JP2013098476A - 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理ステーションと、インターフェイスステーション5と、を備えた塗布現像処理システムにおいて、インターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前にウェハの裏面を洗浄する洗浄ユニット100と、洗浄後のウェハが露光可能な状態かどうかを検査する検査ユニット101と、洗浄ユニット100と検査ユニット101との間でウェハを搬送するアームを備えたウェハ搬送機構120を有している。洗浄ユニット100と検査ユニット101は、インターフェイスステーション5の正面側に、上下方向に多段に設けられ、ウェハ搬送機構120は、洗浄ユニット100及び検査ユニット101に隣接した領域に設けられている。
【選択図】図4
Description
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入出部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 カセット載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 下部反射防止膜形成ユニット
31 レジスト塗布ユニット
32 上部反射防止膜形成ユニット
33 現像処理ユニット
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
50〜56 受け渡しユニット
60〜62 受け渡しユニット
70 ウェハ搬送装置
85 ウェハ搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 洗浄ユニット
101 検査ユニット
110 受け渡しユニット
111 バッファユニット
112 温度調整ユニット
120 ウェハ搬送機構
121 第1の搬送アーム
122 第2の搬送アーム
123 第3の搬送アーム
125 ウェハ搬送制御部
130、131 ウェハ搬送装置
140 吸着パッド
141 スピンチャック
142 ブラシ
143 筐体
144 枠体
145 上部カップ
145a 開口部
150 シャフト
151 駆動機構
152 昇降ピン
153 支持体
153a 洗浄液ノズル
153b パージノズル
154 駆動機構
160 ドレン管
170 筐体
171 保持アーム
172 光源
173 カメラ
C カセット
D ウェハ搬送領域
F カップ
W ウェハ
Claims (23)
- 基板を処理する複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、前記処理ステーションと外部に設けられた露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスステーションと、を備えた基板処理システムであって、
前記インターフェイスステーションは、
基板を前記露光装置に搬入する前に少なくとも基板の裏面を洗浄する洗浄ユニットと、
少なくとも前記洗浄後の基板の裏面について、当該基板の露光が可能かどうかを前記露光装置に搬入する前に検査する検査ユニットと、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットとの間で基板を搬送するアームを備えた基板搬送機構と、を有し、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットは、前記インターフェイスステーションの正面側または背面側のいずれかの側に、上下方向に多段に設けられ、
前記基板搬送機構は、上下方向に多段に設けられた前記洗浄ユニット及び前記検査ユニットに隣接した領域に設けられていることを特徴とする、基板処理システム。 - 前記検査ユニットでの検査の結果、基板の状態が、前記洗浄ユニットでの再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該基板を前記洗浄ユニットに再度搬送するように、前記基板搬送機構を制御する基板搬送制御部を有することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送制御部は、前記洗浄ユニットに再度搬送されて洗浄された基板を再度検査ユニットに搬送するように前記基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項2に記載の基板処理システム。
- 前記インターフェイスステーションには、前記検査ユニットで検査後の基板を一時的に収容するバッファ収容部が設けられていることを特徴とする、請求項2または3のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに搬送する第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに搬送し、さらに前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第2の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項4に記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに受け渡す第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに受け渡す第2の搬送アームと、前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第3の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項4に記載の基板処理システム。
- 前記バッファ収容部は、前記検査後の基板の検査結果が判明するまで当該検査後の基板を収容することを特徴とする、請求項4〜6のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送機構の搬送アームを洗浄するアーム洗浄機構が、前記インターフェイスステーションにおける、前記洗浄ユニットと前記検査ユニットが配置されている側に設けられていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記アーム洗浄機構は、前記洗浄ユニットが兼用していることを特徴とする、請求項8に記載の基板処理システム。
- 前記検査ユニットで検査された後であって且つ前記露光装置に搬入前の基板を所定の温度に調整する温度調整機構を有することを特徴とする、請求項1〜9に記載の基板処理システム。
- 前記温度調整機構は、前記検査ユニット内に設けられていることを特徴とする、請求項10に記載の基板処理システム。
- 基板を処理する複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、前記処理ステーションと外部に設けられた露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスステーションと、を備えた基板処理システムに置ける基板の搬送方法であって、
前記インターフェイスステーションは、
基板を前記露光装置に搬入する前に少なくとも基板の裏面を洗浄する洗浄ユニットと、
少なくとも前記洗浄後の基板の裏面について、当該基板の露光が可能かどうかを前記露光装置に搬入する前に検査する検査ユニットと、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットとの間で基板を搬送するアームを備えた基板搬送機構と、を有し、
前記洗浄ユニットと前記検査ユニットは、前記インターフェイスステーションの正面側または背面側のいずれかの側に、上下方向に多段に設けられ、
前記基板搬送機構は、上下方向に多段に設けられた前記洗浄ユニット及び前記検査ユニットに隣接した領域に設けられ、
前記検査ユニットでの検査の結果、基板の状態が、前記洗浄ユニットでの再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該基板を前記洗浄ユニットに再度搬送することを特徴とする、基板搬送方法。 - 前記洗浄ユニットに再度搬送されて洗浄された基板を、再度検査ユニットに搬送して検査することを特徴とする、請求項12に記載の基板搬送方法。
- 前記インターフェイスステーションには、前記検査ユニットで検査後の基板を一時的に収容するバッファ収容部が設けられていることを特徴とする、請求項13に記載の基板搬送方法。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに受け渡す第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに搬送し、さらに前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第2の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項14に記載の基板搬送方法。
- 前記基板搬送機構は、前記インターフェイスステーションに搬入された基板を前記洗浄ユニットに受け渡す第1の搬送アームと、前記洗浄ユニットで洗浄した後の基板を前記検査ユニットに受け渡す第2の搬送アームと、前記検査ユニットで検査した後の基板を前記バッファ収容部に搬送する第3の搬送アームとを備えていることを特徴とする、請求項14に記載の基板搬送方法。
- 前記検査後の基板は、前記検査ユニットでの検査結果が判明するまで前記バッファ収容部に収容されることを特徴とする、請求項14〜16のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記基板搬送機構のアームを洗浄するアーム洗浄機構が、前記インターフェイスステーションにおける、前記洗浄ユニットと前記検査ユニットが配置されている側に設けられていることを特徴とする、請求項12〜17のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記アーム洗浄機構は、前記洗浄ユニットが兼用していることを特徴とする、請求項18に記載の基板搬送方法。
- 前記検査ユニットで検査された後であって且つ前記露光装置に搬入前の基板を所定の温度に調整することを特徴とする、請求項12〜19に記載の基板搬送方法。
- 前記基板の温度調整は、前記検査ユニット内で行われることを特徴とする、請求項20に記載の基板搬送方法。
- 請求項12〜21のいずれかに記載の基板搬送方法を基板処理システムによって実行させるために、当該基板処理システムを制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項22に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015090964A (ja) * | 2013-11-07 | 2015-05-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の欠陥分析装置、基板処理システム、基板の欠陥分析方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
KR101571623B1 (ko) * | 2014-03-06 | 2015-11-24 | 주식회사 아이엠티 | 웨이퍼 배면 세정 방법 및 장치 |
JP2016181732A (ja) * | 2016-07-22 | 2016-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
JP2021106279A (ja) * | 2017-06-16 | 2021-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP2022109271A (ja) * | 2017-06-16 | 2022-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003151878A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-23 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2008135583A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成装置および塗布膜形成方法 |
JP2010045207A (ja) * | 2008-08-13 | 2010-02-25 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体 |
JP2010147361A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2010192855A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2011193014A (ja) * | 2005-01-21 | 2011-09-29 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置 |
-
2011
- 2011-11-04 JP JP2011242331A patent/JP5702263B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003151878A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-23 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
JP2011193014A (ja) * | 2005-01-21 | 2011-09-29 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置 |
JP2008135583A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成装置および塗布膜形成方法 |
JP2010045207A (ja) * | 2008-08-13 | 2010-02-25 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、及び塗布、現像装置の搬送アーム洗浄方法、並びに記憶媒体 |
JP2010147361A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2010192855A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015090964A (ja) * | 2013-11-07 | 2015-05-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の欠陥分析装置、基板処理システム、基板の欠陥分析方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
KR20150053244A (ko) * | 2013-11-07 | 2015-05-15 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 결함 분석 장치, 기판 처리 시스템, 결함 분석 방법, 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램 및 컴퓨터 기억 매체 |
US9342880B2 (en) | 2013-11-07 | 2016-05-17 | Tokyo Electron Limited | Defect analyzing apparatus, substrate processing system, defect analyzing method and computer-readable storage medium |
TWI579556B (zh) * | 2013-11-07 | 2017-04-21 | 東京威力科創股份有限公司 | 基板之缺陷結構分析裝置、基板處理系統、基板之缺陷結構分析方法、程式及電腦記錄媒體 |
KR102238599B1 (ko) * | 2013-11-07 | 2021-04-09 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 결함 분석 장치, 기판 처리 시스템, 결함 분석 방법, 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램 및 컴퓨터 기억 매체 |
KR101571623B1 (ko) * | 2014-03-06 | 2015-11-24 | 주식회사 아이엠티 | 웨이퍼 배면 세정 방법 및 장치 |
JP2016181732A (ja) * | 2016-07-22 | 2016-10-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
JP2021106279A (ja) * | 2017-06-16 | 2021-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP7070748B2 (ja) | 2017-06-16 | 2022-05-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP2022109271A (ja) * | 2017-06-16 | 2022-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
TWI790981B (zh) * | 2017-06-16 | 2023-01-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置 |
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