JPS58182826A - 異物の自動除去装置 - Google Patents
異物の自動除去装置Info
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- JPS58182826A JPS58182826A JP57066090A JP6609082A JPS58182826A JP S58182826 A JPS58182826 A JP S58182826A JP 57066090 A JP57066090 A JP 57066090A JP 6609082 A JP6609082 A JP 6609082A JP S58182826 A JPS58182826 A JP S58182826A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57066090A JPS58182826A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 異物の自動除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57066090A JPS58182826A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 異物の自動除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182826A true JPS58182826A (ja) | 1983-10-25 |
| JPH0371779B2 JPH0371779B2 (enExample) | 1991-11-14 |
Family
ID=13305809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57066090A Granted JPS58182826A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 異物の自動除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58182826A (enExample) |
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| JP2011133433A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Lasertec Corp | 基板検査装置、異物除去装置および異物除去方法 |
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| US8980655B2 (en) | 2013-08-08 | 2015-03-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Test apparatus and test method |
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| CN110756465A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-02-07 | 苏州筹策智能科技有限公司 | Pcb板检测擦拭一体机 |
| CN111790693A (zh) * | 2019-04-05 | 2020-10-20 | 先进科技新加坡有限公司 | 自动颗粒去除系统 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20220299882A1 (en) * | 2021-03-19 | 2022-09-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for cleaning an euv mask within a scanner |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP57066090A patent/JPS58182826A/ja active Granted
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| JP2018195852A (ja) * | 2018-08-30 | 2018-12-06 | 大日本印刷株式会社 | 異物除去用基板 |
| CN111790693A (zh) * | 2019-04-05 | 2020-10-20 | 先进科技新加坡有限公司 | 自动颗粒去除系统 |
| CN110756465A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-02-07 | 苏州筹策智能科技有限公司 | Pcb板检测擦拭一体机 |
| CN110756465B (zh) * | 2019-09-16 | 2022-05-10 | 苏州筹策智能科技有限公司 | Pcb板检测擦拭一体机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0371779B2 (enExample) | 1991-11-14 |
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