JPS59195645A - 露光マスク洗浄装置 - Google Patents

露光マスク洗浄装置

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JPS59195645A
JPS59195645A JP58070494A JP7049483A JPS59195645A JP S59195645 A JPS59195645 A JP S59195645A JP 58070494 A JP58070494 A JP 58070494A JP 7049483 A JP7049483 A JP 7049483A JP S59195645 A JPS59195645 A JP S59195645A
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JP
Japan
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mask
exposure mask
dust
washing
cleaning
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JP58070494A
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JPH045979B2 (ja
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Hiromi Yamashita
裕己 山下
Toshio Wada
和田　俊男
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NEC Corp
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NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH045979B2 publication Critical patent/JPH045979B2/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体素子の製造に使用する露光マスクの洗浄
装置に係シ、特に洗浄後の露光マスク上に残留する塵埃
を自動的に検出し、塵埃がある場合はこの露光マスクを
再洗浄する装置に関する。
最近の超高集積度半導体デバイスの製造工程の如く、高
品質、無欠陥が要求される無光マスクの洗浄後の品質、
管理は、半導体基板上から得られる半導体素子の良品率
を左右する重要な要素であシ、特に洗浄後もなお無光マ
スク上に残留する塵埃の管理は重要な要素である。
従来の無光マスク洗浄装置における塵埃による欠陥、の
管理は、ある場合は洗浄後の無光マスクを直接顕微鏡に
より全面を走査観察することによりなされ、また、ある
場合は該路光マスクを無光装置に装着し、ホトレジスト
を被援した半導体基板上に露光を施こすことによシ得ら
れるホトレジスト会パターンを顕微鏡によシ全面を走査
観察することによシなされている。この観察に要する時
間。
労力は計シしれないものであシ、これに伴い塵埃を除去
して良品露光マスクを得る為に要する時間。
労力もまた計シしれない〇 本発明は上述の従来の洗浄装置の持つ問題点を除去し、
残留塵埃のない露光マスクを得ることによりて半導体素
子の良品率向上を図ることを目的とする。
本発明は、洗浄後の無光マスク上に残留するチリ、ホコ
リ等の塵埃を、例えばレーザー光線のスキャンニング等
によシその散乱光を検知することによって検出し、これ
によって得られた塵埃の情報に応じ、良品無光マスクを
得る為に繰返し洗浄し得ることを可能とする自動塵埃検
出判断機能を具備し、さらにこれにより得られた良品露
光マスクを浮遊塵等から保護する為の無光マスク保護ケ
ース内に自動的に収納し得る機能を具備する越光マスク
洗浄装置である。
以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図により詳細
に説明する。第１図は無光マスク洗浄部。
自動塵埃検出部、無光マスク保護ケース収納部を含む無
光マスク洗浄装置全体の概略図を示し、第２図はその自
動塵埃検出部の説明図である。図中１は無光マスク洗浄
装置、２は露光マスク洗浄部。
３は自動塵埃検出部、４は無光マスク保護ケース収納部
、５は塵埃検出データ出力部、６は無光マスク、７はレ
ーザー・ヘッド（含スキャナ）、８はホト・ディテクタ
、９は残留塵埃を各々示すものとする。
本露光マスク洗浄装置１における露光マスクの搬送は次
の順序で行なわれる。まず、洗浄しようとする露光マス
クが収納された露光マスク保護ケースを、露光マスク保
護ケース収納部４に装着する。次に露光マスクは自動的
に露光マスク保護ケースから搬送装置によシ自動塵埃検
出部３ｆ：経由して露光マスク洗浄部２へ搬送され、各
種洗浄を施された後再び自動塵埃検出部３へ戻される。
この際この露光マスク６は自動塵埃検出部３に設けられ
た２組のレーザー・ヘッド（含スキャナ）７とホト・デ
ィテクタ８とから構成されるレーザースキャン式塵埃検
出機構によシ表裏両面を走査され、散乱光を検知してこ
の露光マスク上の残留塵埃９の大きさ、量が定量的に検
出される。この大きさ、量はＣＲＴ表示されオペレータ
が確認し得る。この結果は塵埃検出データ出力部５よシ
出力されるとともにあらかじめ設定されている良品と判
断される基準と比較され、所定の量又は大きさ以上の塵
埃の除去が確認されれば合格とナシ不合格となった場合
には、再度洗浄部に送られて洗浄を施され、再び残留塵
埃９の検査が行なわれ、再び不合格の場合は同様に洗浄
及び塵埃検査を繰返し、設定された制限回数内で合格と
なれば無光マスクは自動的に露光マスク保護クース内に
収納され、本装置における洗浄を完了する。
以上の様に洗浄後の無光マスク上の残留塵埃は、レーザ
ースキャン式塵埃検出機蝶によシ、表裏両面においてそ
の絶対量、大きさが管理され、本装置より供給される無
光マスクは良品であることが確認されたものとなり、人
手による検査時に付着していた塵埃がなくなり、この露
光マスクを使用することによ勺生産される半導体素子の
良品率を飛躍的に向上せしめることが可能となる。また
縮小投影式露光装置（ステッパー）への適用に際しては
、露光マスク保護ケースに良品を収納したまま直接取扱
うことができる為、洗浄での良品確認からステッパーへ
の装着までの間における一切の塵埃の付着の可能性を排
除する仁とが可能となＱ１半導体基板上に転写される繰
返しパターン中の共通欠陥を容易に排除でき、ステッパ
ーの利用効率も飛躍的に向上せしめることが可能となる
。従って、本発明の実用上の効果は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例の概略図であシ露光マスク洗
浄装置全体を示し、第２図はその一部である自動塵埃検
出部の説明図である。 図中、１・・・・・・露光マスク洗浄装置、２・・・・
・・露光マスク洗浄部％３・・・・・・自動塵埃検出部
、４・・・川霧光マスク保護ケース収納部、５・・団・
塵埃検出データ出力部、６・旧・・無光マスク、７・・
・・・・レーサー・ヘッド（含スキャナ）、８・・・・
・・ホト・ディテクタ、９・・・・・・残留塵埃を各々
示すものとする。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 洗浄すべき無光マスクを洗浄部へ搬入し又洗浄後洗浄部
    から搬出する手段と、該搬出された無光マスクに残留す
    る塵埃を検知して洗浄結果の良否を判断する手段と、否
    の場合路光マスクを再度洗浄部へ搬送する手段と、良の
    場合露光マスクを露光マスク保護ケース収納部へ搬送す
    る手段とを具備することを特徴とする露光マスク洗浄装
    置。
JP58070494A 1983-04-21 1983-04-21 露光マスク洗浄装置 Granted JPS59195645A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58070494A JPS59195645A (ja) 1983-04-21 1983-04-21 露光マスク洗浄装置
US06/602,519 US4569695A (en) 1983-04-21 1984-04-20 Method of cleaning a photo-mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58070494A JPS59195645A (ja) 1983-04-21 1983-04-21 露光マスク洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59195645A true JPS59195645A (ja) 1984-11-06
JPH045979B2 JPH045979B2 (ja) 1992-02-04

Family

ID=13433126

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JP58070494A Granted JPS59195645A (ja) 1983-04-21 1983-04-21 露光マスク洗浄装置

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