JPS58121134A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS58121134A JPS58121134A JP390282A JP390282A JPS58121134A JP S58121134 A JPS58121134 A JP S58121134A JP 390282 A JP390282 A JP 390282A JP 390282 A JP390282 A JP 390282A JP S58121134 A JPS58121134 A JP S58121134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- substrate
- magnetic recording
- sources
- electron beams
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は短波長記録に適した金属薄膜形の記録媒体で、
磁化容易軸が、基板面に垂直方向にあるいわゆる垂直記
録用媒体と、通常の面内記録媒体の両者の製造のいずれ
にも適用される製造方法に係わり、蒸気圧の異なる２つ
以上の元素から成る合金の磁性層を安定にかつ、性能を
高めて製造する方法を提供しようとするものである。
磁化容易軸が、基板面に垂直方向にあるいわゆる垂直記
録用媒体と、通常の面内記録媒体の両者の製造のいずれ
にも適用される製造方法に係わり、蒸気圧の異なる２つ
以上の元素から成る合金の磁性層を安定にかつ、性能を
高めて製造する方法を提供しようとするものである。
垂直記録用媒体の代表的な材料であるＣｏ−Ｃｒ合金、
又はｃｏ−Ｃｒに第３元素を添加した合金は、角形比の
良好な面内記録用媒体としても有用であることは実験室
規模で確かめられている。
又はｃｏ−Ｃｒに第３元素を添加した合金は、角形比の
良好な面内記録用媒体としても有用であることは実験室
規模で確かめられている。
一方その製造方法としては、高周波スパッタリング等の
スパッタリング法によるのか大半で、一部真空蒸着によ
っても、垂直磁化膜の条件を満足出来る製造方法の提案
がみられる。
スパッタリング法によるのか大半で、一部真空蒸着によ
っても、垂直磁化膜の条件を満足出来る製造方法の提案
がみられる。
しかし高速で基板を巻取りなからＣｏ−Ｃｒ系合金にお
けるように互いに蒸気圧の大幅に異なる元素より成る合
金の磁性層の形成を長時間安定に実施し得る技術につい
ての開示はいまだない。
けるように互いに蒸気圧の大幅に異なる元素より成る合
金の磁性層の形成を長時間安定に実施し得る技術につい
ての開示はいまだない。
本発明はかかる点に鑑みなされたもので、磁化容易軸が
面内又は垂直か方向の何れにあるかにかかわりなく、又
、媒体の形態がテープかディスクかシートか等の区別な
く適合し得る製造方法の提供を目指すものである。
面内又は垂直か方向の何れにあるかにかかわりなく、又
、媒体の形態がテープかディスクかシートか等の区別な
く適合し得る製造方法の提供を目指すものである。
以下に本発明の説明を行う。
本発明における基本的要件は２つの蒸発源の加熱に電子
ビームを利用することと、電子ビームが後述するように
相同うビームであることである。
ビームを利用することと、電子ビームが後述するように
相同うビームであることである。
第１図、第２図に本発明を実施するだめの装置の一例を
示す。図に示すように、高分子成形物基板１は、回転支
持、体２に沿って送り出し軸３から巻き取り軸４へ移動
しながらマスク５の開孔部６を通し蒸着される。
示す。図に示すように、高分子成形物基板１は、回転支
持、体２に沿って送り出し軸３から巻き取り軸４へ移動
しながらマスク５の開孔部６を通し蒸着される。
開孔部６は垂直磁化膜形成のために、垂直に近い蒸気成
分のみを通すように設計される。
分のみを通すように設計される。
蒸発源７，８は互いに隣接して配設される二元蒸発源で
あり、各々の加熱は、加速された電子ビーム９，１０に
より行われる。電子ビームは、同軸タイプのピアス形電
子銃により得られるもので、互いに相同うよう配設され
る。
あり、各々の加熱は、加速された電子ビーム９，１０に
より行われる。電子ビームは、同軸タイプのピアス形電
子銃により得られるもので、互いに相同うよう配設され
る。
ここで相同うことの条件は模式的に電子ビームをｍ−の
光線と想定し蒸発面を鏡面とみなした時、夫々の反射光
線が交わることである。
光線と想定し蒸発面を鏡面とみなした時、夫々の反射光
線が交わることである。
このことにより二次電子、反射電子の方向分布によると
考えられる、蒸発原子のイオン化、活性化が促進され、
結晶性の改良による磁気特性の向上、磁性膜の高分子成
形物基板との接着強度の向上等の効果を生む。
考えられる、蒸発原子のイオン化、活性化が促進され、
結晶性の改良による磁気特性の向上、磁性膜の高分子成
形物基板との接着強度の向上等の効果を生む。
第２図はもっばら従来より広く利用さ、ｆ＋でいる面内
磁気記録媒体を製造するに適した構成を示し、第１図と
対応する要素には、同一記号を付しである。
磁気記録媒体を製造するに適した構成を示し、第１図と
対応する要素には、同一記号を付しである。
斜方蒸着を行えるようマスク５は配設され、相同う電子
ビームのうち一方のビーム１０は、磁界１１で偏向され
かつ必要に応じ走査される状態を模式的に示したが、他
方のビーム９も同様にしても良いのは勿論であるし、第
１図についても同じことがいえる。
ビームのうち一方のビーム１０は、磁界１１で偏向され
かつ必要に応じ走査される状態を模式的に示したが、他
方のビーム９も同様にしても良いのは勿論であるし、第
１図についても同じことがいえる。
必要な要件は相同うことであり、更に組み合わせ効果と
して一層の改良を得るだめの要件として−を高目に（好
１しくは１５ＫＶ〜４５ＫＶ）即ち相異なるエネルギー
に設定することである。低いエネルギーは、前述した蒸
発原子のイオンｆヒ、活性化により有効に作用し、高い
エネルギーは、基板の帯電を促し、静電引力による回転
支持体への基板の密着度合を改良するに有効に作用する
からである。
して一層の改良を得るだめの要件として−を高目に（好
１しくは１５ＫＶ〜４５ＫＶ）即ち相異なるエネルギー
に設定することである。低いエネルギーは、前述した蒸
発原子のイオンｆヒ、活性化により有効に作用し、高い
エネルギーは、基板の帯電を促し、静電引力による回転
支持体への基板の密着度合を改良するに有効に作用する
からである。
次に具体的に本発明の詳細な説明する。
（実施例１）−
（なお実施例１〜４は第１図に示しだ装置による。）
基板：ホリエチレンテレフタレートフイルム（厚さ１０
．５μｍ） 回転支持体：直径５０ ｃｍ、内部循環媒体温度２０℃ 開孔部二基版移動方向に１０ｍ 蒸発源１：Ｃｏ、電子ビーム３０ＫＶ 、３Ａｒｔ
２ ： Ｃｒ、 ３０ Ｋ Ｖ ０．５Ａ
以上の条件により得られた磁性膜は厚み０．２５ｐｍで
、Ｃｏ ８６％Ｃｒ １４％から成り、垂直方向に容
易軸がありその抗磁力は９２０［Ｏｅ：］であった。
．５μｍ） 回転支持体：直径５０ ｃｍ、内部循環媒体温度２０℃ 開孔部二基版移動方向に１０ｍ 蒸発源１：Ｃｏ、電子ビーム３０ＫＶ 、３Ａｒｔ
２ ： Ｃｒ、 ３０ Ｋ Ｖ ０．５Ａ
以上の条件により得られた磁性膜は厚み０．２５ｐｍで
、Ｃｏ ８６％Ｃｒ １４％から成り、垂直方向に容
易軸がありその抗磁力は９２０［Ｏｅ：］であった。
（実施例２）
蒸発源１としてＣｏ１ 電子ビーム３５ＫＶ、２．５Ａ
、同２としてＣｒ、 電子ビーム１０に■、１．３Ａ
としている他０よ実施例１の場合と回しである。
、同２としてＣｒ、 電子ビーム１０に■、１．３Ａ
としている他０よ実施例１の場合と回しである。
以（−の条件により得られた磁性膜は厚み０．２５μｍ
でＣｏ ８６％Ｃｘ１４％からなり、垂直方向の抗磁力
は９９０［○ｅ〕であった。
でＣｏ ８６％Ｃｘ１４％からなり、垂直方向の抗磁力
は９９０［○ｅ〕であった。
（従来例）
００８９％Ｃｒ１１％の合金を用いた単一蒸発源により
成膜し、Ｃｏ８６ｑｂＣｒ１４係からなる厚み０．２６
μｍの磁性膜を作成した。この磁性膜の垂直方向抗磁力
は７６０ ［Ｏｅ〕であった。
成膜し、Ｃｏ８６ｑｂＣｒ１４係からなる厚み０．２６
μｍの磁性膜を作成した。この磁性膜の垂直方向抗磁力
は７６０ ［Ｏｅ〕であった。
（実施例３）
基板：ポリアミドフィルム（厚さ８μｍ）回転支持体：
直径１ ｍ、内部循環媒体温度○″Ｃ開孔部：基板移動
方向に１４Ｃ１１Ｌ 蒸発源１：Ｃ０６Ｄ１０Ｒｈ１電子ビーム１５Ｋｖ１Ａ 蒸発源２ ： Ｃｒ、電子ビーム３０ＫＶ、０．１Ａ以
上の条件により得られた磁性膜は厚み０．３μｍでＣ０
８０％Ｃｒ １６％ Ｒｈ ４％からなり、垂直抗磁力
は１０６０〔Ｏｅ〕であった。なお単−合金より 膜の
分は８１０〔○Ｊであった。
直径１ ｍ、内部循環媒体温度○″Ｃ開孔部：基板移動
方向に１４Ｃ１１Ｌ 蒸発源１：Ｃ０６Ｄ１０Ｒｈ１電子ビーム１５Ｋｖ１Ａ 蒸発源２ ： Ｃｒ、電子ビーム３０ＫＶ、０．１Ａ以
上の条件により得られた磁性膜は厚み０．３μｍでＣ０
８０％Ｃｒ １６％ Ｒｈ ４％からなり、垂直抗磁力
は１０６０〔Ｏｅ〕であった。なお単−合金より 膜の
分は８１０〔○Ｊであった。
（実施例４）
基板：ポリイミドフィルム（厚み２６μｍ）回転支持体
：直径６０ｍ、ヒータによる加熱、１８０″Ｃ 開孔部二基版移動方向に９ｍ 蒸発源１：Ｃｏ、電子ビーム４０ＫＶ 、２Ａｎ ２
：Ｃｒ、 Ｆ １６ＫＶ、ＩＡ磁性層：Ｃｏ
８＋％Ｃｒ１６％、厚みＯ＊３３ｐｍ。
：直径６０ｍ、ヒータによる加熱、１８０″Ｃ 開孔部二基版移動方向に９ｍ 蒸発源１：Ｃｏ、電子ビーム４０ＫＶ 、２Ａｎ ２
：Ｃｒ、 Ｆ １６ＫＶ、ＩＡ磁性層：Ｃｏ
８＋％Ｃｒ１６％、厚みＯ＊３３ｐｍ。
垂直抗磁力１３６０ 〔Ｏｅｌ
なお従来の単一蒸発法によるものの垂直抗磁力は８１０
［：：Ｏｅ’：］であった。
［：：Ｏｅ’：］であった。
（実施例５）
（ｌお実施例５．６は第２図に示した装置による。）
基板：ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み９．
６μｍ） 回転支持体：直径１ｍ、内部循環媒体温度１゜Ｃ 入射角：４００以上 蒸発源１ ： Ｃｏ、 電子ヒｒ、２６ＫＶ 、ａＡｒ
２：Ｃｒ、 ・ｒ １０ＫＶ 、
２Ａ磁性層： Ｃｏ ８３ ％ Ｃｒ １７％、厚み０
．２６７＋ｍ、面内抗磁力９６０［Ｏｅｌであり：”’
二Ｏ（実施例６） 基板：ポリイミドフィルム（厚み１２μｍ）回転支持体
：直径１ｍ、内部循環媒体温度−５″Ｃ 入射角＝５Ｑ０以上 蒸発源１：Ｃｏ８８係−Ｎｉ １２係、電子ビーム３０
ＫＶ、３Ａ 〃 ２：Ｃｒ 電子ビーム１０ＫＶ、３Ａ磁性層： Ｃ
ｏ ７８％Ｎｉ１０．６チ０１１・４％、厚み０．２７
ｚｍ、面内抗磁力１１００〔○ｅ〕なお以上の各実施例
は真空度５ Ｘ １０−５〜１×１０−５Ｔｏｒｒの範
囲で行った。
６μｍ） 回転支持体：直径１ｍ、内部循環媒体温度１゜Ｃ 入射角：４００以上 蒸発源１ ： Ｃｏ、 電子ヒｒ、２６ＫＶ 、ａＡｒ
２：Ｃｒ、 ・ｒ １０ＫＶ 、
２Ａ磁性層： Ｃｏ ８３ ％ Ｃｒ １７％、厚み０
．２６７＋ｍ、面内抗磁力９６０［Ｏｅｌであり：”’
二Ｏ（実施例６） 基板：ポリイミドフィルム（厚み１２μｍ）回転支持体
：直径１ｍ、内部循環媒体温度−５″Ｃ 入射角＝５Ｑ０以上 蒸発源１：Ｃｏ８８係−Ｎｉ １２係、電子ビーム３０
ＫＶ、３Ａ 〃 ２：Ｃｒ 電子ビーム１０ＫＶ、３Ａ磁性層： Ｃ
ｏ ７８％Ｎｉ１０．６チ０１１・４％、厚み０．２７
ｚｍ、面内抗磁力１１００〔○ｅ〕なお以上の各実施例
は真空度５ Ｘ １０−５〜１×１０−５Ｔｏｒｒの範
囲で行った。
又回転支持体として、エンドレスベルト構成の支持体の
場合も同様の効果の確認を行った。
場合も同様の効果の確認を行った。
材料についての限定も特になく、例えは、面内磁化の媒
体を目ざすならば、ＣＯとＮ１を別々の蒸発源、Ｃｏと
Ｆｅを別々の蒸発源として本発明を適用することもでき
る。前記実施例では、垂直、面内の両者の媒体となりつ
る代表的な材料としてｃｏ、ｌ！：Ｃｒの例を多〈実施
したがこれにこだわらないし、又高分子成形物上に非磁
性層を介した場合も有効であることはもちろんである。
体を目ざすならば、ＣＯとＮ１を別々の蒸発源、Ｃｏと
Ｆｅを別々の蒸発源として本発明を適用することもでき
る。前記実施例では、垂直、面内の両者の媒体となりつ
る代表的な材料としてｃｏ、ｌ！：Ｃｒの例を多〈実施
したがこれにこだわらないし、又高分子成形物上に非磁
性層を介した場合も有効であることはもちろんである。
以上述べたように、本発明に、Ｋると抗磁カフ５＜犬で
性能のすぐれた磁気記録媒体を容易に得ることができ、
その工業的有価値性は極めて太きい。
性能のすぐれた磁気記録媒体を容易に得ることができ、
その工業的有価値性は極めて太きい。
第１図は本発明を実施するための装置の一例を示す図、
第２図は同装置の他の例を示す図である。
第２図は同装置の他の例を示す図である。
Claims (2)
- （１）回転支持体に沿って移動する高分子成形物基板上
に、２つの蒸発源より放射される蒸気流にて強磁性層を
形成する際、各々の蒸発源の加熱が互いに相同う電子ビ
ームにより行われることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - （２）相同う電子ビームのエネルギーが互いに異なるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP390282A JPS58121134A (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP390282A JPS58121134A (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121134A true JPS58121134A (ja) | 1983-07-19 |
| JPH0411923B2 JPH0411923B2 (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=11570118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP390282A Granted JPS58121134A (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121134A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029942A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体の製造法並に装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5417812A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording media |
| JPS5419200A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium process |
| JPS5512547A (en) * | 1978-07-10 | 1980-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture for magnetic recording media |
| JPS55122232A (en) * | 1979-03-07 | 1980-09-19 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
| JPS567231A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-24 | Ulvac Corp | Vapor deposition film type magnetic recording material and its production |
-
1982
- 1982-01-12 JP JP390282A patent/JPS58121134A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5417812A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording media |
| JPS5419200A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium process |
| JPS5512547A (en) * | 1978-07-10 | 1980-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture for magnetic recording media |
| JPS55122232A (en) * | 1979-03-07 | 1980-09-19 | Toshiba Corp | Magnetic recording medium |
| JPS567231A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-24 | Ulvac Corp | Vapor deposition film type magnetic recording material and its production |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029942A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体の製造法並に装置 |
| JPH0418372B2 (ja) * | 1983-07-28 | 1992-03-27 | Ulvac Corp |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0411923B2 (ja) | 1992-03-03 |
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