JPS58180465A - トランス−4−アルキルオキシメチル−1−(4″−シアノ−4′−ビフエニリル)シクロヘキサン類 - Google Patents
トランス−4−アルキルオキシメチル−1−(4″−シアノ−4′−ビフエニリル)シクロヘキサン類Info
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- JPS58180465A JPS58180465A JP17669881A JP17669881A JPS58180465A JP S58180465 A JPS58180465 A JP S58180465A JP 17669881 A JP17669881 A JP 17669881A JP 17669881 A JP17669881 A JP 17669881A JP S58180465 A JPS58180465 A JP S58180465A
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- trans
- compound
- liquid crystal
- biphenylyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は正の防電異方性を有する新規な液晶化合物に関
する。正の誘電異方性を示す液晶物質はその化学的及び
防電異方性を利用して捩れた液晶配列を持つネマチック
液晶を用いる表示素子(いわゆるTNセル)やゲスト・
ホスト効果を応用したカラー表示素子等に使用される用
途がおる。これらの液晶材料は単独の化合物ではその諸
性能即ち液晶温度範囲、しきい電圧、応答速度、安定性
婢の点で実用的使用に耐えるものはなく、実用的には数
棟の液晶化合物或いは非液晶化合物の混合物が使用され
ている。
する。正の誘電異方性を示す液晶物質はその化学的及び
防電異方性を利用して捩れた液晶配列を持つネマチック
液晶を用いる表示素子(いわゆるTNセル)やゲスト・
ホスト効果を応用したカラー表示素子等に使用される用
途がおる。これらの液晶材料は単独の化合物ではその諸
性能即ち液晶温度範囲、しきい電圧、応答速度、安定性
婢の点で実用的使用に耐えるものはなく、実用的には数
棟の液晶化合物或いは非液晶化合物の混合物が使用され
ている。
本発明は実用的な性質がすぐれた、#電異方性が正の液
晶組成物を構成する成分として有用な化合物を提供する
ものでおる。
晶組成物を構成する成分として有用な化合物を提供する
ものでおる。
即ち、本発明の化合物は次の一般式(1)で表わされる
トランス−4−アルキルオキシメチル−1− (4//
−シアノ−4′−ビフェニリル)7クロヘキサンである
。
トランス−4−アルキルオキシメチル−1− (4//
−シアノ−4′−ビフェニリル)7クロヘキサンである
。
(上式に於てRは炭素数1〜8のアルキル基を示す)
本発明の(+)式の化合物は鋳電異方性が正で、液晶温
度範囲は広く、かつ透明点の高い、安定性にすぐれた新
規な液晶化合物である。
度範囲は広く、かつ透明点の高い、安定性にすぐれた新
規な液晶化合物である。
本発明の化合物Vii点が高いため、この化合物単独で
は実用的に使用できないが、他の液晶化合物との相溶性
にすぐれているので、例えばビフェニル系、エステル系
、アゾギシ系、ンクロヘキサンカルボン酸フェニルエス
テル系、フェニルンクロヘキサン系、フェニルピリミジ
ン、フェニルメタジオキサン系などの液晶の化合物の1
種類又は数棟類の系の混合物と混合して使用することに
よりその透明点を上昇させる効果を有する。
は実用的に使用できないが、他の液晶化合物との相溶性
にすぐれているので、例えばビフェニル系、エステル系
、アゾギシ系、ンクロヘキサンカルボン酸フェニルエス
テル系、フェニルンクロヘキサン系、フェニルピリミジ
ン、フェニルメタジオキサン系などの液晶の化合物の1
種類又は数棟類の系の混合物と混合して使用することに
よりその透明点を上昇させる効果を有する。
(1)式の化合物は次の様な工程により製造する事がで
きる。
きる。
即ち、まず既知物質であるトランス−4−フェニル/ク
ロヘキサンカルボン酸メチル(W、S、ジaンンン等J
、h、c、s 67、1o45(1945))(1)を
出発原料としくU)を水素化アルミニウム(LljuH
,)等で還元シてトランス−4−フェニルンクロヘキ/
ルメタノール(1)を得る。(第1段)。次いでこれを
乾燥ピリジン中P−)ルエンスルホニルクロリドと反応
し、”−トルエンスルホン酸トランス−4−フェニル/
クロヘキシルメチル (5)ヲ得る(第2段)。この(
1v)とアルコキシドとの反応でトランス−4−アルキ
ルオキシメチル−1−フェニルンクロヘキサン (v)
を得る(第3段)。
ロヘキサンカルボン酸メチル(W、S、ジaンンン等J
、h、c、s 67、1o45(1945))(1)を
出発原料としくU)を水素化アルミニウム(LljuH
,)等で還元シてトランス−4−フェニルンクロヘキ/
ルメタノール(1)を得る。(第1段)。次いでこれを
乾燥ピリジン中P−)ルエンスルホニルクロリドと反応
し、”−トルエンスルホン酸トランス−4−フェニル/
クロヘキシルメチル (5)ヲ得る(第2段)。この(
1v)とアルコキシドとの反応でトランス−4−アルキ
ルオキシメチル−1−フェニルンクロヘキサン (v)
を得る(第3段)。
化合物(V)は溶媒中、ヨウ素及びヨウ素酸と加熱する
ことによりトランス−養−アルキルオキシメチル−1−
(4’−ヨウトフェニル)シクロヘキサン(Vi)とし
く第4段)、そのヨウ素をn−ブチルリチウム・ヘキサ
ン溶液を用いリチウムに置換し、次いでシクロヘキサノ
ンとの反応によりトランス−4−アルキルオキシメチル
−1−(4’−7クロヘキセニルフエニル)ククpヘキ
サン(ロ)をel(第5段)。(ロ)を溶媒中、クロラ
ニル、硫黄などの脱水素剤と加熱することによυトラン
スー4−アルキルオキシメチル−1−(4’−ビフェニ
リル)シクロヘキサン鴎が得られる(第6段)。化合物
積は溶媒中、ヨウ素及びヨウ素酸と加熱するととKi
)ランス−4−アルキルオキ7メチルー1−(4//−
ヨウビー4′−ビフエニリル)/クロヘキサンα1)と
しく第7段)、(Xl)にシアン化第−銅等のシアノ化
剤を反応させると目的の(+)式の化合物が得られる(
第8段)。
ことによりトランス−養−アルキルオキシメチル−1−
(4’−ヨウトフェニル)シクロヘキサン(Vi)とし
く第4段)、そのヨウ素をn−ブチルリチウム・ヘキサ
ン溶液を用いリチウムに置換し、次いでシクロヘキサノ
ンとの反応によりトランス−4−アルキルオキシメチル
−1−(4’−7クロヘキセニルフエニル)ククpヘキ
サン(ロ)をel(第5段)。(ロ)を溶媒中、クロラ
ニル、硫黄などの脱水素剤と加熱することによυトラン
スー4−アルキルオキシメチル−1−(4’−ビフェニ
リル)シクロヘキサン鴎が得られる(第6段)。化合物
積は溶媒中、ヨウ素及びヨウ素酸と加熱するととKi
)ランス−4−アルキルオキ7メチルー1−(4//−
ヨウビー4′−ビフエニリル)/クロヘキサンα1)と
しく第7段)、(Xl)にシアン化第−銅等のシアノ化
剤を反応させると目的の(+)式の化合物が得られる(
第8段)。
第3段階に於いて化合物(ト)と反応させるアルコキッ
ドとしてナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、ナトリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、ナト
リウムベントキシド、ナトリウムへギシルオキシド、ナ
トリウムへブチルオキシド、ナトリウムオクチルオキシ
ドを夫々使用することにより最終生成物である本発明の
化合物(1)として夫々 トランス−4−メチルオキシメチル−1−(4,’−シ
アノー47−ビフェニリル)7クロヘキサントランスー
4−エチルオキシ)fルー 1− (4”−シアノ−4
7−ビフェニリル)シクロヘキVントランスー4−プロ
ピルオキンメチル−1−(4’−シアノ−47−ビフェ
ニリル)シクロヘキサントランス−4−ブチルオキシメ
チル−1−(4//−ンアノー4′−ビフェニリル)シ
クロヘキサントランス−4−ペンチルオキシメfk−1
−(4″−シアン−4′−ビフェニリル)シクロヘキサ
ントランス−4−ヘキシルオキシメチル−1−(4“−
シアノ−4−ビフェニリル)シクロヘキサントランス−
4−へブチルオキシメチル−1−←1−シアノー4−ビ
フェニリル)シクロヘキサントランス−4−オクチルオ
キシメチル−1−(4”−シアノ−4−ビフェニリル)
シクロヘキサンが得られる。
ドとしてナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、ナトリウムエトキシド、ナトリウムブトキシド、ナト
リウムベントキシド、ナトリウムへギシルオキシド、ナ
トリウムへブチルオキシド、ナトリウムオクチルオキシ
ドを夫々使用することにより最終生成物である本発明の
化合物(1)として夫々 トランス−4−メチルオキシメチル−1−(4,’−シ
アノー47−ビフェニリル)7クロヘキサントランスー
4−エチルオキシ)fルー 1− (4”−シアノ−4
7−ビフェニリル)シクロヘキVントランスー4−プロ
ピルオキンメチル−1−(4’−シアノ−47−ビフェ
ニリル)シクロヘキサントランス−4−ブチルオキシメ
チル−1−(4//−ンアノー4′−ビフェニリル)シ
クロヘキサントランス−4−ペンチルオキシメfk−1
−(4″−シアン−4′−ビフェニリル)シクロヘキサ
ントランス−4−ヘキシルオキシメチル−1−(4“−
シアノ−4−ビフェニリル)シクロヘキサントランス−
4−へブチルオキシメチル−1−←1−シアノー4−ビ
フェニリル)シクロヘキサントランス−4−オクチルオ
キシメチル−1−(4”−シアノ−4−ビフェニリル)
シクロヘキサンが得られる。
以下実施例により本発明の化合物の製造法及び性質更に
液晶材料としての使用の・詳細を説明する。
液晶材料としての使用の・詳細を説明する。
実施例1
〔トランス−4−メチルオキ7メチルー1−((4“−
シアン−47−ビフェニリル)シクロヘキサンの製造〕 〔第1段階〕 水素化アルミニウムリチウム11.1? (0,293
モル)に乾燥したテトラヒドロフラン(THF)420
mlを加え激しく攪拌したところへ、トランス−4−フ
ェニル7クロヘキサンカルボン酸メチル(■) 64.
Of (0,293モル)をTHF7Qm/に溶解し
fC溶液を反応温度f20℃以下に保ちながら滴下する
。滴下終了後55°Cまで加温して、2時間反応させ冷
却づる。次に酢酸エチル12m1と水10011を加え
たのち18俤硫酸330111/を加えるとテトラヒド
ロフランI−と水層の2層に分離される。n−へブタン
200mjを加え、分液ロートに移し水500m/で水
洗したのち2嗟炭酸ナトリウム水溶液500m/で洗浄
し、更に水で水層が中性になるまで洗浄する。溶媒層か
らヘプタン、THFを完全に留去し釜に残った固体をヘ
プタン20m4で再結晶し、戸別してから結晶を乾燥す
ると4−フェニルシクロヘキシルメタノール(1)51
.4 tが得られる。融点47.3〜48.5°C0〔
第2段階〕 第1段階で得られた化合物(1)5(1(0,268モ
ル)を乾燥ピリジン1lOCCV?−溶解し5°C以下
に冷却したところへP−トルエンスルホン酸クロリド5
0.IJ (0,2628モル)を乾燥トルエン70m
1に溶解し7た溶液を、滴下漏斗より反応温度が10℃
をこえない様に少量づつ滴下する。滴下が終了したら冷
浴を取シ除き室温で4時間攪拌したのち水100m、#
とトルエン3001Mを加え攪拌する。
シアン−47−ビフェニリル)シクロヘキサンの製造〕 〔第1段階〕 水素化アルミニウムリチウム11.1? (0,293
モル)に乾燥したテトラヒドロフラン(THF)420
mlを加え激しく攪拌したところへ、トランス−4−フ
ェニル7クロヘキサンカルボン酸メチル(■) 64.
Of (0,293モル)をTHF7Qm/に溶解し
fC溶液を反応温度f20℃以下に保ちながら滴下する
。滴下終了後55°Cまで加温して、2時間反応させ冷
却づる。次に酢酸エチル12m1と水10011を加え
たのち18俤硫酸330111/を加えるとテトラヒド
ロフランI−と水層の2層に分離される。n−へブタン
200mjを加え、分液ロートに移し水500m/で水
洗したのち2嗟炭酸ナトリウム水溶液500m/で洗浄
し、更に水で水層が中性になるまで洗浄する。溶媒層か
らヘプタン、THFを完全に留去し釜に残った固体をヘ
プタン20m4で再結晶し、戸別してから結晶を乾燥す
ると4−フェニルシクロヘキシルメタノール(1)51
.4 tが得られる。融点47.3〜48.5°C0〔
第2段階〕 第1段階で得られた化合物(1)5(1(0,268モ
ル)を乾燥ピリジン1lOCCV?−溶解し5°C以下
に冷却したところへP−トルエンスルホン酸クロリド5
0.IJ (0,2628モル)を乾燥トルエン70m
1に溶解し7た溶液を、滴下漏斗より反応温度が10℃
をこえない様に少量づつ滴下する。滴下が終了したら冷
浴を取シ除き室温で4時間攪拌したのち水100m、#
とトルエン3001Mを加え攪拌する。
分液ロートに移しトルエン層を6N塩酸Loom/で2
回洗浄し次に水200m/で1回洗浄、更に2N −N
aQH水溶液100t/で2回洗浄してから水200m
1で4回洗浄し、トルエンを減圧下で留去し生じた結晶
をトルエン90+njから再結晶し戸別してから結晶を
乾燥するとP−)シアンスルホン酸トランスー4−フェ
ニルシクロヘキシルメチル(5)77tが得られる。融
点10B、O〜108.7℃。
回洗浄し次に水200m/で1回洗浄、更に2N −N
aQH水溶液100t/で2回洗浄してから水200m
1で4回洗浄し、トルエンを減圧下で留去し生じた結晶
をトルエン90+njから再結晶し戸別してから結晶を
乾燥するとP−)シアンスルホン酸トランスー4−フェ
ニルシクロヘキシルメチル(5)77tが得られる。融
点10B、O〜108.7℃。
〔第3段階〕
メチルアルコール250m/を室温で攪拌しておき、こ
こへ金属ナトリウム17,4# (0,’7!55モル
)を細かく切ったものを少量づつ加えてナトリウムブト
キシドを作る。金属ナトリウム片がなくなってから第2
段階で得られた化合物(lv)200t(0,581モ
ル)を乾燥トルエン6oomtyc溶解した溶液を滴下
漏斗より内温か50〜60℃の範囲を保つ様に徐々に加
える。滴下終了後、4時間還流してから冷却し、水2o
mtを加えて分液漏斗に移し、トルエン層を水で水層が
中性に彦るまで洗浄する。
こへ金属ナトリウム17,4# (0,’7!55モル
)を細かく切ったものを少量づつ加えてナトリウムブト
キシドを作る。金属ナトリウム片がなくなってから第2
段階で得られた化合物(lv)200t(0,581モ
ル)を乾燥トルエン6oomtyc溶解した溶液を滴下
漏斗より内温か50〜60℃の範囲を保つ様に徐々に加
える。滴下終了後、4時間還流してから冷却し、水2o
mtを加えて分液漏斗に移し、トルエン層を水で水層が
中性に彦るまで洗浄する。
トルエン1+11のトルエンを減圧下で留去したのち減
圧蒸留し、沸点105 = 108℃/ 1.5 nm
Hpの留分を集めるとトランス−4−メチルオキシメチ
ル−1−フェニルシクロヘキサンff)が100.Of
iらiる。
圧蒸留し、沸点105 = 108℃/ 1.5 nm
Hpの留分を集めるとトランス−4−メチルオキシメチ
ル−1−フェニルシクロヘキサンff)が100.Of
iらiる。
〔第4段階〕
ltの三つロフラスコに第3段階で得られた化合物(V
)1oof(0,489モル)、酢酸34411水91
m/、ヨウ素酸20.6# (0,117モル) 、E
つ素54.5 # (0,215モル)、四塩化炭素4
011.濃硫酸1411を仕込み、攪拌混合17てから
マントルヒーターで加熱し3時間還流する。反応終了後
箆温に冷却したところへ10俤のチオ硫酸ナトリウム水
15mjを加え過剰のヨウ素の色を消失させる。
)1oof(0,489モル)、酢酸34411水91
m/、ヨウ素酸20.6# (0,117モル) 、E
つ素54.5 # (0,215モル)、四塩化炭素4
011.濃硫酸1411を仕込み、攪拌混合17てから
マントルヒーターで加熱し3時間還流する。反応終了後
箆温に冷却したところへ10俤のチオ硫酸ナトリウム水
15mjを加え過剰のヨウ素の色を消失させる。
n−へブタン200m/を加え分液戸斗に移しn−へブ
タン層を水層が中性になるまで水洗してからn−へブタ
ンを減圧下で留去し、残留物をn−ヘキサン50Mに溶
解し−10〜−20°Cにて12時間放置し生じた結晶
を戸別し乾燥するとトランス−4−メチルオキシメチル
−1−(4’−ヨウドフェニル)シクロヘキサンQll
)81,3tが得られた。
タン層を水層が中性になるまで水洗してからn−へブタ
ンを減圧下で留去し、残留物をn−ヘキサン50Mに溶
解し−10〜−20°Cにて12時間放置し生じた結晶
を戸別し乾燥するとトランス−4−メチルオキシメチル
−1−(4’−ヨウドフェニル)シクロヘキサンQll
)81,3tが得られた。
融点40.3〜42.3℃。
〔第5段階工
500M三つ「1フラスコに乾艶窒累雰囲気下で第4段
階で得られた化合物(v()30 # (0,091%
ル)と乾燥トルエン60m1を入れ20℃で撹拌して溶
解する。ここへ1.6’i’Nのn−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液68.911R(0,9れモル)を液温を
20〜25℃に保ちながら約10分で滴下した。滴下終
了後25℃で30分保ったのち5℃に冷却し、5〜10
℃に図ちながらシクロヘキサノン10,3#(0,10
5モル)を20分で滴下した。滴下後45゜で30分を
優ったのちF50 m lの水を滴下し、30℃以下に
保ちつつ、更に6N塩酸60mj1滴下した。
階で得られた化合物(v()30 # (0,091%
ル)と乾燥トルエン60m1を入れ20℃で撹拌して溶
解する。ここへ1.6’i’Nのn−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液68.911R(0,9れモル)を液温を
20〜25℃に保ちながら約10分で滴下した。滴下終
了後25℃で30分保ったのち5℃に冷却し、5〜10
℃に図ちながらシクロヘキサノン10,3#(0,10
5モル)を20分で滴下した。滴下後45゜で30分を
優ったのちF50 m lの水を滴下し、30℃以下に
保ちつつ、更に6N塩酸60mj1滴下した。
これを分液して下J−の水層をすて、有機j−に#性硫
酸力IJ 、、(、KH80,) S tを加え、加熱
してぼ媒を留去し、液鎖が110℃になるまで濃縮する
とこの間脱水反応が遣竹する。反応後冷却し分液ロート
に移し水洗2回打ったのち、俗媒を留去しエチルアルコ
ール10!04’から再結晶して精製されたトランス−
4−メチルオキ/メチル−1−(4’−7クロヘキセ=
−ルフェニル)シクロヘキサン■’i’、B tを得た
。この物の融点1174.8〜75.5℃であった。
酸力IJ 、、(、KH80,) S tを加え、加熱
してぼ媒を留去し、液鎖が110℃になるまで濃縮する
とこの間脱水反応が遣竹する。反応後冷却し分液ロート
に移し水洗2回打ったのち、俗媒を留去しエチルアルコ
ール10!04’から再結晶して精製されたトランス−
4−メチルオキ/メチル−1−(4’−7クロヘキセ=
−ルフェニル)シクロヘキサン■’i’、B tを得た
。この物の融点1174.8〜75.5℃であった。
〔第6段階〕
300mI!三つ[1フラスコに第5段階で得られた化
合物、(VII) 7.8 ? (0,02’i’モル
) 、!: p a ラニル15.5j’ (0,06
3モル)とキシレン130m/を入れ加熱し24時間還
流させる。冷却後不溶性の固体を戸別除去してからトル
エンを濃縮除去し、生じた粗結晶をエチルアルコール3
m/から再結晶してトランス−4−メチルオキシメチル
−1−(4’−ピフエニル)シクロヘキサン@2,91
を得り。
合物、(VII) 7.8 ? (0,02’i’モル
) 、!: p a ラニル15.5j’ (0,06
3モル)とキシレン130m/を入れ加熱し24時間還
流させる。冷却後不溶性の固体を戸別除去してからトル
エンを濃縮除去し、生じた粗結晶をエチルアルコール3
m/から再結晶してトランス−4−メチルオキシメチル
−1−(4’−ピフエニル)シクロヘキサン@2,91
を得り。
この物の融点は67.3〜69.5℃でおった1゜〔第
7段階〕 1001114’三つロフラスコに第6段階で得られた
化合物収$2.9 # (0,011モル)、#酸Bm
l)水2mtXaつ木酸0.44# (0,002モル
) 、Elつ率1.2t(0,004モル)、四塩化炭
素LM、[硫酸O,Smzを加え加熱し3時間還流する
。反応終了後、温かいうちに10%のチオ硫酸ナトリウ
ム水約200を加え過剰のヨウ素の色に消失させる。冷
却し生じた結晶を戸別し結晶を酢酸エチル’1QQQか
ら再結晶するとトランス−4−メチルオキシメチル−1
−(4“−ヨウビー4フービフエニリル)シクロヘキサ
ンaD2,8 tを得た。この物も液晶で、その融点(
(、N点) 156.2℃、透明点(N−1点)は15
8.0℃であった。
7段階〕 1001114’三つロフラスコに第6段階で得られた
化合物収$2.9 # (0,011モル)、#酸Bm
l)水2mtXaつ木酸0.44# (0,002モル
) 、Elつ率1.2t(0,004モル)、四塩化炭
素LM、[硫酸O,Smzを加え加熱し3時間還流する
。反応終了後、温かいうちに10%のチオ硫酸ナトリウ
ム水約200を加え過剰のヨウ素の色に消失させる。冷
却し生じた結晶を戸別し結晶を酢酸エチル’1QQQか
ら再結晶するとトランス−4−メチルオキシメチル−1
−(4“−ヨウビー4フービフエニリル)シクロヘキサ
ンaD2,8 tを得た。この物も液晶で、その融点(
(、N点) 156.2℃、透明点(N−1点)は15
8.0℃であった。
〔第8段階〕
100mI!三つロフラスコに第7段階で得られた化合
物QX) 2,8 t (0,007モル)とシアン化
第−銅0、’i’21 (0,008モル)とN、IJ
−ジメチルホルムアミド(DMF)1500を加え、6
時間還流下に加熱攪拌してのち冷却し、アンモニア水(
2t8%)2.2 m lを加え更にトルエン30Mを
加えた。それを分液し、有機層を稀塩酸、次いで稀苛性
ソーダ水、更に水で水洗し、濾過により少量の固形物を
除去しての1;1溶媒を減圧下で留去し残留物を乾燥l
・ルエン50111 VC溶解し、アルiすを充填した
カラムクロマト層を通した後、トルエンを濃縮し、再結
晶によりn製された目的の化合物トランス−4−メチル
オキシメチル−1−(4“−シアノ−4′−ビフエニリ
ル)シクロヘキサン(1)1゜1#をi*。
物QX) 2,8 t (0,007モル)とシアン化
第−銅0、’i’21 (0,008モル)とN、IJ
−ジメチルホルムアミド(DMF)1500を加え、6
時間還流下に加熱攪拌してのち冷却し、アンモニア水(
2t8%)2.2 m lを加え更にトルエン30Mを
加えた。それを分液し、有機層を稀塩酸、次いで稀苛性
ソーダ水、更に水で水洗し、濾過により少量の固形物を
除去しての1;1溶媒を減圧下で留去し残留物を乾燥l
・ルエン50111 VC溶解し、アルiすを充填した
カラムクロマト層を通した後、トルエンを濃縮し、再結
晶によりn製された目的の化合物トランス−4−メチル
オキシメチル−1−(4“−シアノ−4′−ビフエニリ
ル)シクロヘキサン(1)1゜1#をi*。
この物の融点(Ce li点)は156.’i’℃、透
明点(N−1点)は226.8℃であシ、又その元素分
析値は下記の如く計算値とよ〈一致した。
明点(N−1点)は226.8℃であシ、又その元素分
析値は下記の如く計算値とよ〈一致した。
実測値(勉 計算値(@(C1□H,31JOと12
で)CB2,5 8J59 ’H7,5’i’、59 N 4,5 4.58 実施例礼 3 実施例1に於ける第3段階のメチルアルす−ル0代リニ
夫々エチルアルコール、フロビルアルコールを用いてそ
のアルコキシドを作って使用する他は実施例1と同様に
して以下の化合物を得た。
で)CB2,5 8J59 ’H7,5’i’、59 N 4,5 4.58 実施例礼 3 実施例1に於ける第3段階のメチルアルす−ル0代リニ
夫々エチルアルコール、フロビルアルコールを用いてそ
のアルコキシドを作って使用する他は実施例1と同様に
して以下の化合物を得た。
トランス−ζ−エチルオキンメメチー1− (4//−
ノアノー4フービフエニリル)シクロヘキサンC−N点
106.6℃、N−1点194.4℃トランスー4−プ
ロピルオキンメテル−1−(4//−シアノー4′−ビ
フェニリル)シクロヘキサンC−N点92.9℃、N−
1点18o、o℃実施例4 (使用例1) からなる液晶組成物のネマチック液晶温度範囲(MR)
は−3〜52.δ°C20℃に於ける粘度マ。
ノアノー4フービフエニリル)シクロヘキサンC−N点
106.6℃、N−1点194.4℃トランスー4−プ
ロピルオキンメテル−1−(4//−シアノー4′−ビ
フェニリル)シクロヘキサンC−N点92.9℃、N−
1点18o、o℃実施例4 (使用例1) からなる液晶組成物のネマチック液晶温度範囲(MR)
は−3〜52.δ°C20℃に於ける粘度マ。
は250P、特電率異方性Δりは11.3 (g、、=
16,2εよ= 4.9 )でこれをセル厚10μmの
TIセルに封入したものしきい電圧は1.5V、飽和電
圧は2.2vΔ であった。
16,2εよ= 4.9 )でこれをセル厚10μmの
TIセルに封入したものしきい電圧は1.5V、飽和電
圧は2.2vΔ であった。
この液晶組成物に本発明の化合物の1つである部加えた
液晶組成物のMRFi−4〜60.1℃と主として高い
方に広が、Dsv*は28,209.ΔCは11.4
(l、、:=16.1. t、 = 4.7)であシ
、前記と同じ踵セルに封入したもののしきい電圧は1.
6■、飽和電圧は2.3vであった。
液晶組成物のMRFi−4〜60.1℃と主として高い
方に広が、Dsv*は28,209.ΔCは11.4
(l、、:=16.1. t、 = 4.7)であシ
、前記と同じ踵セルに封入したもののしきい電圧は1.
6■、飽和電圧は2.3vであった。
実施例5(使用例2)
からなる液晶組成物のネマチック液晶温度範囲(MR)
は−9,6〜62.5°C120℃に於ける粘度Vmt
i27.6cp、誘電率異方性Δ蓼は、−0,9(t、
、 = 3.7、t、 = 4.6 )でこれをセル厚
1oμmのTIセルに封入したものはΔεが負のためT
lilミセルて正常な作動ができない。
は−9,6〜62.5°C120℃に於ける粘度Vmt
i27.6cp、誘電率異方性Δ蓼は、−0,9(t、
、 = 3.7、t、 = 4.6 )でこれをセル厚
1oμmのTIセルに封入したものはΔεが負のためT
lilミセルて正常な作動ができない。
この液晶組成物に本発明の化合物である17−
加えた液晶組成物のMRは−8,4〜74,0℃と高い
方に広がシ、η、。は31 op −s ムtは2.2
(t、、 =: ’7.1、ののしきい電圧は2,9
V’:飽和電圧は3.9■でTNセルとして正常に作
動した。
方に広がシ、η、。は31 op −s ムtは2.2
(t、、 =: ’7.1、ののしきい電圧は2,9
V’:飽和電圧は3.9■でTNセルとして正常に作
動した。
以上
Claims (2)
- (1)一般式 (上式中Rは炭素数1〜8の直鎖のアルキル基を示す)
で表わされるトランス−4−アルキルオキシメチル−1
−(4”−シアノ−4′−ビフェニリル)シクロヘキサ
ン。 - (2)一般式 (上式中Rは炭素数1〜Bの直鎖のアルキル基を示す)
で表わされるトランス−4−アルキルオキシメチル−1
−(4”/アノー47−ビフェニリル)シクロヘキサン
を少なくトも1種含有することを%徴とする液晶組成物
。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17669881A JPS58180465A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | トランス−4−アルキルオキシメチル−1−(4″−シアノ−4′−ビフエニリル)シクロヘキサン類 |
US06/425,162 US4468340A (en) | 1981-10-04 | 1982-09-27 | Liquid-crystalline phenylcyclohexane derivatives |
DE3237020A DE3237020C2 (de) | 1981-10-07 | 1982-10-06 | Trans-4-Alkyloxymethyl-1-(4'-cyanophenyl)cyclohexane und trans-4-Alkyloxymethyl-1-(4"-cyano-4'-biphenylyl)cyclohexane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
CH5862/82A CH654828A5 (de) | 1981-10-07 | 1982-10-06 | Fluessigkristall-phenylcyclohexan-derivate. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17669881A JPS58180465A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | トランス−4−アルキルオキシメチル−1−(4″−シアノ−4′−ビフエニリル)シクロヘキサン類 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58180465A true JPS58180465A (ja) | 1983-10-21 |
JPH0224815B2 JPH0224815B2 (ja) | 1990-05-30 |
Family
ID=16018170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17669881A Granted JPS58180465A (ja) | 1981-10-04 | 1981-11-04 | トランス−4−アルキルオキシメチル−1−(4″−シアノ−4′−ビフエニリル)シクロヘキサン類 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58180465A (ja) |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP17669881A patent/JPS58180465A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0224815B2 (ja) | 1990-05-30 |
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