JP2022109271A - 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】左右に設けられた第1のロードポート2A、2B及び第2のロードポート2C、2Dと、処理部D2と、左右における第1のロードポート2A、2Bと第2のロードポート2C、2Dとの間に設けられる検査モジュール4と、検査モジュール4の左右の一方に設けられ、処理部D2と第1のロードポート2A、2Bに載置された搬送容器Cとに基板Wを各々受け渡すための第1の基板搬送機構5Aと、検査モジュール4の左右の他方に設けられ、検査モジュール4と第2のロードポート2C、2Dに載置された搬送容器Cとに基板Wを各々受け渡すための第2の基板搬送機構5Bと、第1の基板搬送機構5Aと第2の基板搬送機構5Bとの間で基板Wを受け渡す受け渡し部51と、を備える装置とする。
【選択図】図1
Description
前記基板に対して処理を行う処理部と、
左右における前記第1のロードポートと前記第2のロードポートとの間に設けられ、前記処理部による処理前あるいは処理後の前記基板を検査する検査モジュールと、
前記検査モジュールの左右の一方に設けられ、前記処理部と前記第1のロードポートに載置された搬送容器とに前記基板を各々受け渡すための第1の基板搬送機構と、
前記検査モジュールの左右の他方に設けられ、前記検査モジュールと前記第2のロードポートに載置された搬送容器とに基板を各々受け渡すための第2の基板搬送機構と、
前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構との間で前記基板を受け渡すための受け渡し部と、
を備えたことを特徴とする。
処理部により前記基板に対して処理を行う工程と、
左右における前記第1のロードポートと前記第2のロードポートとの間に設けられる検査モジュールにより、前記処理部による処理前あるいは処理後に前記基板を検査する工程と、
前記検査モジュールの左右の一方に設けられる第1の基板搬送機構により、前記処理部と前記第1のロードポートに載置された搬送容器とに基板を各々受け渡す工程と、
前記検査モジュールの左右の他方に設けられる第2の基板搬送機構により、前記検査モジュールと前記第2のロードポートに載置された搬送容器とに基板を各々受け渡す工程と、
受け渡し部を介して前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構との間で前記基板を受け渡す工程と、
を備えたことを特徴とする。
前記プログラムは本発明の基板処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする。
本発明の基板処理装置の第1の実施形態に係る塗布、現像装置1について、図1の横断平面図、図2の縦断側面図を夫々参照して説明する。塗布、現像装置1は、キャリアブロックD1と、処理ブロックD2と、インターフェイスブロックD3とが、この順で横方向に直線状に接続されて構成されている。インターフェイスブロックD3には、露光機D4が接続されている。
で搬送される。搬入用ステージ31は、図示しない外部搬送機構がキャリアブロックD1にキャリアCを搬入するために当該キャリアCを載置するステージである。この外部搬送機構は、搬出用ステージ32に載置されたキャリアCを受け取り、キャリアブロックD1から搬出する。また、各待機用ステージ29は、装置内にウエハWを搬入する前のキャリアC及び装置内にウエハWを搬入した後の空のキャリアCを待機させるためのステージである。従ってキャリアCは、搬入用ステージ31→待機用ステージ29→ロードポート2A~2Dのいずれかの移動ステージ23の順で搬送されて、当該移動ステージ23上にてウエハWを払い出した後、待機用ステージ29→ロードポート2A~2Dのいずれかの移動ステージ23の順で搬送されて当該移動ステージ23上にてウエハWを受け取る。その後、キャリアCは待機用ステージ29→搬出用ステージ32の順で搬送される。
続いて、第1の実施形態の第1の変形例に係るキャリアブロックD11について、図13を参照しながらキャリアブロックD1との差異点を中心に説明する。このキャリアブロックD11では、ロードポート2Aが、ロードポート2Dと同じ高さに、且つロードポート2Bと左右の位置が揃うように設けられている。このロードポート2Aの搬送口21を開閉するドアとしては、ロードポート2Bに干渉しないように、ロードポート2Dと同様に回転ドア25が設けられている。また、このキャリアブロックD11において、ロードポート2Bの左側には、右側と同様に2つの検査モジュール4が上下に設けられている。説明の便宜上、ロードポート2Bの右側の2つの検査モジュールを4A、左側の2つの検査モジュールを4Bとする。検査モジュール4B及びロードポート2Aに対しては、検査モジュール4Aの左側に位置していることにより、搬送機構5AがウエハWの受け渡しを行う。
次に第2の変形例に係るキャリアブロックD12について、図14を参照しながらキャリアブロックD1との差異点を中心に説明する。このキャリアブロックD12では、ロードポート2A~2Dに加えてロードポート2Eが設けられている。このロードポート2Eは、ロードポート2Dと同じ高さに、且つロードポート2Aと左右の位置が揃うように設けられている。ロードポート2Eは、ロードポート2Aに干渉しないようにロードポート2Dと同様に回転ドア25が設けられている。ただし、キャリアブロックD1の筐体11の側壁と干渉しないように、このロードポート2Eの回転ドア25は、ロードポート2Dの回転ドア25とは逆に、閉鎖位置から右回りに回転する。ロードポート2Eは検査モジュール4の左側に位置するので、当該ロードポート2Eに載置されたキャリアCに対しては、搬送機構5BがウエハWを受け渡す。
第2の実施形態の塗布、現像装置について、第1の実施形態との差異点を中心に説明する。図15、図16は、第2の実施形態の塗布、現像装置に設けられるキャリアブロックD5の正面図、横断平面図を夫々示している。キャリアブロックD5には、ロードポート2A~2C及び2つの検査モジュール4が設けられているが、ロードポート2A~2Cは各検査モジュール4の左側に位置している。また、キャリアブロックD5には支持台15、16、17が設けられておらず、キャリアブロックD5に対してキャリアCを受け渡す外部搬送機構は、ロードポート2A~2Cの移動ステージ23にキャリアCを受け渡す。そして、キャリアCの待機用ステージ29と搬入用ステージ31と搬出用ステージ32との間での搬送は行われない。また、筐体11内においては搬送機構5A、5Bのうち、搬送機構5Aのみが設けられており、ロードポート2A~2Cに載置された各キャリアCに対してウエハWの受け渡しを行えるように、当該搬送機構5Aのフレーム52は左右方向に移動する。
D1 キャリアブロック
D2 処理部
1 塗布、現像装置
2A~2D ロードポート
21 搬送口
23 移動ステージ
24 昇降ドア
25 回転ドア
4 検査モジュール
5A、5B 搬送機構
51 バッファモジュール
Claims (1)
- 基板が格納される搬送容器が夫々載置されるように左右の一方、他方に夫々設けられた第1のロードポート、第2のロードポートと、
前記基板に対して処理を行う処理部と、
左右における前記第1のロードポートと前記第2のロードポートとの間に設けられ、前記処理部による処理前あるいは処理後の前記基板を検査する検査モジュールと、
前記検査モジュールの左右の一方に設けられ、前記処理部と前記第1のロードポートに載置された搬送容器とに前記基板を各々受け渡すための第1の基板搬送機構と、
前記検査モジュールの左右の他方に設けられ、前記検査モジュールと前記第2のロードポートに載置された搬送容器とに基板を各々受け渡すための第2の基板搬送機構と、
前記第1の基板搬送機構と前記第2の基板搬送機構との間で前記基板を受け渡すための受け渡し部と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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