JPS58182270A - トランジスタの製造方法 - Google Patents
トランジスタの製造方法Info
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- JPS58182270A JPS58182270A JP57064478A JP6447882A JPS58182270A JP S58182270 A JPS58182270 A JP S58182270A JP 57064478 A JP57064478 A JP 57064478A JP 6447882 A JP6447882 A JP 6447882A JP S58182270 A JPS58182270 A JP S58182270A
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- JP
- Japan
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- film
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- gate electrode
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- transistor
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- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57064478A JPS58182270A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | トランジスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57064478A JPS58182270A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | トランジスタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182270A true JPS58182270A (ja) | 1983-10-25 |
| JPH0348671B2 JPH0348671B2 (enExample) | 1991-07-25 |
Family
ID=13259367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57064478A Granted JPS58182270A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | トランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58182270A (enExample) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6086863A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-16 | Fujitsu Ltd | 絶縁ゲ−ト型薄膜トランジスタ |
| JPS60109285A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 薄膜トランジスタ |
| JPS6273770A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| JPS62252973A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-04 | Nec Corp | 順スタガ−ド型薄膜トランジスタ |
| JPS63126277A (ja) * | 1986-07-16 | 1988-05-30 | Seikosha Co Ltd | 電界効果型薄膜トランジスタ |
| JPS6418756U (enExample) * | 1987-07-25 | 1989-01-30 | ||
| JPS6461955A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-08 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Thin film transistor |
| JPH03184379A (ja) * | 1989-12-13 | 1991-08-12 | Toshiba Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
| JPH06177388A (ja) * | 1992-12-04 | 1994-06-24 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7525551B2 (ja) | 2022-07-11 | 2024-07-30 | プライムプラネットエナジー&ソリューションズ株式会社 | 密閉型電池 |
| JP7525550B2 (ja) | 2022-07-11 | 2024-07-30 | プライムプラネットエナジー&ソリューションズ株式会社 | 密閉型電池およびその製造方法 |
| JP2024015658A (ja) | 2022-07-25 | 2024-02-06 | プライムプラネットエナジー&ソリューションズ株式会社 | 電池 |
| JP2024015661A (ja) | 2022-07-25 | 2024-02-06 | プライムプラネットエナジー&ソリューションズ株式会社 | 電池 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56135968A (en) * | 1980-03-27 | 1981-10-23 | Canon Inc | Amorphous silicon thin film transistor and manufacture thereof |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP57064478A patent/JPS58182270A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56135968A (en) * | 1980-03-27 | 1981-10-23 | Canon Inc | Amorphous silicon thin film transistor and manufacture thereof |
Cited By (9)
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|---|---|---|---|---|
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| JPS60109285A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 薄膜トランジスタ |
| JPS6273770A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| JPS62252973A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-04 | Nec Corp | 順スタガ−ド型薄膜トランジスタ |
| JPS63126277A (ja) * | 1986-07-16 | 1988-05-30 | Seikosha Co Ltd | 電界効果型薄膜トランジスタ |
| JPS6418756U (enExample) * | 1987-07-25 | 1989-01-30 | ||
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| JPH03184379A (ja) * | 1989-12-13 | 1991-08-12 | Toshiba Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0348671B2 (enExample) | 1991-07-25 |
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