。

仮支持体用のフィルムは押し出し形成により形成することが可能であるが、導電性物質又は導電性層を仮支持体と同一又は異質のプラスチック原料に含有させ、上記フィルムと同時に押し出し形成した場合には、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得ることができる。この場合、上記疎水性重合体層や下塗り層を設ける必要はなく、転写材料を構成する導電性付与仮支持体として最も好ましい実施形態である。

《液晶配向制御用突起》
本発明における液晶配向制御用突起は、本発明の感光性転写材料を用いてポジ型感光性樹脂層を基板上に転写し（転写工程）、転写後、ポジ型感光性樹脂層に光をパターン状に照射し（パターニング工程）、現像処理により不要部（露光部）を除去することによって形成することができる。
上述のようにして形成される液晶配向制御用突起は、液晶分子の配向の向きを規制し得る形状及び形態を有し、液晶表示装置の導電層の内側（導電層と液晶層の間）に形成される。本発明における液晶配向制御用突起の形状としては、公知の形状の中から適宜選択することができ、例えば、基板面（又はカラーフィルター面）を底面とする角錐型（三角錐、四角錐等）、半球型のものや、基板面（又はカラーフィルター面）を底面とする円錐型、台形型、蒲鉾型のもの、又は、帯状に基板上（又はカラーフィルター上）に形成されその長さ方向と直交する断面形状が三角形である三角柱状のもの、更に、その長さ方向と直交する断面形状が半円形、四角形、台形、蒲鉾形等の柱状体のものなどを用いることができる。

また、本発明における配向制御用突起の配置態様としては、公知の態様の中から適宜選択することができ、例えば、特許第２９４７３５０号公報等に記載の態様で形成できる。例えば、帯状に基板上に形成されその長さ方向と直交する断面形状が台形である複数の柱状体が等ピッチで１方向に平行に延びたパターンで配置され、且つ２枚の基板の各導電層と基板との両方の間に設けられてなる態様であってもよい（特許第２９４７３５０号公報の図１４参照）。本発明における液晶配向制御用突起が両方の基板の導電層基板との間に設けられる場合には、必ずしも同形状の構造体を形成する必要はなく、異形状の構造体を組合せて形成してもよい。
また、基板（又はカラーフィルター）上に帯状に形成される液晶配向制御用突起は、直線状の形態に限られず、所定の角度をなして屈曲状の形態で設けられてもよい（特許第２９４７３５０号公報の図４２及び図５５等参照）。

その他、上記液晶配向制御用突起の大きさ、配置間隔、配置形状等の詳細については、特許第２９４７３５０号公報等の記載を参照できる。

上記構造体の形状の中でも、十分な視野角が得られる点で、基板と直交する断面が台形及び蒲鉾形のいずれかの形状を有する構造体が好ましく、上記した基板面（又はカラーフィルター面）を底面とする台形型、蒲鉾型や、帯状に基板（カラーフィルター）上に形成され、その長さ方向と直交する断面形状が半円形、台形、蒲鉾形の柱状体などが好ましい。

また本発明の感光性転写材料を用いてスペーサーを形成することもできる。この場合、例えば、カラーフィルター形成時に、カラーフィルターの画素材料等が２種以上重なった部分を形成しておき、透明電極などを形成後、この上に、本発明の感光性転写材料を用いてポジ型感光性樹脂層を転写することによってスペーサーを形成することができる。
上記スペーサーの厚みは、一般にはセルギャップと等しくする必要があり、配向制御用突起の厚みより厚いが、前述の構成では、カラーフィルター材の厚みとスペーサーの厚みの合計の厚みでセルギャップを規定できるので、上記ポジ型感光性樹脂層を厚く形成する必要は無い。このため、配向制御用突起とスペーサーとを同時に形成することができる。

前記カラーフィルターは液晶ディスプレイ等に用いられ、それぞれ赤、緑、青の３原色を選択的に透過するように、着色材を各画素部に配置することにより形成されている。
該カラーフィルターは公知のいずれの方法で作成されたものであっても良く、特に限定されるものではなく、下記の方法により作成することができる。
例えば、顔料分散組成物を含有する着色感光性組成物層を透明基板上に設け、パターン露光した後現像して第１色目の画素パターンを形成し、これを複数回繰り返すことで、基板上に複数色の画素パターンを形成する。着色材として微細化された顔料が用いられる。

以上の通り、本発明における液晶配向制御用突起を、導電層の外側（導電層と液晶層との間）に液晶層側に凸となるように設ることによって、構造体の凸面に沿って液晶分子の配向の向きが傾斜するように規制されるので、液晶面を観察する位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができる。

本発明における液晶配向制御用突起が用いられる液晶表示装置は、上述のように、一般には、カラーフィルターと該カラーフィルター上に導電層（電極）とを備えるカラーフィルター側基板と、これと対向配置される導電層（電極）付きの対向基板との２枚の基板（前記カラーフィルター側基板及び対向基板のいずれに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子が備えられていてもよい。）によって液晶層が挟持されてなる。本発明における液晶配向制御用突起は、上述の感光性樹脂層塗布液を用いて形成され、前記２枚の基板にそれぞれ設けられた導電層の少なくとも一方の内側（特に基板と導電層の間）に、液晶層側に凸となる透明な構造体として設けられる。本発明における液晶配向制御用突起を設けることで、液晶分子の配向の向きを規制し、液晶面に対する観察位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができる。

また、上述のように本発明における液晶配向制御用突起は、カラーフィルターの無い液晶表示装置（白黒表示のための装置、あるいは、バックライトの色を短時間に変更しながら表示するフィールドシーケンシャル型の装置）に適用することもできる。

《液晶配向制御用突起の形成方法》
続いて、本発明の感光性転写材料を用いた液晶配向制御用突起の形成方法について説明する。ここでは、本発明の感光性転写材料として、仮支持体上にアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、隣接層、ポジ型感光性樹脂層及びカバーフィルムがこの順に積層されてなる感光性転写材料を用い、更に、基体上の全面にカラーフィルター層が設けられた基板を用いた一例を示す。

まず、本発明の感光性転写材料のカバーフィルムを取り除き、ポジ型感光性樹脂層を加圧、加熱下で被転写体である基板のカラーフィルター層上に密接し貼り合わせる。基板と感熱記録層との貼り合わせには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。基板とポジ型感光性樹脂層とを貼り合わせた後、仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥がし取り、該熱可塑性樹脂層の上方から熱可塑性樹脂層及び隣接層を通してポジ型感光性樹脂層を、ポジ用のパターン状に露光（パターニング）する。上記露光は、３００〜５００ｎｍの波長光の照射により行える。上記露光の光源としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、Ｈｇ−Ｘｅランプ等が挙げられる。

また、上記パターニングの方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法による方法、熱可塑性樹脂層の上方に露光マスクを配置し、該マスク介してパターン状に露光する方法、密着型のプロキシミティ露光装置等の露光手段を用いる方法等が挙げられる。上記密着型のプロキシミティ露光装置等の露光手段を用いる方法によるパターニングを行う際、その露光量としては、ポジ型感光性樹脂層が溶解する最小露光量の１〜５倍が好ましく、プロキシミティ量としては、４０〜３００μｍが好ましい。
上記露光の後、現像処理して、熱可塑性樹脂層、隣接層、及び不要部（露光部分）のポジ型感光性樹脂層を除去する。すると、未照射部のみが導電層上に残り、透明構造体が形成される。

上記現像は、公知の方法により行え、溶剤若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液等を用いて、例えば、（ａ）露光後の基板自体を現像浴中に浸漬する、（ｂ）露光後の基板にスプレー等により噴霧する等して、更に必要に応じて、溶解性を高める目的で、回転ブラシや湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射しながら行うことができる。

上記アルカリ水溶液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好適に使用することができる。上記アルカリ性物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類、燐酸三ナトリウム等が挙げられる。

アルカリ水溶液中のアルカリ性物質の濃度としては、０．０１〜３０質量％が好ましく、更にｐＨとしては、８〜１４が好ましい。

上記水混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。この有機溶剤の添加量としては、０．１〜３０質量％が好ましい。

また、アルカリ水溶液には、公知の種々の界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の濃度としては、０．０１〜１０質量％が好ましい。現像時の温度としては、通常、室温付近〜４０℃が好ましい。更に、現像処理した後に、水洗処理する工程を入れることもできる。

本発明の感光性転写材料を用いて配向制御用突起やスペーサーを形成する場合、露光、現像後に、ベークと呼ばれる熱処理を行ことにより、構造体をより硬化させることができる。また、ベークを行うことにより、構造体の収縮、適度な流動によって構造体の形状を適度になだらかにすることができる。
上記ベークの温度は、好ましくは２００〜３００℃、より好ましくは２２０℃〜２６０℃、最も好ましくは２３０℃〜２５０℃である。上記ベークの時間は、好ましくは１０〜１２０分、更に好ましくは２０〜７０分、最も好ましくは３０〜６０分である。このように温度及び時間を設定して上記ベークを行うことで、感光性樹脂成分中の架橋反応が進行しやすく、カラーフィルターの変色を防止し生産性を高めることができる。

《表示装置》
上述のように本発明の感光性転写材料及び本発明の表示装置用基板を用いて形成された本発明の表示装置は、本発明の感光性転写材料を用いて形成されたパターンを有するものであれば、ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＦＰＤディスプレイ液晶ディスプレイなど、公知の表示装置であれば、適宜選択できる。液晶表示装置における液晶としてはＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＶＡ型、ＡＳＭ型、ＥＣＢ型の液晶や、強誘電性液晶、反強誘電性液晶が挙げられ、特に垂直配向膜を使用するＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ ａｌｉｇｎｅｄ）方法（ＶＡモード液晶）が本発明に有効である。表示装置が液晶表示装置である場合は、互いに対向し合う側の表面に導電層が設けられた２枚の基板間に液晶層が挟持され、既述の本発明における液晶配向制御用突起を基板上の導電層の外側（導電層と液晶層との間）から液晶層側に凸となるように備えて構成することができる。また、導電層上にはこれらを覆って配向膜を形成することもできる。

本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という場合がある。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルター及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルター側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルターが上記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルター一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。

上記導電層としては、例えば、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ₂等の金属酸化膜などが挙げられ、中でも透明性のものが好ましく、ＩＴＯ膜が特に好ましい。上記駆動側基板、カラーフィルター側基板、対向基板は、その基材として、例えば、ソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いはプラスチックフィルム等を用いて構成される。

ＴＦＴ等の駆動素子と画素電極とが配列形成された駆動側基板としては、例えば、互いに垂直に交わってマトリックス状に配設されたデータバスライン及びゲートバスラインと接続されたＴＦＴ、及びＴＦＴを介してデータバスラインと接続する導電層が設けられたものなどが挙げられる。

上記態様のいずれにおいても、液晶表示素子を構成する基板の両方に導電層が形成され、該両導電層間に電圧が印可されその間に挟持される液晶材料がその電圧に応じて配向状態を変化させ表示を行う。従って、既述の構造体は、いずれの導電層の内側（導電層と液晶層の間）にも所望の形状、形態で形成することができる。

上記構成態様（１）について図１を用いて説明する。これはＭＶＡ方式の液晶表示装置の断面図である。上記構成態様（１）の一例としては、上述の図１（ｂ）で示される液晶表示装置が挙げられる。図１（ｂ）を例に説明すると、一方の基板３０は、カラーフィルター側基板である。ガラス基板２０の液晶層１６に対向する側の表面には、カラーフィルター２４、共通電極をなす導電層（ＩＴＯ膜）１８、及び、等ピッチで形成された断面台形の液晶配向制御用突起２２が形成されている。
本発明のカラーフィルター基板は、カラーフィルター２４及び前記感光性転写材料を用いて形成されたパターン（例えば、液晶配向膜制御用突起２２）を有し、さらに、導電層１８を有することが好ましい。

更に、導電層１８及び液晶配向制御用突起２２と液晶層１６との間には、図示を省略する配向膜を設けることができる。他方の基板３２は、ＴＦＴを備える駆動側基板である。基板３２の液晶層１６に対向する側の表面には、ＴＦＴ（図示せず）、該ＴＦＴのドレイン電極と接合する導電層（ＩＴＯ膜）１４、及び、等ピッチで形成された断面台形の液晶配向制御用突起２２（図１では１個のみ示す）が形成されている。上記基板３２には、図示を省略するゲート電極をなすゲートバスラインが複数本形成されており、該ゲートバスラインに直交して図示を省略する複数本のデータバスラインが平行に形成され、これらゲートバスラインとデータバスラインの交点に対応して複数個のＴＦＴが配列されている。更に、ＴＦＴ、導電層１４及び液晶配向制御用突起２２と液晶層１６との間には、図示を省略する配向膜を設けることができる。上記基板３０及び基板３２の間には、液晶材料を封入してなる液晶層１６が挟持され、液晶配向制御用突起２２は導電層１８又は１４の外側から液晶層１６側に凸に突起し、該凸面に沿って液晶分子１５が配向している。

以上の通り、本発明の液晶表示装置は、基板の導電層の内側（導電層と液晶層の間）に、着色のない透明な液晶配向制御用突起が設けられるので、液晶表示面に対する観察位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができると共に、３原色（Ｂ（青色）、Ｇ（緑色）、Ｒ（赤色））の色純度をも損なわれず、色相ズレのない鮮明なフルカラー画像を表示し得る液晶表示装置を提供することができる。

なお、上述の図１（ａ）に示す液晶表示装置は、カラーフィルターを備えていない以外には、上記図１（ｂ）と同様である。即ち、基板３０及び基板３２の間には、液晶材料を封入してなる液晶層１６が挟持され、液晶配向制御用突起２２は導電層１４の外側から液晶層１６側に凸に突起し、該凸面に沿って液晶分子１５が配向している。この構成態様によっても、基板の導電層と液晶層との間に、着色のない透明な液晶配向制御用突起が設けられるので、液晶表示面に対する観察位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができる。

以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「％」は、それぞれ「質量部」及び「質量％」を示す。以下において、本発明に係る構造体を透明構造体ということがある。

〔実施例１〕
−転写材料（１）の作製−
仮支持体として、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を準備し、該仮支持体上に、下記組成からなる熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１を塗布、乾燥して、乾燥層厚１４．６μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。

＜熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１の組成＞
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）のメチルエチルケトン、１−メトキシプロピル−２−アセテート溶液（三井化学（株）製ＦＭ−６０１） ５５．５部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝６０００、Ｔｇ≒１１０℃）のメタノール、メチルエチルケトン、１−メトキシプロピル−２−アセテート溶液（日本触媒（株）製アロセット７０５５） ６４．８部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱水縮合した化合物の１−メトキシプロピル−２−アセテート溶液（新中村化学工業（株）製ＢＰＥ−５００） １８．１部
・Ｃ₆Ｆ₁₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂、Ｈ（Ｏ（ＣＨ₃）ＣＨＣＨ₂）₇ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂、Ｈ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₇ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂の共重合体（共重合組成比（質量比）＝４０／５５／５、重量平均分子量＝３万）のメチルイソブチルケトン溶液（大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ７８０Ｆ） １．０８部
・メチルエチルケトン ６０．５部

続いて、上記熱可塑性樹脂層上に、下記組成よりなる隣接層（中間層）用塗布液Ｂ１を塗布、乾燥して、乾燥膜厚１．６μｍの隣接層を形成した。

＜隣接層用塗布液Ｂ１の組成＞
・ポリビニルアルコール（鹸化度８２％、重合度５５０）（クラレ（株）製ＰＶＡ−４０５）
２．１５部
・ポリビニルピロリドン（ＩＳＰ製：ＰＶＰ Ｋ−３０） １．４９部
・メタノール ４２．９部
・蒸留水 ４９．５部
・２７％エチレンアイオノマー（エチレン／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝９３．４／６．６） ４９．５部

隣接層用塗布液Ｂ１の調製は、以下のように行った。
蒸留水４９．５部に、ポリビニルアルコール２．１５部とポリビニルピロリドン１．４９部を充分に溶解させ、８０℃に過熱し十分に攪拌した。前記の溶液を３０℃に冷却し、次いで、メタノール４２．９部を徐々に加えた後十分に攪拌し、２０℃に冷却した。更に、ポリマー粒子Ａを４９．５部を徐々に加えた後十分に攪拌した。
ポリマー粒子Ａにより形成した隣接層の破断強度と破断伸度を表１に示した。なお、実施例２以降は、ポリマー粒子の添加量を表１に記載の含有率に従い調製し、ポリマー粒子とポリビニルアルコールの固形分の和が、６．０９質量％になるように、上記隣接層用塗布液Ｂ１の調製方法と同様の方法で隣接層用塗布液を調製した。用いたポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンを以下に示した。

・ポリビニルアルコール（鹸化度８８％、重合度５５０）（クラレ（株）製ＰＶＡ−４０５）
・ポリビニルピロリドン（ＩＳＰ型：ＰＶＰ Ｋ−３０）
・ポリマー粒子Ａ：エチレンアイオノマー（三井化学株式会社製 ケミパールＳ１２０ 重量平均粒径０．０４μｍ）
また、用いたポリマー粒子の破断強度と破断伸度の測定は以下の手段で行った。
テフロン（登録商標）（ポリテトラフルオロエチレン）シートをピラー社製ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡモデルを用い、水との接触角が９０°未満になるように、シートの両面を室温下において処理した。次に、ポリマー粒子Ａを前記処理済みのテフロン（登録商標）（ポリテトラフルオロエチレン）シート上に塗布して風乾し、１００℃で１５分間乾燥し、厚さ約１５μｍのポリマー粒子Ａのモデル膜を形成した。このモデル膜を２０ｍｍ×５ｍｍにカットしたものを試料とし、テンシロンＲＴＭ−１００（オリエンテック（株）製）を用いて引っ張り試験を行ない、破断強度と破断伸度を算出した。
破断強度はサンプルが破断したときの強度（破断時の応力を引張試験前のサンプル断面積で規格化したもの）であり、破断伸度（％）は、｛（破断した時の長さ（ｍｍ）／２０ｍｍ）−１｝×１００で求めた。引っ張り試験の条件は下記の通りである。
・環境温湿度：２５℃／６０％ＲＨ
・引っ張り速度：２０ｍｍ／分（１００％／分）

続いて、下記組成よりなるポジ型感光性樹脂層用塗布液Ｔ１を調製し、上記隣接層上に更に塗布し、乾燥して乾燥層厚１．６μｍのポジ型感光性樹脂層を積層した。

＜ポジ型感光性樹脂層用塗布液Ｔ１の組成＞
・ポジ型レジスト液（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製ＦＨ２４０５；クレゾール樹脂、ナフトキノンジアジドエステル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート含有）
５８．６部
・メチルエチルケトン ２２．５部
・１−メトキシプロピル−２−アセテート １８．９部
・Ｃ₆Ｆ₁₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂、Ｈ（Ｏ（ＣＨ₃）ＣＨＣＨ₂）₇ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂、Ｈ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₇ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂の共重合体（共重合組成比（質量比）＝４０／５５／５、重量平均分子量＝３万）のメチルイソブチルケトン溶液（大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ７８０Ｆ） ０．０３部

更に、上記ポジ型感光性樹脂層上に、カバーフィルムとしてポリエチレン（厚み２３μｍ）（トレデガー社製、ＯＳＭ−Ｎ）フィルムを圧着貼付して設け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、隣接層、ポジ型感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層された転写材料（１）を作製した。

−液晶パネルの作製−
まず、所定サイズのガラス基板に、ブラックマトリクス用樹脂組成物を用いて所定サイズ、形状からなるストライプ状のブラックマトリックスと額縁状の遮光部を形成した。その後、特開２００５−３８６１号公報段落番号００８４〜００９５の実施例１と同様のカラーフィルタの製造方法により、所定の位置にＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）からなる着色膜を形成した。更にこの上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。

続いて、上記より得た転写材料（１）からカバーフィルムを剥がし、そのポジ型感光性樹脂層の表面と上記カラーフィルタ側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面とを重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ社製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、０．８ｋｇ／ｃｍ²、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルタ側基板上に、ポジ型感光性樹脂層、隣接層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。

次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、所定のフォトマスクがポジ型感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティ露光機（日立電子エンジニアリング（株）製）を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ²でプロキシミティ露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で６０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び隣接層を溶解除去した。この段階では、ポジ型感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。

続いて、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて２３℃３０秒間基板に噴霧しながら現像し、ポジ型感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上には、所望の形状にパターニングされたポジ型感光性樹脂層よりなる構造体が形成された。

次いで、該構造体が形成されたカラーフィルタ側基板を２３０℃下で３０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に透明リブ（ａ）を形成することができた。透明リブ（ａ）の形状は、走査型電子顕微鏡により観察した結果、線幅１１μｍ、中央部高さ約１．５μｍの蒲鉾型の断面形状を有していた。

得られた透明リブ付き基板の１ｃｍ²あたりの画素の欠けの割合を、変形、欠け、抜け等が光学顕微鏡により観察して認められる画素の数と全画素の数との比により求めた結果を表１に示す。

得られた基板を用い、その上にポリイミド配向膜を設けた。カラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置にスペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と貼り合わせた。次いで貼り合わせたガラス基板を熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空化で脱気し、その後大気圧にもどして２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に偏光版を貼り付けた。次にバックライトを上記偏光版を付与した液晶セルの背面側に設置し、液晶パネルを作製した。下記の評価を行い、表示性能を評価したところ十分な性能を示した。

表示性能の評価は、チラつき、ムラが全く無いものを○とし、チラつき、ムラが僅かにあるものを△とし、チラつき、ムラが顕著なものを×とし、結果を表２に示した。

露光気泡の評価は、以下に示す５段階に評価した。
Ａ：露光時にポジ型感光性樹脂層上に全く気泡が発生せず、極めて良好な状態
Ｂ：パターン形成範囲は全く気泡が発生しないが、その他の範囲、画素５００個相当に換算した面積に対し気泡の発生が５個未満であり、良好な状態
Ｃ：パターン形成範囲の画素５００個に対し、気泡の発生が５個未満であり、製造可能なレベル
Ｄ：パターン形成範囲の画素５００個に対し、５個以上２５個未満の気泡が発生し、悪い状態
Ｅ：全面に気泡が発生し、隣接層とポジ型感光性樹脂層の界面に剥がれが生じ、極めて無い状態

保存性の評価は、４５℃で２週間保存した感光性転写材料を用いて液晶パネルを作製した際の露光気泡の評価を上記評価方法と同様の方法で行った。

ポンプ適性の評価は、隣接層塗布液１０リットルをギヤポンプ重工川崎重工株式会社製 ＫＡＩ−２，９２−０９（Ｌｏｔ８９００６）を用い、２５０ｃｃ／分で１２時間循環した後の塗布液を観察し、以下に示すＡ〜Ｅの５段階に評価した。
Ａ：全く凝集物が見られず、規定流量を維持している状態
Ｂ：微かに凝集物が見られたが規定流量を維持していたもの
Ｃ：少し凝集物が見られたが規定流量を維持していたもの
Ｄ：凝集物が多く見られ規定流量を１０％低下したもの
Ｅ：ポンプに凝集物が詰まり、ポンプが停止したもの

画素欠けの割合とは、得られた液晶表示装置用基板の１ｃｍ²をあたりの変形、欠け、抜け等が光学顕微鏡により観察して認められる画素の数と、全画素の数との比により求めたものである。

〔実施例２〜１９〕
実施例１において、表１に記載のポリマー粒子Ａ〜Ｉ、添加量に変更した以外は、実施例１と同様にして液晶表示バネルを作製した。なお、隣接層塗布液の処方は、上記隣接層用塗布液Ｂ１の組成のポリマー粒子の量を表１に記載のポリマー粒子の含有率に変更し、ポリビニルアルコールとポリマー粒子の固形分の和が常に６．０９質量％となるように調製した。
得られた液晶表示パネルの表示性能を実施例１と同様に評価したところ、十分な性能を示した。表２に評価結果を示した。
・ポリマー粒子Ｂ〜Ｇは、表１に記載のモノマーとモル比のランダム共重合物（重量平均粒径０．０４±０．０１μｍ）である。
・ポリマー粒子Ｈ：ウレタンアイオノマー（大日本インキ化学工業株式会社製 ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ４０Ｎ）
・ポリマー粒子Ｉ：ウレタンアイオノマー（大日本インキ化学工業株式会社製 ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ３０Ｆ）

−比較例１−
実施例１の隣接層用塗布液Ｂ１を下記のポリマー粒子を含まない隣接層用塗布液Ｂ１００に変更した以外は、実施例１と同様にして液晶表示パネルを作製した。得られた液晶表示パネルの表示性能を実施例１と同様に評価したところ、満足な性能は示さなかった。
＜隣接層用塗布液Ｂ１００の組成＞
・ポリビニルアルコール（鹸化度８８％、重合度５５０）
（クラレ（株）製ＰＶＡ−２０５） ３．７８部
・ポリビニルピロリドン（ＩＳＰ製：ＰＶＰ Ｋ−３０） ０．９４部
・メタノール ４２．９部
・蒸留水 ５２．４都

−比較例２−
実施例１において、表１に記載のポリマー粒子Ｊ、添加量に変更した以外は、実施例１と同様にして液晶表示パネルを作製した。得られた液晶表示パネルの表示性能を実施例１と同様に評価したところ、満足な性能は示さなかった。
ポリマー粒子Ｊ：エチルアクリレートラテックス（平均粒径０．１８μｍ、固形分濃度２０％、ガラス転移温度−２４℃、重量平均分子量１２万）

−比較例３−
実施例１において、表１に記載のポリマー粒子Ｋ、添加量に変更した以外は、実施例１と同様にして液晶表示パネルを作製した。得られた隣接層は、微小なひび割れが生じ、これにより、露光光の散乱が起こり、得られた液晶表示パネルの表示性能を実施例１と同様に評価したところ、満足な性能は示さなかった。
・ポリマー粒子Ｋ：ウレタンアイオノマー（大日本インキ化学工業株式会社製 ＨＹＤＲＡＮ ＷＬＳ−２０２）

−比較例４−
実施例１において、表１に記載のポリマー粒子Ｌ、添加量に変更した以外は、実施例１と同様にして液晶表示パネルを作製した。得られた液晶表示パネルの表示性能を実施例１と同様に評価したところ、満足な性能は示さなかった。
・ポリマー粒子Ｌ：スチレン／２−エチルヘキシルアクリレート／アクリル酸＝９５／１／４モル比のランダム共重合体の分散物、平均粒径０．１１μｍ、重量平均分子量４０００、固形分濃度２５％

本発明の感光性転写材料は、液晶分子の配向を規制する液晶配向制御用突起の形成に好適に用いられ、大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一であり、露光時の気泡の発生による画素欠けがない。従って、これを用いて形成されたパターンを有する液晶表示装置用基板、液晶表示装置も画素欠けがない。

本発明の液晶表示装置の断面を示す図である。

符号の説明

１０ 液晶表示装置
１６ 液晶層
２０ ガラス基板
２２ 液晶配向膜制御用突起
３０ 基板

Claims (13)

1. 仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層とこの層に隣接する隣接層を有する感光性転写材料であって、該隣接層がポリマー粒子を含み、該ポリマー粒子の単独皮膜の破断強度が１８ＭＰａ以上であって、且つ、破断伸度が４５０％以下であることを特徴とする感光性転写材料。
2. 隣接層がポリマー粒子を分散含有するバインダー溶液を塗布することにより形成されたものである請求項１記載の感光性転写材料。
3. ポリマー粒子が、隣接層を構成するポリマーに対し、固形分量で５〜７０重量％含まれていることを特徴とする請求項１又は２記載の感光性転写材料。
4. ポリマー粒子がアイオノマーを含むものである請求項１〜３の何れか１項記載の感光性転写材料。
5. アイオノマーが、エチレンアイオノマー又は／及びポリウレタンアイオノマーである請求項１〜４の何れか１項記載の感光性転写材料。
6. 仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、隣接層、ポジ型感光性樹脂層及び保護層を、この順で設けてなる請求項１〜５何れか１項記載の感光性転写材料。
7. 請求項１〜６の何れか１項に記載の感光性転写材料を用いて樹脂層パターンを形成する事を特徴とする表示装置用基板の形成方法。
8. 該樹脂層パターンが液晶配向制御用突起パターンである事を特徴とする請求項７記載の表示装置用基板の形成方法。
9. 請求項１〜６の何れか１項に記載の感光性転写材料を用いて形成されたパターンを有することを特徴とする表示装置用基板。
10. 表示装置が液晶表示装置である請求項９記載の表示装置用基板。
11. パターンが液晶配向制御用突起パターンであることを特徴とする請求項９又は１０記載の表示装置用基板。
12. 請求項９〜１１の何れか１項に記載の表示装置用基板を有することを特徴とする液晶表示装置。
13. 仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層を設ける工程と、この層に隣接する隣接層を、ポリマー粒子を分散含有するバインダー溶液を塗布することにより形成する工程とを有することを特徴とする請求項１〜６の何れか１項記載の感光性転写材料の製造方法。

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