JPS58178534A - オリエンテ−シヨンフラツトの位置決め装置 - Google Patents

オリエンテ−シヨンフラツトの位置決め装置

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JPS58178534A
JPS58178534A JP6112282A JP6112282A JPS58178534A JP S58178534 A JPS58178534 A JP S58178534A JP 6112282 A JP6112282 A JP 6112282A JP 6112282 A JP6112282 A JP 6112282A JP S58178534 A JPS58178534 A JP S58178534A
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JP
Japan
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wafer
stopper
flat
orientation flat
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JP6112282A
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JPH0359582B2 (ja
Inventor
Katsuyoshi Kudo
勝義 工藤
Fumio Shibata
柴田 史雄
Yoshiji Kan
管 祥次
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Hitachi Sanki Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Sanki Engineering Co Ltd
Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58178534A publication Critical patent/JPS58178534A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、オリエンテーシ四ンフラットの位置決め装置
に係り、特に、エツチング装置等の半導体製造装置に好
適なオリエンテーシ曹ンフラットの位置決め装置に関す
るものである。
従来のオリエンテーシ璽ンフラット(以下、オリフラと
略)の位置決め装置例を第1図により説明する。
第1図は、従来、半導体製造装置に適用されているオリ
7うの位置決め装置の平面図で、ウェーハlOが載置さ
れ搬送される搬送ベルト□□□を横断した状態でガイド
ローラ30.31.32が、ウェーハ10の外周に沿っ
て配設され、また、ガイドローラ刃。
阻には、駆動歯車羽と共に噛合する一奉菖、墨が設けら
れ、ガイドローラ冨には、歯車あと噛合する噛車菖が設
けられている。この場合、ガイドロー230.31は同
一方向で同転し、また、ガイドローラ羽はガイドローラ
(資)、31と逆回転している。
搬送ベル)20に載置され搬送されてきたウェーハlO
の外周端面がガイドローラ30.31.32と接触状態
にある時は、オリフラ11がガイドローラ3五と対応す
る方向にウェーハ10は回転する。その後、オリフラ1
1がガイドローラ31と対応する位置に到達した時点で
、ウェーハ10の外周端面とガイドローラ31との接触
が断たれウェーノ・10の外周端面は、ガイドロー2菊
、32のみと接触するようになる。
二の状態で、ガイドローラ(資)、32は逆回転してい
るため、ウェーハ10の回転を打消す作用が生じウェー
ハlOの回転が停止し、オリフラの位置決めが完了する
。なお、その後、クエーハlOは、ガイドローラ刃、3
2の回転が停止され別手段により搬送される。
このようなオリ7うの位[&め装にでは、次のような欠
点があった。
(11オリ7うの位[決めが、ウェーハの外周端面と2
@のガイドローラとの摩擦力をバランスさせることで行
われ、また、オリフ2の位置決め完了後のガイドローラ
の回転停止時にづれが生1−るため、オリフ2の位置決
めを正確に行うことができない。
(2)  ウェーハ裏面と搬送ベルトとの滑り接触時間
が長く、また、ウェーハの外周端面とガイドローラとが
転りおよび滑り接触するため、この間に、塵埃が発生し
、つ、−ハの歩留りが低下する。
本発明は、上記欠点の除去を目的としたもので、別手段
により搬送されてきたウェーハのオリフラを概略位置決
めする概略位置決め装置と、ウェーハを停止させる停止
面とオリフラの位置決め面とを有するストッパーと、該
ストッパーのオリフラの位置決め曲にウェーハのオリフ
ラを押付ける押付け)、装置とで構成したことを特徴と
し、オリ7うの位置決めを正確に行うことができ、かつ
、ウェーハの歩留り低下を防止できるオリフラの位置決
め装置を提供するものである。
本発明の一実施例を第2図、第3固唾こより説明する。
Wi2図は、本発明によるオリフ2の位置決め装置の正
面図、第3図は、七の平面図で、テーブル歯率鉛が設け
られ軸受41で軸支されたテーブル細々が設けられたウ
ェーハ10が同心状に載lされるテーブルCと、テーブ
ル軸社がカップリング個を介してピスト/45に連接さ
れテーブル心を昇降させるテーブルシリンダ荀と、テー
ブル歯車軸荀と噛合する駆動−車47が設けられテーブ
ルーな回転させる回動装置48と、オリフラ11を非接
触で検出する検出装置、例えば、発光素子−と受光素子
間とからなるフォトセンサと、テーブルシリンダ柘と回
動装置!槌と受光素子間とが接続された制御装51!5
1とで構成された概略位置決め!jtHのテーブル心が
搬送ベルト9関に設けられ、また、オリフラ11が概略
位置決めに到達した時点で発光素子49から発した光を
受光素子(資)で受光できるように発光素子・と受光素
子(資)とが配設されている。テーブル43のウェーハ
搬送方向後方には、テーブル心と一一中心線上でストッ
パー印が昇降司能暑こ設け°られている。ストッパーω
は、ウェーハ搬送方向と対応する@向の下段憂こウェー
ハ10を一旦停止させる停止面61を、上段にオリ7う
11の位置決め面鑓を有し、また、その表向には、搬送
ベル)20が移動、かつ、挿脱可能な溝8を有している
。停止面61は位置決め面心より突出しており、停止面
61とテーブル心の側面とは、搬送ベル)20で搬送さ
れてきたウェーハlOが停止面61で一旦停止した状態
でテーブル葛に同心状に載置されるような間隔を有して
いる。ストッパ、−ωは、軸受6で昇降を支持されたス
トッパー軸錦に設けられ、ストッパー細めは、ストッパ
ーωを昇降させるストッパーシリンダ偶のピストン6月
二カップリグ鎚を介して連接されており、ストッパーシ
リンダ団によるストッパー(イ)の昇降は時間制御され
る。なお、この場合、ス)ツバ−(イ)の位置決め面心
にオリフラ11を押付ける装置は、搬送ベル)20であ
る。
今、搬送ベルBoにより第3図に示す状態でウェーハl
Oが搬送されてきたとする′と、まず、ウェーハlOは
ストッパωの停止面61に当接し一旦停止する。この状
態では発光素子紛から発した光はウェーハlOにより進
行を阻止され受光素子父で受光されないため、制御装置
[51でテーブルシリンダ柘が作動し、テーブル心が上
昇する。その結果、一旦停止しているウェーハ10はテ
ーブル心に同心状に載置されて搬送ベルト加より離脱す
る。その後、制御装置51で回動装置槌を駆動開始させ
、ウェーハWが載置されたテーブル葛を目動(第3図で
は、左回り)させる。ウェーハlOがテーブル葛に載置
されて回動し発光素子49から発した光が、その進行を
ウェーハlOで阻止されることなく受光素子間で受光さ
れると制御装[51で回動装置絽を駆動停止させ、オリ
7う11の概略位置決めが完了する。
その後、制御装[51でテーブルシリンダ槌を下降駆動
させテーブル−な下降させ、また、それと共につ、−ハ
10が位置決め面心で停止するようにストッパーシリン
ダ団を下降駆動させストッパーθを下降させる。テーブ
ルlの一ト降によりウェーハlOは搬送ベルト2Dに載
置されストッパーm)位st決め面心に向って搬込され
る。搬送されてきた・ウェーハlOは位置決め面Cに尚
接し、搬送ベルト加の搬送力で位1決め面621こ押付
けられることで、オリ7う11の位置決めが正確・こ行
われる。その後、ウェーハlOは別手段番こより受取ら
れ他の場所へ搬送される。
本実施例のようなオリフラの位置決めM&i(では、次
のような効果がある。
(1)搬送ベルトにより搬送されてきたウェーハのオリ
フラを概略位置決めした後場こ、ストッパーの位置決め
面に搬送ベルトの搬送力で押付けるようにしているので
、オリ72の位置決めを正確篭こ行うことができる。
(2)オリフラの位置決めを従来のよう6二転りおよび
滑り接触させないで行えるので、塵埃が発生しない。
なお、ウェーハを搬送する手段として本実施例では搬込
ベルトを用いた例につき説明したが、十の他にメカニカ
ルチャック、真空チャックを有する搬送アーム等の搬送
手段を用いても良い。また、押付は装置は、搬送ベルト
の他に、バネカ、気体圧力、油圧力、電磁力等を利用し
た押付は装置であっても良い。
本発明は、以上説明したように、オリフラの位置決め装
置を、搬送されてきたウェーハのオリ7うを概略位置決
めする概略位置決め装置と、ウェーハを一旦停止させる
停止面とオリ7″)の位置決め面とを有するストッパー
と、該ストッパーのオリフラの位置決め面にウェーハの
オリフラを押付ける押付は装置とで構成したことで、ウ
ェーハのオリフラを概略位置決めした後にストッパーの
オ ”リフラの位置決め面にウェーハのオリフラを押付
けてウェーハのオリフラの位置決めを行うことができ、
かつ、塵埃が発生すること、Jiないので、正確にウェ
ーハのオリフラの位[決めがで番、かつ、ウェーハの歩
留り低下を防止できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来のオリ7)の位1因め装置の平面図、第
2図は、本発明によるオリフラの位置決め装置の一実施
例を示す正面図、第3図は、その平面図である。 10・・・・・・ウェーハ、11・・・・・・オリフラ
、加・・・・・・搬送ベルト、荀・・・・・・テーブル
、槌・・曲テーブルシリンダ、槌・・・・・・回船装置
、O・・・・・・発光素子、父・・曲受光素子、51・
・・・・・制御装置、ω・・・・・・スト2ノ<−16
1・・・・・停止面、区・・・・・・位置決め面、B・
・・・・・溝、6・・・ストッパーシリンダ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 搬送されてきたウェーハのオリエンテーシ。 ンフラットを概略位置決めする概略位置決め装置と、前
    記ウェーハを一旦停止させる停止面と前記オリエンチー
    シーンフラットの位置決め面とを有するストッパーと、
    鋏ストッパーのオリエンチーシーンフラットq位厘医め
    面にウェーハのオリエンテーシ冒ンフラットを押付ける
    押付は装置とで構成したことを特徴とするオリエンテー
    シ冒ンフラットの位置決め装置。 2、 前記概略位置決め装ぼを、前記ウェーハが同心状
    に載置されるテーブルと、該テーブルを昇降、かつ、回
    動させる駆動装置と、前記オリエンチーシーンフラット
    を非接触で検出する検出該 装置と、棄検出装置と駆動IIi置とが接続された制御
    装置とで構成した特許請求の範囲第1項記載のオリエン
    チーシーンフラットの位置決め装[ 3、前記検出*mを、発光素子と受光素子とからなるフ
    ォトセンサとし、該フォトセンサの受光素子を制御装置
    に接続した特許請求の範囲iJz項記載のオリエンテー
    ションフラットの位置決め装置。 4 前記ストッパーの側面の下段を前記停止面、上段を
    前記オリエンテーシ四ンの位置決め面とし、該位置決め
    面より停止面を突出させた特許請求の範囲第1項記載の
    オリエンテーシ璽ンフラットの位W次め装置。 5、 前記ストッパーを、前記テーブルと同一中心線上
    で、かつ、テーブルの側面と前記停止面とに該停止面で
    一旦停止した前記ウェーハがテーブルに同心状に載置さ
    れるような間隔を有し昇降可能に設けた特許請求の範囲
    gJ2項又は第4項記載のオリエンテーシ璽ンフラット
    の位置°決め装置。 6 前記押付は装置を搬送ベルトとした特許請求の範囲
    第1項記載のオリエンテーシ曹ンフラットの位置決め装
    置。
JP6112282A 1982-04-14 1982-04-14 オリエンテ−シヨンフラツトの位置決め装置 Granted JPS58178534A (ja)

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JPS58178534A true JPS58178534A (ja) 1983-10-19
JPH0359582B2 JPH0359582B2 (ja) 1991-09-11

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ID=13161950

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0351240A (ja) * 1989-07-19 1991-03-05 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53122369A (en) * 1977-04-01 1978-10-25 Hitachi Ltd Automatic alignment unit for wafer
JPS5539021A (en) * 1978-09-14 1980-03-18 Hitachi Electronics Eng Co Ltd Automatic plate tester

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