JPH0371779B2 - - Google Patents

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JPH0371779B2
JPH0371779B2 JP6609082A JP6609082A JPH0371779B2 JP H0371779 B2 JPH0371779 B2 JP H0371779B2 JP 6609082 A JP6609082 A JP 6609082A JP 6609082 A JP6609082 A JP 6609082A JP H0371779 B2 JPH0371779 B2 JP H0371779B2
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JP
Japan
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foreign matter
foreign
inspected
mask
removal
Prior art date
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Application number
JP6609082A
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English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPS58182826A (ja
Inventor
Kazunori Imamura
Shoichi Tanimoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
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Publication of JPS58182826A publication Critical patent/JPS58182826A/ja
Publication of JPH0371779B2 publication Critical patent/JPH0371779B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • H10P95/00—

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
JP57066090A 1982-04-20 1982-04-20 異物の自動除去装置 Granted JPS58182826A (ja)

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JPS58182826A JPS58182826A (ja) 1983-10-25
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JPS58182826A (ja) 1983-10-25

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