JPH05241329A - マスク洗浄機 - Google Patents
マスク洗浄機Info
- Publication number
- JPH05241329A JPH05241329A JP4512092A JP4512092A JPH05241329A JP H05241329 A JPH05241329 A JP H05241329A JP 4512092 A JP4512092 A JP 4512092A JP 4512092 A JP4512092 A JP 4512092A JP H05241329 A JPH05241329 A JP H05241329A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- washing
- cleaning
- sequence
- foreign matter
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】レチクル洗浄機における洗浄歩留の改善と洗浄
時間の短縮。 【構成】レチクル上の異物を検査する検査室３と異物分
析処理部４と洗浄パラメータシーケンス自動設定部５と
備え、異物情報により洗浄シーケンス及び洗浄パラメー
タの最適化を自動的に行なう機能を有する。
時間の短縮。 【構成】レチクル上の異物を検査する検査室３と異物分
析処理部４と洗浄パラメータシーケンス自動設定部５と
備え、異物情報により洗浄シーケンス及び洗浄パラメー
タの最適化を自動的に行なう機能を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マスク洗浄機に係わ
り、とくに半導体装置製造のステップアンドリピート露
光装置に用いられるレチクルマスク（以下、レチクルと
いう）洗浄機に関する。
り、とくに半導体装置製造のステップアンドリピート露
光装置に用いられるレチクルマスク（以下、レチクルと
いう）洗浄機に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレチクル洗浄機は、図３に示すよ
うに洗浄するレチクルはあらかじめ固定された同一のシ
ーケンスによる洗浄または、オペレーターの判断により
任意のシーケンスを指定して洗浄を行なっていた。そし
て洗浄後の検査の結果異物付着があり不合格であればオ
ペレーターの指定にて、同一のシーケンスパラメーター
で再洗浄を行なったり、洗浄シーケンスをかえて再洗浄
を行なっていた。
うに洗浄するレチクルはあらかじめ固定された同一のシ
ーケンスによる洗浄または、オペレーターの判断により
任意のシーケンスを指定して洗浄を行なっていた。そし
て洗浄後の検査の結果異物付着があり不合格であればオ
ペレーターの指定にて、同一のシーケンスパラメーター
で再洗浄を行なったり、洗浄シーケンスをかえて再洗浄
を行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来のレチクル洗
浄機では、洗浄シーケンスが固定化されていたため、異
物付着状態によらず常に一定の条件で洗浄するようにな
っており、付着異物が取れにくい場合は再洗浄により洗
浄時間が極端に長くなったり、付着異物が少なくても長
い洗浄期間を費やすという問題点があった。
浄機では、洗浄シーケンスが固定化されていたため、異
物付着状態によらず常に一定の条件で洗浄するようにな
っており、付着異物が取れにくい場合は再洗浄により洗
浄時間が極端に長くなったり、付着異物が少なくても長
い洗浄期間を費やすという問題点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明のレチクル洗浄機
は、レチクルの洗浄前にレチクルの異物検査を行ない、
付着異物の個数や大きさを分析する異物分析処理部と各
洗浄部の洗浄パラメータおよび各処理部の処理シーケン
スを最適設定する洗浄パタメータシーケンス自動設定部
を有し、個々のレチクルを最適条件で洗浄する機能を備
えている。
は、レチクルの洗浄前にレチクルの異物検査を行ない、
付着異物の個数や大きさを分析する異物分析処理部と各
洗浄部の洗浄パラメータおよび各処理部の処理シーケン
スを最適設定する洗浄パタメータシーケンス自動設定部
を有し、個々のレチクルを最適条件で洗浄する機能を備
えている。
【０００５】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の第１の実施例の装置構成図である。
棚１から取り出されたレチクル２は検査室３で表面の付
着異物状態を検査される。次に検査結果により付着して
いる異物の大きさ、個数を異物分析処理部４で分析す
る。次にあらかじめ付着異物の大きさ、個数により個々
の洗浄処理部のパラメーターおよびシーケンスを自動的
に設定する洗浄パラメータシーケンス自動設定部５に
て、分析結果によりこのレチクルの最適洗浄シーケンス
およびパラメーターが設定され、洗浄処理部６で洗浄が
行なわれる。洗浄が終わったレチクルは検査室３でチェ
ックされ、合格であれば棚に戻され、洗浄終了となる。
洗浄後の検査不合格での再洗浄は、その検査結果でさら
にシーケンス、パラメータを最適化することにより、同
一洗浄方式に比べ洗浄時間短縮と高効率の洗浄を行なう
ことが可能である。
る。図１は本発明の第１の実施例の装置構成図である。
棚１から取り出されたレチクル２は検査室３で表面の付
着異物状態を検査される。次に検査結果により付着して
いる異物の大きさ、個数を異物分析処理部４で分析す
る。次にあらかじめ付着異物の大きさ、個数により個々
の洗浄処理部のパラメーターおよびシーケンスを自動的
に設定する洗浄パラメータシーケンス自動設定部５に
て、分析結果によりこのレチクルの最適洗浄シーケンス
およびパラメーターが設定され、洗浄処理部６で洗浄が
行なわれる。洗浄が終わったレチクルは検査室３でチェ
ックされ、合格であれば棚に戻され、洗浄終了となる。
洗浄後の検査不合格での再洗浄は、その検査結果でさら
にシーケンス、パラメータを最適化することにより、同
一洗浄方式に比べ洗浄時間短縮と高効率の洗浄を行なう
ことが可能である。
【０００６】図２は本発明の第２の実施例の装置構成図
である。この例では洗浄前の検査を行なわず、洗浄対象
レチクルの履歴データにより、以前洗浄した時からの経
過時間および過去の検査結果より、洗浄シーケンスを設
定する。この場合、第１の実施例よりも洗浄前検査の時
間が短縮できる利点がある。
である。この例では洗浄前の検査を行なわず、洗浄対象
レチクルの履歴データにより、以前洗浄した時からの経
過時間および過去の検査結果より、洗浄シーケンスを設
定する。この場合、第１の実施例よりも洗浄前検査の時
間が短縮できる利点がある。
【０００７】次に洗浄パラメータ、シーケンス自動設定
の例を示す。今、検査結果を分析した場合に、非常に大
きな異物が多数付着していたとする。この場合は洗浄能
力をあげるためＵＶ／Ｏ3 処理、ブラシスクラブ洗浄処
理時間を長く設定することにより１回の洗浄で異物検査
が合格となり洗浄歩留が向上する。また検査結果を分析
した場合に小さい異物が数個付着していたとする。この
場合は各洗浄処理部の処理時間は短くでき、洗浄時間の
短縮が可能である。
の例を示す。今、検査結果を分析した場合に、非常に大
きな異物が多数付着していたとする。この場合は洗浄能
力をあげるためＵＶ／Ｏ3 処理、ブラシスクラブ洗浄処
理時間を長く設定することにより１回の洗浄で異物検査
が合格となり洗浄歩留が向上する。また検査結果を分析
した場合に小さい異物が数個付着していたとする。この
場合は各洗浄処理部の処理時間は短くでき、洗浄時間の
短縮が可能である。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、洗浄前の
レチクルの異物付着状態により、洗浄シーケンスおよび
パラメータの最適化をはかるため、洗浄歩留の向上と洗
浄時間の短縮という効果を有する。
レチクルの異物付着状態により、洗浄シーケンスおよび
パラメータの最適化をはかるため、洗浄歩留の向上と洗
浄時間の短縮という効果を有する。
【図１】本発明の第１の実施例の装置構成図。
【図２】本発明の第２の実施例の装置構成図。
【図３】従来の固定シーケンスを示す図。
１ 棚 ２ レチクル ３ 検査室 ４ 異物分析処理部 ５ 洗浄パラメータシーケンス自動設定部 ６ 洗浄処理部 ７ 洗浄履歴データ収納部
Claims (1)
- 【請求項１】 マスクの洗浄において、洗浄前のマスク
異物付着状態を解析し、マスクの洗浄シーケンスおよび
洗浄パタメータの最適化を行う機能を有するマスク洗浄
機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4512092A JPH05241329A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | マスク洗浄機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4512092A JPH05241329A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | マスク洗浄機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05241329A true JPH05241329A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12710417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4512092A Pending JPH05241329A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | マスク洗浄機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05241329A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007207377A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの洗浄方法およびディスク洗浄システム |
| JP2013058697A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-03-28 | Toshiba Corp | テンプレート洗浄装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59195645A (ja) * | 1983-04-21 | 1984-11-06 | Nec Corp | 露光マスク洗浄装置 |
| JPH02135486A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-05-24 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| JPH03168185A (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 洗濯機の制御装置 |
-
1992
- 1992-03-03 JP JP4512092A patent/JPH05241329A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59195645A (ja) * | 1983-04-21 | 1984-11-06 | Nec Corp | 露光マスク洗浄装置 |
| JPH02135486A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-05-24 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| JPH03168185A (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 洗濯機の制御装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007207377A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの洗浄方法およびディスク洗浄システム |
| JP2013058697A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-03-28 | Toshiba Corp | テンプレート洗浄装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981104 |