JPH0359582B2 - - Google Patents
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- JPH0359582B2 JPH0359582B2 JP57061122A JP6112282A JPH0359582B2 JP H0359582 B2 JPH0359582 B2 JP H0359582B2 JP 57061122 A JP57061122 A JP 57061122A JP 6112282 A JP6112282 A JP 6112282A JP H0359582 B2 JPH0359582 B2 JP H0359582B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- orientation flat
- positioning
- stopper
- rotation
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 9
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 50
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、オリエンテーシヨンフラツトの位置
決め装置に係り、特に、エツチング装置等の半導
体製造装置に好適なオリエンテーシヨンフラツト
の位置決め装置に関するものである。
決め装置に係り、特に、エツチング装置等の半導
体製造装置に好適なオリエンテーシヨンフラツト
の位置決め装置に関するものである。
従来のオリエンテーシヨンフラツト（以下、オ
リフラと略）の位置決め装置例を第１図により説
明する。
リフラと略）の位置決め装置例を第１図により説
明する。
第１図は、従来、半導体製造装置に適用されて
いるオリフラの位置決め装置の平面図で、ウエー
ハ１０が載置され搬送される搬送ベルト２０を横
断した状態でガイドローラ３０，３１，３２が、
ウエーハ１０の外周に沿つて配設され、また、ガ
イドローラ３０，３１には、駆動歯車３３と共に
噛合する歯車３４，３５が設けられ、ガイドロー
ラ３２には、歯車３５と噛合する噛車３６が設け
られている。この場合、ガイドローラ３０，３１
は同一方向で回転し、また、ガイドローラ３２は
ガイドローラ３０，３１と逆回転している。
いるオリフラの位置決め装置の平面図で、ウエー
ハ１０が載置され搬送される搬送ベルト２０を横
断した状態でガイドローラ３０，３１，３２が、
ウエーハ１０の外周に沿つて配設され、また、ガ
イドローラ３０，３１には、駆動歯車３３と共に
噛合する歯車３４，３５が設けられ、ガイドロー
ラ３２には、歯車３５と噛合する噛車３６が設け
られている。この場合、ガイドローラ３０，３１
は同一方向で回転し、また、ガイドローラ３２は
ガイドローラ３０，３１と逆回転している。
搬送ベルト２０に載置され搬送されてきたウエ
ーハ１０の外周端面がガイドローラ３０，３１，
３２と接触状態にある時は、オリフラ１１がガイ
ドローラ３１と対応する方向にウエーハ１０は回
転する。その後、オリフラ１１がガイドローラ３
１と対応する位置に到達した時点で、ウエーハ１
０の外周端面とガイドローラ３１との接触が断た
れウエーハ１０の外周端面は、ガイドローラ３
０，３２のみと接触するようになる。この状態
で、ガイドローラ３０，３２は逆回転しているた
め、ウエーハ１０の回転を打消す作用が生じウエ
ーハ１０の回転が停止し、オリフラの位置決めが
完了する。なお、その後、ウエーハ１０は、ガイ
ドローラ３０，３２の回転が停止され別手段によ
り搬送される。
ーハ１０の外周端面がガイドローラ３０，３１，
３２と接触状態にある時は、オリフラ１１がガイ
ドローラ３１と対応する方向にウエーハ１０は回
転する。その後、オリフラ１１がガイドローラ３
１と対応する位置に到達した時点で、ウエーハ１
０の外周端面とガイドローラ３１との接触が断た
れウエーハ１０の外周端面は、ガイドローラ３
０，３２のみと接触するようになる。この状態
で、ガイドローラ３０，３２は逆回転しているた
め、ウエーハ１０の回転を打消す作用が生じウエ
ーハ１０の回転が停止し、オリフラの位置決めが
完了する。なお、その後、ウエーハ１０は、ガイ
ドローラ３０，３２の回転が停止され別手段によ
り搬送される。
このようなオリフラの位置決め装置では、次の
ような欠点があつた。
ような欠点があつた。
(1) オリフラの位置決めが、ウエーハの外周端面
と２個のガイドローラとの摩擦力をバランスさ
せることで行われ、また、オリフラの位置決め
完了後のガイドローラの回転停止時にづれが生
じるため、オリフラの位置決めを正確に行うこ
とができない。
と２個のガイドローラとの摩擦力をバランスさ
せることで行われ、また、オリフラの位置決め
完了後のガイドローラの回転停止時にづれが生
じるため、オリフラの位置決めを正確に行うこ
とができない。
(2) ウエーハ裏面と搬送ベルトとの滑り接触時間
が長く、また、ウエーハの外周端面とガイドロ
ーラとが転りおよび滑り接触するため、この間
に、塵埃が発生し、ウエーハの歩留りが低下す
る。
が長く、また、ウエーハの外周端面とガイドロ
ーラとが転りおよび滑り接触するため、この間
に、塵埃が発生し、ウエーハの歩留りが低下す
る。
本発明は、上記欠点の除去を目的としたもの
で、搬送手段によるウエーハの搬送を停止させる
停止面と前記ウエーハのオリフラの位置決め面と
を有するストツパーと、前記停止面で搬送を停止
された前記ウエーハの有無を検知するウエーハ有
無検知装置と、前記停止面で搬送を停止された前
記ウエーハを載置面に同心状に載置可能、かつ、
該載置面を回動面として回動可能に設けられたテ
ーブルと、前記停止面で搬送を停止された前記ウ
エーハを前記搬送手段から前記テーブルに渡して
前記載置面に同心状に載置させるように前記テー
ブルを昇降する昇降装置と、前記載置面に前記ウ
エーハが載置された前記テーブルを回動させる回
動装置と、前記テーブルと一体回動している前記
ウエーハのオリフラを前記位置決め面と対応し非
接触で検出する検出装置と、該検出装置での検出
と共に前記テーブルの回動停止により概略位置決
めされた前記ウエーハのオリフラを前記位置決め
面に押し付ける押付け装置とを具備したことを特
徴とし、搬送手段により搬送されてきたウエーハ
のオリフラの位置決めを、塵埃によるウエーハの
歩留り低下を抑制して正確に行うことができるオ
リフラの位置決め装置を提供するものである。
で、搬送手段によるウエーハの搬送を停止させる
停止面と前記ウエーハのオリフラの位置決め面と
を有するストツパーと、前記停止面で搬送を停止
された前記ウエーハの有無を検知するウエーハ有
無検知装置と、前記停止面で搬送を停止された前
記ウエーハを載置面に同心状に載置可能、かつ、
該載置面を回動面として回動可能に設けられたテ
ーブルと、前記停止面で搬送を停止された前記ウ
エーハを前記搬送手段から前記テーブルに渡して
前記載置面に同心状に載置させるように前記テー
ブルを昇降する昇降装置と、前記載置面に前記ウ
エーハが載置された前記テーブルを回動させる回
動装置と、前記テーブルと一体回動している前記
ウエーハのオリフラを前記位置決め面と対応し非
接触で検出する検出装置と、該検出装置での検出
と共に前記テーブルの回動停止により概略位置決
めされた前記ウエーハのオリフラを前記位置決め
面に押し付ける押付け装置とを具備したことを特
徴とし、搬送手段により搬送されてきたウエーハ
のオリフラの位置決めを、塵埃によるウエーハの
歩留り低下を抑制して正確に行うことができるオ
リフラの位置決め装置を提供するものである。
本発明の一実施例を第２図、第３図により説明
する。
する。
第２図は、本発明によるオリフラの位置決め装
置の正面図、第３図は、その平面図で、テーブル
歯車４０が設けられ軸受４１で軸支されたテーブ
ル軸４２が設けられたウエーハ１０が同心状に載
置されるテーブル４３と、テーブル軸４２がカツ
プリング４４を介してピストン４５に連接されテ
ーブル４３を昇降させるテーブルシリンダ４６
と、テーブル歯車軸４０と噛合する駆動歯車４７
が設けられテーブル４３を回転させる回動装置４
８と、オリフラ１１を非接触で検出する検出装
置、例えば、発光素子４９と受光素子５０とから
なるフオトセンサと、テーブルシリンダ４６と回
動装置４８と受光素子５０とが接続された制御装
置５１とで構成された概略位置決め装置のテーブ
ル４３が搬送ベルト２０間に設けられ、また、オ
リフラ１１が概略位置決めに到達した時点で発光
素子４９から発した光を受光素子５０で受光でき
るように発光素子４９と受光素子５０とが配設さ
れている。このようにフオトセンサは、この場
合、オリフラ１１を非接触で検出すると共に、ス
トツパー６０の停止面６１で搬送を停止されたウ
エーハ１０の有無を検知する機能を有する。ま
た、テーブルシリンダ４６は、搬送ベルト２０か
らテーブル４３にウエーハ１０を渡す機能を併せ
有している。テーブル４３のウエーハ搬送方向後
方には、テーブル４３と同一中心線上でストツパ
ー６０が昇降可能に設けられている。ストツパー
６０は、ウエーハ搬送方向と対応する側面の下段
にウエーハ１０を一旦停止させる停止面６１を、
上段にオリフラ１１の位置決め面６２を有し、ま
た、その表面には、搬送ベルト２０が移動、か
つ、挿脱可能な溝６３を有している。停止面６１
は位置決め面６２より突出しており、停止面６１
とテーブル４３の側面とは、搬送ベルト２０で搬
送されてきたウエーハ１０が停止面６１で一旦停
止した状態でテーブル４３に同心状に載置される
ような間隔を有している。ストツパー６０は、軸
受６４で昇降を支持されたストツパー軸６５に設
けられ、ストツパー軸６５は、ストツパー６０を
昇降させるストツパーシリンダ６６のピストン６
７にカツプリグ６８を介して連接されており、ス
トツパーシリンダ６６によるストツパー６０の昇
降は時間制御される。なお、この場合、ストツパ
ー６０の位置決め面６２にオリフラ１１を押付け
る装置は、搬送ベルト２０である。
置の正面図、第３図は、その平面図で、テーブル
歯車４０が設けられ軸受４１で軸支されたテーブ
ル軸４２が設けられたウエーハ１０が同心状に載
置されるテーブル４３と、テーブル軸４２がカツ
プリング４４を介してピストン４５に連接されテ
ーブル４３を昇降させるテーブルシリンダ４６
と、テーブル歯車軸４０と噛合する駆動歯車４７
が設けられテーブル４３を回転させる回動装置４
８と、オリフラ１１を非接触で検出する検出装
置、例えば、発光素子４９と受光素子５０とから
なるフオトセンサと、テーブルシリンダ４６と回
動装置４８と受光素子５０とが接続された制御装
置５１とで構成された概略位置決め装置のテーブ
ル４３が搬送ベルト２０間に設けられ、また、オ
リフラ１１が概略位置決めに到達した時点で発光
素子４９から発した光を受光素子５０で受光でき
るように発光素子４９と受光素子５０とが配設さ
れている。このようにフオトセンサは、この場
合、オリフラ１１を非接触で検出すると共に、ス
トツパー６０の停止面６１で搬送を停止されたウ
エーハ１０の有無を検知する機能を有する。ま
た、テーブルシリンダ４６は、搬送ベルト２０か
らテーブル４３にウエーハ１０を渡す機能を併せ
有している。テーブル４３のウエーハ搬送方向後
方には、テーブル４３と同一中心線上でストツパ
ー６０が昇降可能に設けられている。ストツパー
６０は、ウエーハ搬送方向と対応する側面の下段
にウエーハ１０を一旦停止させる停止面６１を、
上段にオリフラ１１の位置決め面６２を有し、ま
た、その表面には、搬送ベルト２０が移動、か
つ、挿脱可能な溝６３を有している。停止面６１
は位置決め面６２より突出しており、停止面６１
とテーブル４３の側面とは、搬送ベルト２０で搬
送されてきたウエーハ１０が停止面６１で一旦停
止した状態でテーブル４３に同心状に載置される
ような間隔を有している。ストツパー６０は、軸
受６４で昇降を支持されたストツパー軸６５に設
けられ、ストツパー軸６５は、ストツパー６０を
昇降させるストツパーシリンダ６６のピストン６
７にカツプリグ６８を介して連接されており、ス
トツパーシリンダ６６によるストツパー６０の昇
降は時間制御される。なお、この場合、ストツパ
ー６０の位置決め面６２にオリフラ１１を押付け
る装置は、搬送ベルト２０である。
今、搬送ベルト２０により第３図に示す状態で
ウエーハ１０が搬送されてきたとすると、まず、
ウエーハ１０はストツパ６０の停止面６１に当接
し一旦停止する。この状態では発光素子４９から
発した光はウエーハ１０により進行を阻止され受
光素子５０で受光されないため、制御装置５１で
テーブルシリンダ４６が作動し、テーブル４３が
上昇する。その結果、一旦停止しているウエーハ
１０はテーブル４３に同心状に載置されて搬送ベ
ルト２０より離脱する。その後、制御装置５１で
回動装置４８を駆動開始させ、ウエーハ１０が載
置されたテーブル４３を回動（第３図では、左回
り）させる。ウエーハ１０がテーブル４３に載置
されて回動し発光素子４９から発した光が、その
進行をウエーハ１０で阻止されることなく受光素
子５０で受光されると制御装置５１で回動装置４
８を駆動停止させ、オリフラ１１の概略位置決め
が完了する。その後、制御装置５１でテーブルシ
リンダ４６を下降駆動させテーブル４３を下降さ
せ、また、それと共にウエーハ１０が位置決め面
６２で停止するようにストツパーシリンダ６６を
下降駆動させストツパー６０を下降させる。テー
ブル４３の下降によりウエーハ１０は搬送ベルト
２０に載置されストツパー６０の位置決め面６２
に向つて搬送される。搬送されてきたウエーハ１
０は位置決め面６２に当接し、搬送ベルト２０の
搬送力で位置決め面６２に押付けられることで、
オリフラ１１の位置決めが正確に行われる。その
後、ウエーハ１０は別手段により受取られ他の場
所へ搬送される。
ウエーハ１０が搬送されてきたとすると、まず、
ウエーハ１０はストツパ６０の停止面６１に当接
し一旦停止する。この状態では発光素子４９から
発した光はウエーハ１０により進行を阻止され受
光素子５０で受光されないため、制御装置５１で
テーブルシリンダ４６が作動し、テーブル４３が
上昇する。その結果、一旦停止しているウエーハ
１０はテーブル４３に同心状に載置されて搬送ベ
ルト２０より離脱する。その後、制御装置５１で
回動装置４８を駆動開始させ、ウエーハ１０が載
置されたテーブル４３を回動（第３図では、左回
り）させる。ウエーハ１０がテーブル４３に載置
されて回動し発光素子４９から発した光が、その
進行をウエーハ１０で阻止されることなく受光素
子５０で受光されると制御装置５１で回動装置４
８を駆動停止させ、オリフラ１１の概略位置決め
が完了する。その後、制御装置５１でテーブルシ
リンダ４６を下降駆動させテーブル４３を下降さ
せ、また、それと共にウエーハ１０が位置決め面
６２で停止するようにストツパーシリンダ６６を
下降駆動させストツパー６０を下降させる。テー
ブル４３の下降によりウエーハ１０は搬送ベルト
２０に載置されストツパー６０の位置決め面６２
に向つて搬送される。搬送されてきたウエーハ１
０は位置決め面６２に当接し、搬送ベルト２０の
搬送力で位置決め面６２に押付けられることで、
オリフラ１１の位置決めが正確に行われる。その
後、ウエーハ１０は別手段により受取られ他の場
所へ搬送される。
本実施例のようなオリフラの位置決め装置で
は、次のような効果がある。
は、次のような効果がある。
(1) 搬送ベルトにより搬送されてきたウエーハの
オリフラを概略位置決めした後に、ストツパー
の位置決め面に搬送ベルトの搬送力で押付ける
ようにしているので、オリフラの位置決めを正
確に行うことができる。
オリフラを概略位置決めした後に、ストツパー
の位置決め面に搬送ベルトの搬送力で押付ける
ようにしているので、オリフラの位置決めを正
確に行うことができる。
(2) オリフラの位置決めを従来のように転りおよ
び滑り接触させないで行えるので、塵埃が発生
しない。
び滑り接触させないで行えるので、塵埃が発生
しない。
なお、ウエーハを搬送する手段として本実施例
では搬送ベルトを用いた例につき説明したが、そ
の他にメカニカルチヤツク、真空チヤツクを有す
る搬送アーム等の搬送手段を用いても良い。ま
た、押付け装置は、搬送ベルトの他に、バネ力、
気体圧力、油圧力、電磁力等を利用した押付け装
置であつても良い。
では搬送ベルトを用いた例につき説明したが、そ
の他にメカニカルチヤツク、真空チヤツクを有す
る搬送アーム等の搬送手段を用いても良い。ま
た、押付け装置は、搬送ベルトの他に、バネ力、
気体圧力、油圧力、電磁力等を利用した押付け装
置であつても良い。
本発明によれば、搬送されてきたウエーハのオ
リフラの概略位置決めを転りおよび滑り接触なく
塵埃の発生を抑制して行え、かつ、オリフラを概
略位置決めした後にストツパーの位置決め面にオ
リフラを押し付けて該オリフラの位置決めを行う
ことができるので、搬送されてきたウエーハのオ
リフラを塵埃によるウエーハの歩留り低下を抑制
して正確に位置決めできるという効果がある。
リフラの概略位置決めを転りおよび滑り接触なく
塵埃の発生を抑制して行え、かつ、オリフラを概
略位置決めした後にストツパーの位置決め面にオ
リフラを押し付けて該オリフラの位置決めを行う
ことができるので、搬送されてきたウエーハのオ
リフラを塵埃によるウエーハの歩留り低下を抑制
して正確に位置決めできるという効果がある。
第１図は、従来のオリフラの位置決め装置の平
面図、第２図は、本発明によるオリフラの位置決
め装置の一実施例を示す正面図、第３図は、その
平面図である。 １０……ウエーハ、１１……オリフラ、２０…
…搬送ベルト、４３……テーブル、４６……テー
ブルシリンダ、４８……回動装置、４９……発光
素子、５０……受光素子、５１……制御装置、６
０……ストツパー、６１……停止面、６２……位
置決め面、６３……溝、６６……ストツパーシリ
ンダ。
面図、第２図は、本発明によるオリフラの位置決
め装置の一実施例を示す正面図、第３図は、その
平面図である。 １０……ウエーハ、１１……オリフラ、２０…
…搬送ベルト、４３……テーブル、４６……テー
ブルシリンダ、４８……回動装置、４９……発光
素子、５０……受光素子、５１……制御装置、６
０……ストツパー、６１……停止面、６２……位
置決め面、６３……溝、６６……ストツパーシリ
ンダ。
Claims (1)
- １ 搬送手段によるウエーハの搬送を停止させる
停止面と前記ウエーハのオリエンテーシヨンフラ
ツトの位置決め面とを有するストツパーと、前記
停止面で搬送を停止された前記ウエーハの有無を
検知するウエーハ有無検知装置と、前記停止面で
搬送を停止された前記ウエーハを載置面に同心状
に載置可能、かつ、該載置面を回動面として回動
可能に設けられたテーブルと、前記停止面で搬送
を停止された前記ウエーハを前記搬送手段から前
記テーブルに渡して前記載置面に同心状に載置さ
せるように前記テーブルを昇降する昇降装置と、
前記載置面に前記ウエーハが載置された前記テー
ブルを回動させる回動装置と、前記テーブルと一
体回動している前記ウエーハのオリエンテーシヨ
ンフラツトを前記位置決め面と対応し非接触で検
出する検出装置と、該検出装置での検出と共に前
記テーブルの回動停止により概略位置決めされた
前記ウエーハのオリエンテーシヨンフラツトを前
記位置決め面に押し付ける押付け装置とを具備し
たことを特徴とするオリエンテーシヨンフラツト
の位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6112282A JPS58178534A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | オリエンテ−シヨンフラツトの位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6112282A JPS58178534A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | オリエンテ−シヨンフラツトの位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58178534A JPS58178534A (ja) | 1983-10-19 |
| JPH0359582B2 true JPH0359582B2 (ja) | 1991-09-11 |
Family
ID=13161950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6112282A Granted JPS58178534A (ja) | 1982-04-14 | 1982-04-14 | オリエンテ−シヨンフラツトの位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58178534A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0351240A (ja) * | 1989-07-19 | 1991-03-05 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53122369A (en) * | 1977-04-01 | 1978-10-25 | Hitachi Ltd | Automatic alignment unit for wafer |
| JPS5539021A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-18 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Automatic plate tester |
-
1982
- 1982-04-14 JP JP6112282A patent/JPS58178534A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53122369A (en) * | 1977-04-01 | 1978-10-25 | Hitachi Ltd | Automatic alignment unit for wafer |
| JPS5539021A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-18 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Automatic plate tester |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58178534A (ja) | 1983-10-19 |
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