JP2006064765A - 感光性転写材料を用いたパターン形成方法、パターニング基板及び液晶表示装置 - Google Patents

感光性転写材料を用いたパターン形成方法、パターニング基板及び液晶表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 画像の欠けが防止された液晶表示装置、及びこれを製造するためのパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が１２０℃以上１８０℃以下、又はロール温度が１３０℃以上１６０℃以下又は搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であるパターン形成方法。また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。
【選択図】 なし

Description

本発明は、光の照射によって化学変化する感光性樹脂層を有する転写材料を用いたパターン形成方法、パターニング基板、並びに、液晶表示装置に関する。詳細には、液晶表示装置（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）を構成する導電層の外側から液晶層側に凸部となるように設けられる液晶配向制御用突起などのパターン形成方法、これを用いて形成されたパターニング基板、並びに液晶表示装置に関する。
近年、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）ディスプレイに代わるフラットパネルディスプレイとしては、液晶表示装置（ＬＣＤ）が現在最も広く使用されており、その期待も大きい。中でも、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）方式のＬＣＤ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は、パーソナルコンピュータ、ワープロ、及びＯＡ機器や、携帯テレビジョン等への応用によって市場の一層の拡大が期待されているとともに、画像品質の更なる向上が求められている。
現在、ＴＦＴ−ＬＣＤの中で最も広く使用されている方式は、ノーマリホワイトモードのＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型のＬＣＤである。しかし、ＴＮ型のＬＣＤは、視野角が狭いという欠点があり、表示画面を観察する位置によって表示状態が異なってしまう。このため、ＴＮ型のＬＣＤは、その用途が限定されてしまうという問題があった。
尚、ＴＮ型のＬＣＤが有する問題は、電極を備える一対の基板間に液晶を挟持し、電極間に電圧印加して表示することが可能なＬＣＤ（例えば、単純マトリックス型やプラズマアドレス型ＬＣＤ）においても同様に生じる問題である。
即ち、このようなＬＣＤは、電圧を印加しない白表示の状態では、どの方位においてもほぼ白に見ることができる。しかし、所定の電圧を印加した黒表示の状態では、斜めに入射する光が垂直方向に配向された液晶分子に対して斜めに通過する。このため、黒表示のＬＣＤを斜めから観察した場合、偏向方向がある程度捩れてしまい、完全な黒ではなく中間調（グレイ）に見えてしまう。
また、中間電圧を印加した中間調表示の状態においては、セルの中間部では液晶表示が途中まで立ち上がっており、垂直に入射する光に対しては中間調（グレイ）に表示される。しかし、中間調表示の状態においては左右斜めに入射する光に対しては、その入射した方位によって見え方が異なってしまう。具体的には、右下から左上に向かう光に対しては液晶分子は平行に配向されるため、ＬＣＤを左側から観察すると黒く見えてしまう。これに対し、左下から右上に向かう光に対しては液晶分子は垂直に配向されることから、ＬＣＤを右側から観察した場合には白に近い状態に見えてしまう。このように、上述のＬＣＤには、表示状態が視野角に依存してしまうといった欠点がある。
上述のような欠点を解決する手段としては、液晶層に対して突起を形成する技術が提案されている。かかる突起は液晶の配向を制御するために形成されるものであり、液晶配向制御用突起と称される。該突起は、その表面に沿って局部的に液晶分子の配向状態に傾きを与え、液晶面に対して斜めから観察した場合であっても、液晶面を正面から観察した場合と同様の表示状態が得られるように視野角を拡げるものである。
このような技術としては、フェノールノボラック樹脂を用いて液晶配向制御用突起を形成する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。かかる技術は、ポジ型のフォトレジストをスピンコータにて１．５μｍの厚さに塗布して塗布層を形成し、該塗布層をプリベークした後に、露光・現像処理を施してパターン形成し、その後、２４０℃で２０分間ポストベーク（熱フロー）を行い、液晶配向制御用突起を形成するものである。しかし、フェノールノボラック樹脂は、現像ラチチュードが狭く、現像条件による性能の変動が大きい。
また、このように液状のフォトレジストをスピンコータによって塗布する方法では、膜厚の均一性が問題となる。特に、近年ではＬＣＤのサイズが大型化しており、元の基板のサイズも１ｍを超えるものまでが実用化されつつある。このような大きなサイズの基板を用いる場合、スピンコータによる塗布では膜厚の分布が大きくなってしまう。このため、膜厚が不均一になり、ＬＣＤの表示特性にばらつき（ムラ）が生じてしまうといった問題がある。
このようにスピンコータを用いることによる問題を解決するために以下の方法が提案されている。一つは、予め１ｍを超える巾の仮支持体にフォトレジストを均一に塗布した塗布層を乾燥することで得られる感光性転写材料等を用いる方法である（以下、感光性転写材料を用いた方法を「転写方式」と称する場合がある。）。かかる転写方式では、液物性を適切に調整して塗布することが可能であり、膜厚の均一性を高めることができる。かかる感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層、中間層及び表面保護フィルムなどが使用される（例えば、特許文献２参照。）。
上述の方式は、大型基板塗布時の均一性を、スピンコータを用いた場合と比較して改善することが可能である。
しかし、上記感光性転写材料は、パターニング後に画像の欠けが生じることがあった。
特開２００２−１２２８５８号公報 特開平５−８０５０３号公報
したがって本発明の目的は、液晶分子の配向を規制する液晶配向制御用突起の形成に好適に用いられ、大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一でありパターニング工程後の画像の欠けが防止された感光性転写材料のパターン形成方法、並びに、これを用いて形成されたパターニング基板及び、これを用いた液晶表示装置を提供することにある。
上記課題は、下記の手段によって解決される。
＜１＞ 仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
＜２＞ 基板加熱工程が、１２０℃から１８０℃の温度範囲で、２０秒から１２０秒の時間範囲で、前記基板を加熱する工程であることを特徴とする＜１＞記載のパターン形成方法。
＜３＞ 感光性樹脂層が、ナフトキノンジアジド誘導体を含むことを特徴とする＜１＞又は＜２＞記載のパターン形成方法。
＜４＞ 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時に基板がラミネーターのロールに接触する直前の位置で測定したときの基板温度が１２０℃以上１８０℃以下であることを特徴とするパターン形成方法。
＜５＞ 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、そのラミネーターのロール温度が１３０℃以上１６０℃以下であることを特徴とするパターン形成方法。
＜６＞ 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時にラミネーターを通過するときの基板の搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であることを特徴とするパターン形成方法。
＜７＞ 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時に基板がラミネーターのロールに接触する直前の位置で測定したときの基板温度が１２０℃以上１８０℃以下で、さらにラミネーターのロール温度が１３０℃以上１６０℃以下であることを特徴とするパターン形成方法。
＜８＞ 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時に基板がラミネーターのロールに接触する直前の位置で測定したときの基板温度が１２０℃以上１８０℃以下で、さらにラミネーターのロール温度が１３０℃以上１６０℃以下で、ラミネート時にラミネーターを通過するときの基板の搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であることを特徴とするパターン形成方法。
＜９＞ 仮支持体上と感光性樹脂層の間に更に熱可塑性樹脂層を有することを特徴とする＜１＞から＜８＞の何れか１項記載のパターン形成方法。
＜１０＞ 更に、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層の間に中間層を有することを特徴とする＜９＞記載のパターン形成方法。
＜１１＞ 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程を含むことを特徴とする＜１０＞記載のパターン形成方法。
＜１２＞ 感光性樹脂層がさらにフェノール樹脂を含むことを特徴とする＜１＞〜＜１１＞の何れか１項記載のパターン形成方法。
＜１３＞ ＜１＞から＜１２＞の何れか１項記載のパターン形成方法により、パターンが形成されたことを特徴とするパターニング基板。
＜１４＞ ＜１３＞記載のパターニング基板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
本発明によれば、液晶分子の配向を規制する液晶配向制御用突起の形成に好適に用いられ、大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一であり、且つ、転写、パターニング工程後に画素の欠けがない、感光性転写材料を用いたパターン形成方法、並びに、これを用いて形成されたパターニング基板、及び、これを用いた液晶表示装置を提供することができる。
本発明に用いる感光性転写材料は、仮支持体上に、クレゾール樹脂を含む感光性樹脂層を少なくとも１層有することが望ましい。感光性樹脂層にクレゾール樹脂を含有することで、液晶表示装置の作製に用いた場合に画像の焼き付けを防止することができる。更にこの感光性転写材料は、フェノール樹脂を用いた場合と比して現像ラチチュードが広いことから、感光性樹脂層を基板等に転写した際に、現像時間が長くても画素（感光性樹脂層をパターニングしたもの）が基板から脱落しにくく、現像条件に対する依存が少ない。
また、本発明に用いる転写材料は、サイズの大きな基板上に液晶配向制御用突起（以下「リブ」と称する場合もある。）を形成する際にも、該基板上に厚み精度の高い感光性樹脂からなる膜を形成（転写）することができる。
本発明に用いる感光性転写材料は、液晶表示装置を構成する導電層の外側（導電層と液晶層との間）から液晶層側に凸部となるように設けられる構造体（液晶配向制御用突起）の形成に好適に用いることができる。また、上記感光性樹脂層は、更に、ナフトキノンジアジドエステルを含むことが好ましく、さらに、可塑剤、及び、高沸点溶剤を含んでいてもよい。
液晶表示装置における液晶配向制御用突起の設置箇所について図１を用いて説明する。図１は、液晶配向制御用突起を用いた液晶表示装置を示す概略図である。図１（ａ）において、液晶表示装置１０は、ガラス基板１２と、導電層１４と、液晶分子１５を含む液晶層１６と、導電層１８と、ガラス基板２０とをこの順で積層した構造を有している。図１（ａ）において液晶配向制御用突起２２は、導電層１４と液晶層１６との間、及び、導電層１８と液晶層１６との間に設けることができる。また、図１（ｂ）に示すように、液晶表示装置１０が、導電層１８とガラス基板２０との間にカラーフィルター２４を有する場合も同様に、液晶配向制御用突起２２は、図１（ｂ）に示すように導電層１８と液晶層１６との間、及び、導電層１４と液晶層１６との間に設けることができる。尚、液晶配向制御用突起２２と液晶層１６との間には、液晶配向膜（ポリイミド膜）が設けられていてもよい。
以下、本発明に用いる感光性転写材料、並びに、これを用いて形成した液晶配向制御用突起及び液晶表示装置について詳細に説明する。
《感光性転写材料》
本発明に用いる感光性転写材料は、少なくとも１層の感光性樹脂層を有し、必要に応じて、熱可塑性樹脂層と、中間層とを有することができる。以下、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層及び感光性樹脂層をこの順で積層した態様を例に、本発明に用いる感光性転写材料について説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではなく、仮支持体上に直接感光性樹脂層が形成された態様であってもよいし、仮支持体と感光性樹脂層との間に、熱可塑性樹脂層及び中間層のいずれかのみが形成された態様であってもよい。
＜感光性樹脂層＞
上記感光性樹脂層は、クレゾール樹脂、フェノール樹脂を含有することが好ましく、更に、必要に応じてナフトキノンジアジドエステルを含むことが好ましく、更には、可塑剤や残存溶媒として高沸点溶媒、その他の添加剤を含むことができる。
（クレゾール樹脂）
上記クレゾール樹脂としては、クレゾールに対するホルムアルデヒドのモル比が０．７〜１．０程度のものが好ましく、０．８〜１．０が更に好ましい。また、上記クレゾール樹脂の重量平均分子量としては、８００〜８０００が好ましく、１０００〜６０００が特に好ましい。
上記クレゾール樹脂の異性体比（ｏ−体／ｍ−体／ｐ−体のモル比率）は特に限定はないが、現像性を高める観点から全異性体に対するｐ−体の比率が１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることが更に好ましい。また、液晶パネル性能（焼き付け防止能など）を高める観点からは、ｍ−体の比率が５モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることが好ましい。
上記クレゾール樹脂は、単独で用いてもよいし、２種以上の混合物として用いることもできる。この場合、フェノール樹脂等の他の樹脂と混合して用いてもよい。また、本発明においては、上記クレゾール樹脂として、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとの反応生成物等のクレゾール樹脂の誘導体を用いてもよい。
上記クレゾール樹脂の使用量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ2が好ましく、０．５〜５ｇ／ｍ2がさらに好ましい。
（ナフトキノンジアジドエステル）
上記感光性樹脂層には、ナフトキノンジアジドエステルをクレゾール樹脂と併用することが好ましい。上記ナフトキノンジアジドエステルは、１官能の化合物であってもよいし２官能以上の化合物であってもよく、更にこれらの混合物であってもよい。１官能のナフトキノンジアジドエステルとしては、ナフトキノン−４−スルホン酸クロリド若しくはナフトキノン−５−スルホン酸クロリドと、置換フェノールとを反応させたエステル化合物であることが好ましい。
また、２官能以上のナフトキノンジアジドエステルとしては、ナフトキノン−４−スルホン酸クロリド若しくはナフトキノン−５−スルホン酸クロリドと、フェノール性水酸基を複数有する化合物とを反応させたエステル化合物であることが好ましい。上記フェノール性水酸基を複数有する化合物としては、例えば、ビスフェノール類、トリスフェノール類、テトラキノスフェノール類等のポリフェノール類；ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼン等の多官能フェノール；ビス型又はトリス型のジヒドロキシベンゼン若しくはトリヒドロキシベンゼン、非対称の多核フェノール、並びに、これらの混合物等が好ましい。
上記フェノール性水酸基を有する化合物の具体例としては、例えば、４−ｔ−ブチルフェノール、４−イソアミルフェノール、４−ｔ−オクチルフェノール、２−イソプロピル−５−メチルフェノール、２−アセチルフェノール、４−ヒドロキシベンゾフェノン、３−クロロフェノール、４−ベンジルオキシカルボニルフェノール、４−ドデシルフェノール、レゾルシノール、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−１，３−ベンゼンジオール、フロログルシノール、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール］等が挙げられる。
上記ナフトキノンジアジドエステルの具体例としては、例えば、４’−ｔ−オクチルフェニルナフトキノンジアジド−４−スルホネート、４’−ｔ−オクチルフェニルナフトキノンジアジド−５−スルホネート、４’−ベンゾイルフェニルナフトキノンジアジド−５−スルホネート、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの反応物、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドとの反応物が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記感光性樹脂中のナフトキノンジアジドエステルのクレゾール樹脂に対する質量比は、現像性を高める観点から１〜２００質量％が好ましく、５〜５０質量％が更に好ましい。
（その他の添加剤）
上記感光性樹脂層には、感光性樹脂層の現像性を促進させるために、２価以上の脂肪族カルボン酸や、２〜６価のフェノール化合物を含有していてもよい。上記２価以上の脂肪族カルボン酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、ヒドロキシコハク酸、グルタル酸、アジピン酸等が挙げられ、マロン酸、コハク酸が好ましい。上記感光性樹脂中の全固形分に対する上記２価以上の脂肪族カルボン酸の含有量としては、０．５〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。
また、上記２〜６価のフェノール化合物としては、２〜４価のフェノール化合物が特に好ましい。上記２〜６価のフェノール化合物としては、例えば、レゾルシノール、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−１，３−ベンゼンジオール、フロログルシノール、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール］等が挙げられ、レゾルシノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンが好ましい。上記感光性樹脂中の全固形分に対する上記２〜６価のフェノール化合物の含有量としては、０．５〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。
更に、上記感光性樹脂層には、液晶配向制御用突起の形成時における転写不良や精度不良等の故障の認識を可能とし、製造適性を向上させる観点から、消色性染料を添加することもできる。上記消色性染料とは、一般に、２００℃、１時間の加熱により消色し得る色素を意味し、ベーク時に消色可能な有色染料である。上記消色性染料としては、１８０℃、１時間の加熱により消色する色素が好ましい。このような色素は、通常、熱による分解若しくは酸化等による構造変化を起こすか、或いは熱によって蒸発若しくは昇華するものである。また、消色性染料を用いて液晶配向制御用突起を作製した場合、該液晶配向制御用突起は、消色後に、４００〜８００ｎｍの平行光線に対して９０％以上の光透過率を有することが好ましい。
上記消色性染料としては、熱によって分解する色素として、例えば、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ、マラカイトグリーン、アイゼンマラカイトグリーン、マラカイトグリーン塩酸塩、アイゼンダイヤモンドグリーン等のジアルキルアミノトリフェニルメタン系の染料等が挙げられる。また、熱により蒸発又は昇華する色素としては、例えば、オリエントオイルブラウン、メチルイエロー、スミカロンブリリアントブルーＢ、１，３，５−トリフェニルテトラゾリウムホルマザンなどが挙げられる。
上記消色性染料としては、上記のほか、染料便覧（有機合成化学協会編、丸善、昭和４７年７月２０日発行）に記載される、昇華堅牢試験の耐汚染性の評価（１８０℃、１時間以下の条件）が１〜３のものも使用可能である。具体的には、C.I. Disperse Yellow 8, 31, 72、C.I. Disperse Orange 1, 3,20, 21 、C.I. Disperse Red 15, 55, 60, 65、C.I.Disperse Violet 8, 23,26, 37、C.I. Disperse Blue 20, 26, 55, 56, 72, 90, 91, 92, 106、C.I. Disperse Black 29、 Diacellition Direct Black B M/D （三菱化成（株）製）、Sumikaron Violet RS （住友化学（株）製）、Dianix Fast Sky Blue B M/D（三菱化成（株）製）、Miketon Polyester Blue BCL, GRN （三井石油化学（株）製）、KayaronPolyester Navy Blue GF（日本化薬（株）製）等が挙げられる。加熱装置の適性、環境汚染を考慮すると、前記消色性染料としては、熱分解性の染料が好ましい。
前記消色性染料の添加量としては、感光性樹脂層の全固形分に対して０．１〜１０質量％であることが好ましい。
また、上記感光性樹脂層には、熱可塑性の結合剤を用いることができる。上記熱可塑性の結合剤としては、例えば、エチレン性不飽和化合物等の公知の結合剤が挙げられる。上記結合剤及び可塑剤の添加量は、本発明の効果を損なわない範囲で適宜決定される。
（感光性樹脂層）
本発明の感光性転写材料は、感光性樹脂層にクレゾール樹脂とナフトキノンジアジドエステルとを併用することで、所望のパターンで露光した際に該露光部をアルカリ水溶液等による現像によって除去するポジ型の感光性転写材料とすることができる。即ち、アルカリ可溶性のクレゾール樹脂に対し、ナフトキノンジアジドエステルは溶解禁止剤として作用するが、光を受けるとインデンカルボン酸を生成し、溶解禁止効果がなくなる。このため、クレゾール樹脂とナフトキノンジアジドとを含む、上記感光性樹脂層は、アルカリ現像により光照射部のみが溶解されるポジ型レジストとして機能する。
上記感光性樹脂層の層厚としては、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜６μｍが更に好ましい。上記膜厚が０．５〜１０μｍの範囲内にあると、感光性樹脂層用塗布液を仮支
持体上に塗布する際に、ピンホールが発生しにくく、現像持に露光部の除去を容易におこなうことができる。
上記感光性樹脂層は、上述のクレゾール樹脂やナフトキノンジアジドエステル等の感光性樹脂層に含まれる成分を溶剤に溶解した感光性樹脂組成物を、仮支持体（仮支持体と感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層や中間層が設けられている場合にはその層）上に、種々の塗布手段を用いて塗布、乾燥することで形成することができる。
上記感光性樹脂組成物に用いられる溶剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で公知の溶剤から適宜選定したものを用いることができる。上記溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；等が挙げられる。これらの有機溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組合わせて用いてもよい。
これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜形成性の点で、メチルエチルケトン等のケトン類、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が特に好適である。
上記感光性樹脂層を形成するための上記塗布手段としては、公知の塗布手段を適宜選定することができる。
＜仮支持体＞
上記仮支持体としては、後述する熱可塑性樹脂層に対して、転写の支障とならない程度の剥離性を有するものが好ましく、化学的、熱的に安定で可撓性のものが好ましい。上記仮支持体としては、具体的に、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄膜シート若しくはこれらの積層物が好適に挙げられる。
上記仮支持体と熱可塑性樹脂層との間には、良好な剥離性を確保するために、グロー放電等の表面処理は施さず、またゼラチン等の下塗り層も設けないことが好ましい。上記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、２０〜１５０μｍが好ましい。
上記感光性樹脂層の酸素透過速度は大きいことが好ましい。感光性樹脂層の酸素透過速度を大きくするには、結晶性が低くガラス転移温度が低い樹脂を用いることが望ましく、樹脂を可塑化する添加剤を加えてもよい。
＜熱可塑性樹脂層＞
熱可塑性樹脂層は、仮支持体上の第一層目として設けられ、主として熱可塑性樹脂を含んでなり、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。上記熱可塑性樹脂としては、転写後のアルカリ現像を可能とし、或いは転写時の転写条件によっては熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して被転写体である基板上を汚染してしまう場合に除去処理を可能とするために、アルカリ性水溶液に可溶な樹脂が好適である。更に、熱可塑性樹脂層は、被転写体である基板上（又はカラーフィルタ上）に転写する際、基板上（又はカラーフィルタ上）に存在する凸部に起因して生じうる転写不良を防止するクッション材としての機能をも発揮させる観点から、加熱密着時に被転写物表面の凸部に応じて変形しうる性質を有することが好ましい。
上記の点から、上記熱可塑性樹脂としては、アルカリ可溶性であって、実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂が好ましい。軟化点が８０℃以下の熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、一種単独からなるものであっても、二種以上を併用したものであってもよい。
更に、上記熱可塑性樹脂としては、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質のうち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用できる。
また、軟化点８０℃以上の有機高分子物質であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質と相溶性のある各種公知の可塑剤を添加することにより、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて使用することもできる。
上記有機高分子物質を用いる場合、上述の仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることもできる。
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層の他、後述の中間層、及び上記感光性樹脂層を順次積層して構成されるが、特に熱可塑性樹脂層と仮支持体との間の接着強度が他の層間における接着強度よりも小さくすることが必要である。これにより転写の後、仮支持体を容易に剥離することができ、更に剥離の際に熱可塑性樹脂層表面の破壊を伴うことなく仮支持体を除去することができる。これは、仮支持体除去後の感光性樹脂層への露光を均一に行うことが可能となる点で好ましい態様である。
上記熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂と必要に応じて他の成分とを有機溶剤に溶解して塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法で塗布等して形成することが可能である。
上記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；等が挙げられる。これらの有機溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組合わせて用いてもよい。
これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜形成性の点で、メチルエチルケトン等のケトン類、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が特に好適である。
更に、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。
上記熱可塑性樹脂層の層厚としては、６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。上記層厚が、６〜１００μｍの範囲内にあると、基板（又はカラーフィルタ）上の１μｍ以上の凸部を完全に吸収することができると共に、現像性、製造適性を向上させることができる。
上記熱可塑性樹脂層の酸素透過速度は大きいことが好ましい。熱可塑性樹脂層の酸素透過速度を大きくするには、結晶性が低くガラス転移温度が低い樹脂を用いることが望ましく、樹脂を可塑化する添加剤を加えてもよい。
＜中間層＞
上記感光性樹脂層や上記熱可塑性樹脂層には有機溶剤が用いられることから、両記中間層は、両層が互いに混ざり合うのを防止する機能を有する。また、上記中間層は、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものであればよい。
上記中間層は、水又はアルカリ水溶液に分散、溶解可能な樹脂成分を主に構成され、必要に応じて、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。上記中間層を構成する樹脂成分としては、公知のものの中から適宜選択でき、例えば、特開昭４６−２１２１号公報や特公昭５６−４０８２４号公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらを２種以上組合せたもの等が挙げられる。
中でも、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組合せてなるものが特に好ましく、更に添加剤を加えてもよい。更に、上記ポリビニルアルコールとしては、鹸化率が９９％以下であるのものが好ましく、９０％以下であるものが特に好ましい。また、上記ポリビニルピロリドンの含有量としては、中間層の固形分の１〜７５質量％であることが好ましく、１〜６０質量％であることが更に好ましく、１０〜５０質量％であることが最も好ましい。上記ポリビニルピロリドンの含有量が、１〜７５質量％の範囲内にあると、感光性樹脂層との密着性を十分に高めることができる。
添加剤としては、用いる樹脂成分を可塑化するものが好ましく、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、及びそれらのモノエーテル体、ジエーテル体、モノエステル体、ジエステル体、モノアミド体、ジアミド体、などが挙げられる。添加剤の添加量としては、樹脂の０〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましい。
上記中間層の酸素透過速度は大きいことが好ましい。中間層の酸素透過速度を大きくするには、結晶性が低くガラス転移温度が低い樹脂を用いることが望ましく、樹脂を可塑化する添加剤を加えてもよい。
上記中間層は、樹脂成分等を水系溶媒に溶解、分散して塗布液（中間層用塗布液）を調製し、該塗布液を上記熱可塑性樹脂層上に公知の塗布方法により塗布して形成することが可能である。
上記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分とし、所望により本発明の効果を損なわない範囲でアルコール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げられる。
上記中間層の層厚としては、約０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。上記層厚が、０．１から５μｍの間にあると、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層の層混合を起こすことがなく、現像や中間層除去を容易に行うことができる。
＜表面保護フィルム＞
上記感光性樹脂層上には、保管等の際の汚れや損傷から保護する目的で、表面保護フィルムを設ける。上記表面保護フィルムは、感光性樹脂層に容易に貼付可能で、また、感光性樹脂層から容易に剥離可能なものの中から選択でき、上記仮支持体と同一又は類似の材料からなるものであってもよい。具体的には、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシート等が好ましく、中でも、ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムがより好ましい。さらに、表面保護フィルムの感光性樹脂層と接する面に深さ０．３μｍ以上の凹部が１ｃｍ2あたり１０００個以上あることが好ましく、深さ０．３μｍ以上の凹部が１ｃｍ2あたり５０００個以上あることがより好ましい。該凹部は、フィルムのエンボス加工により形成されても良いし、マット化処理（サンドブラスト法）により形成されていても良く、さらにエッチング処理により凹凸をなめらかにしても良い。これらは特開平１−１１０９３０記載の方法などにより作製することができる。表面保護フィルム表面の凹部の数は光学顕微鏡で観察することにより計測できる。
また、表面保護フィルム表面の凹部の深さとは、中心面平均高さから各凹部の最深部までの距離のことであり、まず中心面平均高さをもとめた後に、各凹部の最深部までの距離を測ることによりもとめられ、具体的にはレーザー顕微鏡、表面粗さ形状測定機（サーフコム；東京精密（株）製）などにより計測できる。
上記表面保護フィルムの厚みとしては、約５〜１００μｍが好ましく、１０〜６０μｍがより好ましい。
＜感光性転写材料の製造方法＞
本発明に用いる感光性転写材料は、上記仮支持体上に、まず、熱可塑性樹脂を溶剤に溶解し調製した塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布・乾燥して、熱可塑性樹脂層を設け、続いて該熱可塑性樹脂層上に、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶媒を用いてなる塗布液（中間層用塗布液）を塗布、乾燥して中間層を設け、更に該中間層上に、中間層を溶解しない溶剤にクレゾール樹脂等を溶解し調製した塗布液（感光性樹脂層用塗布液）を塗布、乾燥して感光性樹脂層を設けることにより形成することができる。或いは、上記表面保護フィルム上に感光性樹脂層を設けると共に、別途仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層とを設け、それぞれを中間層と感光性樹脂層とが接するように貼り合わせることにより形成することもできる。また、本発明に用いる感光性転写材料は、上記表面保護フィルム上に感光性樹脂層と中間層とを設けると共に、別途仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設け、それぞれを上述と同様に、中間層と感光性樹脂層とが接するように貼り合わせることによって、製造することができる。
また、後述するように、本発明に用いる感光性転写材料を被転写体である基板やカラーフィルタ上に密着させた後、感光性転写材料の仮支持体を剥離する過程では、仮支持体や基板等が帯電する結果、周囲のゴミ等を引き寄せ、剥離後の感光性樹脂層上にゴミ等が付着することがある。このような場合、その後の露光過程で感光性樹脂層に未露光部ができ、その部分が現像の際に残ってしまうことがある。このため、帯電を防止する目的で、仮支持体の少なくとも一方の表面に導電性層を設けたり、或いは導電性を付与した仮支持体を用いることによって、その表面の電気抵抗を１０13Ω以下にまで低下させることが好ましい。
上述のように仮支持体に導電性を付与するためには、仮支持体中に導電性物質を含有させればよい。このような方法としては、例えば、金属酸化物の微粒子や帯電防止剤を予め練り込んでおく方法が好適である。上記金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデン等の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸化物の微粒子が挙げられる。
上記帯電防止剤としては、エレクトロストリッパーＡ（花王（株）製）、エレノンＮｏ．１９（第一工業製薬（株）製）等のアルキル燐酸塩系アニオン界面活性剤；アモーゲンＫ（第一工業製薬（株）製）等のベタイン系両性界面活性剤；ニッサンノニオンＬ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系非イオン界面活性剤；エマルゲン１０６、１２０、１４７、４２０、２２０、９０５、９１０（花王（株）製）やニッサンノニオンＥ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性剤、等が好適である。その他、非イオン界面活性剤として、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のものが挙げられる。
仮支持体上に導電性層を設ける場合、該導電性層は公知のものの中から、適宜選択して用いることができる。上記導電性層に用いる導電性物質として、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ3等から選ばれる少なくとも１種の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸化物の微粒子等が挙げられる。これらの導電性物質を導電性層に含有させて用いる方法が湿度環境に影響されず、安定した導電効果を発揮する点で好ましい。
また、上記結晶性金属酸化物又はその複合酸化物の微粒子の体積抵抗値としては、１０7Ω・ｃｍ以下が好ましく、１０5Ω・ｃｍ以下が更に好ましい。また、その粒子径としては、０．０１〜０．７μｍが好ましく、０．０２〜０．５μｍが更に好ましい。
上記結晶性金属酸化物及びその複合酸化物の微粒子の製造方法は、特開昭５６−１４３４３０号公報等に詳細に記載されている。即ち、第１に、金属酸化物微粒子を焼成によって作製し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する方法、第２に、焼成によって金属酸化物微粒子を作製する際に導電性を向上させるための異種原子を共存させる方法、第３に、焼成により金属微粒子を作製する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等が記載されている。上記異種原子を含む具体例としては、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等；ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等；、ＳｎＯ2に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等を存在させることが挙げられる。
上記異種原子の添加量としては、０．０１〜３０ｍｏｌ％が好ましく、０．１〜１０ｍｏｌ％がより好ましい。導電性粒子の使用量としては、０．０５〜２０ｇ／ｍ2が好ましく、０．１〜１０ｇ／ｍ2がより好ましい。
本発明の感光性転写材料の仮支持体に設けられる導電性層には、バインダーとして、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、炭素数１〜４のアルキルアクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマー又は共重合体；可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使用することができる。
また、これらのバインダー中に導電性粒子を分散する場合、チタン系分散剤又はシラン系分散剤等の分散液を添加してもよく、更に、必要に応じてバインダー架橋剤等を添加することもできる。
上記チタン系分散剤としては、例えば、米国特許第４，０６９，１９２号公報、同第４，０８０，３５３号公報等に記載の、チタネート系カップリング剤、プレンアクト（味の素（株）製）などが挙げられる。上記シラン系分散剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、「シランカップリング剤」（信越化学（株）製）として市販されている。上記バインダー架橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤などが挙げられる。
上記導電性層は、導電性微粒子をバインダー中に分散させて仮支持体上に塗設したり、仮支持体上に下引処理（例えば、下塗り層等）を施した上に導電性微粒子を付着
させたりすることにより設けることができる。
上記導電性層は、仮支持体の感光性樹脂層を塗設した面とは反対の表面上に設けてもよく、この場合には、十分な耐傷性を確保する目的で、導電性層上に更に疎水性重合体層を設けることが好ましい。この疎水性重合体層は、疎水性重合体を有機溶剤に溶解した状態又は水性ラテックスの状態で塗布すればよく、その塗布量としては、乾燥質量で０．０５〜１ｇ／ｍ2程度が好ましい。
上記疎水性重合体としては、例えば、ニトロセルロース、セルロースアセテート等のセルロースエステル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレート等を含むビニル系ポリマー；有機溶剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマーを挙げることができる。
上記疎水性重合体層には、スベリ性を付与する目的で、例えば、特開昭５５−７９４３５号公報に記載の有機カルボン酸アミド等のスベリ剤を使用することができる。また、必要に応じて、マット剤等を使用することもできる。このような疎水性重合体層を設けても、導電性層の効果は実質的に影響を受けない。
また、下塗り層を設ける場合、特開昭５１−１３５５２６号公報、米国特許第３，１４３，４２１号公報、同第３，５８６，５０８号公報、同第２，６９８，２３５号公報、同第３，５６７，４５２号公報等に記載の塩化ビニリデン系共重合体、特開昭５１−１１４１２０号公報、米国特許第３，６１５，５５６号公報等に記載のブタジエン等のジオレフイン系共重合体、特開昭５１−５８４６９号公報等に記載のグリシジルアクリレート又はグリシジルメタアクリレート含有共重合体、特開昭４８−２４９２３号公報等に記載のポリアミド・エピクロルヒドリン樹脂、特開昭５０−３９５３６号公報に記載の無水マレイン酸含有共重合体等を用いることができる。
本発明においては、特開昭５６−８２５０４号公報、特開昭５６−１４３４４３号公報、特開昭５７−１０４９３１号公報、特開昭５７−１１８２４２号公報、特開昭５８−６２６４７号公報、特開昭６０−２５８５４１号公報等に記載の導電性層も必要に応じて用いることができる。
仮支持体上に、導電性層を塗布する場合、ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコート、バーコート、カーテンコート等の公知の方法により塗布することができる。十分な帯電防止効果を得るためには、導電性層又は導電性を付与した仮支持体の表面電気抵抗値を、１０13Ω以下とすることが好ましく、１０12Ω以下とすることが更に好ましい。
また、熱可塑性樹脂層と仮支持体との強固な接着を防止するため、仮支持体面に公知の微粒子を含有する滑り剤組成物、シリコーン化合物を含有する離型剤組成物等を塗布することもできる。
仮支持体の熱可塑性樹脂層を設けない側の表面に導電性層を設ける場合には、熱可塑性樹脂層と仮支持体との接着性を向上させる目的で、仮支持体に、例えば、グロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処理等の表面処理、フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理又はこれらの処理を組み合わせた処理を施すことができる。
仮支持体用のフィルムは押し出し成形により形成することが可能であるが、導電性物質又は導電性層を仮支持体と同一又は異質のプラスチック原料に含有させ、上記フィルムと同時に押し出し成形した場合には、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得ることができる。この場合、上記疎水性重合体層や下塗り層を設ける必要はなく、転写材料を構成する導電性付与仮支持体として最も好ましい実施形態である。
＜感光性転写材料を用いたパターン形成方法＞
続いて、本発明のパターン形成方法について説明する。ここでは、本発明に用いる感光性転写材料として、仮支持体上にアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層及び表面保護フィルムがこの順に積層されてなる感光性転写材料を用い、更に、基体上の全面にカラーフィルタ層が設けられた基板を用いた一例を示す。
まず、本発明に用いる感光性転写材料の表面保護フィルムを取り除き、感光性樹脂層を加圧、加熱下で被転写体である基板のカラーフィルタ層上に密接し貼り合わせる。基板と感熱記録層との貼り合わせには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
この際、本発明のパターン形成方法では少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料をより高温状態でラミネートすることが好ましい。感光性転写材料をより高温状態でラミネートする方法には、ラミネートする前にあらかじめ基板を加熱しておく方法や、ラミネート時のラミネーターのロール温度を上げる方法や、ラミネート時のラミネーターを通過するときの基板の搬送速度を遅くする方法、などがある。
ラミネートする前にあらかじめ基板を加熱しておく方法では、基板温度を１２０℃以上１８０℃以下とすることが好ましく、１３０℃以上１６０℃以下とすることがより好ましい。基板を加熱するには、ホットプレートなどの接触型の加熱器を基板に接触させて用いることもできるし、また非接触で用いることもできる。また温風加熱器、ＩＲヒーターなどの非接触型の加熱器を非接触で用いることもできる。基板温度が１２０℃未満であるとパターン形成後に画素の欠けを生じることがあり、基板温度が１８０℃を超えると感光性転写材料中の素材が分解し、感度変化、着色などを起こすことがある。
ラミネート時のラミネーターのロール温度を上げる方法では、そのロール温度を１３０℃以上１６０℃以下とすることが好ましく、１３０℃以上１５０℃以下とすることがより好ましい。ロール温度が１３０℃未満であるとパターン形成後に画素の欠けを生じることがあるし、ロール温度が１６０℃を超えると感光性転写材料中の素材が分解し、感度変化、着色などを起こしたり、転写材料と基板間にシワを生じたりすることがある。
ラミネート時のラミネーターを通過するときの基板の搬送速度を遅くする方法では、搬送速度を１．０ｍ／分以上２．０ｍ／分以下とすることが好ましく、１．２ｍ／分以上１．８ｍ／分以下とすることがより好ましい。搬送速度を１．０ｍ／分未満にすると性能上の不具合はないものの、生産性の低下が問題となることがあるし、２．０ｍ／分を超えるととパターン形成後に画素の欠けを生じることがある。
また、本発明のパターン形成方法では、感光性転写材料を基板に転写する転写工程と所望のパターンで露光する露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことが好ましい。この際の感光性転写材料はナフトキノンジアジド誘導体を含んでいても、含んでいなくてもよい。感光性転写材料を転写した基板を加熱する工程はホットプレートなどの接触型の加熱器を基板に接触させて用いることもできるし、また非接触で用いることもできる。また温風加熱器、ＩＲヒーターなどの非接触型の加熱器を非接触で用いることもできる。この感光性転写材料を転写した基板を加熱する工程は１２０℃から１８０℃の温度範囲で、２０秒から１２０秒の時間範囲で行うことが好ましく、１２０℃から１５０℃の温度範囲で、２０秒から５０秒の時間範囲で行うことがより好ましい。１２０℃未満、または２０秒未満であるとパターン形成後に画素の欠けを生じることがあるし、１８０℃を超えると感光性転写材料中の素材が分解し、感度変化、着色などを起こすことがあるし、また１２０秒を超えると生産性の低下が問題となることがある。
感光性転写材料を基板に転写した後、所望のパターンで露光する前に、仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥がし取るが、感光性転写材料を転写した基板を加熱する工程は、仮支持体を剥がし取る前に行ってもよいし、仮支持体を剥がし取った後に行ってもよい。
さらに、本発明のパターン形成方法では、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料を基板に転写する転写工程と所望のパターンで露光する露光工程との間に、前記感光性樹脂層の熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程を含むことが好ましい。前記感光性樹脂層の熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程は、公知の方法により行え、熱可塑性樹脂層と中間層を溶解して感光性樹脂層を溶解しないような溶剤若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液などを用いて、例えば、(a)露光後の基板自体を現像浴中に浸漬する、(b)露光後の基板にスプレー等により噴霧する等して、更に必要に応じて、溶解性を高める目的で、回転ブラシや湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射しながら行うことができる。上記アルカリ水溶液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好適に使用することができる。上記アルカリ性物質としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、燐酸三ナトリウム等が挙げられる。
感光性転写材料を基板に転写した後、所望のパターンで露光する前に、仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥がし取るが、感光性転写材料の熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程は、仮支持体を剥がし取った後に行うのが好ましい。
これらの、感光性転写材料をより高温状態でラミネートする方法、転写工程と露光工程との間に感光性転写材料を転写した基板を加熱する方法、転写工程と露光工程との間に感光性樹脂層の熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する方法は、それぞれ単独で行ってもよいし、併せて行ってもよい。
前述のように、感光性転写材料をより高温状態でラミネートし、及び／または、転写工程と露光工程との間に感光性転写材料を転写した基板を加熱し、及び／または、転写工程と露光工程との間に感光性転写材料の熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した後、熱可塑性樹脂層と中間層がある場合には、熱可塑性樹脂層の上方から熱可塑性樹脂層及び中間層を通して、また熱可塑性樹脂層と中間層がない場合には、感光性樹脂層の上方から、感光性樹脂層をポジ用のパターン状に露光（パターニング）する。上記露光は、３００〜５００ｎｍの波長光の照射により行える。上記露光の光源としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、Ｈｇ−Ｘｅランプ等が挙げられる。
また、上記パターニングの方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法による方法、熱可塑性樹脂層、または感光性樹脂層の上方に露光マスクを配置し、該マスクを介してパターン状に露光する方法、密着型のプロキシミティ露光装置等の露光手段を用いる方法等が挙げられる。上記密着型のプロキシミティ露光装置等の露光手段を用いる方法によるパターニングを行う際、その露光量としては、感光性樹脂層が溶解する最小露光量の１〜５倍が好ましく、プロキシミティ量としては、４０〜３００μｍが好ましい。
上記露光の後、現像処理して、熱可塑性樹脂層と中間層がある場合には熱可塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層の不要部（露光部分）を、熱可塑性樹脂層と中間層がない場合には感光性樹脂層の不要部（露光部分）を除去する。すると、未照射部のみが導電層上に残り、透明構造体が形成される。
上記現像は、公知の方法により行え、溶剤若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液等を用いて、例えば、(a)露光後の基板自体を現像浴中に浸漬する、(b)露光後の基板にスプレー等により噴霧する等して、更に必要に応じて、溶解性を高める目的で、回転ブラシや湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射しながら行うことができる。
上記アルカリ水溶液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好適に使用することができる。上記アルカリ性物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類、燐酸三ナトリウム等が挙げられる。
アルカリ水溶液中のアルカリ性物質の濃度としては、０．０１〜３０質量％が好ましく、更にｐＨとしては、８〜１４が好ましい。
上記水混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。この有機溶剤の添加量としては、０．１〜３０質量％が好ましい。
また、アルカリ水溶液には、公知の種々の界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の濃度としては、０．０１〜１０質量％が好ましい。現像時の温度としては、通常、室温付近〜４０℃が好ましい。更に、現像処理した後に、水洗処理する工程を入れることもできる。
本発明の感光性転写材料を用いて配向制御用突起やスペーサーを形成する場合、露光、現像後に、ベークと呼ばれる熱処理を行うことにより、構造体をより硬化させることができる。また、ベークを行うことにより、構造体の収縮、適度な流動によって構造体の形状を適度になだらかにすることができる。
上記ベークの温度は、好ましくは２００〜３００℃、より好ましくは２２０℃〜２６０℃、最も好ましくは２３０℃〜２５０℃である。上記ベークの時間は、好ましくは１０〜１２０分、更に好ましくは２０〜７０分、最も好ましくは３０〜６０分である。このように温度及び時間を設定して上記ベークを行うことで、感光性樹脂成分中の架橋反応が進行しやすく、カラーフィルターの変色を防止し生産性を高めることができる。
《液晶配向制御用突起》
液晶配向制御用突起などのパターンは、前述のように本発明に用いる感光性転写材料の感光性樹脂層を基板上に転写し（転写工程）、転写後、感光性樹脂層に光をパターン状に照射し（パターニング工程）、現像処理により不要部（露光部）を除去することによって形成することができる。
上述のようにして形成される液晶配向制御用突起は、液晶分子の配向の向きを規制し得る形状及び形態を有し、上述のように液晶表示装置の導電層の内側（導電層と液晶層の間）に形成されていればよく、その形状、形態には特に制限はない。液晶配向制御用突起の形状としては、公知の形状の中から適宜選択することができ、例えば、基板面（又はカラーフィルタ面）を底面とする角錐型（三角錐、四角錐等）、半球型のものや、基板面（又はカラーフィルタ面）を底面とする円錐型、台形型、蒲鉾型のもの、又は、帯状に基板上（又はカラーフィルタ上）に形成されその長さ方向と直交する断面形状が三角形である三角柱状のもの、更に、その長さ方向と直交する断面形状が半円形、四角形、台形、蒲鉾形等の柱状体のものなどを用いることができる。液晶配向制御用突起は、例えば、特許第２９４７３５０号公報等に記載された形状等に形成することができる。
また、配向制御用突起の配置態様としては、公知の態様の中から適宜選択することができ、例えば、特許第２９４７３５０号公報等に記載の態様で形成できる。例えば、帯状に基板上に形成されその長さ方向と直交する断面形状が台形である複数の柱状体が等ピッチで１方向に平行に延びたパターンで配置され、且つ２枚の基板の各導電層と基板との両方の間に設けられてなる態様であってもよい（特許第２９４７３５０号公報の図１４参照）。本発明の液晶配向制御用突起が両方の基板の導電層基板との間に設けられる場合には、必ずしも同形状の構造体を形成する必要はなく、異形状の構造体を組合せて形成してもよい。また、基板（又はカラーフィルタ）上に帯状に形成される液晶配向制御用突起は、直線状の形態に限られず、所定の角度をなして屈曲状の形態で設けられてもよい（特許第２９４７３５０号公報の図４２及び図５５等参照）。
その他、上記液晶配向制御用突起の大きさ、配置間隔、配置形状等の詳細については、特許第２９４７３５０号公報等の記載を参照できる。
上記構造体の形状の中でも、十分な視野角が得られる点で、基板と直交する断面が台形及び蒲鉾形のいずれかの形状を有する構造体が好ましく、上記した基板面（又はカラーフィルタ面）を底面とする台形型、蒲鉾型や、帯状に基板（カラーフィルタ）上に形成され、その長さ方向と直交する断面形状が半円形、台形、蒲鉾形の柱状体など
が好ましい。
また本発明に用いる感光性転写材料を用いてスペーサーを形成することもできる。この場合、例えば、カラーフィルター形成時に、カラーフィルターの画素材料等が２種以上重なった部分を形成しておき、透明電極などを形成後、この上に、本発明に用いる感光性転写材料の感光性樹脂層を転写することによってスペーサーを形成することができる。
上記スペーサーの厚みは、一般にはセルギャップと等しくする必要があり、配向制御用突起の厚みより厚いが、前述の構成では、カラーフィルター材の厚みとスペーサーの厚みの合計の厚みでセルギャップを規定できるので、上記感光性樹脂層を厚く形成する必要は無い。このため、配向制御用突起とスペーサーとを同時に形成することができる。
以上の通り、本発明のパターン形成方法により液晶配向制御用突起を、導電層の内側（導電層と液晶層との間）に液晶層側に凸部となるように設けることによって、構造体の凸部面に沿って液晶分子の配向の向きが傾斜するように規制されるので、液晶面を観察する位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができる。
本発明のパターン形成方法により得た液晶配向制御用突起が用いられる液晶表示装置は、上述のように、一般には、カラーフィルタと該カラーフィルタ上に導電層（電極）とを備えるカラーフィルタ側基板と、これと対向配置される導電層（電極）付きの対向基板との２枚の基板（前記カラーフィルタ側基板及び対向基板のいずれに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子が備えられていてもよい。）によって液晶層が挟持されてなる。本発明のパターン形成方法により得た液晶配向制御用突起は、上述の感光性樹脂組成物を用いて形成され、前記２枚の基板にそれぞれ設けられた導電層の少なくとも一方の内側（特に基板と導電層の間）に、液晶層側に凸部となる透明な構造体として設けられる。本発明の液晶配向制御用突起を設けることで、液晶分子の配向の向きを規制し、液晶面に対する観察位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができる。
また、上述のように液晶配向制御用突起は、カラーフィルタの無い液晶表示装置（白黒表示のための装置、あるいは、バックライトの色を短時間に変更しながら表示するフィールドシーケンシャル型の装置）に適用することもできる。
《液晶表示装置》
上述のように本発明のパターン形成方法により得たパターニング基板を用いて形成された本発明の液晶表示装置は、互いに対向し合う側の表面に導電層が設けられた２枚の基板間に液晶層が挟持され、既述の液晶配向制御用突起を基板上の導電層の外側（導電層と液晶層との間）から液晶層側に凸部となるように備えて構成することができる。また、導電層上にはこれらを覆って配向膜を形成することもできる。
本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という場合がある。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが上記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。
上記導電層としては、例えば、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられ、中でも透明性のものが好ましく、ＩＴＯ膜が特に好ましい。上記駆動側基板、カラーフィルタ側基板、対向基板は、その基材として、例えば、ソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いはプラスチックフィルム等を用いて構成される。
ＴＦＴ等の駆動素子と画素電極とが配列形成された駆動側基板としては、例えば、互いに垂直に交わってマトリックス状に配設されたデータバスライン及びゲートバスラインと接続されたＴＦＴ、及びＴＦＴを介してデータバスラインと接続する導電層が設けられたものなどが挙げられる。
上記態様のいずれにおいても、液晶表示素子を構成する基板の両方に導電層が形成され、該両導電層間に電圧が印加されその間に挟持される液晶材料がその電圧に応じて配向状態を変化させ表示を行う。従って、既述の構造体は、いずれの導電層の内側（導電層と基板の間）にも所望の形状、形態で形成することができる。
上記構成態様（１）について上述の図１を用いて説明する。上記構成態様（１）の一例としては、上述の図１（ｂ）で示される液晶表示装置が挙げられる。図１（ｂ）を例に説明すると、一方の基板３０は、カラーフィルタ側基板である。ガラス基板２０の液晶層１６に対向する側の表面には、カラーフィルター２４、共通電極をなす導電層（ＩＴＯ膜）１８、及び、等ピッチで形成された断面台形の液晶配向制御用突起２２が形成されている。更に、導電層１８及び液晶配向制御用突起２２と液晶層１６との間には、図示を省略する配向膜を設けることができる。他方の基板３２は、ＴＦＴを備える駆動側基板である。基板３２の液晶層１６に対向する側の表面には、ＴＦＴ（図示せず）、該ＴＦＴのドレイン電極と接合する導電層（ＩＴＯ膜）１４、及び、等ピッチで形成された断面台形の液晶配向制御用突起２２（図１では１個のみ示す）が形成されている。上記基板３２には、図示を省略するゲート電極をなすゲートバスラインが複数本形成されており、該ゲートバスラインに直交して図示を省略する複数本のデータバスラインが平行に形成され、これらゲートバスラインとデータバスラインの交点に対応して複数個のＴＦＴが配列されている。更に、ＴＦＴ、導電層１４及び液晶配向制御用突起２２と液晶層１６との間には、図示を省略する配向膜を設けることができる。上記基板３０及び基板３２の間には、液晶材料を封入してなる液晶層１６が挟持され、液晶配向制御用突起２２は導電層１８又は１４の外側から液晶層１６側に凸部に突起し、該凸部面に沿って液晶分子１５が配向している。
以上の通り、本発明の液晶表示装置は、基板の導電層の内側（導電層と液晶層の間）に、着色のない透明な液晶配向制御用突起が設けられるので、液晶表示面に対する観察位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができると共に、３原色（Ｂ(青色)、Ｇ(緑色)、Ｒ(赤色)）の色純度をも損なわれず、色相ズレのない鮮明なフルカラー画像を表示し得る液晶表示装置を提供することができる。
なお、上述の図１（ａ）に示す液晶表示装置は、カラーフィルタを備えていない以外には、上記図１（ｂ）と同様である。即ち、基板３０及び基板３２の間には、液晶材料を封入してなる液晶層１６が挟持され、液晶配向制御用突起２２は導電層１４の外側から液晶層１６側に凸部に突起し、該凸部面に沿って液晶分子１５が配向している。この構成態様によっても、基板の導電層と液晶層との間に、着色のない透明な液晶配向制御用突起が設けられるので、液晶表示面に対する観察位置（視野角）に依存しない広視野角を確保することができる。
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「％」は、それ
ぞれ「質量部」及び「質量％」を示す。以下において、本発明に係る構造体を透明構造体ということがある。
［実施例１］
−転写材料（１）の作製−
仮支持体として、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を準備し、該仮支持体上に、下記組成からなる熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１を塗布、乾燥して、乾燥層厚１４．６μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
＜熱可塑性樹脂層用塗布液H1の組成＞
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／
メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）のメチルエチルケトン、１−メトキシプロピル−２−アセテート溶液（三井東圧化学（株）製ＦＭ−６０１） ５５．５部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）のメタノール、メチルエチルケトン、１−メトキシプロピル−２−アセテート溶液（日本触媒（株）製アロセット７０５５）
６４．８部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱水縮合した化合物の１−メトキシプロピル−２−アセテート溶液（新中村化学(株)製
ＢＰＥ−５００） １８．１部
・C6F13CH2CH2OCOCH=CH2、H(O(CH3)CHCH2)7OCOCH=CH2、
H(OCHCH2)7OCOCH=CH2の共重合体（共重合組成比（質量比）＝４０／５５／５、重量平均分子量＝３万）のメチルイソブチルケトン溶液（大日本インキ（株）製メガファックＦ−７８０Ｆ） １．０８部
・メチルエチルケトン ６０．５部
続いて、上記熱可塑性樹脂層上に、下記組成よりなる中間層用塗布液Ｂ１を塗布、乾燥して、乾燥層厚１．６μｍの中間層を形成した。
＜中間層塗布液Ｂ１の組成＞
・ポリビニルアルコール（鹸化度８８％、重合度５００）（クラレ（株）製ＰＶＡ−２０５
）３．２２部
・ポリビニルピロリドン（ＩＳＰ製：ＰＶＰ Ｋ−３０） １．４９部
・メタノール ４２．９部
・蒸留水 ５２．４部
続いて、下記組成よりなる感光性樹脂層用塗布液Ｔ１を調製し、上記中間層上に更に塗布し、乾燥して乾燥層厚１．８μｍの感光性樹脂層を積層した。
＜感光性樹脂層用塗布液Ｔ１の組成＞
・ポジ型レジスト液（富士フイルムアーチ（株）製ＦＨ−２４１３Ｆ）
５３．３部
・メチルエチルケトン ４６．７部
・メガファックＦ−７８０Ｆ（大日本インキ（株）製）０．０４部
更に、上記感光性樹脂層上に、表面保護フィルムとしてＯＳＭ−Ｎフィルム（Tredegar Film Products製、２３μｍ）を圧着貼付して設け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、表面保護フィルムがこの順に積層された転写材料（１）を作製した。
−液晶パネルの作製−
まず、所定サイズのガラス基板に、以下に示すブラックマトリクス用樹脂組成物Ｋ１を用いて所定サイズ、形状からなるストライプ状のブラックマトリックスと額縁状の遮光部を形成した。その後、特開２０００−９８５９９号公報などに記載のカラーフィルタの製造方法により、所定の位置にＲ１(赤色)、Ｇ１(緑色)、Ｂ１(青色)からなる着色膜を形成した。Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１の組成比と顔料の塗布量を以下に示す。更にこの上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
＜ブラックマトリクス用樹脂組成物Ｋ１の組成＞
・黒顔料分散物１（カーボンブラックを１３．１重量％、分散剤を０．６５重量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）を６．７２重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテートを残部） ２５部
・１−メトキシプロピル−２−アセテート ８．０部
・メチルエチルケトン ５３部
・バインダー１（共重合組成がモル比でベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２のランダム共重合物分子量３．８万を２７重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテート ７３重量％） ９．１部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００２部
・ＤＰＨＡ液 （ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを主成分とする日本化薬（株）商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有）を７６
重量％ １−メトキシプロピル−２−アセテート を２４重量％） ４．２部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン ０．１６部
・メガファックＦ−７８０Ｆ（大日本インキ（株）製） ０．０４４部
＜赤色着色膜用樹脂組成物Ｒ１の組成と顔料塗布量＞
・Ｒ顔料分散物１（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．２５４を８重量％、分散剤を０．８重量％、ポリマー（ランダム共重合の比率 ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８ モル比）を８重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテートを８３重量％） ４４部
・Ｒ顔料分散物２：商品名ＦＦ４４９Ｒ 富士フイルムアーチ社製（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７を１８重量％、ポリマー（ランダム共重合の比率 ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８ モル比）を１２重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテートを７０重量％） ４．９部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７．６部
・メチルエチルケトン ３７部
・バインダー２（共重合組成がモル比でベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝３８／２５／３７のランダム共重合物分子量３．８万を２７重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテート ７３重量％） ０．８部
・ＤＰＨＡ液 （ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを主成分とする日本化薬(株）商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有）を76重
量％ １−メトキシプロピル−２−アセテート を２４重量％） ４．４部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール ０．１４部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン ０．０６部
・フェノチアジン ０．０１０部
・燐酸エステル系特殊活性剤（楠本化成（株）商品名ＥＤ−１５２） ０．５２部
・メガファックＦ−７８０Ｆ（大日本インキ（株）製） ０．０３部
○顔料の塗布量 ＰＲ−２５４ ０．８８ｇ／ｍ２、ＰＲ−１７７ ０．２２ｇ／ｍ2
＜緑色着色膜用樹脂組成物Ｇ１の組成＞
・Ｇ顔料分散物１ 商品名ＧＴ−２ 富士フィルムアーチ社製（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｇ．３６を１８重量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）を１２重量％、シクロヘキサノンを３５重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテートを残部） ２５．４部
・Ｙ顔料分散物１：商品名ＣＦエローＥＸ２６８５ 御国色素社製（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｇ．１５０を１５重量％、分散剤を６重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテートを７９重量％） １３．４部
・１−メトキシプロピル−２−アセテート ２３．４部
・メチルエチルケトン ２９．７部
・バインダー１（共重合組成がモル比でベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２のランダム共重合物分子量３．８万を２７重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテート ７３重量％） ３．２部
・ＤＰＨＡ液 （ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを主成分とする日本化薬（株）商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有）を７６
重量％ １−メトキシプロピル−２−アセテート を２４重量％） ４．６部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール ０．１６部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン ０．０６部
・フェノチアジン ０．００５部
・メガファックＦ−７８０Ｆ（大日本インキ（株）製） ０．０７部
○顔料の塗布量 ＰＧ−３６ １．１２ｇ／ｍ2、ＰＹ−１５０ ０．４８ｇ／ｍ2
＜青色着色膜用樹脂組成物Ｂ１の組成＞
・Ｂ顔料分散物１商品名ＣＦブルーＥＸ３３５７（顔料Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．１５：６を１５重量％、分散剤１を５重量％、分散剤２を１重量％、残部を１−メトキシプロピル−２−アセテート） ７．６部
・Ｂ顔料分散物２商品名ＣＦブルーＥＸ３３８３（顔料Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．１５：６を１１重量％、顔料Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．２３を１重量％、分散剤１を５重量％、分散剤２を１重量％ 残部を１−メトキシプロピル−２−アセテート） １３．８部
・１−メトキシプロピル−２−アセテート ２４．５部
・メチルエチルケトン ３１．５部
・バインダー3（共重合組成がモル比でベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝３６／２２／４２のランダム共重合物分子量３．８万を２７重量％、１−メトキシプロピル−２−アセテート ７３重量％） １８．４部
・ＤＰＨＡ液 （ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを主成分とする日本化薬（株）商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有）を７６
重量％ １−メトキシプロピル−２−アセテートを２４重量％） ４．０部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール ０．１６部
・フェノチアジン ０．０２部
・メガファックＦ−７８０Ｆ（大日本インキ（株）製） ０．０５部
○顔料の塗布量 ＰＢ−１５：６ ０．６３ｇ／ｍ2、ＰＶ−２３ ０．０７ｇ／ｍ2
続いて、上記より得た転写材料（１）から表面保護フィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と上記カラーフィルター側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面とを重ね合わせ、ラミネーター（商品名：ＶＰ−ＩＩ、大成ラミネータ（株）製）を用いて、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃、ロール温度（Ｔ２）１２０℃、基板搬送速度（Ｖ）２．２ｍ／分、ラミネート圧０．８ｋｇ／ｃｍ2、の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルター側基板上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、所定のフォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティ露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ2でプロキシミティ露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で６０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上には、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる構造体が形成された。
次いで、該構造体が形成されたカラーフィルタ側基板を２３０℃下で３０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に透明リブ（ａ）を形成することができた。
得られた透明リブ付き基板の1ｃｍ2あたりの画素の欠けの割合を、変形、欠け、抜け等が認められる画素の数と全画素の数との比により求めた結果を表１に示す。
得られた基板を用いて公知の方法（特開平１１−２４８９２１号公報）により液晶パネルを作製し、表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１３０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例３〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１４０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例４〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１６０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例５〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１８０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例６〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１１０℃、ロール温度（Ｔ２）１２０℃を１３０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例７〕
実施例６において、ロール温度（Ｔ２）１３０℃を１４０℃に変更した以外は実施例６と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例８〕
実施例６において、ロール温度（Ｔ２）１３０℃を１５０℃に変更した以外は実施例６と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例９〕
実施例６において、ロール温度（Ｔ２）１３０℃を１６０℃に変更した以外は実施例６と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１０〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１１０℃、基板搬送速度（Ｖ）２．２ｍ／分を２．０ｍ／分に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１１〕
実施例１０において、基板搬送速度（Ｖ）２．０ｍ／分を１．８ｍ／分に変更した以外は実施例１０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１２〕
実施例１０において、基板搬送速度（Ｖ）２．０ｍ／分を１．２ｍ／分に変更した以外は実施例１０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１３〕
実施例１０において、基板搬送速度（Ｖ）２．０ｍ／分を１．０ｍ／分に変更した以外は実施例１０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１４〕
実施例１において、ロール温度（Ｔ２）１２０℃を１３０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１５〕
実施例１４において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１３０℃に変更した以外は実施例１４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１６〕
実施例１４において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１６０℃に変更した以外は実施例１４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１７〕
実施例１４において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１８０℃に変更した以外は実施例１４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１８〕
実施例１４において、ロール温度（Ｔ２）１３０℃を１５０℃に変更した以外は実施例１４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例１９〕
実施例１４において、ロール温度（Ｔ２）１３０℃を１６０℃に変更した以外は実施例１４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２０〕
実施例１５において、基板搬送速度（Ｖ）２．２ｍ／分を２．０ｍ／分に変更した以外は実施例１５と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２１〕
実施例２０において、基板搬送速度（Ｖ）２．２ｍ／分を１．８ｍ／分に変更した以外は実施例２０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２２〕
実施例２０において、基板搬送速度（Ｖ）２．２ｍ／分を１．２ｍ／分に変更した以外は実施例２０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２３〕
実施例２０において、基板搬送速度（Ｖ）２．２ｍ／分を１．０ｍ／分に変更した以外は実施例２０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２４〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１１０℃に変更し、さらに感光性樹脂層の表面とカラーフィルター側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面と貼り合わせ、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離した後、露光する前に、加熱温度（Ｔ３）１２０℃で加熱時間（ｔ）３０秒でホットプレート（星和理工（株）製、
Ｒ２００Ｐ−４５Ｄ５）を用いて加熱する工程を加えた以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２５〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１３０℃、加熱時間３０秒を２０秒に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２６〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１３０℃に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２７〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１３０℃、加熱時間３０秒を５０秒に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２８〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１３０℃、加熱時間３０秒を８０秒に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例２９〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１３０℃、加熱時間３０秒を１２０秒に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例３０〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１４０℃に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例３１〕
実施例２４において、加熱温度（Ｔ３）１２０℃を１８０℃に変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例３２〕
実施例２４において、感光性樹脂層の表面とカラーフィルター側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面と貼り合わせ、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離した後、露光する前に、加熱する工程を加えたものを感光性樹脂層の表面とカラーフィルター側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面と貼り合わせ、転写材料の仮支持体を剥離する前に加熱温度（Ｔ３）１２０℃で加熱時間（ｔ）３０秒で加熱する工程を加えることに変更した以外は実施例２４と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔実施例３３〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１１０℃に変更し、さらに感光性樹脂層の表面とカラーフィルター側基板のＩＴＯ膜が設けられた側の表面と貼り合わせ、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離した後、露光する前に、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で６０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去する工程を加えた以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ十分な性能を示した。
〔比較例１〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を１１０℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ、満足な性能は示さなかった。
〔比較例２〕
実施例１において、基板加熱温度（Ｔ１）１２０℃を２００℃に変更した以外は実施例１と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ、満足な性能は示さなかった。
〔比較例３〕
実施例６において、ロール温度（Ｔ２）１３０℃を１８０℃に変更した以外は実施例６と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ、満足な性能は示さなかった。
〔比較例４〕
実施例１０において、基板搬送速度（Ｖ）２．０ｍ／分を０．８ｍ／分に変更した以外は実施例１０と同様にして透明リブ付き基板を作成し、画素の欠けの割合を求めた。さらに、液晶パネルを作製し、得られた液晶パネルの表示性能を評価したところ、満足な性能を示したが、生産性が悪化した。
Figure 2006064765
表１から、実施例１から３３においては、画素の欠けが少なく、パネル性能も問題なく、さらに生産性も問題ないのに対し、比較例１から４においては画素の欠けが顕著であったり、パネル性能が不十分であったり、生産性に問題があった。
本発明によれば、液晶分子の配向を規制する液晶配向制御用突起の形成に好適に用いられ、大型の基板に液晶配向制御用突起を形成した場合であってもその膜厚が均一であり、且つ、パターニング工程後の画像の欠けが防止された感光性転写材料のパターン形成方法、これを用いて形成されたパターニング基板、及び、これを用いた液晶表示装置を提供することができる。
本発明の液晶配向制御用突起を用いた液晶表示装置を示す概略図である。
符号の説明
１０ 液晶表示装置
１２，２０ ガラス基板
１４，１８ 導電層
１５ 液晶分子
１６ 液晶層
２２ 液晶配向制御用突起
２４ カラーフィルター
３０，３２ 基板

Claims (14)

  1. 仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
  2. 基板加熱工程が、１２０℃から１８０℃の温度範囲で、２０秒から１２０秒の時間範囲で、前記基板を加熱する工程であることを特徴とする請求項１記載のパターン形成方法。
  3. 感光性樹脂層が、ナフトキノンジアジド誘導体を含むことを特徴とする請求項１又は２記載のパターン形成方法。
  4. 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時に基板がラミネーターのロールに接触する直前の位置で測定したときの基板温度が１２０℃以上１８０℃以下であることを特徴とするパターン形成方法。
  5. 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、そのラミネーターのロール温度が１３０℃以上１６０℃以下であることを特徴とするパターン形成方法。
  6. 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時にラミネーターを通過するときの基板の搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であることを特徴とするパターン形成方法。
  7. 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時に基板がラミネーターのロールに接触する直前の位置で測定したときの基板温度が１２０℃以上１８０℃以下で、さらにラミネーターのロール温度が１３０℃以上１６０℃以下であることを特徴とするパターン形成方法。
  8. 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程がラミネーターを用いた工程であり、ラミネート時に基板がラミネーターのロールに接触する直前の位置で測定したときの基板温度が１２０℃以上１８０℃以下で、さらにラミネーターのロール温度が１３０℃以上１６０℃以下で、ラミネート時にラミネーターを通過するときの基板の搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であることを特徴とするパターン形成方法。
  9. 仮支持体上と感光性樹脂層の間に更に熱可塑性樹脂層を有することを特徴とする請求項１から８の何れか１項記載のパターン形成方法。
  10. 更に、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層の間に中間層を有することを特徴とする請求項９記載のパターン形成方法。
  11. 仮支持体上に少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する転写工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程を含むことを特徴とする請求項１０記載のパターン形成方法。
  12. 感光性樹脂層が、さらにフェノール樹脂を含むことを特徴とする請求項１から１１の何れか１項記載のパターン形成方法。
  13. 請求項１から１２の何れか１項記載のパターン形成方法により、パターンが形成されたことを特徴とするパターニング基板。
  14. 請求項１３記載のパターニング基板を含むことを特徴とする液晶表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008033229A (ja) * 2006-07-07 2008-02-14 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、離画壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
JP2015146175A (ja) * 2014-01-31 2015-08-13 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 不正機器検出方法、不正機器検出サーバ、不正機器検出システム

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