JPH0442731B2 - - Google Patents

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JPH0442731B2
JPH0442731B2 JP4984683A JP4984683A JPH0442731B2 JP H0442731 B2 JPH0442731 B2 JP H0442731B2 JP 4984683 A JP4984683 A JP 4984683A JP 4984683 A JP4984683 A JP 4984683A JP H0442731 B2 JPH0442731 B2 JP H0442731B2
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JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
substrate
electron beams
accelerated electron
film
Prior art date
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Expired
Application number
JP4984683A
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English (en)
Other versions
JPS59175037A (ja
Inventor
Koichi Shinohara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0442731B2 publication Critical patent/JPH0442731B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/85Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition

Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関する。 従来例の構成とその問題点 磁気記録方式として定着し、かつ実用面でも記
録密度向上による機器の小型軽量にこたえてきた
長手記録方式は、媒体の減磁界が記録密度向上に
ブレーキをかけるところまで進展してきた。長手
記録方式は、媒体の表面と平行な方向に対向する
磁化として記録するものであるが、媒体の表面と
直交する方向の磁化を利用する、いわゆる垂直磁
化記録方式が提案され注目されている。垂直記録
方式は、優れた短波長記録特性を有し、また、ピ
ークシフトが極めて少ないことからデイジタル信
号の記録に最適であり、面記録密度的にも、光記
録と同等あるいは同等以上の109ビツト/平方イ
ンチの可能性もあることが明らかになりつつある
ものである。 この垂直記録方式には、記録媒体表面に垂直方
向に磁化容易軸を有する媒体が必要である。磁性
層の構成材料としては、Co−Ti,Co−V,Co−
Mo,Co−W,Co−Mn,Co−Ru等もあるが、
Co−Crが代表的なもので、製法としてはスパツ
タ法が専ら用いられている。Co−Crスパツタ薄
膜を備えた媒体は、一般に、1×10-2Torr程度
のアルゴンガス専用気中で、グロー放電を起こ
し、この弱電離気体の中の陽イオンをCo−Crの
合金ターゲツトに衝突させ、Co−Crをスパツタ
し、運動する基板上に堆積させることで製造され
る。 しかし、このような製造方法は、スパツタ速度
が極めて遅く、実用化には適さない。 薄膜形成速度を増加させるためには、真空蒸着
法,電界蒸着法,イオンプレーテイング法のいず
れかを用いることが考えられる。 しかし現在までの所、かかる方法で高保磁力の
媒体が大量に得ることのできる技術は知られてい
ない。 いずれの方法であつても、Co−Crに限らず、
前述した他の二元合金のすべては、単一の蒸発源
では、高々1m2程度の生産しかできない。それは
Coに添加する元素の割合が、垂直磁化膜の性能
に大きく影響するにも拘らず、蒸気圧が大きくく
い違うことに原因している。従つて二元蒸発源は
大量生産方式の前提要素となるが、幾何学的に単
一蒸発源と同一の蒸発原子の基板への入射角条件
を満足することはできないために、単一蒸発源で
の小規模実験で得られている性能を実用規模で実
現し得ていないのが現状である。 発明の目的 本発明は高性能な垂直磁化膜を大量に得ること
のできる磁気記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、二蒸発源
をそれぞれ各別の加速電子ビームで加熱すると共
に前記加速電子ビームを互いに交差させ、前記二
蒸発源の蒸気流によつて基板上に磁化膜を形成す
ることを特徴とする。 実施例の説明 以下本発明の製造方法を具体的な一実施例に基
づいて説明する。なお、実施例では回転支持体に
沿つて移動する基板上に連続して垂直磁化膜を得
る場合を例に挙げて説明する。 図面は垂直磁化膜を基体上に作ることができる
蒸着装置の構成図を示す。基板1は、回転支持体
2に沿つて送り出し軸3より巻取り軸4へ移動す
るよう構成されている。回転支持体2のほぼ真下
には、一対の蒸発源8が配設されている。この一
対の蒸発源8は、2槽構造の蒸発源容器5と、こ
の各槽にチヤージされた蒸発材料6,7で構成さ
れている。ここで蒸発源容器5にチヤージされた
蒸発材料6,7はそれぞれ電子発生源11,12
より発生する各別の加速電子ビーム9,10によ
つて衝撃加熱され、前記加速電子ビーム9と10
とは図面のように互いに交差するよう電子発生源
11,12が配設されている。即ち、電子発生源
11より放射される加熱電子ビーム9は蒸発材料
6を衝撃加熱するだけで、逆に加熱電子ビーム1
0は蒸発材料7を衝撃加熱するのに用いられるだ
けである。図面において15は上記の各系を収容
する真空槽、14は真空槽15の槽内部を排気す
る真空排気系である。13は基板1への蒸着でき
る領域を調整するために設けられたマスクであ
る。 尚、イオンプレーテイング、電界蒸着の実施の
場合には、当然、公知の必要な構成要件に付加す
ることで目的を達成できるものである。 このように構成したため、加熱電子ビーム9,
10の交差により、弱電離状態の領域が、蒸発電
子のうち、マスク13の開孔部16に向かう電子
の通路に主としてできることから、蒸発原子が活
性化され、配向性の向上をもたらすと共に、蒸発
原子の放射方向の指向性がビームの衝撃方向側に
傾斜する傾向があり、そのため、広いマスク開孔
部16でも、垂直入射に近い条件が満足され、垂
直磁化膜の高性能化と生産性向上の両者を満足せ
しめることができるものである。 これらの作用効果は、電界蒸着、イオンプレー
テイングに於てもベースとなるものである。 本発明に用いることのできる基板1は、高分子
基板そのものであつても良いし、高分子基板上に
あらかじめ非磁性層、軟磁性層等を配したもので
も良い。また、必要ならば、基板1の両面に媒体
を構成する時にも用いることができる。 回転支持体2としては回転キヤンを使用できる
が、他の代表的構成は、金属製薄肉ベルトをエン
ドレス状にして冷却,駆動したものである。 加速電子ビーム9,10として本発明に用いる
ことのできるものは、ピアス型電子銃,ホローカ
ソード型電子銃なとであるが、交差条件は、直進
同志のみではなくても良く、蒸発源容器近傍に磁
界偏向器を配設し、偏向したもの同時又は、一方
のみ偏向したものと直進ビームの交差のいずれで
あつても良い。 次に更に具体的な実施例によつて説明する。 回転支持体2として直径50cmの円筒状キヤンを
用い、この円筒状キヤンの直下32cmの位置に、2
槽構造の蒸発源容器5を配置した。なお、前記円
筒状キヤンの内部には180℃の熱媒体を循環させ
た。蒸発源容器5の各槽の内容積は夫々750c.c.で、
加速電子ビーム9,10の蒸発材料6,7への入
射角を60°とし、加速電子ビーム9,10のエネ
ルギーは80KeVとした。マスク13の開孔部1
6は、基板1の移動方向に12cmの幅とし、マスク
13は曲率26cmで、円筒状キヤンと同心状に配置
したものを用いた。 〔実験例 1〕 7.5μm厚,幅50cmの芳香続ポリアミドフイルム
上に0.1μmのTiを電子ビーム蒸着したものを基板
1として用いた。真空度1×10-6Torr〜8×
10-6Torrで、蒸発材料6をCoとし、蒸発材料7
をCr,Mo,Vの3種類について、基板1の移動
速度81m/minで厚み0.3μmの垂直磁化膜を得た。
その結果を第1表に示した。Hcは垂直方向の抗
磁力、Msは飽和磁化の値であり、この両者は
VSM(振動試料型磁力計)で測定した。
〔実験例 2〕
〔実験例−1〕と同一の基板1を用いて、加熱
電子ビーム9と10との交差条件を変化させて本
発明を実施した。但し、キヤン直下50cmに蒸発源
8を移動した。他の条件と、得られた0.3μmのCo
−Cr薄膜の特性を第2表に示した。
〔実験例 3〕
回転キヤンの軸をテフロンで絶縁して、回転キ
ヤン1MKの高周波を印加して、蒸着を実施した。
この例では、円筒状キヤンの直径を20cmとし蒸発
源8との距離を38cmとし、キヤンへ循環させる熱
媒体の温度を55℃とした。また基板1としては
11.5μm、厚,50cm幅のポリエチレンテレフタレ
ートフイルムに80%Ni,20%Feの0.2μmの軟磁
性膜を電子ビーム蒸着によりあらかじめ形成した
ものを用いた。加速電子ビーム9,10の入射角
は55°一定とした。他の条件と得られた0.3μmの
CO合金系垂直磁化膜の特性は、第3表に示した
ようであつた。
【表】
【表】 第3表に示した垂直磁化膜は、スパツタ薄膜よ
り、性能,生産性で優れている。 また、ホリエチレンテレフタレートでかかる媒
体が得られることは、ポリイミドや、芳香族ポリ
アミド等の耐熱性の高い、高価なフイルムを用い
ずに、現在磁気テープ用のベースとして大量に実
績のあるベースで構成できる点で、実用化にとつ
て見逃せない利点でもある。 発明の効果 以上説明のように本発明の製造方法によると、
二蒸発源をそれぞれ各別の加速電子ビームで加熱
すると共に前記加速電子ビームを互いに交差さ
せ、前記二蒸発源の蒸発流によつて基板上に磁化
膜を形成するため、次のような効果が得られる。 電子ビームの蒸着を基礎としているから生産性
はスパツタ法の10倍以上と大きい。 二元蒸発源によりCo合金薄膜を得る方法であ
るから、広幅でかつ長尺の媒体が得られ、これに
より、テープ,デイスクの形態のいかんを問わ
ず、大量消費財としての磁気記録媒体として垂直
磁気記録用媒体を位置づけることができる。 ・ ポリエチレンテレフタレートをベースとして
も、高い抗磁力の垂直磁化膜が得られる。 ・ ベースによらず、生産性と、高性能垂直磁化
膜を得ることを両立せしめることができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の製造方法の具体的な一実施例を
示すための蒸着装置の概略内部構成図である。 1……基板、2……回転支持体、5……蒸着源
容器、67……蒸発材料、8……蒸発源、9,1
0……加速電子ビーム。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 二蒸発源をそれぞれ各別の加速電子ビームで
    加熱すると共に前記加速電子ビームを互いに交差
    させ、前記二蒸発源の蒸気流によつて基板上に磁
    化膜を形成する磁気記録媒体の製造方法。
JP4984683A 1983-03-24 1983-03-24 磁気記録媒体の製造方法 Granted JPS59175037A (ja)

Priority Applications (1)

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JP4984683A JPS59175037A (ja) 1983-03-24 1983-03-24 磁気記録媒体の製造方法

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JP4984683A JPS59175037A (ja) 1983-03-24 1983-03-24 磁気記録媒体の製造方法

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JPS59175037A JPS59175037A (ja) 1984-10-03
JPH0442731B2 true JPH0442731B2 (ja) 1992-07-14

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7163339B1 (en) 2001-04-16 2007-01-16 Plaspack U.S.A., Inc. Composite breathable produce bag with a reinforced mesh sidewall
US7837388B1 (en) 2003-05-09 2010-11-23 Plaspack Usa, Inc. Multi-material vertical form, fill and seal bag
BR112012007926B1 (pt) 2009-10-09 2020-12-08 Volm Companies, Inc pano não tecido de malha aberta e material de malha aberta

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JPS59175037A (ja) 1984-10-03

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