JPS5965429A - ウエハのプリアライメント装置 - Google Patents

ウエハのプリアライメント装置

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JPS5965429A
JPS5965429A JP57174534A JP17453482A JPS5965429A JP S5965429 A JPS5965429 A JP S5965429A JP 57174534 A JP57174534 A JP 57174534A JP 17453482 A JP17453482 A JP 17453482A JP S5965429 A JPS5965429 A JP S5965429A
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
photoelectric
orientation flat
vacuum
components
Prior art date
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Pending
Application number
JP57174534A
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English (en)
Inventor
Minoru Yoshida
実 吉田
Minoru Ikeda
稔 池田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5965429A publication Critical patent/JPS5965429A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体ウェハ(以下、単にウェハと言う)の加
工機械などに用い5れbプリアライメント装置に関する
ものである。
〔、従来技術〕    。
ウェハの加工、若しくは検査を行なう機械には該ウェハ
を精密に位置合わせする装置が設げられるが、この精密
位置合わせ装置を作動せしめるための準備として予め概
略的な位置、姿勢を合わすことが必要である。このため
、従来一般にプリアライメント装置が用いられる。
従来一般に用いられているプリアライメント装置を作動
原理的に大別すると欠配の23類となるが、いずれもウ
ェハを0−ラに当接せしめて位置決め(姿勢決めを含む
、以下同様)を行なうものである。
第1図は上記2種類の従来形プリアライメント装置中の
一方の装置の作動原理説明図である。
1はほぼ円形のウェハ、2はその円周の一部を直ψ的に
切り欠いた形状のオリフラであり、Lはオリンラ長であ
る。
第1図−)に示すごとくウェハ1の円周に沿って当接す
るように3個のローラ3a〜1.3α−2゜6α−3が
設けられ、これに対向し1゛:同様に3個のローラ56
−1 e 36−2 + 5b−5が設けられている。
これら6個ずつのO−ラは互いに相対的位装置を保った
まま、それぞれ往復矢印イロ、イロの如く接近・離間せ
しめ得る構造である。
前記の各6個のローラの間隔を適宜に設定しておくと、
これらのローラを矢印イ、イ′方向に接近させてウェハ
1を挾持せしめたとき、オリフラ2の位置の如何に拘ら
ずウェハ1の中心点0がほぼ位置決めされる。
一方、オリフラ長りよりも短か(・間隔に設けた1対の
ローラ4α、4bをウェハ1の中心点Oの方向に付勢し
た構造になっており、これら1対のローラ4a、 4b
をウェハ1に押し−)けながら該ウェハ1を回転させる
オリフラ2がローラ4α、及び同4hに正対すると第1
図V3)の如く上記2個のロー:lはウェハの中心点O
に接近し、かつ、2個の【スーツの中心を結ぶ線ハニの
垂直2等分線がオリフラ1の中心点Oを通るようになる
。そしてウェハ1が回転して第1図(油の状態となる直
前においては上記の線ハニの垂直2等分線が点0から外
れる。
これによりオリフラ2がローラ4a、4bに正対した瞬
間を、同ローラ4α、4bの位置を検知することによっ
て検出される。
第2図は前記の2種類の従来形プリアライメント装置中
の他方の装置の作動原理説明図であ机 第2図(、q)に示すごとく、1対のローラ4及びこれ
と適宜に離間[7た1個のローラ3によってウェハ1を
回転させて(回転方向の1例を矢印で示す)、オリフラ
2が1対のロー24の双方に当接すると第2図(731
のようにローラ5を矢印ホの如くウェハ1に押しつげる
。これによりウェハ1の位置決めが為される。
第1図および第2図にそれぞれ示した従来形のプリアラ
イメント装置【おいては、いずれもローラがウェハ1の
外周に当接する。このためウェハ1が機械的に損傷を蒙
る虞れがある。
〔発明の目的〕
本発明は上記の事情に鑑みて為され、その目的とすると
ころはウェハに損傷を与える虞れ無く高能率でウェハの
概略的な位置決めを行ない得るプリアライメント装置を
提供するにある。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するため、本発明は、水平な直交2軸
方向に平行移動可能な環状のXY平行移動テーブルと、
上記XY平行移動テーブルの中心に設置した回転テーブ
ルと、上記各テーブルの上面に形成した真空吸着手段と
を備え、かつ、上記の真空吸着手段に吸着されたウェハ
の外周を検出するように2個ずつ対向せしめて少なくと
も2対の光電素子を設けるとともに。
上記ウェハのオリ7う部を判定するようにオリフラ長以
内の距離に並べて少なくとも2個の光電素子を設けて、
ウェハな非接触的に検知しつつ概略位置ぎめし得るよう
に構成l−たことを特徴とする。上記のごとく、ウェハ
に当接するローラを設げずに光電素子によって非接触的
にウェハを検出するので、ウェハがローラの当接によっ
て蒙る損傷は未然にかつ完全に防止することができる。
〔発明の実施例〕
次に本発明の一実施例を第3図乃至第6図について説明
する。
第3図は本発明のウェハのプリアライメント装置の平面
図である。第4図及び第5図は第3図の1−1断面図で
、それぞれ異なる作動状態描いた図である。
XY平行移動テーブル6は、ベース7に固定した直線ベ
アリング9によりYテーブル8をY軸方向に案内すると
共に、上記Yテーブルに固定した直線ベアリング14に
よりXテーブル16をX軸方向に案内し、かつ、Y駆動
源10によりボール12を介してYテーブルを図示上方
に駆動し得るように構成すると共に、X駆動源15によ
りボール17を介してXテーブルを図示右方に駆動し得
るように構成し、その中央部に開口6αを設けである。
11はYテーブル8をボール12に当接せしめるように
付勢するバネ、16は同様VCXテ−プル13をポール
17に向けて付勢ゴるバネである。
上記のXテーブル13の上面にウェハ1を吸着するため
の真空溝18が設けである。又、ウェハ1を移送するた
め、Xテーブル13ニ形成した1対の溝19に、互いに
平行な1対の・−ル)20を張り渡しである。
ウェハ1は上記のベルト2oによ−1て送りこまれ、X
テーブル13の上に載せられ(真空溝18に吸着される
。第4図に示すようにYテーブル8の空間21とXテー
ブル16の空間22にプラク・ソト23がベース7に取
り付けられ1回転テーブル24は直線回転ベアリング2
5により回転、上下摺動可能に取り付けられている。回
転テーブル24の下方にはギヤ26が切られ、ビニホン
27とがみ合い、上下方向の動きを許容してモータ2B
Kより回転せしめ得る。モータ28はプラク・ノド23
に取り付けられている。回転テーブル24の下方にボー
ル29を介して駆動源60が設けられ、この駆動源60
によって回転テーブル24を一ヒ下に駆動し得る。上記
の回転テーブル24の上面にはウェハ1を吸Mするため
の真空溝31を設けである。
第3図に示すよ5に、測定距離に対応して直線的に変化
する出力信号が得られるような機能を有する6個の光電
素子33’−1、36−2〜35−6をウェハ取付位置
の周囲に放射状に、2個ずつ正対せしめて配設する。5
5−1.55−2は。
オリフラ2の位置を検出するために並べて設置した1対
の光電素子である。この光電素子35−1.35−2に
よるオリフラ検出のメカニズムは第6図について後述す
る。32は、ベルト20によるウェハ1の送りこみ作動
の停止位置を検出するための光電スイッチである。
本実施例は以上のように構成しであるので、次に述べる
ようにしてプリアライメントを行ない得る。ウェハ1は
ベル+217により搬送されXY平行移動テーブル6上
に送りこまれ、光電スイッチ52により端部を検出した
ときベル)20の搬送を停止して該ベルト2oを下降さ
せ、ウェハ1をXテーブル13上に乗せかえる。真空溝
18に真空を供給してウェハ1は吸着される。この時オ
リフラ2の位置がどの位置にあン)か不明のため、光電
素子33−1 、53−2 、33−3 、35−4゜
55−5.33−6の信号の組み合わせでY駆動源10
、X駆動源15に信号を与える。この光電素子はすべて
出力をウェハ1の径が小亡くなる方向にプラスとする。
そして、互いに対向する光電素子(35−1と35−4
 ) (33−2J6!l−5)(55−3と33−6
)の2個組をペアとし、2個の出力信号の和によりウェ
ハ1の径を測定する。
ウェハ1のオリフラ2が光電素子にかかる場合があり得
るので、ペアの出力の差が大きいベアは、無視し、他の
2組のペア九よりウエノ11の径を測定する、例えば第
3図に示″4″如く光電素子55−4にオリフラ2がか
かったとした場合2組のベア(33−2と55−5 )
 (31−3と35−6)を使用する。まず光電素子5
3−2と66−5が同じ出力信号になる様出力信号の差
によりX方向の駆動源15に信号を与えXテーブル13
を移動させ、上記の出力信号が一致したら1次に光電素
子33−5と63−6が同じ出力信号になる様出力信号
の差によりY方向の駆動源10に信号を与えYテーブル
8を移動させる。又、光電素子63−5や53−6にか
かった場合や、対向する光電素子55−1 、35−2
 、55−5の場合でも同じ方法でまず、XY平行移動
テーブル6の平行移動しうる側から移動させ、その後、
他の方向を移動させる。この動作を繰り返し行なって精
度を上げ、ウェハ1を回転テーブル24の中心に合わせ
ゐ。次に回転テーブル24の駆動源30によりウェハ1
の下面まで回転テーブル24を上昇させ、真空溝31に
真空を供給し、XY平行移動テーブル6の真空溝18の
真空を開放し1回転テーブル24にウェハ1を移し替え
、さらに回転テーブル24を上昇させ第5図に示す如く
完全にXY平行移動テーブル6からウェハ1を分離させ
た後、モータ28を運転して第6図(,41に示す如く
ウェハ1を回転させ、光電スイ・ノチ54が第17フラ
2を検出すると、充電素子55−1.55−2が検出を
開始し、信号の差を測定して同図(B)の如く2個の出
力信号が同一になるまでモータ28を回転させ同一にな
るモータ28を停止させる。これによりプリアライメン
トが完了し1次工程としての精密アライメントを行ない
得る状態となる。
上述の構造機能から明らかなように5本発明装置はウェ
ハの位置の検出、およびオリフラの方向の検出を非接触
的に行なうので、ローラの当接によるウェハの損傷を発
生する虞れが無い上に、上記の位置検出、方向検出を光
電的に行なうので制御作動が速やかであり、かつ、自動
制御装置の適用が容易で能率向上に貢献するところが太
きい。
以上1本発明の一実施例について説明したが次に上記と
異なる実施例、応用例シ1゛、ついて略述する。
前記の実施例ではYテーブル8の上にXテーブル13を
搭載してXY平行移動テーブル6を構成した。が、一体
のXYテーブルを用いてもよい。
前記の実施例ではウェハ1の搬送にベルト20を用いた
が、エアー搬送することもできる。
前記の実施例ではウェハの径の検出に6個の光電素子3
3−1.35−2〜66−6を用いたが。
対向せしめた2対の光電素子を相互に直交せしめて計4
個の光電素子を用いて構成することもできる。この場合
は対向する1対の光電素子ごとにウェハ1の径を測定し
、双方の測定値が一致しないときは4個の光電素子の内
のいずれか1個がオリ7う2に対向しているものと判断
されるので回転テーブル24を約45°回転させて再測
定する。
前記の実施例ではXY平行移動テーブル6は上下方向の
駆動ができず、回転テーブル24を上下に駆動できるよ
うに構成したが、これを逆にしてもよい。また、双方の
テーブルを上下駆動しないで真空吸着の切り換えによっ
てウェハ1を受は渡しせしめることも可能である。この
構成はウェハ1に反りが少ない場合に適している。
前記の実施例では、ウェハの端部検出と、オリフラ部の
検出に光電スイッチを使用したが。
その場所に配置した充電素子の出力を所定のスレ・ソシ
ョルドにて2値化してウェハの有無スイ・・チと兼用し
ても実現可能である。
〔発明の効果〕
以上詳述したように1本発明によれば、ウェハに損傷を
与える虞れ無く高能率でウェハの概略的な位置決めをす
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(,41、(B1は従来形のウエノ為のプリアラ
イメント装置の1例の作動原理の説明図、第2図は同じ
く他の例の作動原理の説明図である。第6図乃至第6図
は本発明の一実施G?iを示し、第3図は平面図、第4
図及び第5図は作動説明を兼ねた7−1断面図、第6図
−)、囚)は作動原理説明図である。 11ウエハ+21オリ7う、6rXY平行移動テーブル
、7:ベース、8;Yツー−プル。 10:Y駆動源、1srXテーブル、i5+x駆動源2
0:ベルト、241回転テーブル、268ギヤ。 27:ビニオン、28;モータ、30+駆動源、521
光電スイツチ、65−1〜55−6i)u電素子。 34;光電スイッチ、 55−1.35−21光電素子
。 代理人弁理士 薄 出 利1と*”′’S>第1図(A
) 第1図(B) オど図(八2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 水平な直交2軸方向に平行移動可能で中央に開口を有す
    るXY平行移動テーブルと、上記XY平行移動テーブル
    の中心に設置1.た回転テーブルと、上記各テーブルの
    上面に形成した真空吸着手段とを備え、かつ、上記の真
    空吸着手段に吸着されたウェハの外周を検出するように
    2個ずつ対向せしめて少なくとも2対の充電素子を設け
    るとともに、上記ウェハのナリフラ部を判定するように
    オリ7う長以内の距離VC並べて少なくとも2個の光電
    素子を設は−〔、ウェハな非接触的に検知しつつ概略位
    置ぎめし得るように構成したことを特徴とするウェハの
    1リアライメント装置。
JP57174534A 1982-10-06 1982-10-06 ウエハのプリアライメント装置 Pending JPS5965429A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60221885A (ja) * 1984-04-18 1985-11-06 Toshiba Corp パタ−ン認識用固体撮像装置
JPS6251237A (ja) * 1985-08-30 1987-03-05 Canon Inc ウェハ搬送装置
JPS63107139A (ja) * 1986-10-24 1988-05-12 Nikon Corp 感光基板のアライメント方法
JPS6457104A (en) * 1987-08-28 1989-03-03 Nikon Corp Measuring apparatus of amount of positional deviation of circular substrate

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