JP2009182222A - 基板洗浄装置、基板洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理容器110の一の側面には、搬送機構101の搬送アーム120に保持されたウェハWを搬入出させる搬入出口111が形成されている。処理容器110内には、搬送アーム120に保持されたウェハWの裏面の付着物を静電気によって捕集するために帯電可能な帯電部材130と、当該ウェハWの裏面に気体を噴射できる気体噴射ノズル140が設けられている。処理容器110の底面であって、帯電部材130の周囲には、処理容器110内の雰囲気を排気する排気口150が形成されている。処理容器110内であって、搬入出口111側の内側面には、ウェハWの裏面の付着物を検査する検査機構160が設けられている。
【選択図】図4
Description
101 搬送機構
103 洗浄装置
110 処理容器
111 搬入出口
120 搬送アーム
130 帯電部材
131 温度調節機構
132 帯電機構
140 気体噴射ノズル
142 気体供給源
143 イオナイザー
144 圧力調節機構
145 温度調節機構
150 排気口
151 排気経路
152 ポンプ
160 検査機構
200 制御部
210 搬送機構制御部
211 高さ制御部
212 搬送速度制御部
220 帯電部材制御部
221 温度制御部
222 極性設定部
223 帯電量制御部
230 気体噴射ノズル制御部
240 排気機構制御部
300 帯電部材
310 捕集用基板
320 貫通孔
S 付着物
W ウェハ
Claims (15)
- 基板の露光前に当該基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置であって、
基板を搬入出させる搬入出口を備えた処理容器と、
基板の外周部を保持し、前記処理容器に基板を搬入出する搬送機構と、
前記処理容器内で前記搬送機構に保持された基板の裏面に気体を噴射する気体噴射ノズルと、
前記処理容器内で前記搬送機構に保持された基板の裏面の付着物を静電気によって捕集するために帯電可能な帯電部材と、
前記処理容器内の雰囲気を排気する排気機構と、を有することを特徴とする、基板洗浄装置。 - 前記気体噴射ノズルから噴射される気体は、前記帯電部材の極性と異極性のイオン分子を含むことを特徴とする、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記気体噴射ノズルには、当該気体噴射ノズルから噴射される気体の噴射圧力を調節する圧力調節機構が設けられていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の基板洗浄装置。
- 前記気体噴射ノズルには、当該気体噴射ノズルから噴射される気体の温度を調節する温度調節機構が設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか記載の基板洗浄装置。
- 前記帯電部材には、当該帯電部材の温度を調節する温度調節機構が設けられていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記帯電部材には、当該帯電部材を帯電させる帯電機構が設けられ、
前記帯電機構には、前記帯電部材の帯電量を制御する帯電量制御部が設けられていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 前記帯電部材には、当該帯電部材を帯電させる帯電機構が設けられ、
前記帯電機構には、前記帯電部材の極性を設定する極性設定部が設けられていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 前記帯電部材は分割され、それぞれの帯電部材は異極性に帯電可能であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 基板の露光前に当該基板の裏面を洗浄する基板の洗浄方法であって、
基板の外周部を保持して当該基板を搬送する搬送機構によって、基板を処理容器内に搬入する搬入工程と、
前記処理容器内で前記搬送機構に保持された基板の裏面に、気体噴射ノズルによって気体を噴射する気体噴射工程と、
前記処理容器内で前記搬送機構に保持された基板の裏面の付着物を、帯電した状態の帯電部材の静電気によって捕集する付着物捕集工程と、
前記気体噴射工程及び前記付着物捕集工程が行われている間、前記処理容器内の雰囲気を排気機構によって排気する排気工程と、
前記搬送機構によって基板を前記処理容器外に搬出する搬出工程と、を有することを特徴とする、基板洗浄方法。 - 前記気体噴射工程において前記気体噴射ノズルから噴射される気体は、前記帯電部材の極性と異極性のイオン分子を含むことを特徴とする、請求項9に記載の基板処理方法。
- 前記搬出工程において、基板の裏面の付着物を検査することを特徴とする、請求項9又は10に記載の基板洗浄方法。
- 前記搬出工程後、前記処理容器内の雰囲気を排気することを特徴とする、請求項9〜11のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記帯電部材上には、前記搬送機構に保持された基板の裏面の付着物を捕集する捕集用基板が設けられ、
前記搬出工程後、前記捕集用基板を前記処理容器外に搬出することを特徴とする、請求項9〜12のいずれかに記載の基板洗浄方法。 - 請求項9〜13に記載の基板洗浄方法を基板洗浄装置によって実行させるために、当該基板洗浄装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項14に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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