JPS5916143A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS5916143A JPS5916143A JP12639982A JP12639982A JPS5916143A JP S5916143 A JPS5916143 A JP S5916143A JP 12639982 A JP12639982 A JP 12639982A JP 12639982 A JP12639982 A JP 12639982A JP S5916143 A JPS5916143 A JP S5916143A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- electron beam
- supporting body
- magnetic recording
- recording medium
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属薄膜形磁気記録媒体の製造方法に関するも
ので、望まれる特性の磁気記録媒体用の原反を大面積に
わたって安定に量産できるようにすることを目的とする
。
ので、望まれる特性の磁気記録媒体用の原反を大面積に
わたって安定に量産できるようにすることを目的とする
。
本発明において対象となる媒体は、テープ状。
ディスク状、シート状のいずれでもよく、異方性につい
ての制約、磁化方向が面内か垂直かの制約についてもな
い、汎用性の高い製造方法にかかわるものである。
ての制約、磁化方向が面内か垂直かの制約についてもな
い、汎用性の高い製造方法にかかわるものである。
近年、短波長記録に有意性のある媒体として、可撓性高
分子基板上に、強磁性金属層を単層または複数層構成し
た金属薄膜形媒体の開発、実用化が急速に進んでいる。
分子基板上に、強磁性金属層を単層または複数層構成し
た金属薄膜形媒体の開発、実用化が急速に進んでいる。
かかる媒体の製造方法として実用に供されているものは
、回転キャンに沿って移動する可撓性高分子基板上に、
蒸着により、強磁性層を形成する方法である。
、回転キャンに沿って移動する可撓性高分子基板上に、
蒸着により、強磁性層を形成する方法である。
ところでこの方法により得られる媒体の難点は、大面積
にわたる均一性能の確保が困難である点であった。すな
わち、膜形成時の基板温度に敏感な面内記録媒体の角形
比や、垂直記録媒体の抗磁力等の特性について特に顕著
で、例えば５０鑞幅で６０００ｍの蒸着面積についてみ
ると、±２０％に及ぶ特性変化が避けられなかった。
にわたる均一性能の確保が困難である点であった。すな
わち、膜形成時の基板温度に敏感な面内記録媒体の角形
比や、垂直記録媒体の抗磁力等の特性について特に顕著
で、例えば５０鑞幅で６０００ｍの蒸着面積についてみ
ると、±２０％に及ぶ特性変化が避けられなかった。
これは、回転キャンの熱容量が大きいために、温度制御
の応答性が悪いことに原因していることを尽きとめ、そ
こで種々改良を重ね、本発明に到ったものである。以下
に本発明の説明を行うＱ本発明は、熱容量の小さい可撓
性基板の回転支特休を用い、その支持体の温度制御と、
支持体と可撓性基板との密着力の制御を行うものである
。
の応答性が悪いことに原因していることを尽きとめ、そ
こで種々改良を重ね、本発明に到ったものである。以下
に本発明の説明を行うＱ本発明は、熱容量の小さい可撓
性基板の回転支特休を用い、その支持体の温度制御と、
支持体と可撓性基板との密着力の制御を行うものである
。
寸ずここで図面を用い本発明の実施例の概略を説明する
。
。
図に示すように、金属ベルト１は、例えば２つの回転キ
ャン２．３にて、例えば矢印Ａの方向に回転駆動される
。ベルト１に山って、可撓性高分子基板４は送り出し軸
５から、巻き取り軸６へと移動するよう構成される。
ャン２．３にて、例えば矢印Ａの方向に回転駆動される
。ベルト１に山って、可撓性高分子基板４は送り出し軸
５から、巻き取り軸６へと移動するよう構成される。
基板４上へ強磁性層の形成のために、例えば、電子ビー
ム蒸発源が供される。これは、蒸発源容器７と、電子源
８で模式的に示す。
ム蒸発源が供される。これは、蒸発源容器７と、電子源
８で模式的に示す。
蒸発源のタイプについては何ら限定するものではなく、
スパッタ蒸着方式であってもよいし、電界蒸着、イオン
ブレーティングいずれであってもよい。９は電子源を模
式的に示したもので、この電子源９は、必要に応じて走
査される電子ビーム１０を発生スるもので、この電子ビ
ームのエネルギーは一部金属ベルト１の温度制御に供さ
れ、一部の電子は高分子に注入され永久帯電（エレクト
レット化）をひき起し、静電気力による接地電位に置か
れた金属ベルト１への垂直圧力の発生に基ずく安定な熱
伝達現像が保持されるよう作用する。
スパッタ蒸着方式であってもよいし、電界蒸着、イオン
ブレーティングいずれであってもよい。９は電子源を模
式的に示したもので、この電子源９は、必要に応じて走
査される電子ビーム１０を発生スるもので、この電子ビ
ームのエネルギーは一部金属ベルト１の温度制御に供さ
れ、一部の電子は高分子に注入され永久帯電（エレクト
レット化）をひき起し、静電気力による接地電位に置か
れた金属ベルト１への垂直圧力の発生に基ずく安定な熱
伝達現像が保持されるよう作用する。
なお１１は真空容器、１２は真空容器１１の排気系、１
３は防着板、１４は金属ローラである。
３は防着板、１４は金属ローラである。
これらについては、巻取シ系の工夫、グロー放電処理と
の組み合せ等は適宜実施できるのは勿論である。
の組み合せ等は適宜実施できるのは勿論である。
蒸発源にたてた法線ｇ１と、基板にたてた法線ｇ２
とのなす角θ１がＯに近い状態の配置にし、垂直磁化膜
を、θ１を３０°〜８０°の範囲に選択しての斜方蒸着
による、面内磁化膜を得ることの自由度も勿論本発明の
基本要件と無関係である。
とのなす角θ１がＯに近い状態の配置にし、垂直磁化膜
を、θ１を３０°〜８０°の範囲に選択しての斜方蒸着
による、面内磁化膜を得ることの自由度も勿論本発明の
基本要件と無関係である。
又別の実施例とし、エレクトレット化のためと金属ベル
トの加熱を個別め電子ビームにより制御することも可能
である。
トの加熱を個別め電子ビームにより制御することも可能
である。
金属ベルト１はステンレス製０．３ｍｍ厚で、全長１ｍ
のエンドレス形態を有し、直径２００ｍｍの、３０℃の
媒体を流した（流量１ ＋ｎ′／／ｍｉｎ ）回転キャ
ン２．３と組み合わせた系とし、以下の各実施例におい
て適用した。
のエンドレス形態を有し、直径２００ｍｍの、３０℃の
媒体を流した（流量１ ＋ｎ′／／ｍｉｎ ）回転キャ
ン２．３と組み合わせた系とし、以下の各実施例におい
て適用した。
〔実施例１〕
θ１＝４６°とし、００１００％を酸素２Ｘ１０’ＴＯ
ｒｒ中で、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ
１０μｍ）上に電子ビーム蒸着にて０．１μｍの厚さに
形成した。
ｒｒ中で、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ
１０μｍ）上に電子ビーム蒸着にて０．１μｍの厚さに
形成した。
基板と金属ベルトを照射した電子ビームは３０ＫＶで照
射面積はｔｓｅｓｏｃＪ、一定とした。
射面積はｔｓｅｓｏｃＪ、一定とした。
６０Ｃｒｎ幅のポリエチレンテレフタレートフィルムを
５０００ｍ用いて得た磁気記録媒体の特性と安定性（６
０ｏｏｍ内のバラツキ）を電子ビームの３条件に対応さ
せ次表に示す。
５０００ｍ用いて得た磁気記録媒体の特性と安定性（６
０ｏｏｍ内のバラツキ）を電子ビームの３条件に対応さ
せ次表に示す。
これに比較しつる従来方法により得られる媒体のバラツ
キは保磁力で±７．３％、角形比で±１１．３％であっ
た。
キは保磁力で±７．３％、角形比で±１１．３％であっ
た。
〔実施例２〕
θ１−０°とし−００８０％Ｏｒ ２０％ヲ１×１Ｏ−
５Ｔｏｒｒの真空中で、ポリアミドフィルム（厚さ１２
μｍ）上に電子ビーム蒸着により０．２μｍの厚さに形
成した。
５Ｔｏｒｒの真空中で、ポリアミドフィルム（厚さ１２
μｍ）上に電子ビーム蒸着により０．２μｍの厚さに形
成した。
基板と金属ベルトを照射した電子ビーム条件は３５ＫＶ
で、照射面積は５００．ａ一定とした。
で、照射面積は５００．ａ一定とした。
６ｏｃｒｎ幅のポリアミドフィルムＩ６ｏｏｏｍ用いて
得た磁気記録媒鉢台特性と安定性（６０００ｍ内でのバ
ラツキ）を電子ビーム条件に対応させて下の表に示す。
得た磁気記録媒鉢台特性と安定性（６０００ｍ内でのバ
ラツキ）を電子ビーム条件に対応させて下の表に示す。
これに比較し得るスパッタ方式により得た垂直磁化膜の
バラツキは１５（ｍ幅１ ｏｏｍの極めて小面積であっ
ても±１９％と不安定であった。
バラツキは１５（ｍ幅１ ｏｏｍの極めて小面積であっ
ても±１９％と不安定であった。
以上のように本発明によると、広い面積にわたり特性バ
ラツキの小さな磁気記録媒体を容易に得ることができる
。
ラツキの小さな磁気記録媒体を容易に得ることができる
。
図は本発明を実施するだめの装置の構成例を示す図であ
る。 １・・・・・・金属ベルト、２．３・・・・・・回転キ
ャン、４・・・・・・基板、７・・・・・・蒸発源容器
、１０・・・・・・電子ビーム、１１・・・・・・真空
容器、１４・・・・・・金属ローラ。
る。 １・・・・・・金属ベルト、２．３・・・・・・回転キ
ャン、４・・・・・・基板、７・・・・・・蒸発源容器
、１０・・・・・・電子ビーム、１１・・・・・・真空
容器、１４・・・・・・金属ローラ。
Claims (1)
- 金属回転ベルトに沿って移動する可撓性高分子基板上に
強磁性層を形成するとともに、上記強磁性層の形成に先
立ち、電子衝撃の作用により、上記回転ベルトを加熱し
かつ上記高分子基板をエレクトレット化することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12639982A JPS5916143A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12639982A JPS5916143A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5916143A true JPS5916143A (ja) | 1984-01-27 |
| JPH0121536B2 JPH0121536B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=14934185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12639982A Granted JPS5916143A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916143A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414729A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP12639982A patent/JPS5916143A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6414729A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0121536B2 (ja) | 1989-04-21 |
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